JP2528745B2 - 液面レベルセンサ - Google Patents
液面レベルセンサInfo
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- JP2528745B2 JP2528745B2 JP3083334A JP8333491A JP2528745B2 JP 2528745 B2 JP2528745 B2 JP 2528745B2 JP 3083334 A JP3083334 A JP 3083334A JP 8333491 A JP8333491 A JP 8333491A JP 2528745 B2 JP2528745 B2 JP 2528745B2
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- liquid
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Description
【0001】
【0002】本願発明は、液面レベルセンサに関する。
【従来の技術およびその解決するべき課題】半導体装置
の製造工程において、フォトレジスト工程処理を終えた
ウエハのウェットエッチング工程は、酸化シリコン(S
iO2 )を腐食しうるエッチング液としてのフッ酸(フ
ッ化水素水溶液)を貯溜した処理槽内に、上記エッチン
グ処理するべきウエハを一定時間浸漬するという処理が
行われる。
の製造工程において、フォトレジスト工程処理を終えた
ウエハのウェットエッチング工程は、酸化シリコン(S
iO2 )を腐食しうるエッチング液としてのフッ酸(フ
ッ化水素水溶液)を貯溜した処理槽内に、上記エッチン
グ処理するべきウエハを一定時間浸漬するという処理が
行われる。
【0003】酸化シリコンが溶解して汚れるエッチング
液は、ウエハを所定枚数処理するごとに交換される。こ
のような処理液の交換は、図3に示すように、処理槽の
ドレンを開いて汚れたエッチング液を排出した後、エッ
チング液供給口から新たなエッチング液が所定量供給さ
れる。このとき、エッチング液の液面レベルは所定のレ
ベルに一定化することは、エッチング処理の精度ないし
は品質を一定に保つうえで重要なことである。
液は、ウエハを所定枚数処理するごとに交換される。こ
のような処理液の交換は、図3に示すように、処理槽の
ドレンを開いて汚れたエッチング液を排出した後、エッ
チング液供給口から新たなエッチング液が所定量供給さ
れる。このとき、エッチング液の液面レベルは所定のレ
ベルに一定化することは、エッチング処理の精度ないし
は品質を一定に保つうえで重要なことである。
【0004】一般に、処理槽内の液面レベルを知るため
の技術は、たとえば、フロートを用いて機械的にあるい
は電気的に検知するなど種々のものが公知であるが、上
記のようなエッチング処理槽内の薬液であるエッチング
液の液面レベルを検知するためには、このようなエッチ
ング液が腐食性の強い強酸であることが多いがゆえに採
用できず、従来、次のような手法によってエッチング液
のレベルを検知していた。
の技術は、たとえば、フロートを用いて機械的にあるい
は電気的に検知するなど種々のものが公知であるが、上
記のようなエッチング処理槽内の薬液であるエッチング
液の液面レベルを検知するためには、このようなエッチ
ング液が腐食性の強い強酸であることが多いがゆえに採
用できず、従来、次のような手法によってエッチング液
のレベルを検知していた。
【0005】すなわち、図3に示すように、処理槽1内
に、下向きに開口するノズル端2aをもち、常時窒素ガ
スなどの不活性ガスがノズル端に向けて流されるパイプ
2を設けるとともに、このパイプ2の中間部に、パイプ
内の静圧を検知することができる圧力センサ3を設け、
上記パイプ内に窒素ガスを一定流量で流しているときの
パイプ内静圧の上昇を上記圧力センサ3によって検知す
ることにより、液面がノズル端2aに到達したことを知
るように構成されていた。
に、下向きに開口するノズル端2aをもち、常時窒素ガ
スなどの不活性ガスがノズル端に向けて流されるパイプ
2を設けるとともに、このパイプ2の中間部に、パイプ
内の静圧を検知することができる圧力センサ3を設け、
上記パイプ内に窒素ガスを一定流量で流しているときの
パイプ内静圧の上昇を上記圧力センサ3によって検知す
ることにより、液面がノズル端2aに到達したことを知
るように構成されていた。
【0006】上記パイプ2内を定められた流量の窒素ガ
スが不都合なく流れているときには、この流れによる静
圧低下が存在するが、液面が上昇してきてこれが上記の
ノズル端2aを塞ぐと、パイプ2内の窒素ガス流れが停
止させられ、したがって、パイプ内圧力は、窒素供給源
によって与えられる全圧と同等となり、その分、圧力セ
ンサ3によって検出される圧力が上昇するのである。上
記圧力センサ3からの上述のような圧力変動情報をたと
えば薬液供給装置の開閉装置を制御する制御手段に入力
し、自動的に薬液の供給を停止するなどすることによ
り、液面が一定レベルに到達したことを実質的に検知し
て、処理槽内への薬液の供給を停止するという制御を行
うことができるのである。
スが不都合なく流れているときには、この流れによる静
圧低下が存在するが、液面が上昇してきてこれが上記の
ノズル端2aを塞ぐと、パイプ2内の窒素ガス流れが停
止させられ、したがって、パイプ内圧力は、窒素供給源
によって与えられる全圧と同等となり、その分、圧力セ
ンサ3によって検出される圧力が上昇するのである。上
記圧力センサ3からの上述のような圧力変動情報をたと
えば薬液供給装置の開閉装置を制御する制御手段に入力
し、自動的に薬液の供給を停止するなどすることによ
り、液面が一定レベルに到達したことを実質的に検知し
て、処理槽内への薬液の供給を停止するという制御を行
うことができるのである。
【0007】しかしながら、上記のように、エッチング
液としてのフッ酸の液面レベルを検知する手段として、
上述のような液面レベルセンサを用い、かつ、パイプ内
を流す不活性ガスとして窒素ガスを用いた場合、次のよ
うな問題が発生する。すなわち、上記のような液面レベ
ルセンサを用いる場合、このセンサの構成のうち、液面
に接触する部分が上記パイプ2のノズル端2aのみとい
う、きわめて小さい部位ではあるが、このノズル端2a
が液面レベルの検知をするたびごとにフッ酸に浸漬させ
られることは避けられない。
液としてのフッ酸の液面レベルを検知する手段として、
上述のような液面レベルセンサを用い、かつ、パイプ内
を流す不活性ガスとして窒素ガスを用いた場合、次のよ
うな問題が発生する。すなわち、上記のような液面レベ
ルセンサを用いる場合、このセンサの構成のうち、液面
に接触する部分が上記パイプ2のノズル端2aのみとい
う、きわめて小さい部位ではあるが、このノズル端2a
が液面レベルの検知をするたびごとにフッ酸に浸漬させ
られることは避けられない。
【0008】そうすると、上記ノズル端2aに付着した
フッ酸とパイプ2内を流される窒素ガスとが反応して、
ノズル端の内面にフッ化アンモニウム結晶が析出する。
上記のごとく液面レベルの検出作業を繰り返していくう
ちに、こうしてノズル端内面に析出付着するフッ化アン
モニウム結晶が次第に堆積していき、ついには、こうし
て堆積成長するフッ化アンモニウム結晶が、ノズル端の
開口を狭窄させる場合がある。そして、パイプ2内の窒
素ガス流通が阻害され、圧力センサ3の誤動作を惹起
し、結局、液面レベルセンサとしても正常に作動しえな
くなることがある。
フッ酸とパイプ2内を流される窒素ガスとが反応して、
ノズル端の内面にフッ化アンモニウム結晶が析出する。
上記のごとく液面レベルの検出作業を繰り返していくう
ちに、こうしてノズル端内面に析出付着するフッ化アン
モニウム結晶が次第に堆積していき、ついには、こうし
て堆積成長するフッ化アンモニウム結晶が、ノズル端の
開口を狭窄させる場合がある。そして、パイプ2内の窒
素ガス流通が阻害され、圧力センサ3の誤動作を惹起
し、結局、液面レベルセンサとしても正常に作動しえな
くなることがある。
【0009】従来は、パイプ2に対してノズル端2aの
みが着脱可能としてあり、上記のように内面にフッ化ア
ンモニウム結晶が堆積付着したノズル端2aをパイプ2
から取り外し、これを純水などの洗浄水で洗うことによ
って、上記のフッ化アンモニウム結晶を除去するという
作業を行っていた。しかしながら、上記のようなノズル
端2aを取り外してこれを洗浄するという作業は面倒で
あるし、フッ酸がそばにある状況のもとで、このような
ノズル端2aを取り外すという作業をすることは、人体
への影響を考慮すると、不用意に行うことができない。
みが着脱可能としてあり、上記のように内面にフッ化ア
ンモニウム結晶が堆積付着したノズル端2aをパイプ2
から取り外し、これを純水などの洗浄水で洗うことによ
って、上記のフッ化アンモニウム結晶を除去するという
作業を行っていた。しかしながら、上記のようなノズル
端2aを取り外してこれを洗浄するという作業は面倒で
あるし、フッ酸がそばにある状況のもとで、このような
ノズル端2aを取り外すという作業をすることは、人体
への影響を考慮すると、不用意に行うことができない。
【0010】この発明は、上述の事情のもとで考えださ
れてものであって、上記の従来の問題を解決し、人手に
よる作業を必要とすることなく、液面レベルセンサの誤
動作を回避することができるようにすることをその課題
とする。
れてものであって、上記の従来の問題を解決し、人手に
よる作業を必要とすることなく、液面レベルセンサの誤
動作を回避することができるようにすることをその課題
とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、本願発明では、次の技術的手段を講じている。すな
わち、本願発明は、容器への液体の供給および容器から
の液体の排出が制御装置によって制御される液体容器に
設けられ、下向きに開口するノズル端をもつとともにこ
のノズル端に向けて気体が流されるパイプと、このパイ
プの中間部の静圧を検知する圧力センサとを備え、液面
が上昇してこれが上記ノズル端の開口を封止した際のパ
イプ内静圧上昇をもって、液面レベルが上記ノズル端の
レベルに到達したことを知るように構成された液面レベ
ルセンサにおいて、上記パイプにおける上記ノズル端と
上記圧力センサとの間から枝分かれする洗浄水供給管を
設け、上記制御装置による容器内の液体排出制御に連動
して、上記洗浄水供給管からの洗浄水を上記パイプ内を
ノズル端に向けて流すことにより、上記ノズル端の内部
を洗浄するように構成したことを特徴としている。
め、本願発明では、次の技術的手段を講じている。すな
わち、本願発明は、容器への液体の供給および容器から
の液体の排出が制御装置によって制御される液体容器に
設けられ、下向きに開口するノズル端をもつとともにこ
のノズル端に向けて気体が流されるパイプと、このパイ
プの中間部の静圧を検知する圧力センサとを備え、液面
が上昇してこれが上記ノズル端の開口を封止した際のパ
イプ内静圧上昇をもって、液面レベルが上記ノズル端の
レベルに到達したことを知るように構成された液面レベ
ルセンサにおいて、上記パイプにおける上記ノズル端と
上記圧力センサとの間から枝分かれする洗浄水供給管を
設け、上記制御装置による容器内の液体排出制御に連動
して、上記洗浄水供給管からの洗浄水を上記パイプ内を
ノズル端に向けて流すことにより、上記ノズル端の内部
を洗浄するように構成したことを特徴としている。
【0012】
【発明の作用および効果】たとえば、液面レベルを検出
するべき液が、酸化シリコンを腐食するためのフッ酸で
あり、上記レベルセンサにおいてパイプ内を流される気
体が窒素である場合、パイプ先端のノズル端に付着した
フッ酸が、パイプ内を流通する窒素と反応してフッ化ア
ンモニウム結晶となり、これがレベルセンサにおいて上
記パイプのノズル端を閉塞させる問題を惹起する。しか
しながら、本願発明の液面レベルセンサにおいては、パ
イプ内に窒素を流すだけでなく、処理槽のフッ酸の排液
動作に連動して、上記パイプの中間部から枝分かれさせ
た洗浄水供給管からノズル端に向けて洗浄水を流すよう
にしている。
するべき液が、酸化シリコンを腐食するためのフッ酸で
あり、上記レベルセンサにおいてパイプ内を流される気
体が窒素である場合、パイプ先端のノズル端に付着した
フッ酸が、パイプ内を流通する窒素と反応してフッ化ア
ンモニウム結晶となり、これがレベルセンサにおいて上
記パイプのノズル端を閉塞させる問題を惹起する。しか
しながら、本願発明の液面レベルセンサにおいては、パ
イプ内に窒素を流すだけでなく、処理槽のフッ酸の排液
動作に連動して、上記パイプの中間部から枝分かれさせ
た洗浄水供給管からノズル端に向けて洗浄水を流すよう
にしている。
【0013】したがって、フッ酸を用いたエッチング処
理槽の処理液の交換のたびごとに、自動的に上記のよう
にノズル端の内面が洗浄水によって洗浄されることにな
る。その結果、ノズル端内面にフッ化アンモニウム結晶
が生成してノズル端が閉塞して液面レベル検出が不能と
なるという事態を有効に回避することができ、液面レベ
ルセンサとしての所定の機能を長期間一定に維持するこ
とができるようになる。
理槽の処理液の交換のたびごとに、自動的に上記のよう
にノズル端の内面が洗浄水によって洗浄されることにな
る。その結果、ノズル端内面にフッ化アンモニウム結晶
が生成してノズル端が閉塞して液面レベル検出が不能と
なるという事態を有効に回避することができ、液面レベ
ルセンサとしての所定の機能を長期間一定に維持するこ
とができるようになる。
【0014】そしてさらに、自動的なノズル端内面の洗
浄が可能であることから、従来のように、パイプのノズ
ル端を取り外してこれを洗浄するという人為的な操作を
全く不要とするようになるため、フッ酸の存在する環境
において上記のような人為的な操作が必要であることに
よる、人体に対する悪影響の懸念が無くなり、エッチン
グ工程装置での作業環境が改善される効果もある。
浄が可能であることから、従来のように、パイプのノズ
ル端を取り外してこれを洗浄するという人為的な操作を
全く不要とするようになるため、フッ酸の存在する環境
において上記のような人為的な操作が必要であることに
よる、人体に対する悪影響の懸念が無くなり、エッチン
グ工程装置での作業環境が改善される効果もある。
【0015】
【実施例の説明】以下、本願発明の好ましい実施例を、
図面を参照しつつ具体的に説明する。本実施例は、処理
槽1に貯溜したフッ酸によって、ウエハ表面の酸化シリ
コンをエッチングするエッチング処理装置において、処
理槽1に貯溜するべきフッ酸の液面レベルを検知するた
めに構成した例を示す。
図面を参照しつつ具体的に説明する。本実施例は、処理
槽1に貯溜したフッ酸によって、ウエハ表面の酸化シリ
コンをエッチングするエッチング処理装置において、処
理槽1に貯溜するべきフッ酸の液面レベルを検知するた
めに構成した例を示す。
【0016】処理槽1の底部には、ドレン管4が設けら
れ、このドレン管4は、後記する排液スイッチ(SW)
の投入によって開閉制御される弁装置5を備える。一
方、この処理装置1には、その上部に配した薬液供給管
6から、エッチング液としてのフッ酸が供給されるよう
になっている。この薬液供給管6からのフッ酸の供給お
よび停止は、後記する制御装置によって制御される弁7
によって自動的に行われる。
れ、このドレン管4は、後記する排液スイッチ(SW)
の投入によって開閉制御される弁装置5を備える。一
方、この処理装置1には、その上部に配した薬液供給管
6から、エッチング液としてのフッ酸が供給されるよう
になっている。この薬液供給管6からのフッ酸の供給お
よび停止は、後記する制御装置によって制御される弁7
によって自動的に行われる。
【0017】この薬液供給管6から処理槽1内に供給さ
れるフッ酸液面が所定のレベルに到達したことを検知す
る本願発明にかかる液面レベルセンサSは、処理槽1内
において、下向きに開口するノズル端2aをもつととも
に、窒素ガス供給源8からの窒素ガスが流されるパイプ
2と、このパイプ2の中間部において内部圧力を検知す
る圧力センサ3と、このパイプ2における上記ノズル端
2aと上記圧力センサ3との間から枝分かれする洗浄水
供給管9とを基本的に備える。
れるフッ酸液面が所定のレベルに到達したことを検知す
る本願発明にかかる液面レベルセンサSは、処理槽1内
において、下向きに開口するノズル端2aをもつととも
に、窒素ガス供給源8からの窒素ガスが流されるパイプ
2と、このパイプ2の中間部において内部圧力を検知す
る圧力センサ3と、このパイプ2における上記ノズル端
2aと上記圧力センサ3との間から枝分かれする洗浄水
供給管9とを基本的に備える。
【0018】実施例においては、図1に示すように、窒
素ガス供給源8から圧力センサ3を介して延びる水平パ
イプ2cの先端にT型継手2bを設け、このT型継手2
bから下方向に延びる垂直パイプ2dないしその先端の
ノズル端2aを接続するとともに、上方に延びる洗浄水
供給管9を接続して構成している。洗浄水供給管9の中
間部には洗浄水の供給および停止を行う電磁弁10が設
けられている。なおこの洗浄水供給管9に導入するべき
洗浄水としては、純水が適当である。
素ガス供給源8から圧力センサ3を介して延びる水平パ
イプ2cの先端にT型継手2bを設け、このT型継手2
bから下方向に延びる垂直パイプ2dないしその先端の
ノズル端2aを接続するとともに、上方に延びる洗浄水
供給管9を接続して構成している。洗浄水供給管9の中
間部には洗浄水の供給および停止を行う電磁弁10が設
けられている。なおこの洗浄水供給管9に導入するべき
洗浄水としては、純水が適当である。
【0019】上記圧力センサ3からの検出信号は、マイ
クロコンピュータなどからなる制御装置11に入力さ
れ、圧力センサ3からの出力信号が、フッ酸の液面がノ
ズル端2aのレベルに達したことを示すとき、自動的に
上記弁7を閉じて薬液供給管6からのフッ酸の供給を停
止させる。すなわち、処理槽1のエッチング液交換時に
おいて、ドレン管4からすべての汚れたフッ酸を排出し
た後、ドレン管を閉じて新たなフッ酸液を薬液供給管6
から供給し、その液面が所定のレベル、すなわち、上記
パイプ2のノズル端2aのレベルに到達した時点におい
て、薬液供給を停止するという制御に本実施例の液面レ
ベルセンサが利用されているのである。
クロコンピュータなどからなる制御装置11に入力さ
れ、圧力センサ3からの出力信号が、フッ酸の液面がノ
ズル端2aのレベルに達したことを示すとき、自動的に
上記弁7を閉じて薬液供給管6からのフッ酸の供給を停
止させる。すなわち、処理槽1のエッチング液交換時に
おいて、ドレン管4からすべての汚れたフッ酸を排出し
た後、ドレン管を閉じて新たなフッ酸液を薬液供給管6
から供給し、その液面が所定のレベル、すなわち、上記
パイプ2のノズル端2aのレベルに到達した時点におい
て、薬液供給を停止するという制御に本実施例の液面レ
ベルセンサが利用されているのである。
【0020】なお、このとき、電磁弁10を閉として、
洗浄水供給管9からの洗浄水供給は停止しており、パイ
プ2には所定流量の窒素ガスが流されている。液面レベ
ルが上記ノズル端2aに対して十分低く、したがってパ
イプ2内の窒素ガスが問題なくノズル端2aから流れ出
ている状態においては、この窒素ガス流れの動圧分パイ
プ内の静圧が低下している。一方、液面レベルが上昇し
てこれが上記ノズル端2aに到達すると、パイプ2内の
窒素ガス流れが停止させられ、これによってパイプ内の
静圧は、窒素供給源の全圧と同等の圧力に上昇する。制
御装置11は、このようなパイプ2内の静圧上昇を検知
することにより、液面レベルがノズル端2aに到達した
ことを検出し、この検出情報に従って、電磁弁7を閉じ
て薬液供給管6からのフッ酸の供給を停止することがで
きる。
洗浄水供給管9からの洗浄水供給は停止しており、パイ
プ2には所定流量の窒素ガスが流されている。液面レベ
ルが上記ノズル端2aに対して十分低く、したがってパ
イプ2内の窒素ガスが問題なくノズル端2aから流れ出
ている状態においては、この窒素ガス流れの動圧分パイ
プ内の静圧が低下している。一方、液面レベルが上昇し
てこれが上記ノズル端2aに到達すると、パイプ2内の
窒素ガス流れが停止させられ、これによってパイプ内の
静圧は、窒素供給源の全圧と同等の圧力に上昇する。制
御装置11は、このようなパイプ2内の静圧上昇を検知
することにより、液面レベルがノズル端2aに到達した
ことを検出し、この検出情報に従って、電磁弁7を閉じ
て薬液供給管6からのフッ酸の供給を停止することがで
きる。
【0021】こうして一定液面レベルに供給された処理
槽内のフッ酸は、所定枚数のウエハのためのエッチング
液として作用する。エッチング処理を続けるうちに、ウ
エハ上の酸化シリコンがエッチング液内に溶解し、この
フッ酸は次第に汚れていき、一定時間経過後交換の必要
が生じてくる。
槽内のフッ酸は、所定枚数のウエハのためのエッチング
液として作用する。エッチング処理を続けるうちに、ウ
エハ上の酸化シリコンがエッチング液内に溶解し、この
フッ酸は次第に汚れていき、一定時間経過後交換の必要
が生じてくる。
【0022】このようなエッチング液の交換に際して
は、まず、ドレン管4の弁装置5を開とすることによ
り、処理槽1内の汚れたエッチング液を排出する操作を
行う。そして、このようなエッチング液排出操作時に、
洗浄水供給管9から純水をパイプ2内に流し、上記レベ
ルセンシング時に薬液が付着したノズル端2aの内面を
洗浄すると都合がよい。
は、まず、ドレン管4の弁装置5を開とすることによ
り、処理槽1内の汚れたエッチング液を排出する操作を
行う。そして、このようなエッチング液排出操作時に、
洗浄水供給管9から純水をパイプ2内に流し、上記レベ
ルセンシング時に薬液が付着したノズル端2aの内面を
洗浄すると都合がよい。
【0023】このようにして、処理槽1内のエッチング
液の排液操作と連動させて電磁弁10を開いてノズル端
2aの洗浄を行うためには、次のような回路構成をとる
とよい。すなわち、図2において、SWは、排液スイッ
チを投入するとこれに連動して投入されるスイッチを示
す。Tは導通後一定時間経過して導通を停止するタイマ
のコイル側を、tは上記タイマの接点側を、Rはリレー
のコイル側を、rは上記コイルへの導通によって閉じら
れるリレーの接点側を示し、SOLは上記電磁弁10の
ソレノイド示す。
液の排液操作と連動させて電磁弁10を開いてノズル端
2aの洗浄を行うためには、次のような回路構成をとる
とよい。すなわち、図2において、SWは、排液スイッ
チを投入するとこれに連動して投入されるスイッチを示
す。Tは導通後一定時間経過して導通を停止するタイマ
のコイル側を、tは上記タイマの接点側を、Rはリレー
のコイル側を、rは上記コイルへの導通によって閉じら
れるリレーの接点側を示し、SOLは上記電磁弁10の
ソレノイド示す。
【0024】スイッチSWが瞬間的に閉じられると、コ
イルRが励磁されて接点rが閉じられると同時にタイマ
Tが作動する。このとき、タイマTが導通を維持してい
る限り、スイッチSWが開いても、回路内の導通が維持
される。こうしてソレノイドSOLが励磁されることに
よって電磁弁10が開となる。そして、一定時間経過後
タイマTが導通を遮断すると、ソレノイドSOLの励磁
も解除され、このとき、電磁弁10は再び閉状態にもど
る。
イルRが励磁されて接点rが閉じられると同時にタイマ
Tが作動する。このとき、タイマTが導通を維持してい
る限り、スイッチSWが開いても、回路内の導通が維持
される。こうしてソレノイドSOLが励磁されることに
よって電磁弁10が開となる。そして、一定時間経過後
タイマTが導通を遮断すると、ソレノイドSOLの励磁
も解除され、このとき、電磁弁10は再び閉状態にもど
る。
【0025】すなわち、排液スイッチと同時に投入され
るスイッチSWによって電磁弁が上記タイマTに設定さ
れた時間、開状態となり、この間洗浄水供給間9からの
洗浄水によるパイプ2のノズル端2aの内面の洗浄が行
われるのである。このような洗浄が行われているのはエ
ッチング液の排出状態であるから、パイプ2のノズル端
2aから流れでる洗浄水は、エッチング液とともにドレ
ン管4から排出される。
るスイッチSWによって電磁弁が上記タイマTに設定さ
れた時間、開状態となり、この間洗浄水供給間9からの
洗浄水によるパイプ2のノズル端2aの内面の洗浄が行
われるのである。このような洗浄が行われているのはエ
ッチング液の排出状態であるから、パイプ2のノズル端
2aから流れでる洗浄水は、エッチング液とともにドレ
ン管4から排出される。
【0026】したがって、本実施例によれば、処理槽1
のエッチング液を交換するたびごとに、センサSのノズ
ル端2aの内面が洗浄されるため、従来のように、エッ
チング液としてフッ酸を用い、センサSの作動気体とし
て窒素ガスを用いる場合、ノズル端2aの内面にフッ酸
と窒素ガスの反応によるフッ化アンモニウム結晶が付着
堆積し、ノズル端2aに閉塞がおこってセンサSが誤動
作するという問題は回避される。
のエッチング液を交換するたびごとに、センサSのノズ
ル端2aの内面が洗浄されるため、従来のように、エッ
チング液としてフッ酸を用い、センサSの作動気体とし
て窒素ガスを用いる場合、ノズル端2aの内面にフッ酸
と窒素ガスの反応によるフッ化アンモニウム結晶が付着
堆積し、ノズル端2aに閉塞がおこってセンサSが誤動
作するという問題は回避される。
【0027】とりわけ上記実施例のように本願発明の薬
液レベルセンサを人体に有害なフッ酸を用いるエッチン
グ槽の液面レベルセンサとして用いる場合には、ノズル
端2aの洗浄を自動的に行いうるようになったことが、
上記のようなノズル端2aの洗浄を人手によって行わざ
るえなかった従来に比較して、作業環境の著しい向上を
もたらすのである。
液レベルセンサを人体に有害なフッ酸を用いるエッチン
グ槽の液面レベルセンサとして用いる場合には、ノズル
端2aの洗浄を自動的に行いうるようになったことが、
上記のようなノズル端2aの洗浄を人手によって行わざ
るえなかった従来に比較して、作業環境の著しい向上を
もたらすのである。
【0028】もちろん、この発明の範囲は上述の実施例
に限定されることはない。たとえば、検出すべき液面
は、どのような薬液のものであってもよく、また、パイ
プを通すべき気体も窒素ガス以外に適当なものが選択さ
れる。いずれにしても、本願発明によれば、腐食性の薬
液のレベルをセンシングするにあたりのガス流出パイプ
のノズル端の汚れを適宜自動的に行えることから、セン
サそのものの機能の安定性を長期間維持できる効果を奏
するのである。
に限定されることはない。たとえば、検出すべき液面
は、どのような薬液のものであってもよく、また、パイ
プを通すべき気体も窒素ガス以外に適当なものが選択さ
れる。いずれにしても、本願発明によれば、腐食性の薬
液のレベルをセンシングするにあたりのガス流出パイプ
のノズル端の汚れを適宜自動的に行えることから、セン
サそのものの機能の安定性を長期間維持できる効果を奏
するのである。
【図1】本願発明の実施例を示す全体概略構成図であ
る。
る。
【図2】図1の実施例において処理槽の薬液の排液作動
と連動してガス流出パイプのノズル端の洗浄を自動的に
行うための回路例である。
と連動してガス流出パイプのノズル端の洗浄を自動的に
行うための回路例である。
【図3】従来例の説明図である。
2a ノズル端 2 パイプ 3 圧力センサ 9 洗浄水供給管 S 液面レベルセンサ
Claims (1)
- 【請求項1】 容器への液体の供給および容器からの液
体の排出が制御装置によって制御される液体容器に設け
られ、下向きに開口するノズル端をもつとともにこのノ
ズル端に向けて気体が流されるパイプと、このパイプの
中間部の静圧を検知する圧力センサとを備え、液面が上
昇してこれが上記ノズル端の開口を封止した際のパイプ
内静圧上昇をもって、液面レベルが上記ノズル端のレベ
ルに到達したことを知るように構成された液面レベルセ
ンサにおいて、 上記パイプにおける上記ノズル端と上記圧力センサとの
間から枝分かれする洗浄水供給管を設け、上記制御装置
による容器内の液体排出制御に連動して、上記洗浄水供
給管からの洗浄水を上記パイプ内をノズル端に向けて流
すことにより、上記ノズル端の内部を洗浄するように構
成したことを特徴とする、液面レベルセンサ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3083334A JP2528745B2 (ja) | 1991-03-22 | 1991-03-22 | 液面レベルセンサ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3083334A JP2528745B2 (ja) | 1991-03-22 | 1991-03-22 | 液面レベルセンサ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04294216A JPH04294216A (ja) | 1992-10-19 |
JP2528745B2 true JP2528745B2 (ja) | 1996-08-28 |
Family
ID=13799536
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3083334A Expired - Lifetime JP2528745B2 (ja) | 1991-03-22 | 1991-03-22 | 液面レベルセンサ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2528745B2 (ja) |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5496529U (ja) * | 1977-12-20 | 1979-07-07 | ||
JPS60155926A (ja) * | 1984-01-25 | 1985-08-16 | Toshiba Corp | パ−ジ式液面計 |
-
1991
- 1991-03-22 JP JP3083334A patent/JP2528745B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH04294216A (ja) | 1992-10-19 |
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