JP2024020323A - セラミックス造形用粉体、セラミックス造形物、およびその製造方法 - Google Patents
セラミックス造形用粉体、セラミックス造形物、およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2024020323A JP2024020323A JP2023190897A JP2023190897A JP2024020323A JP 2024020323 A JP2024020323 A JP 2024020323A JP 2023190897 A JP2023190897 A JP 2023190897A JP 2023190897 A JP2023190897 A JP 2023190897A JP 2024020323 A JP2024020323 A JP 2024020323A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- powder
- absorber
- ceramic
- composition
- modeling
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims abstract description 80
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 48
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 17
- 239000000843 powder Substances 0.000 title abstract description 187
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 title abstract 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 27
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 26
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 7
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 6
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 4
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910003451 terbium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- SCRZPWWVSXWCMC-UHFFFAOYSA-N terbium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Tb+3].[Tb+3] SCRZPWWVSXWCMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910000505 Al2TiO5 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- AABBHSMFGKYLKE-SNAWJCMRSA-N propan-2-yl (e)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C\C(=O)OC(C)C AABBHSMFGKYLKE-SNAWJCMRSA-N 0.000 claims description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 134
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 abstract description 60
- 238000002844 melting Methods 0.000 abstract description 26
- 230000008018 melting Effects 0.000 abstract description 26
- 238000005245 sintering Methods 0.000 abstract description 14
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 abstract description 10
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 abstract description 10
- 238000007711 solidification Methods 0.000 abstract description 6
- 230000008023 solidification Effects 0.000 abstract description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 132
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 113
- 230000009102 absorption Effects 0.000 description 58
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 44
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 33
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 31
- 230000008569 process Effects 0.000 description 21
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 20
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 15
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 9
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 7
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 7
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 7
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 6
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 6
- 238000013001 point bending Methods 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 5
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 4
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 4
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 2
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 2
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 description 2
- MMKQUGHLEMYQSG-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);praseodymium(3+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Pr+3].[Pr+3] MMKQUGHLEMYQSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010587 phase diagram Methods 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 229910003447 praseodymium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001404 rare earth metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 2
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 2
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004435 EPR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 Gd 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052765 Lutetium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- HEQHIXXLFUMNDC-UHFFFAOYSA-N O.O.O.O.O.O.O.[Tb].[Tb].[Tb].[Tb] Chemical compound O.O.O.O.O.O.O.[Tb].[Tb].[Tb].[Tb] HEQHIXXLFUMNDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical group [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N copper;5,10,15,20-tetraphenylporphyrin-22,24-diide Chemical compound [Cu+2].C1=CC(C(=C2C=CC([N-]2)=C(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(N=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=C3[N-]2)C=2C=CC=CC=2)=NC1=C3C1=CC=CC=C1 RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052878 cordierite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N dimagnesium dioxido-bis[(1-oxido-3-oxo-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3-disila-5,7-dialuminabicyclo[3.3.1]nonan-7-yl)oxy]silane Chemical compound [Mg++].[Mg++].[O-][Si]([O-])(O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2)O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2 JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000004993 emission spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000002149 energy-dispersive X-ray emission spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N gadolinium atom Chemical compound [Gd] UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 230000009103 reabsorption Effects 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N terbium atom Chemical compound [Tb] GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
- B28B1/00—Producing shaped prefabricated articles from the material
- B28B1/30—Producing shaped prefabricated articles from the material by applying the material on to a core or other moulding surface to form a layer thereon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/50—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on rare-earth compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/48—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on zirconium or hafnium oxides, zirconates, zircon or hafnates
- C04B35/486—Fine ceramics
- C04B35/488—Composites
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
- B28B1/00—Producing shaped prefabricated articles from the material
- B28B1/001—Rapid manufacturing of 3D objects by additive depositing, agglomerating or laminating of material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
- B29C64/10—Processes of additive manufacturing
- B29C64/141—Processes of additive manufacturing using only solid materials
- B29C64/153—Processes of additive manufacturing using only solid materials using layers of powder being selectively joined, e.g. by selective laser sintering or melting
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B18/00—Layered products essentially comprising ceramics, e.g. refractory products
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B33—ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
- B33Y—ADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
- B33Y10/00—Processes of additive manufacturing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B33—ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
- B33Y—ADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
- B33Y70/00—Materials specially adapted for additive manufacturing
- B33Y70/10—Composites of different types of material, e.g. mixtures of ceramics and polymers or mixtures of metals and biomaterials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/10—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on aluminium oxide
- C04B35/101—Refractories from grain sized mixtures
- C04B35/106—Refractories from grain sized mixtures containing zirconium oxide or zircon (ZrSiO4)
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/10—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on aluminium oxide
- C04B35/111—Fine ceramics
- C04B35/117—Composites
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/10—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on aluminium oxide
- C04B35/111—Fine ceramics
- C04B35/117—Composites
- C04B35/119—Composites with zirconium oxide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/14—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on silica
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/16—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on silicates other than clay
- C04B35/18—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on silicates other than clay rich in aluminium oxide
- C04B35/195—Alkaline earth aluminosilicates, e.g. cordierite or anorthite
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/44—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on aluminates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/64—Burning or sintering processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/653—Processes involving a melting step
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3224—Rare earth oxide or oxide forming salts thereof, e.g. scandium oxide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3224—Rare earth oxide or oxide forming salts thereof, e.g. scandium oxide
- C04B2235/3225—Yttrium oxide or oxide-forming salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/34—Non-metal oxides, non-metal mixed oxides, or salts thereof that form the non-metal oxides upon heating, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3418—Silicon oxide, silicic acids or oxide forming salts thereof, e.g. silica sol, fused silica, silica fume, cristobalite, quartz or flint
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/50—Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
- C04B2235/54—Particle size related information
- C04B2235/5418—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof
- C04B2235/5436—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof micrometer sized, i.e. from 1 to 100 micron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/50—Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
- C04B2235/54—Particle size related information
- C04B2235/5418—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof
- C04B2235/5445—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof submicron sized, i.e. from 0,1 to 1 micron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/60—Aspects relating to the preparation, properties or mechanical treatment of green bodies or pre-forms
- C04B2235/602—Making the green bodies or pre-forms by moulding
- C04B2235/6026—Computer aided shaping, e.g. rapid prototyping
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/65—Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes
- C04B2235/66—Specific sintering techniques, e.g. centrifugal sintering
- C04B2235/665—Local sintering, e.g. laser sintering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/65—Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes
- C04B2235/66—Specific sintering techniques, e.g. centrifugal sintering
- C04B2235/667—Sintering using wave energy, e.g. microwave sintering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/74—Physical characteristics
- C04B2235/76—Crystal structural characteristics, e.g. symmetry
- C04B2235/762—Cubic symmetry, e.g. beta-SiC
- C04B2235/764—Garnet structure A3B2(CO4)3
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/74—Physical characteristics
- C04B2235/77—Density
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/96—Properties of ceramic products, e.g. mechanical properties such as strength, toughness, wear resistance
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/25—Process efficiency
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Civil Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Producing Shaped Articles From Materials (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
Abstract
【課題】安定した造形が可能で、造形精度が確保された三次元造形物を得ることができるレーザー造形用粉体およびその使用方法を提供する。【解決手段】レーザー光の照射部における粉体を逐次焼結または溶融して凝固させることを繰り返して造形物を得るためのセラミックス造形用粉体であって、前記粉体は複数の組成物を含み、前記組成物の少なくとも1種類の組成物が、他の組成物より前記レーザー光に対し相対的に高い吸収を示す吸収体であり、前記レーザー光の照射により前記吸収体の少なくとも一部が前記レーザー光に対する吸収が相対的に低い他の組成物へ変化することを特徴とする粉体、および前記粉体を使用することを特徴とする粉体の使用方法。【選択図】なし
Description
本発明は、レーザー照射によりセラミックス造形物を形成する際に使用する粉体およびその粉体を使用した製造方法に関する。
近年、付加造形技術が伸展し、特に金属分野では、粉末床溶融結合法(powder bed fusion)において緻密で多様性のある造形物が実現されている。その緻密性は、効果的に溶融させて凝固組織群として造形物が得られることに起因する。このような状況において、セラミックス造形への展開性も議論され、多くの取り組みが報告されている。セラミックスを金属同様に溶融させるためには、相応のエネルギーを投入する必要があるが、金属とは異なり粉体内での光拡散も伴って均一な溶融が達成できず、造形精度を得ることが難しい状況にあった。そのため、溶融させず焼結に留めることで、造形精度を確保する方向で造形物が形成されたが、緻密さに欠けていた。
このような状況において、例えば、非特許文献1では、Al2O3―ZrO2共晶系を用いることで融点を下げ、かつ溶融して凝固した時に共晶系特有の微細構造を形成させ高い機械強度も実現する手法が提案されている。しかし、造形物の緻密さを向上させる点は満たすことに成功しているが、造形物の表面に多数の突起物が発生しており、十分な造形精度に達している状況ではなかった。
Physics Procedia 5 (2010) 587-594
レーザー光の波長はNd:YAG(約1μm)であり、共晶系で低融点化したとしてもAl2O3もZrO2も明瞭な吸収を示さないため、当該材料系を溶融して凝固させるためには、相応のエネルギーを必要とする。このような系では、粉体中の光拡散も伴い、所望の造形部分での不均一な溶融や、その周辺での不均一な焼結領域が幅広く生じるなどの課題があった。
さらに、レーザースキャン中の近接領域や積層方向など、既にプロセス完了済みの箇所が再度のレーザー光の吸収で加工されてしまうこともあり造形精度に悪影響を与えるという課題があった。
したがって、造形精度向上のためには、粉体における光拡散を抑制できる、レーザー波長の吸収を示すとともに、レーザー光を再吸収して影響を受けないように、一度造形した箇所の吸収効果が低減ないし消失する材料が求められていた。
本発明のセラミックス造形用粉体は、レーザー光の照射部における粉体を逐次焼結または溶融して凝固させることを繰り返して造形物を得るためのセラミックス造形用粉体であって、前記粉体は複数の組成物を含み、前記組成物の少なくとも1種類の組成物が、前記レーザー光に対し他の組成物より相対的に高い吸収を示す吸収体であり、前記レーザー光の照射により前記吸収体の少なくとも一部が、前記レーザー光に対する吸収が相対的に低い他の組成物に変化することを特徴とする。
また、レーザー光の照射部における粉体を逐次焼結または溶融して凝固させることを繰り返して造形物を得るセラミックス造形物の製造において、
(i)上記のセラミックス造形用粉体をレーザー照射部に配置する工程、
(ii)前記セラミックス造形用粉体に3次元造形データに基づいてレーザーを照射することにより、前記セラミックス造形用粉体を焼結または溶融させた後に凝固させる工程、および
(iii)前記工程(i)と(ii)を繰り返して造形物を製造する工程、
を有することを特徴とする。
(i)上記のセラミックス造形用粉体をレーザー照射部に配置する工程、
(ii)前記セラミックス造形用粉体に3次元造形データに基づいてレーザーを照射することにより、前記セラミックス造形用粉体を焼結または溶融させた後に凝固させる工程、および
(iii)前記工程(i)と(ii)を繰り返して造形物を製造する工程、
を有することを特徴とする。
本発明のセラミックス造形用粉体を用いれば、レーザー光の照射により吸収体の一部が前記レーザー光に対する吸収が相対的に低い他の組成物に変化することにより、焼結或いは溶融後の領域は以後の造形時におけるレーザー照射の影響を受け難くなる。また、その吸収体は、前記レーザー光に対する吸収が、粉体を構成する他の組成物より相対的に高いため光拡散も低減できる。結果、造形精度の高いセラミックス造形物の製造を実現することができる。
以下、図面を参照して本発明を実施するための形態を説明する。まず、本発明における粉体と組成物、吸収体について説明する。粉体とは、孤立した粒と認識できる粒子の集合体である。また、粉体は複数の組成物からなる。なお、組成物とは、複数の成分(元素或いは化合物)から構成されたものである。また、粉体が複数の組成物からなるとは、1種類の組成物からなる粒子が多種類混在している場合、或いは複数種の組成物からなる粒子が1種類、或いは多種類混在している場合を意味する。吸収体は、使用されるレーザー光に対し粉体を構成するほかの組成物に比べ相対的に高い吸収能を有する組成物として規定される。言い換えると、吸収体は、粉体に含まれる組成物の中でレーザー光に対する吸収能が最も高い。本発明の粉体を構成する少なくとも1種類の組成物が、レーザー光の吸収能がある吸収体である。吸収体の吸収能は使用される波長のレーザー光に対し、10%以上の吸収率であることが好ましい。また、吸収率が40%以上である場合はより好ましく、さらに60%以上である場合が最も好ましい。吸収体単体の吸収率の測定方法としては、一般的な分光計を用いればよく、積分球を用いて、試料皿に充填した吸収体単体に想定波長(製造で使用されるレーザー波長近傍)を照射して計測する。試料の無い場合を参照データとして、その比率から吸収率を算出するものである。
(粉体)
本発明の粉体は、2種類以上からなる複数の組成物で構成され、複数の組成物は吸収体である組成物を少なくとも1種類含む。粉体を構成する各粒子は単一の組成物からなっていても良いし、一つの粒子が複数の組成物からなっていても良い。以下に場合分けをして、順に説明する。
本発明の粉体は、2種類以上からなる複数の組成物で構成され、複数の組成物は吸収体である組成物を少なくとも1種類含む。粉体を構成する各粒子は単一の組成物からなっていても良いし、一つの粒子が複数の組成物からなっていても良い。以下に場合分けをして、順に説明する。
まず、粉体が単一の組成物からなる粒子で構成されている状態の場合である。一例として、複数の組成物が、Al2O3、ZrO2、Tb4O7(吸収体)の3種類で構成されている場合、Al2O3粒子、ZrO2粒子、Tb4O7粒子がそれぞれ存在し、それらの粒子の混合物として粉体が構成されている状態が挙げられる。
次に、粉体が2種類以上の組成物から構成される粒子を含んでいる状態の場合である。一例として、組成物が、Al2O3、ZrO2、Tb4O7(吸収体)の3種類で構成されている場合、Al2O3-ZrO2-Tb4O7からなる粒子のみで構成されている状態や、Al2O3-ZrO2粒子、Tb4O7粒子と言うように、Al2O3-ZrO2が同一粒子を構成しているような状態である。特に、吸収体を他の組成物と同じ粒子に含有させて構成する場合には、本発明の吸収体の一例であるTb4O7においては、Tb4O7状態を維持して構成することが好ましい。さらに、吸収体である組成物は、その他の組成物がどのように構成されていようとも、単独で粒子を構成している状況が好ましい。
また、本発明の粉体においては、粉末床溶融結合法でリコーターを用いて粉末ベッド層を構成する場面や、クラッディング法におけるノズルからの粉体噴射をする場面における粉体の流動性が重要である。粉体は、流動性指標として40[sec/50g]以下を満たすような粉体を用いることが好ましい。流動性を確保するためには、粒子は球形であることが好ましい。ただし、上記流動性指標を満たせば、球形であることは必須ではない。
さらに、吸収体を構成する組成物の粒子の粒径(粒径とは、単一粒子のものではなく同一組成を成している粒子群の中央値とする)が、吸収体でない組成物の粒子の粒径の1/5以下であることが好ましい。よって、吸収体を構成する粒子の粒径が1μm以上10μm以下であることが好ましいから、吸収体以外の組成物の粒径は5μm以上で上記条件を満たすことが重要である。
また、本発明の粉体は、樹脂バインダーを含有していないことが好ましい。樹脂バインダーを含有する場合には、レーザー照射で爆発的に焼失する過程が発生する場合があり、造形領域に空孔等を内在させる原因となる可能性があるためである。さらに、炭素が含有されていると酸素と結合し気体となる上に、炭素成分が占めていた体積が空孔となるおそれがあるため、少ないことが好ましい。従って、炭素の含有は、粉体を構成する複数の組成物の金属元素に対してモル比で1000ppm以下であることが好ましい。
また、炭素が含有されているとレーザー照射により酸化し、ガス化して造形に悪影響を与えるため、本発明の吸収体のようにレーザー照射により異なる組成物への変化を伴い造形物中に取り込まれることが好ましい。
また、炭素が含有されているとレーザー照射により酸化し、ガス化して造形に悪影響を与えるため、本発明の吸収体のようにレーザー照射により異なる組成物への変化を伴い造形物中に取り込まれることが好ましい。
ここまで吸収体と組成物と粒子について記述してきたが、本発明におけるセラミックス造形用粉体は結晶や非晶質状態であるか、それらの混合物であるかなどを一切問わない。また、粉体と造形物の間で組成が完全に一致する必要もなく、特に酸化状態や窒化状態などの違いがあってもよい。したがって、造形プロセス中の雰囲気を制御することも好ましく、大気雰囲気状態のみならず、窒素やその他希ガス雰囲気という不活性状態や、一部水素含有や減圧等で還元しやすい状態、さらに酸素雰囲気とすることも好ましい。このような雰囲気制御によって、原料の粉体として一部金属状態の組成物を含むことも排除しない。
本発明はセラミックス造形用粉体であるが、造形物が100%結晶からなるセラミックスで構成されている状態に限定するものではなく、所望の物性値が得られる場合には、造形物の一部または過半にアモルファス状態の領域や、還元され金属状態に近い領域等が形成されていてもよい。
(吸収体)
本発明に好適な吸収体は、レーザー光を吸収して、その熱量によってレーザー光の照射部位における粉体を焼結または溶融させることで凝固体に転化させ、自身も造形物中に残る。その際、吸収体の一部は、前記レーザー光に対する吸収能が相対的に低い他の組成物へ変化し、造形物中に取り込まれる。そのため、前記凝固体に転化した領域は、レーザー光に対する吸収が、レーザー光の照射前の粉体時より低いものとなっている。
本発明に好適な吸収体は、レーザー光を吸収して、その熱量によってレーザー光の照射部位における粉体を焼結または溶融させることで凝固体に転化させ、自身も造形物中に残る。その際、吸収体の一部は、前記レーザー光に対する吸収能が相対的に低い他の組成物へ変化し、造形物中に取り込まれる。そのため、前記凝固体に転化した領域は、レーザー光に対する吸収が、レーザー光の照射前の粉体時より低いものとなっている。
本発明の吸収体の作用と効果について詳述する。
第一の作用効果は、吸収体として製造時に使用するレーザー光を効率よく吸収し、自身が高温化することによって、レーザー光の焦点サイズ相当の領域内に存在する他の組成物にも波及して温度上昇をもたらす。これにより効果的な局所加熱が実現し、プロセス領域(レーザー光を照射した領域)と非プロセス領域(レーザー光を照射していない領域)の界面部の明瞭化を図れ、造形精度が向上する。
第一の作用効果は、吸収体として製造時に使用するレーザー光を効率よく吸収し、自身が高温化することによって、レーザー光の焦点サイズ相当の領域内に存在する他の組成物にも波及して温度上昇をもたらす。これにより効果的な局所加熱が実現し、プロセス領域(レーザー光を照射した領域)と非プロセス領域(レーザー光を照射していない領域)の界面部の明瞭化を図れ、造形精度が向上する。
第二の作用効果は、レーザー光を照射して造形プロセスが完了した領域は低吸収化しているため、まさにプロセスを実行しようとする部分の層内で隣接する領域や下層の領域が、再度レーザー光を吸収して変質するのを抑えることができる。また、造形が済んでいる隣接する領域や下層の領域への影響が抑えられるため、レーザー照射条件などのプロセスマージンを広く取れ、照射条件の変動による造形精度への悪影響も低減できる。
本発明のセラミックス造形用粉体を用いてレーザー光の選択照射により造形を行った場合、上述した第一の作用効果、第二の作用効果により高い精度の造形が実現できる。
このような状況を概念図である図3を参照して説明する。横軸は、レーザー照射時間、縦軸は、レーザー照射領域の温度である。図3中のラインA、Bにおいて、ラインAは吸収体を含まない粉体の特性を示す。ラインAでは、レーザー照射により温度上昇が始まり、線形的に融点を超えて溶解し、破線で示した造形温度に至る。一方、ラインBは本発明の吸収体を含む粉体の特性を示す。ラインBでは、レーザー照射により吸収体の光吸収効果で急激な温度上昇が始まり、溶解する手前から吸収体としての効果が低下し、吸収体を含まない場合のラインAと類似の温度上昇速度となる。
ラインAの特性を示す粉体では加熱効率が悪く、レーザー光が照射された領域内に溶融して凝固した部分と粉体との境目に幅の広い低密度の焼結部が生じ、隣接する粉体部にまで幅広く影響をもたらし、空間的な造形精度が得られない。
一方、ラインBの特性を示す粉体では加熱効率が良く局所加熱が実現できている。そのため、レーザー照射領域を形成すると、隣接領域との温度差が十分に確保できているため、溶融して凝固した部分と粉体との境目には幅の狭い焼結部が生じるのみで、良好な造形精度が得られる。さらに、レーザー照射後の造形終了部分は吸収を示さずラインAのような特性を示すことから、プロセス条件が変動して既存の造形領域にレーザー光の影響が及んでも、レーザー光による温度上昇が相対的に小さく、その影響を回避することができる。なお、レーザー照射中の領域と照射済みの領域とは、両領域間での熱伝導による融着で結合されるので、レーザー描画ライン間の境界部の接続や強度は維持される。こうして、本発明のラインBの特性を有する場合には、前述の二つの効果を得ることができる。
本発明の吸収体としては、レーザー照射により少なくとも一部が相対的に吸収の低い他の組成物に変化するものであれば、制限なく利用できるが、金属酸化物の中から選ばれることが好ましい。何故ならば、金属酸化物の中には、昇温に伴う酸素の離脱により金属元素の価数が変化し、レーザー光に対する吸収の相対的に低い他の金属酸化物への変化(たとえばTb4O7→Tb2O3、Tb3+がGdAlO3のGd(ガドリニウム)サイトへの置換等)を生じ易いものが存在するためである。また、セラミックスを構成するほかの組成物との親和性も高く、造形物中に取り込まれることが可能となるためである。
各種のレーザー波長に対して価数変化が吸収率の変化として機能する金属酸化物は、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、W、In、Sn、Bi、Ce、Pr、Sm、Eu、Tb、Ybから選択される金属の酸化物を用いることが好ましい。造形に用いられる代表的なレーザーである、Nd:YAGレーザー(1070nm)に対しては、Tb、Prの酸化物の利用が好ましく、その酸化状態はTb4O7やPr6O11であることがより好ましい。ただし、上記分子式の比率(組成比)の場合に制限されず、所望の吸収効果が得られれば、その他の比率やそれらとの混合状態であっても利用可能である。
次に、本発明の吸収体の組成物として最も好ましいテルビウム酸化物を一例に詳細に説明する。テルビウム酸化物は多様な状態をとり、代表的にはTb4O7と言う状態とTb2O3と言う状態がある。分子式では、Tb4O7という表記であるが、厳密に4:7であることに限定されない。このとき、Tb4O7はTb4+とTb3+が半数ずつで構成される物質であるが、Tb2O3ではTb3+のみから構成される。このTb4O7の高い赤外吸収率は、Nd:YAGレーザーの1070nm付近で顕著であり、60%を超え70%に達する場合もある。一方で、Tb4+が少しずつ減少していくと吸収率は低下していき、Tb3+のみで構成されるTb2O3状態では7%程度となる。よって、Tb4+の減少により吸収率が低下することが明らかであるので、吸収体が4価のテルビウムを含む酸化テルビウム(Tb4O7)は本発明を実現する一つの組成物として好適である。
また、吸収率10%(吸収体単体で計測時)を得るにはTb4+がTb3+とTb4+の全量に対して約10%存在していればよい。ここで、価数を評価する手法としては、X線吸収微細構造解析(X-ray Absorption Fine Structure:XAFS)を適用することができる。吸収端の立ち上がりエネルギーが価数毎に異なることから、その比率から評価可能である。その他にも、一般的な評価法であるX線光電分光法(XPS:X-ray Photoelectron SpectroscopyまたはESCA:Electron Spectroscopy for Chemical Analysis)や電子スピン共鳴(ESR)等を駆使して評価することができる。
なお、金属元素と酸素の比が2:3の酸化物では、金属元素は価数3+で安定化するため、凝固体に転化後は他の組成物(たとえば、Y2O3やGd2O3、その他R2O3(R:金属元素))中に固溶した状態で存在する。そのため、造形後の凝固体に転化した領域は、大きな吸収を示さない。また、多元素酸化物等においてもR3+が安定である化合物では、RサイトにTbが置換することで、同様の状態が実現できる。また、ZrO2では、固溶して蛍石構造が安定化するのに寄与し、このときも価数3+となる。このように、本発明の吸収体は造形物を構成する材料としても機能する。
また、本発明の効果を得るためには、レーザー光の照射でプロセスを行う前後で吸収率に1.2倍以上の差異があることが好ましく、さらには2倍以上あることが好ましい。または、プロセスを行う前では50%以上、プロセスを行った後では40%以下の吸収率であることが好ましい。または、プロセスを行う前では60%以上、プロセスを行った後では20%以下の吸収率であることが好ましい。吸収体の一例であるTb4O7を組成物として用いれば、この状況の達成に好ましい。なお、この吸収率は、吸収体単体時のものである。
吸収体は複数の組成物に含有されていればその効果を得ることができるが、吸収体である組成物は、粉体において0.5vol%以上53vol%以下で含有されていることがより好ましい。ここで、vol%を用いるのは、レーザー光の照射サイズ(焦点サイズ)に対してどの程度のエリアを吸収体が占めるかが重要であるためで、粉体を構成する組成物が変わると、mol%表記では対応できないからである。
吸収体の含有量の上記下限値は、レーザー焦点サイズ内にすくなくとも吸収体の粒子が1つ以上含まれている必要性から決まっている。上限値は造形物を構成する主たる組成物への影響から決まっている。レーザー焦点サイズが10μmである時、レーザーの溶融領域は直径10μmの半球状とみなせ、その領域に吸収体の直径1μmのものが一粒存在する状態が約0.5Vol%であるから、吸収体組成の下限値は、0.5vol%以上とすることが好ましい。
また、上限値については、構造用セラミックスとして汎用的なAl2O3に対して、Tb4O7を添加するとTb3Al5O12が形成される。Al2O3セラミックスとしての特性を活用し、Tb3Al5O12との複合系を構成するためには、Tb4O7として53vol%以下とする必要があり、この場合Tb3Al5O12の主相にわずかなAl2O3が粒界に分散している状況が実現されるから、上限値は53vol%であることが好ましい。
また、吸収体の粒径も重要であり、10μm以下であることが好ましく、1μm以上10μm以下であることがより好ましく、1μm以上5μm以下であることが最も好ましい。ここで、本発明における粒径とは、同一の組成物からなる粒子の粒径分布の中央値の範囲を規定するもので、範囲外の粒径のものが含まれないことを意味するものではない。また、粒径の計測は、単結晶状態の粒に対してだけでなく、多結晶状態や、凝集状態にも適用される。吸収体である組成物は、単体で粒子を構成していても良い。
吸収体である組成物が単体で粒子を構成する場合は、吸収体が0.5vol%含有され、粒径が1μmで、粉体層の重装嵩密度が真密度の50%であるとき、レーザー焦点サイズ10μmが加熱する領域(焦点サイズ径からなる半球状の体積)内に、粒子が1つ含まれる状態に相当し、吸収体効果が得られる。また、粒径が10μmの場合には、レーザー焦点サイズ100μmが加熱する領域内に粒子が1つ含まれる状態に相当するため、レーザー焦点サイズに合わせた吸収体の粒径選択が重要となる。
均一性の観点からは、レーザー焦点サイズ内に少なくとも吸収体粒子が2つ以上含まれる状態がより好ましい。各々の吸収体の粒子間隔は100μm以下であることが好ましく、50μm以下であることがより好ましい。また、このような状況が実現できるように、レーザー焦点サイズを調整することも好ましい。以上のように、造形精度の観点でレーザー焦点サイズが上限100μmであることを想定すると、前記の通り吸収体の粒径は、1μm以上10μm以下であることが好ましい。ただし、所望の造形精度に合わせて、レーザー焦点サイズは、100μm以上であっても良い。
一方で、粉体の流動性確保の観点からは、造形物の母材であり、吸収体ではない組成物の粒子の粒径分布の中央値と形状は5μm以上の球形であることが望ましい。また、吸収体の粒径は1μm以上10μm以下の範囲であるが、出来る限り細かい粒径であることが好ましい。その理由は、粉体中の吸収体の分散性や、高充填密度の観点からである。また、本発明においては、吸収体の粒径は、吸収体以外の組成物の粒径の1/5以下であることが好ましい。
(吸収体以外の組成物)
吸収体以外の組成物は、セラミックス構造体としての主成分をなす組成物があげられる。このような組成物は、最終造形物における強度等の特性に大きく寄与するため、適宜用途に対応した選択がなされるべきである。従って、製造時に使用されるレーザー光の波長に対する吸収体を決めることにより、相対的に吸収効果が低い金属酸化物から、一つ以上の主成分である組成物を選択することが好ましく、それらの化合物や混合物を選択することも好ましい。特に、汎用的な構造用セラミックスとしては、酸化アルミニウムや酸化ジルコニウム(安定化・準安定化)を使用することができる。さらに、酸化シリコン、窒化シリコン、窒化アルミニウムを使用することもできる。なお、窒化シリコンはレーザーの吸収効果を示すが、吸収率がプロセスの前後で変化しないため、本発明の吸収体としては機能しない。さらに、コージライト(2MgO・2Al2O3・5SiO2)、ジルコン(ZrO2・SiO2)、ムライト(3Al2O3・2SiO2)、酸化イットリウム、チタン酸アルミニウム等のセラミックス材料も選択することもできる。また、上記の各材料の混合物であっても良い。
吸収体以外の組成物は、セラミックス構造体としての主成分をなす組成物があげられる。このような組成物は、最終造形物における強度等の特性に大きく寄与するため、適宜用途に対応した選択がなされるべきである。従って、製造時に使用されるレーザー光の波長に対する吸収体を決めることにより、相対的に吸収効果が低い金属酸化物から、一つ以上の主成分である組成物を選択することが好ましく、それらの化合物や混合物を選択することも好ましい。特に、汎用的な構造用セラミックスとしては、酸化アルミニウムや酸化ジルコニウム(安定化・準安定化)を使用することができる。さらに、酸化シリコン、窒化シリコン、窒化アルミニウムを使用することもできる。なお、窒化シリコンはレーザーの吸収効果を示すが、吸収率がプロセスの前後で変化しないため、本発明の吸収体としては機能しない。さらに、コージライト(2MgO・2Al2O3・5SiO2)、ジルコン(ZrO2・SiO2)、ムライト(3Al2O3・2SiO2)、酸化イットリウム、チタン酸アルミニウム等のセラミックス材料も選択することもできる。また、上記の各材料の混合物であっても良い。
また、上記主成分たる組成物は更に粒径が5μm未満の小径酸化シリコン粒子を含んでいてもよい。この酸化シリコン粒子の機能について以下に詳述する。
セラミックス造形用粉体にレーザー光を照射すると、照射部分にある吸収体がエネルギーを吸収し、発熱する。小径酸化シリコンは、粒径が5μm未満と小さく、溶融しやすいため、吸収体の熱が、まず吸収体の周辺に存在する小径酸化シリコン粒子を溶融する。そして、溶融した小径酸化シリコン粒子が他の相対的に粒径の大きな粒子に熱を伝え、その粒子が溶融する。レーザー光の照射領域で溶融した小径酸化シリコン粒子は軟化して変形し、他の相対的に粒径の大きな粒子と広い面積で接触して粒子の表面に効率よく熱を伝える。これにより、小径酸化シリコン粒子を含まない場合と比べて他の相対的に粒径の大きな粒子に、より均等に熱を伝えることができる。その結果、溶融時のセラミックス造形用粉体内の温度分布が小さくなり、凝固時の冷却速度が場所によって均等になる。そのため、熱応力が低減して凝固時のマイクロクラックの発生が抑制され、マイクロクラックの少ないセラミックス造形物が得られる。また、別の効果として、凝固時に酸化シリコン成分が、粉体に含有される、または主成分たる他の組成物との間で化合物を形成する場合には、熱伝導率が相対的に低くなり、凝固時の急冷が緩和され、マイクロクラックの発生が抑制される。マイクロクラックの少ないセラミックス造形物は、機械的強度が高く、吸水率が低いため、真空装置部品のように強度が必要で低い吸水率を要求される部材への適用が可能となる。
前述したように、小径酸化シリコン粒子の粒径は他の組成物からなる粒子の粒径より小さく、径が5μm未満であることが好ましい。粉体が複数種の粒子で構成される場合は、小径酸化シリコン粒子の粒径が複数種のそれぞれの粒子の粒径より小さいことが好ましい。何故ならば、粒径が小さいことにより、吸収体と共に溶融を先導しやすく、かつ軟化した小径酸化シリコン粒子が他の粒子よりも均等に分布するため、溶融時のセラミックス造形用粉体内の温度分布をさらに小さくすることができるためである。小径酸化シリコン粒子は、流動性の観点から球形であることが好ましいが、不定形、板状、針状等の異方性のある形状であっても良い。小径酸化シリコン粒子は狭い粒度分布を有することが好ましい。粒度が揃っていることで、セラミックス造形用粉体中に均質に分散し、軟化した際に他の組成物からなる粒子の表面により均質に分布できるからである。
セラミックス造形用粉体に含まれる小径酸化シリコン粒子の質量は、吸収体の粒子の質量に対して0.04%以上5.0%以下であることが好ましい。0.04%以上のSiO2粒子が含まることにより吸水率を1.0%以下にできるので望ましい。
また、小径酸化シリコン粒子の質量が、吸収体の粒子の質量に対して5.0%以下であると、主成分たる組成物等の粒子間に存在する小径酸化シリコン粒子のほぼすべてが溶融する。セラミックス造形物の機械的強度を低下させる恐れのある溶け残りが発生しないため、より望ましい。また、小径酸化シリコン粒子は、レーザー光の照射によって溶融して熱媒体の役割を果たした後、その一部はガラスとなってセラミックス造形物の表面および内部に分布する。セラミックス造形用粉体が凝固する際に粉体中に多量の小径酸化シリコン粒子が含まれていると、セラミックス造形物中に小径酸化シリコン粒子由来のガラス領域が多数形成され、セラミックス造形物の機械的強度を低下させる可能性がある。したがって、小径酸化シリコン粒子の質量は、主成分である組成物からなる粒子の質量に対して1.0%以下であることがより好ましい。
本発明の粉体は複数の組成物からなり、少なくとも吸収体で1成分と、セラミックス構造体を成す主成分としての酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化シリコンの少なくともいずれか1成分を含むことが好ましい。酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化シリコンは、吸収体よりも低い吸収能に留まっているので好ましく、また多くの材料系と共晶系を構成し、その微細構造の発現により高強度を維持し、低融点化の効果をも得ることができる。例えば、酸化アルミニウムにおいては、吸収体であるTb4O7との2種類の混合である場合には、造形時にTb4O7から変化を伴ってTb3Al5O12やTbAlO3に関連した組成物が発生する。一方で、酸化ジルコニウムでは、Tb3+の状態で酸化ジルコニウムを正方晶に安定化する役割を担う状況となる。また、酸化アルミニウムと酸化ジルコニウムが同時に組成物として含まれ、吸収体と合わせて3成分で構成されることも好ましい。共晶組成のみならず、Al2O3:ZrO2=85:15wt%や、70:30wt%なども選択することが可能である。また、酸化シリコンは、非晶質・結晶質問わず造形物として構成されることが好ましい。さらに、酸化シリコンは、吸収体との2種の組成物のみならず、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム等を含み、3成分、4成分で構成されることも好ましい。さらに、酸化シリコン含有の造形物には、ジルコンや、ムライト、吸収体とのシリケート等が含まれていても良い。
本発明では制限するものではないが、複数の組成物は共晶組成を成す関係で含有されていることが好ましい。共晶組成とは、共晶状態図で示される共晶点における組成であるが、本発明のレーザー光を用いる造形プロセスは、非常に高速に加熱・冷却状態が繰り返されるため、平衡状態からは著しく掛け離れている。そのため、共晶組成を共晶組織が形成される組成範囲と定義したほうが好ましく、共晶状態図で言うところの共晶組成から±10mol%の範囲までは許容される。
次に、好ましくは、吸収体ではない希土類酸化物が少なくとも1つ以上含まれる。希土類酸化物の金属元素としては、Sc、Y、La、Ce、Nd、Sm、Eu、Gd、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Luから選択されることが好ましい。この場合には、組成によってはR2O3(場合によってRO2)に対して、RAlO3やR3Al5O12等が形成されていてもよく、組成物同士で新たな組成物を形成することが可能な場合は、その組成物を用いることも好ましい。場合によっては、組成物は、共晶組成であることも好ましい。また、Tb3+、Pr3+からなる材料系も適用可能である。
(本発明のセラミックス造形用粉体の使用)
本発明のセラミックス造形用粉体は、レーザー光の照射による造形物の製造プロセス(製造方法)において使用される。その製造プロセスは、(i)上述した本発明のセラミックス造形用粉体をレーザー光の照射部に配置する工程、(ii)前記セラミックス造形用粉体に3次元造形データに基づきレーザー光を照射することにより、前記セラミックス造形用粉体を焼結または溶融させた後に凝固させる工程、および(iii)前記工程(i)と(ii)を繰り返して造形物を形成する工程、を有する。
本発明のセラミックス造形用粉体は、レーザー光の照射による造形物の製造プロセス(製造方法)において使用される。その製造プロセスは、(i)上述した本発明のセラミックス造形用粉体をレーザー光の照射部に配置する工程、(ii)前記セラミックス造形用粉体に3次元造形データに基づきレーザー光を照射することにより、前記セラミックス造形用粉体を焼結または溶融させた後に凝固させる工程、および(iii)前記工程(i)と(ii)を繰り返して造形物を形成する工程、を有する。
本発明での焼結または溶融して凝固という文言は、粉体が一切溶融していない場合を焼結、粉体の溶け残りがない場合を溶融という一義的なものではない。昨今液相焼結という言葉もあり、各々の言葉の領域が不明瞭化している。したがって、粉体間を結合させている程度の焼結から、粉体を取り囲むように溶解物が存在している液相焼結、さらに一部溶け残りの粉体が存在している溶解も解釈上は排除しない。
また、本発明の製造プロセスにおいては、必要であれば、造形物を形成する工程の後、熱処理を行うことも好ましい。この場合、加熱手段に制限はなく、抵抗加熱方式、誘導加熱方式、赤外線ランプ方式、レーザー方式、電子線方式など目的に応じて選択、利用することが可能である。熱処理は、造形物の緻密さや強度の向上などを目的として、造形物の結晶粒径の調整にも適している。また、熱処理に際し釉薬として、有機材料、無機材料問わず含浸、塗布などを行うことも好ましい。
上記本発明の使用方法において、前記工程(i)と(ii)は、本発明の粉体を敷き均した後にレーザー光を照射することで行われてもよい。また、前記工程(i)と(ii)が、本発明の粉体を所定の箇所に噴出させ、レーザー光を前記所定の箇所に照射することで行われてもよい。
具体的には、レーザー光の照射部で逐次焼結または溶融して凝固させることを繰り返し、造形物を得るという手法は、いわゆる粉末床溶融結合法や、クラッディング方式が該当する。使用するレーザー光の波長には制限はないが、レンズやファイバーにおいて10μm~2mmなど所望の焦点サイズに調整したものを用いることが好ましい。焦点サイズは、造形精度に影響するパラメータの一つであり、0.1mmの造形精度を満たすためには、状況によるが、線幅が同程度であることが好ましく、100μm以下の焦点サイズであることが好ましい。なお、レーザー光の照射は連続であるかパルス状であるかは問わない。一例としては、Nd:YAGレーザーであり、波長は1070nm付近である。
粉末床溶融結合法について、図1を参照して説明する。この方式に使用する装置は、粉体升11、造形ステージ部12、リコーター部13、スキャナ部14、レーザー光源15等を備えている。動作としては、粉体升11と造形ステージ部12が適宜上下しながらリコーター部13で粉体を操作し、想定している造形物よりも広い領域に粉体を薄く敷き均す。さらに造形物の一断面形状を、レーザー光源15から発生したレーザー光とスキャナ部14により粉体層に直接描画を施す。描画された領域は焼結または溶融して凝固が生じ、この繰り返しで造形物の断面が積層され最終造形物が形成される。
クラッディング方式について、図2を用いて説明する。クラッディングノズル21にある複数の粉体供給孔22から粉体を噴出させ、それら粉体が焦点を結ぶ領域にレーザー光23を照射して、所望の場所に造形物を逐次形成していく手法であり、曲面等への造形も可能な点が特徴となる。
上述したような本発明の製造プロセスにより、安定化した造形が可能で、かつ、造形精度が確保された三次元造形物を得ることができる。
[実施例1]
本実施例は、本発明の吸収体を含有することによる造形精度の向上に関する。造形精度に関する違いを明確にするために、厚み1.5mmの粉体ベッドをレーザー光の照射により溶融して凝固させ、そのレーザー光の照射部と未照射部境界の状態観察を行った。サンプル1として、Al2O3粉、Gd2O3粉、Tb4O7粉の混合粉(組成比は、Al2O3:64.40vol%、Gd2O3:32.73vol%、Tb4O7:2.87vol%)を1.5mm厚の粉体ベッドとして構成し、Nd:YAGレーザー(1070nm)焦点径100μm、レーザーパワー30Wで、レーザー光の照射速度100mm/sec、250mm/secの2種類の速度で、10mm長さのラインを50μmピッチで40ライン照射した。
本実施例は、本発明の吸収体を含有することによる造形精度の向上に関する。造形精度に関する違いを明確にするために、厚み1.5mmの粉体ベッドをレーザー光の照射により溶融して凝固させ、そのレーザー光の照射部と未照射部境界の状態観察を行った。サンプル1として、Al2O3粉、Gd2O3粉、Tb4O7粉の混合粉(組成比は、Al2O3:64.40vol%、Gd2O3:32.73vol%、Tb4O7:2.87vol%)を1.5mm厚の粉体ベッドとして構成し、Nd:YAGレーザー(1070nm)焦点径100μm、レーザーパワー30Wで、レーザー光の照射速度100mm/sec、250mm/secの2種類の速度で、10mm長さのラインを50μmピッチで40ライン照射した。
また、比較サンプル1としてAl2O3粉のみを、比較サンプル2として(GdTb)AlO3-Al2O3共晶体からなる単一の粉砕粉(共晶体を構成するための原料組成比は、Al2O3:64.40vol%、Gd2O3:32.73vol%、Tb4O7:2.87vol%)を使用し、サンプル1と同様にしてレーザー光を照射した。
ここで採用した吸収体の一例Tb4O7は、Tb3+のみならずTb4+も含んでいる状態にある。また、体積組成算出には、真密度としてAl2O3:3.96[g/cm3]、Gd2O3:7.40[g/cm3]、Tb4O7:7.60[g/cm3]を用いた。この真密度が多少異なる値であったとしても、本発明の本質には影響しない。
比較サンプル1は吸収体を含まず、比較サンプル2はTbがGdAlO3のGd3+サイトに置換される形で存在しており、Tb4+はほとんど存在せず吸収効果が消失している状態にある。これら吸収体効果のない二つの比較サンプルでは250mm/secのレーザー光の照射条件ではほぼ粉体状態のままであり、100mm/secで溶解、その後に凝固した組織が明瞭に得られた。しかしながら、吸収効果がないため、加熱状態の面内不均一が大きく、凝固体としても2次元面の造形物が得られず、局所的に溶融して凝固した粒が転がっている状態となった。
一方で、サンプル1では250mm/secから十分な溶解を示し、2次元造形物が面状に形成されていることが確認できた。また、照射部の造形物はTb4O7がGdAlO3のGdサイトにTb3+として取り込まれていることが紫外線励起の蛍光観察から確認され、比較サンプル2と同様の吸収効果が低い状態に達していた。吸収体の価数状態からサンプル1では、吸収率60%以上の状態で粉体に混合され、レーザー光の照射後は蛍光観察から4価がほとんど存在しないことから30%以下の吸収率となった。また、比較サンプル2では、蛍光観察から造形前の粉体状態から吸収率が30%以下であり、レーザー光の照射後にも変化はなく、30%以下であった。
図4は、レーザー光の照射領域42と未照射領域41の境界の顕微鏡写真から幅3.83mmで画像を切り出し、境界部の輪郭の振れ幅を算出した結果を示す。比較サンプル1は391μm幅、比較サンプル2は273μm幅、サンプル1は85μm幅であった。また、サンプル1の造形後の領域と比較サンプル2の粉体は吸収体の効果の点で同等の状態であるから、サンプル1では、吸収体が機能している粉体領域に対して250mm/secで造形でき、造形後の領域は250mm/secではほとんど作用しないことが明らかになった。
以上の結果から、本発明のサンプルは、比較サンプルに対して造形精度に優れ、プロセス完了した領域を再度乱すことなく、造形物を得ることができることが分かった。また、吸収体の一例である金属酸化物のTb4O7は価数に4+を含むが、造形後の領域では3+への価数減少によって吸収特性が変化していた。レーザー光の照射条件は、周囲環境、材料構成、粉体層の厚み等々により変化させるものであるため、本実施例に記述の値のみに制限されることはない。
[実施例2]
本実施例は、吸収体の一候補であるTb4O7の添加効果に関する。Tb4O7は1070nm近傍で吸収率として60%以上の値を有し、Tb2O3等のTb3+状態のみとなると30%以下の吸収率となる。実施例1では、サンプル1として、Al2O3粉、Gd2O3粉、Tb4O7粉の混合粉(組成比は、Al2O3:64.40vol%、Gd2O3:32.73vol%、Tb4O7:2.87vol%)を用いたが、これに追加してサンプル2、3、4、5、および比較サンプル3を下記表1のように調合した。このとき、Tb4O7粉体の粒径は約2μmのものを用いた。
本実施例は、吸収体の一候補であるTb4O7の添加効果に関する。Tb4O7は1070nm近傍で吸収率として60%以上の値を有し、Tb2O3等のTb3+状態のみとなると30%以下の吸収率となる。実施例1では、サンプル1として、Al2O3粉、Gd2O3粉、Tb4O7粉の混合粉(組成比は、Al2O3:64.40vol%、Gd2O3:32.73vol%、Tb4O7:2.87vol%)を用いたが、これに追加してサンプル2、3、4、5、および比較サンプル3を下記表1のように調合した。このとき、Tb4O7粉体の粒径は約2μmのものを用いた。
これらの粉体をAl2O3基材上に厚み約20μmに敷き均してから、Nd:YAGレーザーで照射を行った。条件は、焦点サイズ20μm、10W、50mm/sec、4.5mm長さのラインを50μmピッチで12本であった。
各サンプルに対して、レーザー光の照射領域と未照射領域の境界部の幅を幅2mmの範囲で観察した。結果を表1に示す。表中には各組成物の配合量(vol%)と境界部の幅(μm)と、Tb4O7添加の効果を、優◎、良○、不可×として表す。なお、境界部の幅(揺れ幅)は造形物側面の表面粗さと実質等価な指標であり、幅が大きくなるほど製造された造形物の表面が荒れていることになる。金属粉末を用いて製造された造形物の標準的な表面粗さは十数μm程度と言われている。そのため、それと同等の場合を◎と評価している。他の実施例においても同様の基準で評価する。
吸収体を含まない比較サンプル3では境界部に溶解物の粒状のものが多数発生しており、境界部の幅が一番広かった。一方で、吸収体を添加(サンプル1~5)することにより境界部の幅が狭くなることが判明した。即ち、本発明の吸収体を含むことにより効果が得られていることが分かる。特に、サンプル1~3ではより幅が狭くなっていることが確認された。したがって、本発明の吸収体の一例であるTb4O7を添加すると、表1に示した判定結果が得られ、無添加の場合に対して幅広い組成範囲で造形精度が向上するという効果が得られることが判明した。
[実施例3]
本実施例は、吸収体の一候補であるPr6O11(酸化プラセオジム)の添加効果に関する。Pr6O11、またそれに近い価数状態のときには1070nm近傍で吸収率として80%以上の値を有し、Pr2O3等のPr3+状態が多いときには50%以下の吸収率となる。サンプル6として、Al2O3粉、Gd2O3粉、Pr6O11粉の混合粉(組成比は、Al2O3:63.85vol%、Gd2O3:33.29vol%、Pr6O11:2.86vol%)を用いた。このとき、Pr6O11粉体の粒径は約2μmのものを用いた。体積組成算出には、真密度としてAl2O3:3.96[g/cm3]、Gd2O3:7.40[g/cm3]、Pr6O11:7.20[g/cm3]を用いた。この真密度が多少異なる値であったとしても、本発明の本質には影響しない。
本実施例は、吸収体の一候補であるPr6O11(酸化プラセオジム)の添加効果に関する。Pr6O11、またそれに近い価数状態のときには1070nm近傍で吸収率として80%以上の値を有し、Pr2O3等のPr3+状態が多いときには50%以下の吸収率となる。サンプル6として、Al2O3粉、Gd2O3粉、Pr6O11粉の混合粉(組成比は、Al2O3:63.85vol%、Gd2O3:33.29vol%、Pr6O11:2.86vol%)を用いた。このとき、Pr6O11粉体の粒径は約2μmのものを用いた。体積組成算出には、真密度としてAl2O3:3.96[g/cm3]、Gd2O3:7.40[g/cm3]、Pr6O11:7.20[g/cm3]を用いた。この真密度が多少異なる値であったとしても、本発明の本質には影響しない。
実施例2同様に、これらの粉体をAl2O3基材上に厚み約20μmに敷き均してから、Nd:YAGレーザーで照射を行った。条件は、焦点サイズ20μm、10W、50mm/sec、4.5mm長さのラインを50μmピッチで12本であった。
レーザー光の照射領域と未照射領域の境界部の幅を幅2mmの範囲で観察した。結果を表2に示す。表2に示すように、各組成物の配合量(vol%)は上記のとおりであり、境界部の幅は42.7μm、Pr6O11添加の効果は、良○であった。
実施例2の比較サンプル3に比べ、境界部の幅が狭いことが示され、本発明の吸収体の一例であるPr6O11を添加すると、表2に示した判定結果が得られ、無添加の場合に対して造形精度が向上するという効果が得られることが判明した。
[実施例4]
本実施例は、吸収体以外の組成物に対する吸収体の効果に関する。検討した組成物を表3に示す。体積組成算出には、真密度としてAl2O3:3.96[g/cm3]、ZrO2:5.68、Y2O3:5.01[g/cm3]、Tb4O7:7.60[g/cm3]を用いた。 この真密度が多少異なる値であったとしても、本発明の本質には影響しない。
これらの組成物を含む粉体をAl2O3基材上に厚み約20μmに敷き均してから、レーザー光の照射を行った。条件は、焦点サイズ100μm、30W、長さ4.5mmのラインを50μmピッチで2本を50、100、200、500mm/secのスキャン速度で描画し、溶融状態の比較を行った。
本実施例は、吸収体以外の組成物に対する吸収体の効果に関する。検討した組成物を表3に示す。体積組成算出には、真密度としてAl2O3:3.96[g/cm3]、ZrO2:5.68、Y2O3:5.01[g/cm3]、Tb4O7:7.60[g/cm3]を用いた。 この真密度が多少異なる値であったとしても、本発明の本質には影響しない。
これらの組成物を含む粉体をAl2O3基材上に厚み約20μmに敷き均してから、レーザー光の照射を行った。条件は、焦点サイズ100μm、30W、長さ4.5mmのラインを50μmピッチで2本を50、100、200、500mm/secのスキャン速度で描画し、溶融状態の比較を行った。
比較サンプル4の純粋なAl2O3は100mm/secまでライン状に溶融して凝固出来る状態であったが、吸収体を添加したサンプル7では、500mm/secまで可能であった。比較サンプル5の純粋なZrO2は100mm/secまでライン状に溶融して凝固出来る状態であったが、吸収体を添加したサンプル8では、500mm/secまで可能であった。また、Al2O3-ZrO2系の共晶組成近傍の比較サンプル6は、200mm/secまでライン状に溶融して凝固できる状態であったが、吸収体を添加したサンプル9では、500mm/secまで可能であった。さらに、Al2O3-Y2O3系の共晶組成近傍の比較サンプル7は、200mm/secまでライン状に溶融して凝固出来る状態であったが、吸収体を添加したサンプル10では、500mm/secまで可能であった。
以上の結果から、様々な系に対して、吸収体の一例であるTb4O7を添加した結果、より高速スキャンで溶融して凝固させることができることが確認できた。よって、この吸収体は材料系を選ばず、造形物の造形精度の改善に寄与するものである。
[実施例5]
本実施例は、吸収体を含有させた場合の3D造形性に関する。本実施例で用いる粉体を構成する組成物の各粒径を、表4、5に示す。また、これら組成物の粒子は、吸収体として機能させるTb4O7、Pr6O11以外は球形のものを用いた。
本実施例は、吸収体を含有させた場合の3D造形性に関する。本実施例で用いる粉体を構成する組成物の各粒径を、表4、5に示す。また、これら組成物の粒子は、吸収体として機能させるTb4O7、Pr6O11以外は球形のものを用いた。
体積組成算出には、真密度としてAl2O3:3.96[g/cm3]、ZrO2・Y2O3:6.05[g/cm3]、Gd2O3:7.40[g/cm3]、Y2O3:5.01[g/cm3]、SiO2:2.20[g/cm3]、Tb4O7:7.60[g/cm3]、Pr6O11:7.20[g/cm3]、Al2O3・ZrO2(85:15wt%):4.13[g/cm3]、Al2O3・ZrO2(70:30wt%):4.46[g/cm3]、2MgO・2Al2O3・5SiO2:2.60[g/cm3]を用いた。この真密度が多少異なる値であったとしても、本発明の本質には影響しない。
本実施例の検討には、造形装置として3D systems社のProX(商品名)シリーズ DMP100を用いた。吸収体を含まない比較サンプル8、吸収体を含む複数の組成物から構成されるサンプル11から24までを表8に示す造形条件にて6x6x6mmの造形物を作製した。その造形性について、次のような判定を行った。形状を為していない:不良×、表面や側面に荒れが生じる:やや不良〇、指定寸法通りの造形物が得られる:良好◎。また、すべてにおいて、粉体層の厚みを20μmとし、基材はアルミナ板を使用した。粉体層の厚みは、図1の造形ステージ部12を下降させる値のことであり、レーザー光の照射により粉体層は溶融して厚み方向に縮むため、見かけ上の粉体層の厚みは積層を繰り返すうちに次第に厚みを増し、67~133μmの範囲に収束する。したがって、表4、5に記載の組成物の平均粒径が、造形時の粉体層20μmよりも大きいが、使用上問題とならない。造形可能であった造形物は、KLA Tencor社製のAlpha-step(商品名)を用いて、表面粗さRaを計測し、造形精度の確認を行った。造形物の表面よりも側面の方で、相対的に荒れが大きいため、側面で評価を行った。また、算出時のスキャン幅は、1mmである。
表8に示すように、本発明の吸収体を含有しない比較サンプル8では、実施例1の比較サンプル1のように、一部溶解するものの、積層造形の結果としては造形物としての形状を維持できなかった。
その他のサンプル11~24は、積層造形物として緻密に形成できており、側面の表面粗さの計測が可能であった。本発明の吸収体により、表面粗さが改善し、特に十数μm程度までに抑制された造形物が得られ、精度よく造形できることを示した。
その他のサンプル11~24は、積層造形物として緻密に形成できており、側面の表面粗さの計測が可能であった。本発明の吸収体により、表面粗さが改善し、特に十数μm程度までに抑制された造形物が得られ、精度よく造形できることを示した。
[実施例6]
本実施例は、吸収体以外の組成物が個別粒子である場合と、同一粒子である場合に関する。実施例5のサンプル13とAl2O3とGd2O3が共晶粉(Al2O3とGdAlO3の混合状態)で、Tb4O7が混合されたサンプルとの比較、さらに、サンプル15とAl2O3とY2O3が共晶粉(Al2O3とY3Al5O12の混合状態)で、Tb4O7が混合されたサンプルとの比較を行った。
本実施例は、吸収体以外の組成物が個別粒子である場合と、同一粒子である場合に関する。実施例5のサンプル13とAl2O3とGd2O3が共晶粉(Al2O3とGdAlO3の混合状態)で、Tb4O7が混合されたサンプルとの比較、さらに、サンプル15とAl2O3とY2O3が共晶粉(Al2O3とY3Al5O12の混合状態)で、Tb4O7が混合されたサンプルとの比較を行った。
実施例5と同様に、造形装置として3D systems社のProX(商品名) DMP100を用いた。表11の造形条件において6x6x6mmの造形物を作製した。その造形性について、次のような判定を行った。形状を為していない:不良×、表面や側面に荒れが生じる:やや不良〇、指定寸法の通りの造形物が得られる:良好◎。また、すべてにおいて、粉体層の厚みを20μmとし、基材はアルミナ板を使用した。
表11に示すように、サンプル25、26のいずれも、良好な造形性の◎であり、面粗さも十数μm程度であった。このように、サンプル13に対してサンプル25、サンプル15に対してサンプル26というように、組成物が個々の粒子を構成した粉体を用いた場合と、本実施例のように吸収体以外の組成物が同一粒子内に包含される粉体を用いた場合で、造形性では双方良好であることが確認できた。よって、本発明の吸収体の効果は、吸収体以外の粉体の構成によらないことが示された。
[実施例7]
本実施例は、本発明の吸収体を用いた場合のレーザー光の照射条件の変化に対する許容度の一例に関する。実施例5のサンプル13の粉体構成である、Al2O3粉、Gd2O3粉、Tb4O7粉の混合粉(組成比は、Al2O3:64.40vol%、Gd2O3:32.73vol%、Tb4O7:2.87vol%)を用い、造形装置として3D systems社のProX(商品名) DMP200を用いた。
本実施例は、本発明の吸収体を用いた場合のレーザー光の照射条件の変化に対する許容度の一例に関する。実施例5のサンプル13の粉体構成である、Al2O3粉、Gd2O3粉、Tb4O7粉の混合粉(組成比は、Al2O3:64.40vol%、Gd2O3:32.73vol%、Tb4O7:2.87vol%)を用い、造形装置として3D systems社のProX(商品名) DMP200を用いた。
レーザー光の照射速度500mm/sで、レーザー光の照射ラインピッチ130μmで固定し、レーザーパワーを変化させて、造形時のエネルギー密度を増減させた。粉体層の厚みは25μmとし、基材はアルミナ板を使用した。表12に示すレーザーパワーにおいて6x6x6mmの造形物を作製し、その造形性について、次のような判定を行った。形状を為していない:不良×、表面や側面に荒れが生じる:やや不良〇、指定寸法の通りの造形物が得られる:良好◎。
レーザーパワーが、65Wの時は溶融がほとんど生じず造形物の形が崩れており、不良で×であった。75Wと84Wの時は溶解に必要なエネルギーが不足気味であり、造形物の表面が粉っぽくなり、やや不良の〇であった。95Wから140Wの範囲では造形物の表面は平坦で、良好の◎であった。さらに、146Wから154Wの範囲では、エネルギー投入量が大きく表面がうねり、平坦ではなくなる傾向が表れたため、やや不良の〇であった。160Wでは、エネルギー投入量が大き過ぎて造形物の形が崩れており、不良で×であった。
以上から、少なくとも75W~154Wの範囲では、約2.0倍のエネルギー密度の増加まで許容して、安定に造形できることが確認できた。これは、本発明の粉体が粉体時のみ吸収能を有し、造形物に取り込まれた後には低吸収率でレーザー光の照射の影響を受け難いためレーザー光のパワーが変動しても造形に影響を与えにくいことを反映している。
[実施例8]
本実施例はSiO2粒子を添加した例である。本実施例のセラミックス造形用粉体を、以下の手順で製造した。主成分としてAl2O3粉(純度99.99%以上、粒径20μm)とGd2O3粉(純度99.99%以上、粒径20μm)を質量比で1:1となるように混合したものを使用した。吸収体としては、Tb4O7粉(純度99.9%以上、粒径4μm)を使用した。SiO2粒子は、純度99.9%以上、粒径4μmのものを使用した。
主成分を成す粒子と吸収体を成す粒子とSiO2粒子が質量比で96.4:3.5:0.14となるように各粉末を秤量した。秤量粉末を乾式ボールミルで30分間混合して混合粉末(セラミックス造形用粉体)を得た(サンプル27)。
本実施例はSiO2粒子を添加した例である。本実施例のセラミックス造形用粉体を、以下の手順で製造した。主成分としてAl2O3粉(純度99.99%以上、粒径20μm)とGd2O3粉(純度99.99%以上、粒径20μm)を質量比で1:1となるように混合したものを使用した。吸収体としては、Tb4O7粉(純度99.9%以上、粒径4μm)を使用した。SiO2粒子は、純度99.9%以上、粒径4μmのものを使用した。
主成分を成す粒子と吸収体を成す粒子とSiO2粒子が質量比で96.4:3.5:0.14となるように各粉末を秤量した。秤量粉末を乾式ボールミルで30分間混合して混合粉末(セラミックス造形用粉体)を得た(サンプル27)。
上記セラミックス造形用粉体を希硫酸で加温溶解し、ICP発光分光分析法で組成分析を実施した。Al2O3、Gd2O3、Tb4O7およびSiO2の質量比は、48.2:48.2:3.5:0.14で、仕込み組成比と同じであった。それ以外の成分の含有量はセラミックス造形用粉体に対して、0.2質量%未満であった。分析により得られた組成比から、サンプル27のセラミックス造形用粉体に含まれる吸収体以外の組成物(セラミックス構造体を成す主成分)からなる粒子の質量に対するSiO2粒子の質量α[%]、即ち、α=SiO2/(Al2O3+Gd2O3+ZrO2)を算出したところ、α=0.146[%]となった。吸収体を成す組成物からなる粒子の質量に対するSiO2粒子の質量β[%]、即ち、β=SiO2/(Tb4O7+Pr6O11)を算出したところ、β=4.03[%]となった。主成分を成す粒子と吸収体を成す粒子の質量γ[%]、即ち、γ=(Tb4O7+Pr6O11)/(Al2O3+Gd2O3+ZrO2)を算出したところ、γ=3.61[%]となった。セラミックス造形用粉体の一部をSEM-EDX(走査電子顕微鏡―エネルギー分散型X線分光法)により分析したところ、数μmの粒径のSiO2粒子が粉体内に分散している様子を確認できた。
[実施例9~25]
原料種と配合比を表13に従って変化させたこと以外は、実施例8と同様にして実施例9~25としてサンプル28~44のセラミックス造形用粉体を製造した。酸化ジルコニウムとしては、ZrO2粉(純度99.9%以上、粒径15μm)を使用した。酸化プラセオジムとしては、Pr6O11粉(純度99.9%以上、粒径4μm)を用いた。実施例8と同様にしてサンプル28~44のセラミックス造形用粉体の組成を分析したところ、Al2O3、Gd2O3、ZrO2、Tb4O7、Pr6O11およびSiO2の質量比は、仕込み組成比と同じであった。それ以外の成分の含有量はセラミックス造形用粉体に対して、0.5質量%未満であった。分析により得られた組成比から、実施例8と同様にしてα、βおよびγを算出し、結果を表14にまとめた。作製したセラミックス造形用粉体の一部をSEM-EDXにより分析したところ、数μmの粒径のSiO2粒子が粉体内に分散している様子を確認できた。
原料種と配合比を表13に従って変化させたこと以外は、実施例8と同様にして実施例9~25としてサンプル28~44のセラミックス造形用粉体を製造した。酸化ジルコニウムとしては、ZrO2粉(純度99.9%以上、粒径15μm)を使用した。酸化プラセオジムとしては、Pr6O11粉(純度99.9%以上、粒径4μm)を用いた。実施例8と同様にしてサンプル28~44のセラミックス造形用粉体の組成を分析したところ、Al2O3、Gd2O3、ZrO2、Tb4O7、Pr6O11およびSiO2の質量比は、仕込み組成比と同じであった。それ以外の成分の含有量はセラミックス造形用粉体に対して、0.5質量%未満であった。分析により得られた組成比から、実施例8と同様にしてα、βおよびγを算出し、結果を表14にまとめた。作製したセラミックス造形用粉体の一部をSEM-EDXにより分析したところ、数μmの粒径のSiO2粒子が粉体内に分散している様子を確認できた。
[比較例]
表13に示した配合比に従って、実施例8と同様にして比較用のセラミックス造形用粉体を製造した。ただし、本比較例においては、SiO2粒子を使用せず、Al2O3とGd2O3、および吸収体をなす粒子であるTb4O7のみで比較用のセラミックス造形用粉体を構成した。実施例8と同様にして比較例のセラミックス造形用粉体の組成を分析したところ、Al2O3、Gd2O3、Tb4O7の質量比は、仕込み組成比と同じであった。SiO2は比較用のセラミックス造形用粉体に対して50ppm未満であった。それ以外の成分の含有量はセラミックス造形用粉体に対して、0.2質量%未満であった。
表13に示した配合比に従って、実施例8と同様にして比較用のセラミックス造形用粉体を製造した。ただし、本比較例においては、SiO2粒子を使用せず、Al2O3とGd2O3、および吸収体をなす粒子であるTb4O7のみで比較用のセラミックス造形用粉体を構成した。実施例8と同様にして比較例のセラミックス造形用粉体の組成を分析したところ、Al2O3、Gd2O3、Tb4O7の質量比は、仕込み組成比と同じであった。SiO2は比較用のセラミックス造形用粉体に対して50ppm未満であった。それ以外の成分の含有量はセラミックス造形用粉体に対して、0.2質量%未満であった。
実施例8~25および比較例のセラミックス造形用粉体を用いてセラミックス造形物を形成した。
造形物の形成には、50WのNd:YAGレーザー(ビーム径65μm)が搭載されている3D SYSTEMS社のProX(商品名)シリーズ DMP100を用いた。図5に要部の概略を示すように、最初に、アルミナ製の基台130上のレーザー照射部にセラミックス造形用粉体を敷き均し、20μm厚の一層目の粉体層102を形成した。次いで、レーザー源181から30Wのレーザー光180を粉体層に照射し、5mm×42mmの長方形の領域にある粉体を溶融および凝固させた。描画速度は100mm/sから140mm/s、描画ピッチは100μmとした。また、図5(a)に示すように、描画ラインは長方形の辺に対して斜め45度となるようにした。次に、前記溶融および凝固部を覆うように20μm厚の粉体層を新たに敷き均した。図5(b)に示すように、一層目の描画ラインと直交するような形で前記長方形の領域の真上にある粉体層にレーザー光を照射し、5mm×42mmの領域を溶融および凝固させた。このような積層造形工程を繰り返して、3点曲げ強度試験に用いるための底面が5mm×42mmで高さが6mmの角柱状の造形物を形成した。同様の工程を経て、吸水性試験用に底面が22mm角の正方形で高さが12mmの角柱状の造形物も形成した。光学顕微鏡でサンプルサンプル27~44および比較サンプル9の造形物の表面を観察したところ、造形物表面の凹凸は、サンプル27~39およびサンプル42~44の造形物で30μm以下、サンプル40、サンプル41および比較サンプル9の造形物で40μm以下であった。前記造形物をアルミナ製の基台から切り離し、研磨によって、3点曲げ強度試験用にW40mm×D4mm×H3mmのセラミックス造形物(図6(a))を、吸水率試験用にW20mm×D20mm×H10mmのセラミックス造形物(図6(b))を得た。3点曲げ試験には、インストロン社製の圧縮試験機を用いた。各実施例および比較例1のセラミックス造形物の3点曲げ強度を表15に示す。
造形物の形成には、50WのNd:YAGレーザー(ビーム径65μm)が搭載されている3D SYSTEMS社のProX(商品名)シリーズ DMP100を用いた。図5に要部の概略を示すように、最初に、アルミナ製の基台130上のレーザー照射部にセラミックス造形用粉体を敷き均し、20μm厚の一層目の粉体層102を形成した。次いで、レーザー源181から30Wのレーザー光180を粉体層に照射し、5mm×42mmの長方形の領域にある粉体を溶融および凝固させた。描画速度は100mm/sから140mm/s、描画ピッチは100μmとした。また、図5(a)に示すように、描画ラインは長方形の辺に対して斜め45度となるようにした。次に、前記溶融および凝固部を覆うように20μm厚の粉体層を新たに敷き均した。図5(b)に示すように、一層目の描画ラインと直交するような形で前記長方形の領域の真上にある粉体層にレーザー光を照射し、5mm×42mmの領域を溶融および凝固させた。このような積層造形工程を繰り返して、3点曲げ強度試験に用いるための底面が5mm×42mmで高さが6mmの角柱状の造形物を形成した。同様の工程を経て、吸水性試験用に底面が22mm角の正方形で高さが12mmの角柱状の造形物も形成した。光学顕微鏡でサンプルサンプル27~44および比較サンプル9の造形物の表面を観察したところ、造形物表面の凹凸は、サンプル27~39およびサンプル42~44の造形物で30μm以下、サンプル40、サンプル41および比較サンプル9の造形物で40μm以下であった。前記造形物をアルミナ製の基台から切り離し、研磨によって、3点曲げ強度試験用にW40mm×D4mm×H3mmのセラミックス造形物(図6(a))を、吸水率試験用にW20mm×D20mm×H10mmのセラミックス造形物(図6(b))を得た。3点曲げ試験には、インストロン社製の圧縮試験機を用いた。各実施例および比較例1のセラミックス造形物の3点曲げ強度を表15に示す。
吸水率は、表面乾燥飽水状態のセラミックス造形物に含まれている全水量の、絶対乾燥状態のセラミックス造形物質量に対する百分率で表す。絶対乾燥状態のセラミックス造形物の質量をw1、表面乾燥飽水状態のセラミックス造形物の質量をw2とすると、吸水率w[%]は、w=(w2-w1)/w1×100により算出できる。
まず、80℃で4時間乾燥させた絶対乾燥状態のセラミックス造形物の質量w1[g]を測定した。次に、セラミックス造形物を煮沸槽の水面下に沈め、30分煮沸したあと、水を加えて室温まで冷却して飽水試料を得た。前記放水試料を水中から取り出し、湿ったガーゼで手早く表面をぬぐって水滴を除去した表面乾燥飽水状態のセラミックス造形物の質量w2[g]を測定した。w=(w2-w1)/w1×100により吸水率w[%]を算出し、表15にまとめた。
実施例8~25のセラミックス造形用粉体により作製したセラミックス造形物は、3点曲げ強度が20MPa以上の高い3点曲げ強度を有し、吸水率も1.0%以下と小さかった。特に、α≦1.0、0.04≦β≦5、γ≦20を満たすサンプル27、28、30~36、38、39、42~44のセラミックス造形物は、25MPa以上の高い3点曲げ強度を有していた。
本発明のセラミック造形用粉体は、粉末床溶融結合法や、クラッディング方式において、吸収体の添加により造形精度の高いセラミック造形物を得ることができ、複雑形状を必要とするセラミックス部品分野において利用可能である。
11 粉体升
12 造形ステージ部
13 リコーター部
14 スキャナ部
15、181 レーザー源
21 クラッディングノズル
22 粉体供給孔
23、180 レーザー光
41 未照射領域
42 レーザー光の照射領域
102 粉体層
130 基台
12 造形ステージ部
13 リコーター部
14 スキャナ部
15、181 レーザー源
21 クラッディングノズル
22 粉体供給孔
23、180 レーザー光
41 未照射領域
42 レーザー光の照射領域
102 粉体層
130 基台
Claims (1)
- 材料へ光を照射することにより前記材料を加熱するセラミックス物品の製造方法であって、
前記材料は、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化シリコン、酸化イットリウム、窒化アルミニウム、窒化シリコンおよびチタン酸アルミニウムの少なくともいずれかを含有する化合物である第1の成分と、酸化状態がTb4O7である酸化テルビウムまたは酸化状態がPr6O11である酸化プロセオジムを含有する化合物を含む第2の成分と、を含み、前記第2の成分が前記光を吸収して高温化することを特徴とする製造方法。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017138505 | 2017-07-14 | ||
JP2017138505 | 2017-07-14 | ||
JP2018130952A JP7011548B2 (ja) | 2017-07-14 | 2018-07-10 | セラミックス造形用粉体、セラミックス造形物、およびその製造方法 |
JP2022004360A JP7383738B2 (ja) | 2017-07-14 | 2022-01-14 | セラミックス造形用粉体、セラミックス造形物、およびその製造方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022004360A Division JP7383738B2 (ja) | 2017-07-14 | 2022-01-14 | セラミックス造形用粉体、セラミックス造形物、およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2024020323A true JP2024020323A (ja) | 2024-02-14 |
JP2024020323A5 JP2024020323A5 (ja) | 2024-10-11 |
Family
ID=65001308
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022004360A Active JP7383738B2 (ja) | 2017-07-14 | 2022-01-14 | セラミックス造形用粉体、セラミックス造形物、およびその製造方法 |
JP2023190897A Pending JP2024020323A (ja) | 2017-07-14 | 2023-11-08 | セラミックス造形用粉体、セラミックス造形物、およびその製造方法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022004360A Active JP7383738B2 (ja) | 2017-07-14 | 2022-01-14 | セラミックス造形用粉体、セラミックス造形物、およびその製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US12024469B2 (ja) |
JP (2) | JP7383738B2 (ja) |
CN (1) | CN110944814B (ja) |
WO (1) | WO2019013334A1 (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7011548B2 (ja) | 2017-07-14 | 2022-01-26 | キヤノン株式会社 | セラミックス造形用粉体、セラミックス造形物、およびその製造方法 |
WO2019013334A1 (ja) | 2017-07-14 | 2019-01-17 | キヤノン株式会社 | セラミックス造形用粉体、セラミックス造形物、およびその製造方法 |
EP4049988A4 (en) * | 2019-10-23 | 2024-03-06 | Canon Kabushiki Kaisha | METHOD FOR MANUFACTURING A CERAMIC ARTICLE, LIQUID CONTAINING A METAL CONSTITUENT, KIT FOR MANUFACTURING A CERAMIC ARTICLE AND CERAMIC ARTICLE |
WO2021079909A1 (ja) * | 2019-10-23 | 2021-04-29 | キヤノン株式会社 | セラミックス物品の製造方法およびセラミックス物品 |
EP4055221B1 (en) | 2019-11-07 | 2024-01-31 | Vandewiele Sweden AB | Method of producing a tufting tool |
JP2021134115A (ja) * | 2020-02-26 | 2021-09-13 | 住友化学株式会社 | 焼結体の製造方法 |
CN111925213B (zh) * | 2020-06-16 | 2021-09-03 | 季华实验室 | 一种表面包覆金属氧化物层的碳化钨粉体及其成型方法 |
JP2023029060A (ja) * | 2021-08-20 | 2023-03-03 | 一般財団法人ファインセラミックスセンター | アルミナ焼結体の製造方法 |
WO2023085385A1 (ja) * | 2021-11-12 | 2023-05-19 | キヤノン株式会社 | セラミックス構造体およびその製造方法 |
CN116375470B (zh) * | 2023-03-31 | 2024-08-23 | 太原理工大学 | 一种萤石型高熵陶瓷制备方法 |
Family Cites Families (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59102865A (ja) * | 1982-12-03 | 1984-06-14 | 日本特殊陶業株式会社 | 切削用セラミツク工具の製造方法 |
JPS59102865U (ja) * | 1982-12-28 | 1984-07-11 | ワイケイケイ株式会社 | 折畳み建具の引寄装置 |
JPH0730362B2 (ja) * | 1987-03-20 | 1995-04-05 | 株式会社日立製作所 | 電子部品及びその製造方法 |
JP3743462B2 (ja) * | 1996-07-01 | 2006-02-08 | 宇部興産株式会社 | セラミックス複合材料 |
CN1211312C (zh) * | 1996-07-01 | 2005-07-20 | 宇部兴产株式会社 | 陶瓷复合材料和多孔陶瓷材料及其生产方法 |
JP2001123165A (ja) | 1999-10-27 | 2001-05-08 | Sumitomo Chem Co Ltd | 真空紫外線励起発光素子用蛍光体 |
US6676853B1 (en) | 1999-10-27 | 2004-01-13 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Phosphor for vacuum ultraviolet excitation material |
DE102004012682A1 (de) | 2004-03-16 | 2005-10-06 | Degussa Ag | Verfahren zur Herstellung von dreidimensionalen Objekten mittels Lasertechnik und Auftragen eines Absorbers per Inkjet-Verfahren |
US20060008677A1 (en) * | 2004-07-12 | 2006-01-12 | General Electric Company | Ceramic bonding composition, method of making, and article of manufacture incorporating the same |
US8283843B2 (en) | 2010-02-04 | 2012-10-09 | Nitto Denko Corporation | Light emissive ceramic laminate and method of making same |
CN103193486B (zh) | 2013-03-18 | 2014-06-11 | 大连理工大学 | 一种激光近净成形Al2O3-ZrO2共晶陶瓷结构件的方法 |
CN104341622A (zh) * | 2014-10-23 | 2015-02-11 | 中国印刷科学技术研究院 | 一种易于激光雕刻的稀土/橡胶复合材料 |
CN105732092B (zh) | 2014-12-08 | 2018-06-15 | 辽宁爱尔创医疗服务有限公司 | 一种着色氧化锆陶瓷的后处理方法 |
CN104609867B (zh) * | 2015-02-15 | 2016-10-26 | 上海材料研究所 | 一种选择性激光烧结陶瓷件的致密方法 |
CN104710982B (zh) | 2015-03-16 | 2016-08-17 | 哈尔滨工业大学深圳研究生院 | 一种稀土离子共掺杂的铝硅酸盐新型绿光荧光粉及其制备方法 |
EP3261790B1 (en) * | 2015-07-24 | 2020-09-02 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Three-dimensional (3d) printing |
WO2017104234A1 (ja) | 2015-12-14 | 2017-06-22 | コニカミノルタ株式会社 | 粉末材料、立体造形物の製造方法および立体造形装置 |
JP6656911B2 (ja) * | 2015-12-22 | 2020-03-04 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 粉末積層造形に用いるための造形用材料 |
JP6790370B2 (ja) | 2016-02-04 | 2020-11-25 | 富士ゼロックス株式会社 | 現像装置及び画像形成装置 |
WO2017183490A1 (ja) * | 2016-04-21 | 2017-10-26 | 日本電気硝子株式会社 | セラミック粉末、複合粉末材料及び封着材料 |
CN105832563A (zh) * | 2016-05-05 | 2016-08-10 | 东莞市爱嘉义齿有限公司 | 一种3d打印义齿材料 |
US11642860B2 (en) | 2017-02-13 | 2023-05-09 | The Boeing Company | Method of making thermoplastic composite structures and prepreg tape used therein |
CN110650935A (zh) | 2017-05-12 | 2020-01-03 | 3M创新有限公司 | 包含陶瓷的制品及其制造方法 |
WO2019013334A1 (ja) | 2017-07-14 | 2019-01-17 | キヤノン株式会社 | セラミックス造形用粉体、セラミックス造形物、およびその製造方法 |
JP7366529B2 (ja) | 2017-10-27 | 2023-10-23 | キヤノン株式会社 | 造形物の製造方法および造形物 |
US11285661B2 (en) | 2017-11-08 | 2022-03-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Powder for ceramic shaping and ceramic shaping method using the same |
US10759712B2 (en) | 2017-11-09 | 2020-09-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Powder for additive modeling, structure, semiconductor production device component, and semiconductor production device |
US20190300441A1 (en) | 2018-04-03 | 2019-10-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Ceramic powder, method of manufacturing ceramic powder, and method of manufacturing ceramic object using the ceramic powder |
JP2020100141A (ja) | 2018-12-21 | 2020-07-02 | キヤノン株式会社 | 無機材料粉末、および構造体の製造方法 |
-
2018
- 2018-07-13 WO PCT/JP2018/026539 patent/WO2019013334A1/ja unknown
- 2018-07-13 CN CN201880048475.4A patent/CN110944814B/zh active Active
-
2022
- 2022-01-14 JP JP2022004360A patent/JP7383738B2/ja active Active
- 2022-09-16 US US17/932,823 patent/US12024469B2/en active Active
-
2023
- 2023-11-08 JP JP2023190897A patent/JP2024020323A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2019013334A1 (ja) | 2019-01-17 |
CN114633344A (zh) | 2022-06-17 |
US20230021311A1 (en) | 2023-01-26 |
US12024469B2 (en) | 2024-07-02 |
CN110944814B (zh) | 2022-04-12 |
JP7383738B2 (ja) | 2023-11-20 |
CN110944814A (zh) | 2020-03-31 |
JP2022040270A (ja) | 2022-03-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7383738B2 (ja) | セラミックス造形用粉体、セラミックス造形物、およびその製造方法 | |
JP7011548B2 (ja) | セラミックス造形用粉体、セラミックス造形物、およびその製造方法 | |
CN113195184B (zh) | 无机材料粉末以及制造结构体的方法 | |
EP3702121B1 (en) | Ceramic molded object production method | |
JP7483840B2 (ja) | 付加造形用の材料粉末、構造物、半導体製造装置部品、および半導体製造装置 | |
US20190300441A1 (en) | Ceramic powder, method of manufacturing ceramic powder, and method of manufacturing ceramic object using the ceramic powder | |
JP7362718B2 (ja) | 造形方法および造形用の粉末材料 | |
US12091362B2 (en) | Ceramic article production method and ceramic article | |
JP2023086845A (ja) | セラミックス物品の製造方法およびセラミックス物品 | |
US20210031403A1 (en) | Ceramics product manufacturing method and ceramics product | |
JP2019181930A (ja) | セラミックス粉体、セラミックス粉体の製造方法およびセラミックス粉体を用いたセラミックス構造物の製造方法 | |
CN114633344B (zh) | 陶瓷制造用粉体、陶瓷制造物及其制造方法 | |
JP2021066653A (ja) | セラミックス物品の製造方法、金属成分含有液、セラミックス物品製造用キットおよびセラミックス物品 | |
WO2022220193A1 (ja) | 付加製造法に用いられる粉末およびそれを用いたセラミックス物品の製造方法 | |
JP2022162538A (ja) | 付加製造法に用いられる粉末およびそれを用いたセラミックス物品の製造方法 | |
WO2021079907A1 (ja) | セラミックス物品の製造方法、金属成分含有液、セラミックス物品製造用キットおよびセラミックス物品 | |
WO2023085384A1 (ja) | セラミックス構造体を製造するための粉末 | |
CN117120229A (zh) | 在增材制备方法中使用的粉末和使用其制备陶瓷制品的方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20231207 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20241002 |