JP2024511047A - ３次元微結晶ガラス及びその製造方法 - Google Patents
３次元微結晶ガラス及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2024511047A JP2024511047A JP2023557294A JP2023557294A JP2024511047A JP 2024511047 A JP2024511047 A JP 2024511047A JP 2023557294 A JP2023557294 A JP 2023557294A JP 2023557294 A JP2023557294 A JP 2023557294A JP 2024511047 A JP2024511047 A JP 2024511047A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- temperature
- glass
- microcrystalline glass
- dimensional
- producing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 138
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 88
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 82
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 29
- 238000013003 hot bending Methods 0.000 claims abstract description 28
- HEHRHMRHPUNLIR-UHFFFAOYSA-N aluminum;hydroxy-[hydroxy(oxo)silyl]oxy-oxosilane;lithium Chemical compound [Li].[Al].O[Si](=O)O[Si](O)=O.O[Si](=O)O[Si](O)=O HEHRHMRHPUNLIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 claims abstract description 17
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 claims abstract description 17
- WVMPCBWWBLZKPD-UHFFFAOYSA-N dilithium oxido-[oxido(oxo)silyl]oxy-oxosilane Chemical group [Li+].[Li+].[O-][Si](=O)O[Si]([O-])=O WVMPCBWWBLZKPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 229910052670 petalite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 claims abstract description 11
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 10
- VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N sodium nitrate Chemical compound [Na+].[O-][N+]([O-])=O VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 235000010344 sodium nitrate Nutrition 0.000 claims abstract description 3
- PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N lithium metasilicate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][Si]([O-])=O PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229910052912 lithium silicate Inorganic materials 0.000 claims description 13
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000006064 precursor glass Substances 0.000 claims description 12
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 9
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 9
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 6
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 claims description 6
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 5
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 claims description 4
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 4
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 claims description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 claims description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 2
- 238000005303 weighing Methods 0.000 claims description 2
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 abstract description 3
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical class [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N Li2O Inorganic materials [Li+].[Li+].[O-2] FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N Na2O Inorganic materials [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M dilithium;hydroxide Chemical compound [Li+].[Li+].[OH-] XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 15
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000013461 design Methods 0.000 description 4
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 3
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 3
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 3
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 3
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 3
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- VVNXEADCOVSAER-UHFFFAOYSA-N lithium sodium Chemical compound [Li].[Na] VVNXEADCOVSAER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010183 spectrum analysis Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 2
- 238000000844 transformation Methods 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N Lithium ion Chemical compound [Li+] HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000003666 anti-fingerprint Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000005352 clarification Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 1
- 230000002706 hydrostatic effect Effects 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001416 lithium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- BITYAPCSNKJESK-UHFFFAOYSA-N potassiosodium Chemical compound [Na].[K] BITYAPCSNKJESK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910001414 potassium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010333 potassium nitrate Nutrition 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000005341 toughened glass Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
- C03C10/0018—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and monovalent metal oxide as main constituents
- C03C10/0027—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and monovalent metal oxide as main constituents containing SiO2, Al2O3, Li2O as main constituents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/02—Other methods of shaping glass by casting molten glass, e.g. injection moulding
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B23/00—Re-forming shaped glass
- C03B23/02—Re-forming glass sheets
- C03B23/023—Re-forming glass sheets by bending
- C03B23/03—Re-forming glass sheets by bending by press-bending between shaping moulds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B32/00—Thermal after-treatment of glass products not provided for in groups C03B19/00, C03B25/00 - C03B31/00 or C03B37/00, e.g. crystallisation, eliminating gas inclusions or other impurities; Hot-pressing vitrified, non-porous, shaped glass products
- C03B32/02—Thermal crystallisation, e.g. for crystallising glass bodies into glass-ceramic articles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C21/00—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
- C03C21/001—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions
- C03C21/002—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions to perform ion-exchange between alkali ions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/097—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing phosphorus, niobium or tantalum
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C4/00—Compositions for glass with special properties
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
- Y02P40/50—Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
- Y02P40/57—Improving the yield, e-g- reduction of reject rates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
本発明は、３次元微結晶ガラス及びその製造方法を開示し、当該３次元微結晶ガラスの製造原料は、酸化物基準の質量分率で表され、ＳｉＯ２：６３－７５％、Ａｌ２Ｏ３：４－１０％、Ｌｉ２Ｏ：８－１１％、Ｎａ２Ｏ：０．１－３％、Ｋ２Ｏ：０．１－１％、Ｐ２Ｏ５：１－５％、ＺｒＯ２：１－６％を含有し、完成品のガラス結晶体の含有量は、二珪酸リチウム：３０－４５％、ペタライト：３０－４５％である。本発明にて開示された製造方法では、熱間曲げ成形処理及び微結晶化処理の順序を調整し、予備結晶化過程における温度及び時間を制御し、３次元微結晶ガラスをＮａＮＯ３又はＫＮＯ３塩浴に置いてイオン交換を行うなどの手段により、ガラス微結晶化処理を行って平面微結晶ガラスを得て続いてバフ研磨プロセスを採用して平面微結晶ガラスを３Ｄ曲面微結晶ガラスに製造し、前記製造プロセスは、歩留まりが高く且つプロセスコストが低いという利点を有する。【選択図】図２
Description
本発明は、ガラス製造の分野に関し、具体的には、３次元微結晶ガラス及びその製造方法に関する。
カバーガラスは、２Ｄから２．５Ｄにかけて３Ｄへの発展過程を経るため、従来の２．５Ｄガラス、セラミックカバー、メタルバックに比べて、３Ｄガラスの性能がより優れている。３Ｄガラスは、将来、スマートフォン、スマートウォッチ、タブレット、ダッシュボード、及びその他のウェアラブル製品のスクリーンカバー及びバックプレートのような３Ｃ製品に広く適用されることが期待され、３Ｄガラスは、軽くて薄く、透明で清潔で、防指紋、アンチグレア、耐候性に優れるなどの利点を有し、スマート端末製品の外観の新しさを向上させるだけでなく、優れたタッチ感をもたらすことができる。スマートフォンが次世代のモバイル端末機器となって以来、カバーガラスは、ほとんどのスマートフォンの標準配置となっており、実はカバーガラスの設計概念と加工モードは、主に時計用ガラスレンズの深加工産業の経験を鑑みたものである。時計用ガラスレンズの設計及び適用から分かるように、３Ｄ曲面ガラスは、２Ｄ平面ガラスよりもより良好な外観表現モード、及びより優れた保護効果を有する。そのうち、二重曲率の３Ｄ曲面ガラスが特に好ましく、落下防止、ひっかき傷防止、静水圧試験において２Ｄ平面ガラスよりも明らかに優れている。近年、ＯＬＥＤ（有機発光ダイオード）曲面スクリーンは、ますますスマートフォンの適用トレンドになり、その恩に恵まれて、弧形設計を採用し、曲面スクリーンに適合する３Ｄガラスカバーも大いに異彩を放つ。５Ｇ時代に至って、ＮＦＣ（近距離無線通信技術）、ＷｉＦｉ（ワイヤレス・フェデリティ）、ＬＩＦＩ（可視光無線通信）などの無線通信技術の適用が広がりつつあり、金属ボディは、信号をある程度遮蔽又は干渉する。スマートフォンは、３Ｄガラスディスプレイスクリーン及び３Ｄガラスバックカバーを用いると、この問題を良好に解決することができる。また、３Ｄガラスは、弧形設計を採用しているため、手触りが滑らかで、質感が軽くて薄く、透明で清潔で、アンチグレアなどの利点もある。
微結晶ガラスは、微結晶玉石又はセラミックガラスとも呼ばれ、結晶相とガラス相の一部からなり、そのため、ガラスとセラミックの二重の特性を有する。微結晶ガラス中の晶相は、古典的な微結晶ガラスの固有の強化仕組みを保障し、同時に微結晶ガラスの残りのガラス相は、化学強化も可能であり、そのため、微結晶ガラスに高い強度、高い硬度、高いひっかき傷抵抗性を付与する。また、微結晶ガラスは、自然で柔らかな質感を有し、かつ、成分及びプロセス管理により多彩な色を取得することができる。そのため、微結晶ガラスカバーの市場への参入の動向も、めざましくなっている。
現在、微結晶ガラスは、かなりの含有量の結晶体構造を有するため、ガラスに比べて高温での軟化効果が大幅に低下し、セラミックの一部の脆性を有するため、３Ｄ熱間曲げプロセスを行うことができない。バフ研磨プロセスで３Ｄ曲面微結晶ガラスを製造することは、プロセスが複雑で、歩留まりが低く、成形コストが高止まり、この問題の存在は、３Ｄカバー材料分野での微結晶ガラスの適用を大幅に阻害する。
本発明は、従来技術の欠点を解消するために、低コストで効率の高い３次元微結晶ガラスの製造方法及びその製品を提供する。
本発明の具体的な技術的解決手段は、３次元微結晶ガラスの製造方法であって、
原料を調製し、重量百分率で計算すると、ＳｉＯ２：６３－７５％、Ａｌ２Ｏ３：４－１０％、ＴｉＯ２：０－４％、ＣａＯ：０－１％、ＭｇＯ：０－１％、Ｌｉ２Ｏ：８－１１％、Ｎａ２Ｏ：０．１－３％、Ｋ２Ｏ：０．１－１％、Ｐ２Ｏ５：１－５％、ＺｒＯ２：１－６％、ＢａＯ：０－１％、Ｓｂ２Ｏ３：０－２％、Ｙ２Ｏ３：０－０．５％を秤量し、均一に混合するステップ１と、
ステップ１で得られた原料を白金ルツボに移し、白金ルツボを高温炉内に入れ、１５００℃～１６００℃まで徐々に昇温し、２～２４時間保温し、バブリング及び均質化処理（バブリングの目的は、ガラスにおける小さな気泡を取り出し、ガラス液における気泡を除去することである）により、溶融した後、溶融液を予熱された金型に入れて成形し、続いてそれに３００－５５０℃で、２－１２時間のアニール処理を行って前駆体ガラスブロックを得るステップ２と、
ステップ２で得られた前駆体ガラスブロックをＣＮＣ加工した後に前駆体ガラスシートを得るステップ３と、
ステップ３で得られた前駆体ガラスシートに予備結晶化処理を行い、具体的にはまず５４０－５９０℃で、０．５－５時間（ｈ）保温し、続いて６００－８００℃で、０．５－２時間保温してガラス予備結晶化した結晶度を１０－４６％に制御し、形成された結晶体は、二珪酸リチウム、珪酸リチウム及び／又はペタライトであり、具体的には、二珪酸リチウム５－２０ｗｔ％、珪酸リチウム５－２０ｗｔ％、ペタライト０－６ｗｔ％である。前記予備結晶化したガラス硬度を５０００－６５００Ｋｇ／ｃｍ２に制御し、これは、後続の熱間曲げ過程において最終製品が良好な成形効果を有するために所定の圧力を加える必要があり、予備結晶化ガラスの硬度を制御しなければ、成形金型に損傷を与えやすく、予備結晶化したガラスの硬度値がこの範囲内にあり、熱間曲げ金型に与える損傷が最小であるステップ４と、
熱間曲げ成形し、ステップ４で得られた予備結晶化ガラスシートに対してまず予熱処理を行い、さらに成形処理を行い、最後に冷却処理を行い、室温まで冷却した後、３次元微結晶ガラスを製造することができるステップ５と、を含む。
原料を調製し、重量百分率で計算すると、ＳｉＯ２：６３－７５％、Ａｌ２Ｏ３：４－１０％、ＴｉＯ２：０－４％、ＣａＯ：０－１％、ＭｇＯ：０－１％、Ｌｉ２Ｏ：８－１１％、Ｎａ２Ｏ：０．１－３％、Ｋ２Ｏ：０．１－１％、Ｐ２Ｏ５：１－５％、ＺｒＯ２：１－６％、ＢａＯ：０－１％、Ｓｂ２Ｏ３：０－２％、Ｙ２Ｏ３：０－０．５％を秤量し、均一に混合するステップ１と、
ステップ１で得られた原料を白金ルツボに移し、白金ルツボを高温炉内に入れ、１５００℃～１６００℃まで徐々に昇温し、２～２４時間保温し、バブリング及び均質化処理（バブリングの目的は、ガラスにおける小さな気泡を取り出し、ガラス液における気泡を除去することである）により、溶融した後、溶融液を予熱された金型に入れて成形し、続いてそれに３００－５５０℃で、２－１２時間のアニール処理を行って前駆体ガラスブロックを得るステップ２と、
ステップ２で得られた前駆体ガラスブロックをＣＮＣ加工した後に前駆体ガラスシートを得るステップ３と、
ステップ３で得られた前駆体ガラスシートに予備結晶化処理を行い、具体的にはまず５４０－５９０℃で、０．５－５時間（ｈ）保温し、続いて６００－８００℃で、０．５－２時間保温してガラス予備結晶化した結晶度を１０－４６％に制御し、形成された結晶体は、二珪酸リチウム、珪酸リチウム及び／又はペタライトであり、具体的には、二珪酸リチウム５－２０ｗｔ％、珪酸リチウム５－２０ｗｔ％、ペタライト０－６ｗｔ％である。前記予備結晶化したガラス硬度を５０００－６５００Ｋｇ／ｃｍ２に制御し、これは、後続の熱間曲げ過程において最終製品が良好な成形効果を有するために所定の圧力を加える必要があり、予備結晶化ガラスの硬度を制御しなければ、成形金型に損傷を与えやすく、予備結晶化したガラスの硬度値がこの範囲内にあり、熱間曲げ金型に与える損傷が最小であるステップ４と、
熱間曲げ成形し、ステップ４で得られた予備結晶化ガラスシートに対してまず予熱処理を行い、さらに成形処理を行い、最後に冷却処理を行い、室温まで冷却した後、３次元微結晶ガラスを製造することができるステップ５と、を含む。
前記ステップ５における予熱処理は、６つの工程区分に分けられ、第１の工程区分の温度は、３５０－５００℃であり、第２の工程区分の温度は、４４０－５８０℃であり、第３の工程区分の温度は、５３０－６６０℃であり、第４の工程区分の温度は、５９０－６７０℃であり、第５の工程区分の温度は、５９０－６８０℃であり、第６の工程区分の温度は、６２０－６５０℃であり、各工程区分の時間は、９０－１５０ｓである。
前記ステップ５における成形段階は、３つの工程区分に分けられ、そのうち成形段階は、３つの工程区分に分けられ、そのうち第１の工程区分の温度は、６９０－７８０℃であり、金型の加える圧力は、３－６Ｋｇ／ｃｍ２であり、第２の工程区分の温度は、７４０－８００℃であり、金型の加える圧力は、５－７Ｋｇ／ｃｍ２であり、第３の工程区分の温度は、７３０－８１０℃であり、金型の加える圧力は、８－９Ｋｇ／ｃｍ２であり、各工程区分の時間は、９０－１５０ｓである。この過程において、金型を介してガラスに圧力を加え、実物を介して金型内でのガラスの移動及び膨張を阻害し、それにより結晶プロセスの間におけるガラスの変形の低減を実現し、この圧力を加えてガラスを結晶温度まで急速に加熱することができる。また、金型を介してガラスに圧力を加えて、短い持続時間で結晶を行うことが許可される。加圧は、１つ又は複数の工程区分により完了され、各工程区分の滞留時間は、９０－１５０ｓであり、熱間曲げ成形プロセスにおける金型圧力は、３－９Ｋｇ／ｃｍ２である。圧力が低すぎると、熱間曲げ効果が不足する。圧力が高すぎると、ホットプレス後にガラス表面に黒鉛痕が残ることを引き起こし、熱間曲げ成形温度は、ガラス膨張軟化点温度以上３０℃－６０℃であり、熱間曲げは、１つ又は複数の工程区分により完了され、各工程区分の滞留時間は、９０－１５０ｓであり、熱間曲げ温度は、７２０℃－８２０℃に制御することが好ましく、高い温度で結晶化を行う時、わずかな補助圧力を加え、ガラス結晶化時に変形現象の発生を防止することに役立つ。
前記ステップ５における冷却段階は、４つの工程区分に分けられ、第１の工程区分の温度は、７２０－８００℃であり、第２の工程区分の温度は、６７０－７３０℃であり、第３の工程区分の温度は、５５０－６３０℃であり、第４の工程区分の温度は、５５０℃であり、各工程区分の時間は、９０－１５０ｓである。最後に、０．１℃／秒－８℃／秒の速度で徐冷して室温に戻し、ガラスを室温環境にさらすことにより、ガラスを結晶温度から室温まで冷却することができる。
よりさらに、ステップ５で得られた３次元微結晶ガラスにイオン交換強化処理を行い、まず、３次元微結晶ガラスを４２０℃～４６０℃の温度の溶融ＮａＮＯ３の塩浴に３～１２時間浸漬してイオン交換を行い、次に、３次元微結晶ガラスを４００℃～４６０℃の温度の溶融ＫＮＯ３の塩浴に約２～１０時間浸漬してイオン交換を行うステップ６をさらに含む。
３次元微結晶ガラスであって、その製造原料が酸化物基準の質量分率で表され、ＳｉＯ２：６３－７５％、Ａｌ２Ｏ３：４－１０％、ＴｉＯ２：０－４％、ＣａＯ：０－１％、ＭｇＯ：０－１％、Ｌｉ２Ｏ：８－１１％、Ｎａ２Ｏ：０．１－３％、Ｋ２Ｏ：０．１－１％、Ｐ２Ｏ５：１－５％、ＺｒＯ２：１－６％、ＢａＯ：０－１％、Ｓｂ２Ｏ３：０－２％、Ｙ２Ｏ３：０－０．５％を含有し、完成品のガラス結晶体の含有量は、二珪酸リチウム：３０－４５％、ペタライト：３０－４５％であり、３次元微結晶ガラスの透明性を保証することができる。解釈すべきことは、ペタライト及び二珪酸リチウムと残りのガラス体の化学的性質が近く、屈折率差が小さく、成分が連続的に変化し、したがって、ペタライト及び二珪酸リチウムが前記晶相に占める割合が高いほど、３次元微結晶ガラスの可視光領域における透過率がより高い。
前記３次元微結晶ガラスの硬度は、８５００Ｋｇ／ｃｍ２以上である。ただし、ビッカース硬度が大きすぎると、加工しにくくなる場合があるので、本３次元形状のガラスのビッカース硬度は、１１０００Ｋｇ／ｃｍ２以下であることが好ましく、１０５００Ｋｇ／ｃｍ２以下であることがより好ましく、１００００Ｋｇ／ｃｍ２以下であることがさらに好ましい。
前記３次元微結晶ガラスにおける晶相の平均粒径は、１００ｎｍ未満であり、好ましくは、前記３次元微結晶ガラスにおける晶相の平均粒径は、２０ｎｍ～７０ｎｍである。
一方では、本発明は、熱間曲げ成形処理及び微結晶化処理の順序を調整することにより、まず平面ガラスに対して予備結晶化核生成処理を行い、それに２０％－４０％の結晶度及び２－１５ｎｍの結晶粒径を有させ、続いて熱間曲げ成形処理を行って３次元微結晶ガラスを得る。熱間曲げ成形ステップを予備結晶化の後に設定し、すなわち予備結晶化のガラス製品を熱間曲げ金型に置いて熱間曲げ成形を行う。熱間曲げ成形ステップの前に、微結晶ガラスは、結晶核を形成するが、晶相が成長せず、結晶度が低く、硬度が低く、熱間曲げ成形に有利である。
他方では、本発明は、予備結晶化過程における温度と時間を制御することにより、特定の結晶型変換を生成する。本発明の原料の成分組成で、予備結晶化過程における温度と時間を結合し、二珪酸リチウムと珪酸リチウムは、より組織及び核生成しやすく、二珪酸リチウムと珪酸リチウムを有する核生成ガラスは、良好な抗折性能を有し、且つガラスにおける結晶体の含有量により、核生成ガラスが理想的に３Ｄ熱間曲げ成形を行うことができ、所定の温度で所定の時間保温した後、ガラスの構造緩和は、顕著な変化が発生し、珪酸リチウム結晶体は、徐々に二珪酸リチウムに変換し、このとき珪酸リチウムと二珪酸リチウムの割合は、徐々に小さくなり、具体的には、Ｌｉ２ＳｉＯ３＋ＳｉＯ２＝Ｌｉ２Ｓｉ２Ｏ５であり、そのうち、ＳｉＯ２は、ガラス基板由来のものである。ガラスの主晶相がＬｉ２Ｓｉ２Ｏ５に変換する時、ガラスの破断強度が大幅に向上し、その抗折強度も向上し、熱間曲げの継続に伴い、製品におけるペタライト結晶体が徐々に多くなり、ペタライトの析出について、その由来は、２つがあり、１つは、ガラスマトリックスにおけるＬｉ２Ｏ、Ａｌ２Ｏ３及びＳｉＯ２が所定の条件でさらにペタライト結晶を形成し、２つは、核生成ガラスにおける二珪酸リチウム及び／又は珪酸リチウムは、ガラスマトリックスにおけるＳｉＯ２と反応してペタライト結晶体、すなわちＬｉ２Ｓｉ２Ｏ５＋６ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＝２ＬｉＡｌＳｉ４Ｏ１０及び／又はＬｉ２ＳｉＯ３＋７ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＝２ＬｉＡｌＳｉ４Ｏ１０を生成する。最終製品に珪酸リチウムが全部溶解し又は少量残留し、主晶相は、ペタライト及び二珪酸リチウムである。
さらに、本発明の技術的解決手段で製造された３次元微結晶ガラスは、さらにイオン交換を行うことができ、それにより強度がより高い強化ガラスを得る。具体的には、３次元微結晶ガラスをＮａＮＯ３又はＫＮＯ３塩浴に置いてイオン交換を行い、イオン交換過程において、カリウム－ナトリウム又はナトリウム－リチウムの１次元イオン交換を行うことができ、カリウム－ナトリウム及びナトリウム－リチウム混合の２次元イオン交換を行うこともでき、大径アルカリ金属イオンは、カリウム、ナトリウムイオンであり、小径アルカリ金属は、ナトリウム、リチウムイオンである。塩浴における大径アルカリ金属イオンでガラス小径アルカリ金属イオンを置換し、「クラウディング効果」により３次元微結晶ガラスに複合圧縮応力を発生させる。強化後の製品のビッカース硬度は、９０００－１１０００Ｋｇ／ｃｍ２に達することができ、そのヘイズは、０．１５よりも小さい。８ｍｍ厚さのガラス製品は、波長４００－８００ｎｍにおける透過率が８５％以上である。本３次元微結晶ガラスは、ビッカース硬度が大きく、損傷しにくい。
本製品は、製造過程において異なる段階の結晶体の種類、結晶度などを制御することにより、それが異なる段階において異なる範囲の硬度を有し、それにより最終製品が理想的な機械的強度を有しまた製品が生産過程において金型に与える損傷を最小限に制御することができる。例えば成分及び時間や温度の調整により予備結晶化段階で析出された晶体の主晶相は、二珪酸リチウムと珪酸リチウムであり、且つその結晶体の結晶度が２０－４０％であり、二珪酸リチウムと珪酸リチウムの硬度は、最終製品に析出されたペタライトの硬度よりも低く、そのため、金型は、熱間曲げ過程で予備結晶化ガラスの硬度が大きすぎることによる摩耗速度を加速せず、熱間曲げ後のガラスに析出された結晶体の主晶相は、ペタライトと二珪酸リチウムであり且つ結晶度が６０－９０％の範囲内であり、最終製品に理想的な機械的性能を有させ、予備結晶化の結晶度を２０－４０％の範囲内に制御すれば熱間曲げ過程において結晶度が高すぎることによる成形困難を引き起こさないことを保証することができ、また予備結晶化ガラスの結晶度が低すぎることによる最終製品の結晶度が理想的な範囲に達しないことによる製品の機械的性能の不足を引き起こさないことを保証することができる。
本発明の技術的解決手段を採用して平面ガラスが完全で徹底的な微結晶化処理を経た後、一部のセラミックの脆性を有するため、３Ｄ熱間曲げプロセスを行うことができないという問題を回避し、且つ非晶質ガラスを曲げ成形した後に結晶化を行う方法において、成形後に加熱処理を行うと、変形しやすいだけでなく、且つ非晶質ガラスが結晶化する時に寸法変化が発生し、所望の形状を得にくいという問題を回避する。従来技術に比べて、本発明の技術的解決手段は、まず平面に対してガラス微結晶化処理を行って平面微結晶ガラスを得て続いてバフ研磨プロセスを採用して平面微結晶ガラスを３Ｄ曲面微結晶ガラスに製造し、本発明にて提供される前記製造プロセスは、歩留まりが高く且つプロセスコストが低いという利点を有する。
本発明の発明者らは、鋭意試験研究を重ねた結果、微結晶ガラス製品を構成する特定の成分について、その含有量及び含有量の割合を特定の値に規定して、特定のいくつかの晶相を析出させることにより、本発明の微結晶ガラス又はガラス製品を低コストで得る。以下、本発明の微結晶ガラスの各成分の組成範囲について説明する。本明細書において、各構成成分の含有量は、特に説明のない限り、酸化物換算組成のガラス物質全量に対する重量百分率で表されるものとする。ここで、「酸化物換算組成」とは、本発明の微結晶ガラスの組成成分の原料として用いられる酸化物、複合塩などが溶融時にすべて分解されて酸化物に変換される場合、当該酸化物の物質量の合計を１００％とする。
表１のガラス１酸化物質量百分率にしたがって配合材料を秤量し、均一な材料を得るために混合し、続いて配合材料を約８００ｍｌの白金ルツボに移し、白金ルツボを高温炉に入れ、徐々に１５４０℃まで昇温し、６時間保温し、バブリングなどにより気泡を排出させ均質化される。次に、澄ましを１０時間行った後、溶融液を予熱した金型に流し込んで成形し、続いてそれを箱型アニール炉に移して５００℃で約４時間アニール処理を行い、その後室温まで自然冷却して前駆体ガラスブロックを製造する。得られた前駆体ガラスブロックを、単線ダイヤモンドラインソーで０．８ｍｍのガラスシートに切断する。得られたガラスシートをＣＮＣ加工し、最終的に必要な前駆体ガラスを得る。
得られた最終的に必要な前駆体ガラスを、まず５５０℃で３時間（ｈ）、続いて６６０℃で２時間保温して予備結晶化処理を行う。
次いで、予備結晶化されたガラスを熱間曲げ成形加工し、熱間曲げ加工過程においてまず予熱段階を行い、予熱段階は、６つの工程区分に分けられ、第１の工程区分の温度は、３８０℃であり、第２の工程区分の温度は、４４０℃であり、第３の工程区分の温度は、５３０℃であり、第４の工程区分の温度は、５９０℃であり、第５の工程区分の温度は、６１０℃であり、第６の工程区分の温度は、６３０℃であり、各工程区分の滞留時間は、１２０ｓである。次に、成形段階に入り、本実施例では、成形段階は、３つの工程区分に分けられ、そのうち、第１の工程区分の温度は、７００℃であり、金型の加える圧力は、４Ｋｇ／ｃｍ２であり、第２の工程区分の温度は、７５０℃であり、金型の加える圧力は、６Ｋｇ／ｃｍ２であり、第３の工程区分の温度は、７４０℃であり、金型の加える圧力は、８Ｋｇ／ｃｍ２であり、各工程区分の滞留時間は、１２０ｓである。最後に冷却段階に入り、本実施例の冷却段階は、５つの工程区分に分けられ、第１の工程区分の温度は、７３０℃、第２の工程区分の温度は、６８０℃であり、第３の工程区分の温度は、６４０℃であり、第４の工程区分の温度は、５９０℃であり、第５の工程区分の温度は、５５０℃であり、各工程区分の滞留時間は、１２０ｓである。
その後、成形されたガラス製品を、溶融４３０℃のＮａＮＯ３の溶融塩に浸漬して７時間保持し、次に４５０℃のＫＮＯ３の溶融塩中で３時間保温してイオン交換を行い、最終製品を得、最終製品の主晶相は、ペタライト及び二珪酸リチウムであり、そのうち、製品の透過率は、９０％であり、予備結晶化後の硬度は、５６０ＭＰａであり、熱間曲げガラス硬度は、８７０ＭＰａであり、強化後のガラス硬度は、１０２０ＭＰａであり、強化後のガラスＣＳ値は、４００ＭＰａであり、ＤＯＣは、１０μｍである。
実施例１－８の実験データを表１及び表２に示す。
なお、本明細書において上記各実施例を説明したが、本発明の特許請求の保護範囲を限定するものではない。したがって、本発明の新規な理念に基づき、本明細書の前記実施例に対して行った変更及び修正、又は本発明の明細書及び図面の内容を利用して行った等価構造又は等価フロー変換は、直接的又は間接的に以上の技術的解決手段を他の関連する技術分野に適用し、いずれも本発明の特許保護範囲内に含まれる。
Claims (10)
- ３次元微結晶ガラスであって、その製造原料が酸化物基準の質量分率で表され、ＳｉＯ２：６３－７５％、Ａｌ２Ｏ３：４－１０％、Ｌｉ２Ｏ：８－１１％、Ｎａ２Ｏ：０．１－３％、Ｋ２Ｏ：０．１－１％、Ｐ２Ｏ５：１－５％、ＺｒＯ２：１－６％を含有し、完成品のガラス結晶体の含有量は、二珪酸リチウム：３０－４５％、ペタライト：３０－４５％である、ことを特徴とする３次元微結晶ガラス。
- 製造原料は、ＴｉＯ２：０－４％、ＣａＯ：０－１％、ＭｇＯ：０－１％、ＢａＯ：０－１％、Ｓｂ２Ｏ３：０－２％、Ｙ２Ｏ３：０－０．５％をさらに含む、ことを特徴とする請求項１に記載の３次元微結晶ガラス。
- ０．８ｍｍ厚さの３次元微結晶ガラスは、波長４００ｎｍ－８００ｎｍにおける透過率が８５％以上である、ことを特徴とする請求項１に記載の３次元微結晶ガラス。
- 原料を調製し、重量百分率で計算すると、ＳｉＯ２：６３－７５％、Ａｌ２Ｏ３：４－１０％、ＴｉＯ２：０－４％、ＣａＯ：０－１％、ＭｇＯ：０－１％、Ｌｉ２Ｏ：８－１１％、Ｎａ２Ｏ：０．１－３％、Ｋ２Ｏ：０．１－１％、Ｐ２Ｏ５：１－５％、ＺｒＯ２：１－６％、ＢａＯ：０－１％、Ｓｂ２Ｏ３：０－２％、Ｙ２Ｏ３：０－０．５％を秤量し、均一に混合するステップ１と、
ステップ１で得られた原料を白金ルツボに移し、白金ルツボを高温炉内に入れ、１５００℃～１６００℃まで徐々に昇温し、２～２４時間保温し、バブリング及び均質化処理により、溶融した後、溶融液を予熱された金型に入れて成形し、続いてそれに３００－５５０℃で、２－１２時間のアニール処理を行って前駆体ガラスブロックを得るステップ２と、
ステップ２で得られた前駆体ガラスブロックをＣＮＣ加工した後に前駆体ガラスシートを得るステップ３と、
ステップ３で得られた前駆体ガラスシートに予備結晶化処理を行い、具体的にはまず５４０－５９０℃で、０．５－５時間保温し、続いて６００－８００℃で、０．５－２時間保温してガラス予備結晶化した結晶度を１０－４６％に制御するステップ４と、
熱間曲げ成形し、ステップ４で得られた予備結晶化ガラスシートに対してまず予熱処理を行い、さらに成形処理を行い、最後に冷却処理を行い、室温まで冷却した後、３次元微結晶ガラスを製造することができるステップ５と、を含む、ことを特徴とする請求項１～３のいずれか１項に記載の３次元微結晶ガラスの製造方法。 - ステップ４の予備結晶化過程に形成された結晶体は、二珪酸リチウム、珪酸リチウム及び／又はペタライトである、ことを特徴とする請求項４に記載の３次元微結晶ガラスの製造方法。
- ステップ４の予備結晶化過程に形成された結晶体の含有量は、二珪酸リチウム：５－２０ｗｔ％、珪酸リチウム：５－２０ｗｔ％、ペタライト：０－６ｗｔ％である、ことを特徴とする請求項２に記載の３次元微結晶ガラスの製造方法。
- 前記ステップ５における予熱処理は、６つの工程区分に分けられ、第１の工程区分の温度は、３５０－５００℃であり、第２の工程区分の温度は、４４０－５８０℃であり、第３の工程区分の温度は、５３０－６６０℃であり、第４の工程区分の温度は、５９０－６７０℃であり、第５の工程区分の温度は、５９０－６８０℃であり、第６の工程区分の温度は、６２０－６５０℃であり、各工程区分の時間は、９０－１５０ｓである、ことを特徴とする請求項４に記載の３次元微結晶ガラスの製造方法。
- 前記ステップ５における成形段階は、３つの工程区分に分けられ、そのうち第１の工程区分の温度は、６９０－７８０℃であり、金型の加える圧力は、３－６Ｋｇ／ｃｍ２であり、第２の工程区分の温度は、７４０－８００℃であり、金型の加える圧力は、５－７Ｋｇ／ｃｍ２であり、第３の工程区分の温度は、７３０－８１０℃であり、金型の加える圧力は、８－９Ｋｇ／ｃｍ２であり、各工程区分の時間は、９０－１５０ｓである、ことを特徴とする請求項４に記載の３次元微結晶ガラスの製造方法。
- 前記ステップ５における冷却段階は、４つの工程区分に分けられ、第１の工程区分の温度は、７２０－８００℃であり、第２の工程区分の温度は、６７０－７３０℃であり、第３の工程区分の温度は、５５０－６３０℃であり、第４の工程区分の温度は、５５０℃であり、各工程区分の時間は、９０－１５０ｓである、ことを特徴とする請求項４に記載の３次元微結晶ガラスの製造方法。
- ステップ５で得られた３次元微結晶ガラスにイオン交換強化処理を行い、まず、３次元微結晶ガラスを４２０℃～４６０℃の温度の溶融ＮａＮＯ３の塩浴に３～１２時間浸漬してイオン交換を行い、次に、３次元微結晶ガラスを４００℃～４６０℃の温度の溶融ＫＮＯ３の塩浴に約２～１０時間浸漬してイオン交換を行うステップ６をさらに含む、ことを特徴とする請求項４に記載の３次元微結晶ガラスの製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202110555635.8A CN113248152B (zh) | 2021-05-21 | 2021-05-21 | 一种三维微晶玻璃及其制备方法 |
| CN202110555635.8 | 2021-05-21 | ||
| PCT/CN2021/100764 WO2022241891A1 (zh) | 2021-05-21 | 2021-06-18 | 一种三维微晶玻璃及其制备方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2024511047A true JP2024511047A (ja) | 2024-03-12 |
Family
ID=77183463
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2023557294A Pending JP2024511047A (ja) | 2021-05-21 | 2021-06-18 | ３次元微結晶ガラス及びその製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2024511047A (ja) |
| KR (1) | KR20230133406A (ja) |
| CN (1) | CN113248152B (ja) |
| WO (1) | WO2022241891A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115772003A (zh) * | 2021-09-04 | 2023-03-10 | 深圳市微思腾新材料科技有限公司 | 一种无色透明玻璃组合物、微晶玻璃及其制备方法 |
| CN113788622B (zh) * | 2021-09-28 | 2023-07-18 | 东北大学秦皇岛分校 | 一种采用鼓泡工艺制备牙科用二硅酸锂微晶玻璃的方法 |
| CN114195392A (zh) * | 2021-12-24 | 2022-03-18 | 深圳市新旗滨科技有限公司 | 一种玻璃组合物、微晶玻璃及其制备方法和应用 |
| CN115893849A (zh) * | 2022-10-26 | 2023-04-04 | 彩虹集团（邵阳）特种玻璃有限公司 | 一种微晶玻璃、微晶玻璃前驱体及其制备方法 |
| CN115872622B (zh) * | 2022-11-22 | 2024-05-10 | 湖南旗滨新材料有限公司 | 一种3d微晶玻璃及其制备方法、预晶化微晶玻璃 |
| CN116655221A (zh) * | 2023-06-15 | 2023-08-29 | 济宁海富光学科技有限公司 | 一种3d光学盖板制作方法及光学盖板 |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10336913C9 (de) * | 2003-08-07 | 2019-02-21 | Ivoclar Vivadent Ag | Verwendung eines Lithiumsilicatmaterials |
| CN1919759A (zh) * | 2006-10-09 | 2007-02-28 | 雷恒孚 | 圆弧形微晶玻璃制造方法及其专用模具 |
| JP2012232882A (ja) * | 2011-04-18 | 2012-11-29 | Asahi Glass Co Ltd | 化学強化ガラスの製造方法および化学強化用ガラス |
| CN106365456B (zh) * | 2016-08-31 | 2019-06-25 | 东北大学秦皇岛分校 | 二硅酸锂微晶玻璃、其制备方法及用于牙科材料的应用 |
| CN107555798B (zh) * | 2017-09-19 | 2020-05-08 | 大连工业大学 | 齿科铸造用二硅酸锂微晶玻璃及其制备方法 |
| CN107840578B (zh) * | 2017-12-01 | 2021-06-11 | 成都光明光电股份有限公司 | 微晶玻璃及其基板 |
| CO2018001322A1 (es) * | 2017-12-27 | 2018-04-30 | Agp America Sa | Método para fortalecer y curvar capas de vidrio |
| JP7268673B2 (ja) * | 2018-02-27 | 2023-05-08 | Ａｇｃ株式会社 | ３次元形状の結晶化ガラス、３次元形状の化学強化ガラスおよびそれらの製造方法 |
| CN110372216B (zh) * | 2018-04-12 | 2022-05-03 | 重庆鑫景特种玻璃有限公司 | 平面玻璃、钢化玻璃、3d曲面微晶玻璃及其制备工艺 |
| CN110894137B (zh) * | 2018-09-13 | 2022-05-10 | 重庆鑫景特种玻璃有限公司 | 钢化玻璃、3d微晶玻璃及其制备方法 |
| CN111099829B (zh) * | 2018-10-26 | 2021-03-09 | 成都光明光电股份有限公司 | 透明微晶玻璃、微晶玻璃制品及其制备方法 |
| CN112794646B (zh) * | 2018-10-26 | 2022-04-19 | 成都光明光电股份有限公司 | 微晶玻璃、微晶玻璃制品及其制造方法 |
| CN111348834B (zh) * | 2020-03-16 | 2022-06-07 | 科立视材料科技有限公司 | 一种3d微晶玻璃及其制备方法 |
-
2021
- 2021-05-21 CN CN202110555635.8A patent/CN113248152B/zh active Active
- 2021-06-18 KR KR1020237030717A patent/KR20230133406A/ko not_active Application Discontinuation
- 2021-06-18 JP JP2023557294A patent/JP2024511047A/ja active Pending
- 2021-06-18 WO PCT/CN2021/100764 patent/WO2022241891A1/zh active Application Filing
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN113248152B (zh) | 2022-06-10 |
| KR20230133406A (ko) | 2023-09-19 |
| CN113248152A (zh) | 2021-08-13 |
| WO2022241891A1 (zh) | 2022-11-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2024511047A (ja) | ３次元微結晶ガラス及びその製造方法 | |
| JP6546276B2 (ja) | 高硬度透明結晶質ガラス及びその調製方法 | |
| WO2020192485A1 (zh) | 化学强化用微晶玻璃、化学强化微晶玻璃、其应用及电子设备 | |
| EP3851420B1 (en) | Aluminosilicate microcrystalline glass, preparation method therefor and product thereof | |
| CN110372216B (zh) | 平面玻璃、钢化玻璃、3d曲面微晶玻璃及其制备工艺 | |
| WO2022228583A1 (zh) | 一种微晶玻璃材料及其制备方法和在半导体器件中的应用 | |
| TW201602029A (zh) | 透明玻璃陶瓷製品、玻璃陶瓷前驅物玻璃、及用於形成其之方法 | |
| CN111592225A (zh) | 锂铝硅酸盐纳米晶透明陶瓷、其制备方法及产品 | |
| KR20220117309A (ko) | 다결정핵 복합 투명 유리 세라믹 및 그 제조 방법 | |
| CN111620555B (zh) | 微晶玻璃及其钢化方法和应用 | |
| CN110577365A (zh) | 一种纳米晶玻璃陶瓷及其制备方法 | |
| TW201602038A (zh) | 化學強化鹼鋁矽酸鹽玻璃用玻璃組成物及其製造方法 | |
| CN110577364A (zh) | 一种锂铝硅酸盐纳米晶玻璃陶瓷及其制备方法 | |
| CN111606572A (zh) | 钠铝硅酸盐纳米晶透明陶瓷、其制备方法及产品 | |
| CN113149444A (zh) | 一种一步法化学强化钠霞石微晶玻璃的方法及化学强化钠霞石微晶玻璃 | |
| CN113620608A (zh) | 一种锂铝硅酸透明微晶玻璃及其制备方法 | |
| CN115490428A (zh) | 一种超高抗跌落强度的透明微晶玻璃及其制备方法 | |
| CN114516724A (zh) | 微晶玻璃、强化微晶玻璃和终端 | |
| WO2024017081A1 (zh) | 一种耐酸碱性优异的微晶玻璃及其制备方法和用途 | |
| CN114426398A (zh) | 微晶玻璃、微晶玻璃的制备方法及电子设备 | |
| CN111116040A (zh) | 一种具有非单一表面压应力斜率的钢化玻璃制品及其制备方法 | |
| CN113831021A (zh) | 微晶玻璃及其制备方法、玻璃保护层、玻璃盖板与电子器件 | |
| US3582370A (en) | Glass-ceramic articles | |
| CN115490427A (zh) | 一种高结晶度锂铝硅透明微晶玻璃及其制备方法 | |
| CN115745409B (zh) | 一种具有多层结构的高硬度微晶玻璃、其制备方法及应用 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20231002 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20231002 |
|
| A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20231002 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20240402 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20240603 |