JP2573535B2 - 投影レンズ - Google Patents
投影レンズInfo
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- JP2573535B2 JP2573535B2 JP10385292A JP10385292A JP2573535B2 JP 2573535 B2 JP2573535 B2 JP 2573535B2 JP 10385292 A JP10385292 A JP 10385292A JP 10385292 A JP10385292 A JP 10385292A JP 2573535 B2 JP2573535 B2 JP 2573535B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens
- group
- refractive power
- principal point
- projection lens
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、宇宙等の高真空下の環
境において、目標物を焦点位置に置かれた受光素子に投
影し、位置制御を行なうための投影レンズに関する。
境において、目標物を焦点位置に置かれた受光素子に投
影し、位置制御を行なうための投影レンズに関する。
【0002】
【従来の技術】従来の位置制御装置は、図3のブロック
図に示すように、入射光11を位置検出用の受光素子13に
投影させる投影レンズ12と、受光素子13からの電気信号
を入力とし、受光素子13の正確な位置に結像させるよう
投影レンズ12の入射光に対する角度を調整するための制
御回路14とを備えている。
図に示すように、入射光11を位置検出用の受光素子13に
投影させる投影レンズ12と、受光素子13からの電気信号
を入力とし、受光素子13の正確な位置に結像させるよう
投影レンズ12の入射光に対する角度を調整するための制
御回路14とを備えている。
【0003】従来の投影レンズとしては、特開昭51−
26029号公報に開示されている3群4枚構成のレン
ズが知られている。
26029号公報に開示されている3群4枚構成のレン
ズが知られている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このような従
来の投影レンズにおいては、レンズ硝材の相対的屈折率
が大気中と高真空中で異なるため、製作および性能評価
の環境が、大気中と実際の使用環境である高真空中との
間で全光学系の総屈折力に差が生じるという問題があっ
た。
来の投影レンズにおいては、レンズ硝材の相対的屈折率
が大気中と高真空中で異なるため、製作および性能評価
の環境が、大気中と実際の使用環境である高真空中との
間で全光学系の総屈折力に差が生じるという問題があっ
た。
【0005】本発明は、このような従来の問題点を解決
するために考えられたもので、大気中と高真空中とのレ
ンズ硝材の相対的屈折率の相違による、総屈折力の変化
を小さく抑える投影レンズを提供することを目的として
いる。
するために考えられたもので、大気中と高真空中とのレ
ンズ硝材の相対的屈折率の相違による、総屈折力の変化
を小さく抑える投影レンズを提供することを目的として
いる。
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の投影レンズは、光線入射方向に対し、正の屈
折力を有する2枚のレンズから構成される第1群と、負
の屈折力を有する単レンズで構成される第2群と、正の
屈折力を有する単レンズで構成される第3群からなる計
3群4枚構成であり、 |2/f−(ψ1+ψ2+ψ3)+e1e2ψ1ψ2ψ3|<0.1/f の条件式を満足するものである。ただし、fは全系の焦
点距離、ψ1、ψ2、ψ3はそれぞれ第1群、第2群、第
3群の屈折力であり、e1は第1、第2レンズの合成後
側主点位置から第3レンズの前側主点位置までの距離、
e2は第3レンズの後側主点位置から第4レンズの前側
主点位置までの距離であって、 e1=(ψ1+ψ2−ψ12)/ψ1・ψ2 (ψ12:第1・第2群レンズの合成屈折力) e2=(ψ2+ψ3−ψ23)/ψ2・ψ3 (ψ23:第2・第3群レンズの合成屈折力) である。
に本発明の投影レンズは、光線入射方向に対し、正の屈
折力を有する2枚のレンズから構成される第1群と、負
の屈折力を有する単レンズで構成される第2群と、正の
屈折力を有する単レンズで構成される第3群からなる計
3群4枚構成であり、 |2/f−(ψ1+ψ2+ψ3)+e1e2ψ1ψ2ψ3|<0.1/f の条件式を満足するものである。ただし、fは全系の焦
点距離、ψ1、ψ2、ψ3はそれぞれ第1群、第2群、第
3群の屈折力であり、e1は第1、第2レンズの合成後
側主点位置から第3レンズの前側主点位置までの距離、
e2は第3レンズの後側主点位置から第4レンズの前側
主点位置までの距離であって、 e1=(ψ1+ψ2−ψ12)/ψ1・ψ2 (ψ12:第1・第2群レンズの合成屈折力) e2=(ψ2+ψ3−ψ23)/ψ2・ψ3 (ψ23:第2・第3群レンズの合成屈折力) である。
【0006】
【作用】本発明の投影レンズによると、光学系周辺環境
が大気中から高真空中に変化しても、レンズの総屈折力
の変化を小さく抑えることができる。
が大気中から高真空中に変化しても、レンズの総屈折力
の変化を小さく抑えることができる。
【0007】
【実施例】本発明の投影レンズは、図1のレンズ系光路
断面図に示すように、光線入射方向に対し、正の屈折力
を有する2枚のレンズ1、2から構成される第1群と、
負の屈折力を有する単レンズ3で構成される第2群と、
正の屈折力を有する単レンズ4で構成される第3群から
なる計3群4枚構成である。
断面図に示すように、光線入射方向に対し、正の屈折力
を有する2枚のレンズ1、2から構成される第1群と、
負の屈折力を有する単レンズ3で構成される第2群と、
正の屈折力を有する単レンズ4で構成される第3群から
なる計3群4枚構成である。
【0008】そして、 |2/f−(ψ1+ψ2+ψ3)+e1e2ψ1ψ2ψ3|<0.1/f…(1) を満足する。
【0009】条件式(1)において、fは全系の焦点距
離、ψ1、ψ2、ψ3はそれぞれ第1群、第2群、第3群
の屈折力であり、e1は第1レンズ1、第2レンズ2の
合成後側主点位置から第3レンズ3の前側主点位置まで
の距離、e2は第3レンズ3の後側主点位置から第4レ
ンズ4の前側主点位置までの距離で、 e1=(ψ1+ψ2−ψ12)/ψ1・ψ2…(2) (ψ12:第1・第2群レンズの合成屈折力) e2=(ψ2+ψ3−ψ23)/ψ2・ψ3…(3) (ψ23:第2・第3群レンズの合成屈折力) で与えられる。
離、ψ1、ψ2、ψ3はそれぞれ第1群、第2群、第3群
の屈折力であり、e1は第1レンズ1、第2レンズ2の
合成後側主点位置から第3レンズ3の前側主点位置まで
の距離、e2は第3レンズ3の後側主点位置から第4レ
ンズ4の前側主点位置までの距離で、 e1=(ψ1+ψ2−ψ12)/ψ1・ψ2…(2) (ψ12:第1・第2群レンズの合成屈折力) e2=(ψ2+ψ3−ψ23)/ψ2・ψ3…(3) (ψ23:第2・第3群レンズの合成屈折力) で与えられる。
【0010】この条件式(1)は、3群レンズ系のパワー
配置に関する条件で、上限+0.1/fを超えると大気
中と高真空中との総屈折力の差が、基準となる大気中の
総屈折力の0.02%以上となり、条件式の下限−0.
1/fを超えると、さらに後側焦点距離の大気中と高真
空中との差も大気中の後側焦点距離の0.3%以上とな
る。
配置に関する条件で、上限+0.1/fを超えると大気
中と高真空中との総屈折力の差が、基準となる大気中の
総屈折力の0.02%以上となり、条件式の下限−0.
1/fを超えると、さらに後側焦点距離の大気中と高真
空中との差も大気中の後側焦点距離の0.3%以上とな
る。
【0011】このレンズ・データ(大気中の値)は、 波長:750nm f=1mm F/2.88 Y=0.76deg(視野角) 2/f−(ψ1+ψ2+ψ3)+e1e2ψ1ψ2ψ3 =−2.94472E−3 のとき、曲率半径R11〜R42(mm)、厚さd11〜d
41(mm)、屈折率nは、
41(mm)、屈折率nは、
【0012】 R11= 0.45832 d11=0.069443 n=1.515 R12=−2.03468 d12=0.013889 R21= 0.36944 d21=0.069443 n=1.515 R22= 1.64302 d22=0.058749 R31=−2.06940 d31=0.041666 n=1.792 R32= 0.34444 d32=0.607488 R41= 0.20986 d41=0.041666 n=1.515 R42= 0.46944 であり、得られた投影レンズの収差は、図2に示すとお
りである。
りである。
【発明の効果】以上の実施例に基づく説明から明らかな
ように、本発明の投影レンズによると、大気中と高真空
中とにおけるレンズの相対的屈折率の変化に基づく全光
学系の総屈折力の変化を小さく抑えることができるの
で、高真空中においても大気中と同様に使用することが
できる。
ように、本発明の投影レンズによると、大気中と高真空
中とにおけるレンズの相対的屈折率の変化に基づく全光
学系の総屈折力の変化を小さく抑えることができるの
で、高真空中においても大気中と同様に使用することが
できる。
【図1】本発明の投影レンズの一実施例を示す光学系断
面図、
面図、
【図2】本発明の投影レンズにおける収差図、
【図3】従来の投影レンズを含む結像位置制御装置のブ
ロック図である。
ロック図である。
1 第1レンズ 2 第2レンズ 3 第3レンズ 4 第4レンズ
Claims (1)
- 【請求項1】 光線入射方向に対し、正の屈折力を有す
る2枚のレンズから構成される第1群と、負の屈折力を
有する単レンズで構成される第2群と、正の屈折力を有
する単レンズで構成される第3群からなる計3群4枚構
成であり、下記の条件式を満足することを特徴とする投
影レンズ。 |2/f−(ψ1+ψ2+ψ3)+e1e2ψ1ψ2ψ3|<0.1/f ただし、fは全系の焦点距離、ψ1、ψ2、ψ3はそれぞ
れ第1群、第2群、第3群の屈折力であり、e1は第
1、第2レンズの合成後側主点位置から第3レンズの前
側主点位置までの距離、e2は第3レンズの後側主点位
置から第4レンズの前側主点位置までの距離であって、 e1=(ψ1+ψ2−ψ12)/ψ1・ψ2 (ψ12:第1・第2群レンズの合成屈折力) e2=(ψ2+ψ3−ψ23)/ψ2・ψ3 (ψ23:第2・第3群レンズの合成屈折力) である。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10385292A JP2573535B2 (ja) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | 投影レンズ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10385292A JP2573535B2 (ja) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | 投影レンズ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05281464A JPH05281464A (ja) | 1993-10-29 |
JP2573535B2 true JP2573535B2 (ja) | 1997-01-22 |
Family
ID=14364977
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10385292A Expired - Fee Related JP2573535B2 (ja) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | 投影レンズ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2573535B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3406862B2 (ja) * | 1999-05-25 | 2003-05-19 | ペンタックス株式会社 | リアフォーカス式中望遠レンズ |
JP4819419B2 (ja) * | 2005-07-07 | 2011-11-24 | キヤノン株式会社 | 結像光学系、露光装置及びデバイス製造方法 |
-
1992
- 1992-03-31 JP JP10385292A patent/JP2573535B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH05281464A (ja) | 1993-10-29 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |