JP2541582B2 - ポリチオ―ル - Google Patents
ポリチオ―ルInfo
- Publication number
- JP2541582B2 JP2541582B2 JP24495087A JP24495087A JP2541582B2 JP 2541582 B2 JP2541582 B2 JP 2541582B2 JP 24495087 A JP24495087 A JP 24495087A JP 24495087 A JP24495087 A JP 24495087A JP 2541582 B2 JP2541582 B2 JP 2541582B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mercaptoacetate
- bis
- mercaptopropionate
- polythiol
- resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Anti-Oxidant Or Stabilizer Compositions (AREA)
- Lubricants (AREA)
- Polyethers (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、新規なポリチオールに関するものである。
これらのポリチオールは、重合調整剤、合成樹脂の原
料、架橋剤、加硫剤、エポキシ樹脂の硬化剤、酸化防止
剤、金属錯体生成剤、生化学的薬物、潤滑油添加剤等と
して広範囲な用途を有するものである。
これらのポリチオールは、重合調整剤、合成樹脂の原
料、架橋剤、加硫剤、エポキシ樹脂の硬化剤、酸化防止
剤、金属錯体生成剤、生化学的薬物、潤滑油添加剤等と
して広範囲な用途を有するものである。
近年ポリチオール化合物は、樹脂の改質すなわち架橋
や酸化防止に利用され始めている。
や酸化防止に利用され始めている。
例えば、ペンタエリスリトールテトラキス（２−メル
カプトアセテート）および、ペンタエリスリトールテト
ラキス（３−メルカプトプロピオネート）をポリイソシ
アネートと反応させた含硫ウレタン樹脂は、ポリオレフ
ィン系樹脂に比べ、良好な諸物性を有しているが、特に
屈折率と分散のバランスの面からは未だ高度なものとは
言えない。
カプトアセテート）および、ペンタエリスリトールテト
ラキス（３−メルカプトプロピオネート）をポリイソシ
アネートと反応させた含硫ウレタン樹脂は、ポリオレフ
ィン系樹脂に比べ、良好な諸物性を有しているが、特に
屈折率と分散のバランスの面からは未だ高度なものとは
言えない。
そこで、本発明者らは、ペンタエリスリトールテトラ
キス（２−メルカプトアセテート）、ペンタエリスリト
ールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を用
いた場合よりもより高度の屈折率と分散特性を有し、か
つ、それら以外の諸物性でも同等又はより高度の物性を
有する樹脂原料について鋭意研究を行った。その結果、
本発明のポリチオールを用いることにより、この目的を
成就しうることを見出し、本発明に至った。
キス（２−メルカプトアセテート）、ペンタエリスリト
ールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を用
いた場合よりもより高度の屈折率と分散特性を有し、か
つ、それら以外の諸物性でも同等又はより高度の物性を
有する樹脂原料について鋭意研究を行った。その結果、
本発明のポリチオールを用いることにより、この目的を
成就しうることを見出し、本発明に至った。
すなわち、本発明は、ポリウレタン樹脂の原料として
も有用な、一般式（Ｉ） （式中、Ｘ、Ｙは酸素又は硫黄原子を示す。ｍ、ｎは１
〜３の整数を示し、ｐは１又は２の整数を示す。）で表
されるポリチオールを提供するものである。
も有用な、一般式（Ｉ） （式中、Ｘ、Ｙは酸素又は硫黄原子を示す。ｍ、ｎは１
〜３の整数を示し、ｐは１又は２の整数を示す。）で表
されるポリチオールを提供するものである。
本発明の、新規なポリチオールは、具体的にはジエチ
レングリコールビス（２−メルカプトアセテート）、ジ
エチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネー
ト）、ヒドロキシメチルスルフィドビス（２−メルカプ
トアセテート）、ヒドロキシメチルスルフィドビス（３
−メルカプトプロピオネート）、ヒドロキシエチルスル
フィドビス（２−メルカプトアセテート）、ヒドロキシ
エチルスルフィドビス（３−メルカプトプロピオネー
ト）、ヒドロキシプロピルスルフィドビス（２−メルカ
プトアセテート）、ヒドロキシプロピルスルフィドビス
（３−メルカプトプロピオネート）、ヒドロキシメチル
ジスルフィドビス（２−メルカプトアセテート）、ヒド
ロキシメチルジスルフィドビス（３−メルカプトプロピ
オネート）、ヒドロキシエチルジスルフィドビス（２−
メルカプトアセテート）、ヒドロキシエチルジスルフィ
ドビス（３−メルカプトプロピオネート）、ヒドロキシ
プロピルジスルフィドビス（２−メルカプトアセテー
ト）、ヒドロキシプロピルジスルフィドビス（３−メル
カプトプロピオネート）、２−メルカプトエチルエーテ
ルビス（２−メルカプトアセテート）、２−メルカプト
エチルエーテルビス（３−メルカプトプロピオネー
ト）、２−メルカプトエチルスルフィドビス（２−メル
カプトアセテート）、２−メルカプトエチルスルフィド
ビス（３−メルカプトプロピオネート）、２−メルカプ
トエチルジスルフィドビス（２−メルカプトアセテー
ト）、２−メルカプトエチルジスルフィドビス（３−メ
ルカプトプロピオネート）等の化合物である。
レングリコールビス（２−メルカプトアセテート）、ジ
エチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネー
ト）、ヒドロキシメチルスルフィドビス（２−メルカプ
トアセテート）、ヒドロキシメチルスルフィドビス（３
−メルカプトプロピオネート）、ヒドロキシエチルスル
フィドビス（２−メルカプトアセテート）、ヒドロキシ
エチルスルフィドビス（３−メルカプトプロピオネー
ト）、ヒドロキシプロピルスルフィドビス（２−メルカ
プトアセテート）、ヒドロキシプロピルスルフィドビス
（３−メルカプトプロピオネート）、ヒドロキシメチル
ジスルフィドビス（２−メルカプトアセテート）、ヒド
ロキシメチルジスルフィドビス（３−メルカプトプロピ
オネート）、ヒドロキシエチルジスルフィドビス（２−
メルカプトアセテート）、ヒドロキシエチルジスルフィ
ドビス（３−メルカプトプロピオネート）、ヒドロキシ
プロピルジスルフィドビス（２−メルカプトアセテー
ト）、ヒドロキシプロピルジスルフィドビス（３−メル
カプトプロピオネート）、２−メルカプトエチルエーテ
ルビス（２−メルカプトアセテート）、２−メルカプト
エチルエーテルビス（３−メルカプトプロピオネー
ト）、２−メルカプトエチルスルフィドビス（２−メル
カプトアセテート）、２−メルカプトエチルスルフィド
ビス（３−メルカプトプロピオネート）、２−メルカプ
トエチルジスルフィドビス（２−メルカプトアセテー
ト）、２−メルカプトエチルジスルフィドビス（３−メ
ルカプトプロピオネート）等の化合物である。
これらの化合物は、原料のアルコール、チオールと、
チオグリコール酸、メルカプトプロピオン酸又はそれら
の酸無水物、酸ハロゲン化物を、無溶媒又は、溶媒中
で、ｐ−トルエンスルホン酸、硫酸、塩酸などの酸触媒
又は、ピリジン、トリエチルアミン、苛性ソーダ、苛性
カリなどのアルカリ触媒存在下に、加熱又は冷却しなが
ら反応させ、反応終了後、反応液を中和し、溶媒を用い
た場合は、溶媒を除去して得ることができる。
チオグリコール酸、メルカプトプロピオン酸又はそれら
の酸無水物、酸ハロゲン化物を、無溶媒又は、溶媒中
で、ｐ−トルエンスルホン酸、硫酸、塩酸などの酸触媒
又は、ピリジン、トリエチルアミン、苛性ソーダ、苛性
カリなどのアルカリ触媒存在下に、加熱又は冷却しなが
ら反応させ、反応終了後、反応液を中和し、溶媒を用い
た場合は、溶媒を除去して得ることができる。
なお、溶媒を用いる場合は、原料と反応性を有しない
ヘキサン、トルエン、ベンゼン、シクロヘキサン、キシ
レンなどの炭化水素類、テトラクロルエタン、クロロホ
ルム、モノクロルベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類
などを使用する。
ヘキサン、トルエン、ベンゼン、シクロヘキサン、キシ
レンなどの炭化水素類、テトラクロルエタン、クロロホ
ルム、モノクロルベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類
などを使用する。
かくして得られる本発明の新規なポリチオールは、重
合調整剤、合成樹脂の原料、架橋剤、加硫剤、エポキシ
樹脂の硬化剤、金属錯体生成剤、生化学的薬物、潤滑油
添加剤として広範囲な用途を有し、特にキシリレンジイ
ソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメ
チレンジイソシアネートなどのポリイソシアネートと加
熱重合して得られる樹脂は、ペンタエリスリトールテト
ラキス（２−メルカプトアセテート）や、ペンタエリス
リトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）
を用いた樹脂に比べ、高度の屈折率と低分散性を有し、
かつ、その他の諸物性も良好な、光学部品などに有用な
含硫ポリウレタン樹脂である。
合調整剤、合成樹脂の原料、架橋剤、加硫剤、エポキシ
樹脂の硬化剤、金属錯体生成剤、生化学的薬物、潤滑油
添加剤として広範囲な用途を有し、特にキシリレンジイ
ソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメ
チレンジイソシアネートなどのポリイソシアネートと加
熱重合して得られる樹脂は、ペンタエリスリトールテト
ラキス（２−メルカプトアセテート）や、ペンタエリス
リトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）
を用いた樹脂に比べ、高度の屈折率と低分散性を有し、
かつ、その他の諸物性も良好な、光学部品などに有用な
含硫ポリウレタン樹脂である。
以下実施例を示す。
実施例−１ ２−ヒドロキシエチルジスルフィド25.64g、ｐ−トル
エンスルホン酸0.5g、チオグリコール酸32.16g、ベンゼ
ン100mlを混合し、80〜100℃に保ちながら、発生する水
を系外に除去した。２時間後に、除去された水が5.96g
になったところで室温まで冷却し、５％重炭酸ソーダ水
溶液で系を洗浄したのち、水で洗浄し、ベンゼン層を芒
硝で乾燥したのち、活性炭で処理し、減圧濃縮縮して、
無色のシロップ48.89gを得た。
エンスルホン酸0.5g、チオグリコール酸32.16g、ベンゼ
ン100mlを混合し、80〜100℃に保ちながら、発生する水
を系外に除去した。２時間後に、除去された水が5.96g
になったところで室温まで冷却し、５％重炭酸ソーダ水
溶液で系を洗浄したのち、水で洗浄し、ベンゼン層を芒
硝で乾燥したのち、活性炭で処理し、減圧濃縮縮して、
無色のシロップ48.89gを得た。
Ｃ Ｈ Ｓ 元素分析値（％） 31.58 4.83 42.10 計 算 値（％） 31.77 4.67 42.40 （C8H14O4S4として） NMR δ CDCl3 δ＝2.01（ｔ、2H、SH×２）、 2.90（ｔ、4H、−SCH2−×２）、 3.21（ｄ、4H、HSCH2×２）、 4.29（ｔ、4H、OCH2−×２）、 実施例２〜20 実施例１と同様に第１表の原料よりポリチオールを合
成した。合成したポリチオールの元素分析値とNMR分析
値を第１表に記した。
成した。合成したポリチオールの元素分析値とNMR分析
値を第１表に記した。
使用例１ 実施例１で得られたヒドロキシエチルジスルフィドビ
ス（２−メルカプトアセテート）24.2g、ペンタエリス
リトールテトラキス（２−メルカプトアセテート）4.3
g、ｍ−キシリレンジイソシアネート18.8gを混合し、ジ
ブチルチンラウレート0.01gを加え均一とした後、シリ
コン系焼付タイプの離型剤で処理をしたガラスモールド
とテフロン製ガスケットよりなるモールド型中に注入し
た。次いで80℃で３時間、100℃で２時間、120℃で３時
間加熱した後、冷却し、モールドから取り出した。この
樹脂は屈折率1.62、アッベ数35であり、無色透明で加工
性、耐衝撃性も良好であった。
ス（２−メルカプトアセテート）24.2g、ペンタエリス
リトールテトラキス（２−メルカプトアセテート）4.3
g、ｍ−キシリレンジイソシアネート18.8gを混合し、ジ
ブチルチンラウレート0.01gを加え均一とした後、シリ
コン系焼付タイプの離型剤で処理をしたガラスモールド
とテフロン製ガスケットよりなるモールド型中に注入し
た。次いで80℃で３時間、100℃で２時間、120℃で３時
間加熱した後、冷却し、モールドから取り出した。この
樹脂は屈折率1.62、アッベ数35であり、無色透明で加工
性、耐衝撃性も良好であった。
比較例１ ペンタエリスリトールテトラキス（２−メルカプトア
セテート）21.6g、ｍ−キシリレンジイソシアネート18.
8gを混合し、使用例と同様の方法で重合を行い樹脂を得
た。得られた樹脂は、屈折率1.60、アッベ数35であり、
無色透明で加工性、耐衝撃性も良好であった。
セテート）21.6g、ｍ−キシリレンジイソシアネート18.
8gを混合し、使用例と同様の方法で重合を行い樹脂を得
た。得られた樹脂は、屈折率1.60、アッベ数35であり、
無色透明で加工性、耐衝撃性も良好であった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ１０Ｎ 30:10 Ｃ０８Ｇ 59/40 ＮＪＫ Ｃ０８Ｇ 59/40 ＮＪＫ
Claims (1)
- 【請求項１】一般式（Ｉ）で表されるポリチオール。 （式中、Ｘ、Ｙは酸素又は硫黄原子を示す。ｍ、ｎは１
〜３の整数を示し、ｐは１または２の整数を示す）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24495087A JP2541582B2 (ja) | 1987-09-29 | 1987-09-29 | ポリチオ―ル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24495087A JP2541582B2 (ja) | 1987-09-29 | 1987-09-29 | ポリチオ―ル |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6490167A JPS6490167A (en) | 1989-04-06 |
| JP2541582B2 true JP2541582B2 (ja) | 1996-10-09 |
Family
ID=17126370
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24495087A Expired - Fee Related JP2541582B2 (ja) | 1987-09-29 | 1987-09-29 | ポリチオ―ル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2541582B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20140039145A1 (en) * | 2011-03-02 | 2014-02-06 | Koc Solution Co Ltd | Method of producing resin for thiourethane-based optical material using general-purpose polyisocyanate compound, resin composition for thiourethane-based optical material and thiourethane-based optical material including resin produced by the method |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6309836B1 (en) * | 1999-10-05 | 2001-10-30 | Marek Kwiatkowski | Compounds for protecting hydroxyls and methods for their use |
| JP4837166B2 (ja) * | 2000-10-25 | 2011-12-14 | 堺化学工業株式会社 | メルカプト脂肪酸とポリオキシアルキレン化合物とのエステルおよびその製造方法 |
| US7312266B2 (en) | 2000-12-15 | 2007-12-25 | The College Of William And Mary | Organic thiol metal-free stabilizers and plasticizers for halogen-containing polymers |
| US6927247B2 (en) * | 2000-12-15 | 2005-08-09 | The College Of William And Mary | Organic thiol metal-free stabilizers and plasticizers for halogen-containing polymers |
| US6762231B2 (en) | 2000-12-15 | 2004-07-13 | The College Of William And Mary | Organic thiol metal-free stabilizers and plasticizers for halogen-containing polymers |
| KR100497579B1 (ko) * | 2001-11-16 | 2005-07-01 | 장동규 | 황 함유 고분자를 이용한 플라스틱 안경렌즈 재료와 이를 이용한 플라스틱 안경렌즈 |
| US7909929B2 (en) | 2002-11-13 | 2011-03-22 | Nippon Soda Co., Ltd. | Dispersoid having metal-oxygen bonds, metal oxide film, and monomolecular film |
| US8003748B2 (en) | 2004-02-17 | 2011-08-23 | Chevron Phillips Chemical Company, Lp | Polythiourethane compositions and processes for making and using same |
| JP2007526939A (ja) | 2004-02-17 | 2007-09-20 | シェブロン フィリップス ケミカル カンパニー エルピー | チオール・エステル組成物、ならびにそれを生成するプロセスおよびそれを使用する方法 |
| CN101287776B (zh) | 2005-08-16 | 2012-09-05 | 切弗朗菲利浦化学公司 | 聚合物组分及其制备和使用方法 |
| CN101309992A (zh) | 2005-08-16 | 2008-11-19 | 切弗朗菲利浦化学公司 | 硫醇硬化的环氧聚合物组合物及其制备和使用方法 |
| JP5630945B2 (ja) * | 2007-03-23 | 2014-11-26 | 株式会社日本触媒 | チオール変性単量体混合物 |
| JP5630946B2 (ja) * | 2007-03-23 | 2014-11-26 | 株式会社日本触媒 | チオール変性単量体及びその製造方法 |
| BR112016006703A2 (pt) | 2013-09-30 | 2017-08-01 | Hoya Lens Thailand Ltd | substrato de plástico transparente e lente de plástico |
| CN107417589A (zh) * | 2017-07-20 | 2017-12-01 | 温州大学 | 二‑3‑巯基丙酸‑2.2‑二硫二乙酯及其制备方法和应用 |
| CN111574406B (zh) * | 2020-05-28 | 2021-10-08 | 陕西科技大学 | 一种多羧基螯合剂及其制备方法和应用 |
-
1987
- 1987-09-29 JP JP24495087A patent/JP2541582B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20140039145A1 (en) * | 2011-03-02 | 2014-02-06 | Koc Solution Co Ltd | Method of producing resin for thiourethane-based optical material using general-purpose polyisocyanate compound, resin composition for thiourethane-based optical material and thiourethane-based optical material including resin produced by the method |
| US10067266B2 (en) * | 2011-03-02 | 2018-09-04 | Koc Solution Co., Ltd. | Method of producing resin for thiourethane-based optical material using general-purpose polyisocyanate compound, resin composition for thiourethane-based optical material and thiourethane-based optical material including resin produced by the method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6490167A (en) | 1989-04-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2541582B2 (ja) | ポリチオ―ル | |
| KR0180926B1 (ko) | 폴리티올 그 제조방법 이것을 사용한 황함유우레탄계수지 그 수지의 제조방법 및 렌즈 | |
| CA1131649A (en) | Aryl amine terminated polysulfide polymers, related compounds and processes for their preparation | |
| EP0803504A2 (en) | The process of producing polythiol oligomer | |
| TWI652283B (zh) | 用於製造光學材料之芳香族聚硫醇化合物 | |
| TWI630195B (zh) | Polythiol compound and method of producing the same | |
| WO2007129450A1 (ja) | 光学材料用（ポリ）チオール化合物の製造方法およびそれを含む重合性組成物 | |
| TWI644906B (zh) | Novel cyclic compound and composition for optical material containing the same | |
| JP2740714B2 (ja) | メルカプト化合物及びその製造方法 | |
| US5310847A (en) | Polymer compositions based on polythiourethanes for the manufacture of organic glasses | |
| JP6241208B2 (ja) | 光学材料用ポリチオール化合物の製造方法 | |
| JPH07116129B2 (ja) | ポリチオール | |
| JPH07116127B2 (ja) | ポリチオール | |
| JPH07116128B2 (ja) | ポリチオール | |
| JP3238313B2 (ja) | 光学材料用組成物およびその用途 | |
| JP2612295B2 (ja) | 高屈折率プラスチックレンズ用樹脂およびこれらの樹脂からなるレンズ | |
| JPH0236216A (ja) | 高屈折率プラスチックレンズ | |
| JP2002348349A (ja) | 光学材料用重合体の製造方法 | |
| JP2854944B2 (ja) | イソシアナート化合物及びそれを用いた含硫ウレタン系樹脂及びレンズ | |
| US2919262A (en) | Process for making polysulfide liquid polymers | |
| JPH10319204A (ja) | プラスチックレンズの製造方法 | |
| JP5189769B2 (ja) | 含硫ポリイソシアナート化合物 | |
| JP3483828B2 (ja) | プラスチックレンズの製造方法及びプラスチックレンズ | |
| JP3862382B2 (ja) | ３官能以上の新規な含セレンポリチオール | |
| CN108003135A (zh) | 新型硫醇化合物和使用了其的光学材料用组合物 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |