JP2024123024A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2024123024A5 JP2024123024A5 JP2024090131A JP2024090131A JP2024123024A5 JP 2024123024 A5 JP2024123024 A5 JP 2024123024A5 JP 2024090131 A JP2024090131 A JP 2024090131A JP 2024090131 A JP2024090131 A JP 2024090131A JP 2024123024 A5 JP2024123024 A5 JP 2024123024A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- iodine
- carbon atoms
- formula
- compound according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims 17
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 16
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims 16
- 239000011630 iodine Substances 0.000 claims 16
- 150000002440 hydroxy compounds Chemical class 0.000 claims 9
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims 9
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims 7
- -1 acrylate compound Chemical class 0.000 claims 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims 5
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims 5
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims 4
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 claims 4
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 4
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N adamantane Chemical compound C1C(C2)CC3CC1CC2C3 ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 125000003172 aldehyde group Chemical group 0.000 claims 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims 2
- 150000001924 cycloalkanes Chemical class 0.000 claims 2
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims 2
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000005103 alkyl silyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 claims 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims 1
Applications Claiming Priority (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2018244504 | 2018-12-27 | ||
| JP2018244504 | 2018-12-27 | ||
| JP2019144313 | 2019-08-06 | ||
| JP2019144313 | 2019-08-06 | ||
| PCT/JP2019/050261 WO2020137935A1 (ja) | 2018-12-27 | 2019-12-23 | 化合物、(共)重合体、組成物、パターン形成方法、及び化合物の製造方法 |
| JP2020563234A JP7579516B2 (ja) | 2018-12-27 | 2019-12-23 | 化合物、(共)重合体、組成物、パターン形成方法、及び化合物の製造方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020563234A Division JP7579516B2 (ja) | 2018-12-27 | 2019-12-23 | 化合物、(共)重合体、組成物、パターン形成方法、及び化合物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2024123024A JP2024123024A (ja) | 2024-09-10 |
| JP2024123024A5 true JP2024123024A5 (https=) | 2025-03-18 |
Family
ID=71127975
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020563234A Active JP7579516B2 (ja) | 2018-12-27 | 2019-12-23 | 化合物、(共)重合体、組成物、パターン形成方法、及び化合物の製造方法 |
| JP2024090131A Pending JP2024123024A (ja) | 2018-12-27 | 2024-06-03 | 化合物、(共)重合体、組成物、パターン形成方法、及び化合物の製造方法 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020563234A Active JP7579516B2 (ja) | 2018-12-27 | 2019-12-23 | 化合物、(共)重合体、組成物、パターン形成方法、及び化合物の製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20220119336A1 (https=) |
| JP (2) | JP7579516B2 (https=) |
| KR (2) | KR20260019026A (https=) |
| CN (1) | CN113227028A (https=) |
| TW (1) | TWI828827B (https=) |
| WO (1) | WO2020137935A1 (https=) |
Families Citing this family (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20220119336A1 (en) * | 2018-12-27 | 2022-04-21 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Compound, (co)polymer, composition, method for forming pattern, and method for producing compound |
| JP7509071B2 (ja) * | 2020-04-28 | 2024-07-02 | 信越化学工業株式会社 | ヨウ素化芳香族カルボン酸型ペンダント基含有ポリマー、レジスト材料及びパターン形成方法 |
| WO2021230300A1 (ja) * | 2020-05-15 | 2021-11-18 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 化合物、(共)重合体、組成物、レジストパターン形成方法、並びに化合物及び(共)重合体の製造方法 |
| JP7789494B2 (ja) * | 2020-06-01 | 2025-12-22 | 住友化学株式会社 | 化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
| FR3113904B1 (fr) * | 2020-09-08 | 2022-08-12 | Innoverda | Procédé de synthèse du 3,5-diiodo-4-hydroxy benzylalcool |
| KR20230123513A (ko) * | 2020-12-21 | 2023-08-23 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | 화합물, 중합체, 조성물, 막형성용 조성물, 패턴의형성방법, 절연막의 형성방법 및 화합물의 제조방법 |
| CN116615405A (zh) * | 2020-12-21 | 2023-08-18 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 化合物、聚合物、组合物、膜形成用组合物、图案的形成方法、绝缘膜的形成方法及化合物的制造方法 |
| IL310053A (en) * | 2021-07-14 | 2024-03-01 | Fujifilm Corp | A method for creating a template and a method for manufacturing an electronic device |
| US20230103685A1 (en) * | 2021-09-30 | 2023-04-06 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Iodine-containing acid cleavable compounds, polymers derived therefrom, and photoresist compositions |
| WO2023189586A1 (ja) * | 2022-03-29 | 2023-10-05 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法 |
| WO2023189969A1 (ja) * | 2022-03-31 | 2023-10-05 | 日本ゼオン株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 |
| JP2023161653A (ja) * | 2022-04-26 | 2023-11-08 | 東京応化工業株式会社 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び化合物 |
| JP7722257B2 (ja) * | 2022-05-10 | 2025-08-13 | 信越化学工業株式会社 | マスクブランク、レジストパターン形成方法及び化学増幅ポジ型レジスト組成物 |
| CN114755884B (zh) * | 2022-06-14 | 2022-09-16 | 之江实验室 | 一种有机无机杂化飞秒激光直写光刻胶 |
| CN115784891B (zh) * | 2022-12-14 | 2024-09-27 | 吉林化工学院 | 一种受阻酚类抗氧剂及其制备方法和应用 |
| WO2024147288A1 (ja) * | 2023-01-06 | 2024-07-11 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法、パターン形成用キット、及び電子デバイスの製造方法 |
| JPWO2024150663A1 (https=) * | 2023-01-11 | 2024-07-18 | ||
| WO2025079631A1 (ja) * | 2023-10-11 | 2025-04-17 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 組成物、樹脂組成物、膜形成用組成物、リソグラフィー用膜形成用組成物、レジスト膜形成用組成物 |
| WO2025079648A1 (ja) * | 2023-10-11 | 2025-04-17 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 化合物、組成物、樹脂組成物、膜形成用組成物、リソグラフィー用膜形成用組成物、レジスト膜形成用組成物 |
| WO2025079646A1 (ja) * | 2023-10-11 | 2025-04-17 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 有機ハロゲン化合物の製造方法、化合物、酸発生剤、塩基発生剤、クエンチャー、重合体、組成物及びレジストパターン形成方法 |
| TW202535805A (zh) * | 2023-10-20 | 2025-09-16 | 日商三菱瓦斯化學股份有限公司 | 含碘(甲基)丙烯酸酯化合物、含碘(甲基)丙烯酸酯(共)聚合物、微影用組合物、阻劑組成物、下層膜形成用組成物及含碘(甲基)丙烯酸酯化合物之製造方法 |
| WO2025154627A1 (ja) * | 2024-01-17 | 2025-07-24 | 学校法人 関西大学 | リソグラフィー下層膜形成組成物、リソグラフィー下層膜、ポジ型レジスト組成物、レジスト膜、及びレジストパターンの形成方法 |
| WO2026054065A1 (ja) * | 2024-09-09 | 2026-03-12 | 三菱瓦斯化学株式会社 | ヨウ素含有(メタ)アクリル酸エステル化合物及びヨウ素・水酸基含有重合体の製造方法 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6160630A (ja) * | 1984-08-31 | 1986-03-28 | Sumitomo Chem Co Ltd | アルデヒド誘導体の製造法 |
| JPH0920721A (ja) * | 1995-07-10 | 1997-01-21 | Nippon Oil & Fats Co Ltd | 2,4,6−トリヨードフェニルアクリレートおよび製造方法 |
| US7317058B2 (en) * | 2004-11-01 | 2008-01-08 | Nitto Denko Corporation | (Meth)acrylate polymer and non-linear optical device material composition |
| JP5104535B2 (ja) * | 2008-05-15 | 2012-12-19 | Jsr株式会社 | 上層膜用組成物及びレジストパターン形成方法 |
| EP2824162B1 (en) * | 2012-04-20 | 2018-12-12 | LG Chem, Ltd. | Polymerizable liquid crystal compound, polymerizable liquid crystal composition, and optical anisotropic body |
| JP6196897B2 (ja) | 2013-12-05 | 2017-09-13 | 東京応化工業株式会社 | ネガ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び錯体 |
| JP6163438B2 (ja) * | 2014-02-27 | 2017-07-12 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス、並びに、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び、レジスト膜 |
| JP7079591B2 (ja) * | 2016-12-14 | 2022-06-02 | 住友化学株式会社 | 樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
| EP3605228B1 (en) * | 2017-03-30 | 2022-02-09 | JSR Corporation | Radiation sensitive composition and resist pattern forming method |
| US10095109B1 (en) * | 2017-03-31 | 2018-10-09 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Acid-cleavable monomer and polymers including the same |
| US20220119336A1 (en) * | 2018-12-27 | 2022-04-21 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Compound, (co)polymer, composition, method for forming pattern, and method for producing compound |
| JP7379059B2 (ja) * | 2019-10-02 | 2023-11-14 | キヤノン株式会社 | 中間サーバ装置、情報処理装置、通信方法 |
-
2019
- 2019-12-23 US US17/418,636 patent/US20220119336A1/en active Pending
- 2019-12-23 KR KR1020267002608A patent/KR20260019026A/ko active Pending
- 2019-12-23 JP JP2020563234A patent/JP7579516B2/ja active Active
- 2019-12-23 WO PCT/JP2019/050261 patent/WO2020137935A1/ja not_active Ceased
- 2019-12-23 KR KR1020217009898A patent/KR102923916B1/ko active Active
- 2019-12-23 CN CN201980086268.2A patent/CN113227028A/zh active Pending
- 2019-12-23 TW TW108147263A patent/TWI828827B/zh active
-
2024
- 2024-06-03 JP JP2024090131A patent/JP2024123024A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2024123024A5 (https=) | ||
| JP6190572B2 (ja) | トリアルコキシシリルアルキル基を有するオニウム塩 | |
| JP2012108527A5 (https=) | ||
| US20150037735A1 (en) | Molecular glass photoresists containing bisphenol a framework and method for preparing the same and use thereof | |
| JP2008268931A5 (https=) | ||
| WO2015049871A1 (en) | Reagent for enhancing generation of chemical species | |
| JPWO2011152066A1 (ja) | オキシムエステル化合物、オキシムエステル化合物の製造方法、光重合開始剤および感光性組成物 | |
| JP2009048182A5 (https=) | ||
| JP2023101503A5 (https=) | ||
| WO2018207836A1 (ja) | 活性エネルギー線硬化型組成物、硬化膜の製造方法及び硬化物 | |
| JP2021503522A5 (https=) | ||
| JP2004101642A5 (https=) | ||
| CN103183613A (zh) | 脂环族单体,包含该单体的聚合物以及包含所述聚合物的光致抗蚀剂组合物 | |
| CN102504055B (zh) | 一种水性反应性的二苯甲酮类光引发剂及其合成方法 | |
| JP2019172650A (ja) | (メタ)アクリル酸エステルおよびその製造方法 | |
| JP2011191558A5 (https=) | ||
| JP7810131B2 (ja) | フルオレン骨格含有(メタ)アクリレート化合物、樹脂組成物及び硬化物 | |
| JP2004279471A5 (https=) | ||
| JP2001042533A5 (https=) | ||
| JP2003177538A5 (https=) | ||
| CN105960419B (zh) | (甲基)丙烯酸酯化合物及其制造方法 | |
| JP6289470B2 (ja) | 置換ガンマラクタムの合成方法 | |
| JP2023183166A5 (https=) | ||
| JP2004117876A5 (https=) | ||
| JP2009526015A5 (https=) |