JPS6017906Y2 - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
- Publication number
- JPS6017906Y2 JPS6017906Y2 JP1976135015U JP13501576U JPS6017906Y2 JP S6017906 Y2 JPS6017906 Y2 JP S6017906Y2 JP 1976135015 U JP1976135015 U JP 1976135015U JP 13501576 U JP13501576 U JP 13501576U JP S6017906 Y2 JPS6017906 Y2 JP S6017906Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- tank
- cleaning liquid
- liquid
- nozzle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は半導体ウェハー等を洗浄する装置に関する。
半導体ウェハー（以下単にウェハーと称する）の製造工
程においてウェハーは多数回の弗酸等による表面処理、
また硝酸、硫酸あるいは過酸化水素等による表面処理が
行なわれており、これらの表面処理の後には前記薬品ウ
ェハー表面から完全に除去するために純水による表面洗
浄が行なわれている。
程においてウェハーは多数回の弗酸等による表面処理、
また硝酸、硫酸あるいは過酸化水素等による表面処理が
行なわれており、これらの表面処理の後には前記薬品ウ
ェハー表面から完全に除去するために純水による表面洗
浄が行なわれている。
従来この純水による表面洗浄は多くの場合水洗カスケー
ド槽を用いて行われていた。
ド槽を用いて行われていた。
水洗カスケードによる表面洗浄においてはウェハー表面
より溶は出た薬品が長時間ウェハー表面近くに浮遊して
いたり、水洗カスケードの一部に停滞していたりするた
めウェハーの表面洗浄が十分でなくこのため半導体素子
における欠陥の発生あるいは歩留り低下の原因になって
いた。
より溶は出た薬品が長時間ウェハー表面近くに浮遊して
いたり、水洗カスケードの一部に停滞していたりするた
めウェハーの表面洗浄が十分でなくこのため半導体素子
における欠陥の発生あるいは歩留り低下の原因になって
いた。
また洗浄時間を管理することが大変難かしく歩留り低下
の一因になっていた。
の一因になっていた。
またカスケード洗浄槽においてウェハーが洗浄槽内にな
い状態でも純水を流し続は高価な純水を無駄に捨ててい
た。
い状態でも純水を流し続は高価な純水を無駄に捨ててい
た。
また一部で使用されている液体噴出方式による洗浄方法
に於て、液体の噴出をカスケード洗浄槽同様槽内にウェ
ハーがない状態でも純水を流し続は無駄に捨てていると
いう欠点があった。
に於て、液体の噴出をカスケード洗浄槽同様槽内にウェ
ハーがない状態でも純水を流し続は無駄に捨てていると
いう欠点があった。
本考案の目的は上記欠点を改良した洗浄装置を提供する
ことにある。
ことにある。
すなわち本考案による洗浄装置は半導体ウェハー等の被
洗浄体を収納した保持治具を洗浄槽内に置き噴出ノズル
から被洗浄体に洗浄液を噴射しながら槽内に洗浄液をた
め、この洗浄液が所定量に達したら排出するように構成
された洗浄装置において、多数の孔を備えた被洗浄体の
保持治具の載置板を洗浄槽内に水平に設は前記載置板の
上方および下方から前記被洗浄体に向けて洗浄液を噴出
する噴射ノズルを配置腰前記槽内にたまった洗浄液を槽
外に排出するサイフオンを前記槽に設け、かつサイフオ
ンの排出口に洗浄液の排出を検知する手段を設け、前記
検知手段の出力により噴射ノズル、あるいは該ノズルに
通じる弁を開閉することにより自動洗浄ができることを
特徴とするものである。
洗浄体を収納した保持治具を洗浄槽内に置き噴出ノズル
から被洗浄体に洗浄液を噴射しながら槽内に洗浄液をた
め、この洗浄液が所定量に達したら排出するように構成
された洗浄装置において、多数の孔を備えた被洗浄体の
保持治具の載置板を洗浄槽内に水平に設は前記載置板の
上方および下方から前記被洗浄体に向けて洗浄液を噴出
する噴射ノズルを配置腰前記槽内にたまった洗浄液を槽
外に排出するサイフオンを前記槽に設け、かつサイフオ
ンの排出口に洗浄液の排出を検知する手段を設け、前記
検知手段の出力により噴射ノズル、あるいは該ノズルに
通じる弁を開閉することにより自動洗浄ができることを
特徴とするものである。
以下に本考案の一実施例について第１図を参照して説明
する。
する。
第１図は本考案による洗浄装置の構成図を示すものであ
る。
る。
ウェハー保持治具２を出し入れするための開口を有する
洗浄槽１２にこのウェハー保持治具２を槽内に載置する
ための載置板２５が着脱容易に水平に取付けられている
。
洗浄槽１２にこのウェハー保持治具２を槽内に載置する
ための載置板２５が着脱容易に水平に取付けられている
。
この載置板２５には載置板の下方より噴射される噴射液
体を有効にウェハー１およびウェハー保持治具２に与え
るように多数の孔が設けられている。
体を有効にウェハー１およびウェハー保持治具２に与え
るように多数の孔が設けられている。
さらに洗浄槽１２の底部にはポル−バルブ２１により開
閉される液体噴射ノズル１１から噴射された洗浄液を排
出するための排出孔２６が設けられ、ここにはサイフオ
ン１５を取り付けである。
閉される液体噴射ノズル１１から噴射された洗浄液を排
出するための排出孔２６が設けられ、ここにはサイフオ
ン１５を取り付けである。
サイフオン１５の液排出口に排水状態を検知するセンサ
ー２２を設ける。
ー２２を設ける。
このセンサー２２が排水を感知して支点２３を介し電気
接点２４に信号を与える。
接点２４に信号を与える。
電気接点２４からの信号をプリセットカウンター４が感
知し電気制御回路により空気作動弁２０を制御する電磁
弁１９の開閉を行なう。
知し電気制御回路により空気作動弁２０を制御する電磁
弁１９の開閉を行なう。
洗浄槽１２の純水入口部に純水供給管５から流量調節弁
１８、圧力計１６を経由して設けられたポル−バルブ２
１を空気作動弁２０と直結し電磁弁１９の開閉により純
水の供給・停止を自動的に行なう。
１８、圧力計１６を経由して設けられたポル−バルブ２
１を空気作動弁２０と直結し電磁弁１９の開閉により純
水の供給・停止を自動的に行なう。
空気作動弁２０の作動は空気送気管８の空気圧の制御と
流量制御バルブ９にて圧力計１４を見て最適な値に調整
する。
流量制御バルブ９にて圧力計１４を見て最適な値に調整
する。
本実施例によれば圧力は２〜３ｋｏ／ａｉＧがバルブ２
１は最適な動きをする。
１は最適な動きをする。
又センサ一部は本実施例に依らず共フォトセンサー、磁
気センサーを使用し主たる働きをさせても良い。
気センサーを使用し主たる働きをさせても良い。
以上のごとく構成された洗浄装置によればウェハーおよ
びウェハー保持治具は洗浄槽内の上部だけでなく下部に
も装備された液体噴出ノズルより噴射される噴射液で洗
浄されるのでウェハー保持治具内の隣接するウェハーの
全ての面が洗浄される。
びウェハー保持治具は洗浄槽内の上部だけでなく下部に
も装備された液体噴出ノズルより噴射される噴射液で洗
浄されるのでウェハー保持治具内の隣接するウェハーの
全ての面が洗浄される。
その結果槽内に溜った洗浄液がサイフオン１５の頂部を
超えるとサイフオンの作用により槽内の液が一度に外部
へ排出される。
超えるとサイフオンの作用により槽内の液が一度に外部
へ排出される。
この時センサーにより排水回数がｌと計数される。
さらに連続して噴射される新しい噴射液により洗浄が行
なわれプリセットカウンターの設定値だけ排水が行なわ
れ自動的に給水が停止する。
なわれプリセットカウンターの設定値だけ排水が行なわ
れ自動的に給水が停止する。
槽内の液の置換回数は供給する純水の量によって異なる
。
。
従がって処理時間と液量とを良く考慮し最少時間で最少
液量の洗浄を得られることが容易となり洗浄の定量化が
可能となった。
液量の洗浄を得られることが容易となり洗浄の定量化が
可能となった。
このように短時間で完全にウェハーの表面洗浄ができる
ことによりウェハー製品の品質安定、歩留りの向上が得
られると共に洗浄処理能力の向上、純水の節約による費
用節減等大なる効果が発揮できる。
ことによりウェハー製品の品質安定、歩留りの向上が得
られると共に洗浄処理能力の向上、純水の節約による費
用節減等大なる効果が発揮できる。
なお本考案においては噴射ノズルの開放をするのに空気
作動弁を用いたが直接に磁気的、機械的な機構により純
水バルブを動作させても良いのは勿論である。
作動弁を用いたが直接に磁気的、機械的な機構により純
水バルブを動作させても良いのは勿論である。
また本考案はウェハー以外にも応用できることも明らか
である。
である。
第１図は本考案の一実施例を示す構成図である。
図中の符号、１・・・・・・ウェハー、２・・・・・・
ウェハー保持治具、４・・・・・・プリセットカウンタ
ー、５・・曲線水供給管、７・・・・・・制御箱、８・
・・・・・空気送気管、１１・・・・・・噴出ノズル、
１２・・・・・・洗浄槽、１５・・・・・・サイフオン
、１６・・・・・・純水供給圧力計、１９・・・・・・
電磁弁、２０・・・・・・空気作動弁、２１・・・・・
・ボールバルブ、２２・・・・・・センサー、２３・・
曲支点、２４・・・・・・電気接点、２５・・・・・・
載置板。
ウェハー保持治具、４・・・・・・プリセットカウンタ
ー、５・・曲線水供給管、７・・・・・・制御箱、８・
・・・・・空気送気管、１１・・・・・・噴出ノズル、
１２・・・・・・洗浄槽、１５・・・・・・サイフオン
、１６・・・・・・純水供給圧力計、１９・・・・・・
電磁弁、２０・・・・・・空気作動弁、２１・・・・・
・ボールバルブ、２２・・・・・・センサー、２３・・
曲支点、２４・・・・・・電気接点、２５・・・・・・
載置板。
Claims (1)
- 被洗浄体を収容する洗浄槽と、該洗浄槽内に設置された
前記被洗浄体に洗浄液を連続的に噴射するノズルと、前
記洗浄槽内の洗浄液が所定量に達したときに該洗浄液を
排出する排出機構と、この排出機構からの洗浄液の排出
回数を検知する手段と、前記検知手段で検知された前記
排出回数が所定数に達した時、前記ノズルから連続的に
噴射される洗浄液の噴射を停止させる手段とを有するこ
とを特徴とする洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1976135015U JPS6017906Y2 (ja) | 1976-10-06 | 1976-10-06 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1976135015U JPS6017906Y2 (ja) | 1976-10-06 | 1976-10-06 | 洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5352767U JPS5352767U (ja) | 1978-05-06 |
| JPS6017906Y2 true JPS6017906Y2 (ja) | 1985-05-31 |
Family
ID=28743929
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1976135015U Expired JPS6017906Y2 (ja) | 1976-10-06 | 1976-10-06 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6017906Y2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50140363U (ja) * | 1974-05-08 | 1975-11-19 |
-
1976
- 1976-10-06 JP JP1976135015U patent/JPS6017906Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5352767U (ja) | 1978-05-06 |
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