JP2024001301A - 半導体パッケージングのための構造及び方法 - Google Patents
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- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/05001—Internal layers
- H01L2224/05099—Material
- H01L2224/051—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/05101—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of less than 400°C
- H01L2224/05111—Tin [Sn] as principal constituent
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- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/05001—Internal layers
- H01L2224/05099—Material
- H01L2224/051—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/05138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/05144—Gold [Au] as principal constituent
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- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/05001—Internal layers
- H01L2224/05099—Material
- H01L2224/051—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/05138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/05147—Copper [Cu] as principal constituent
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- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/05001—Internal layers
- H01L2224/05099—Material
- H01L2224/051—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/05138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/05155—Nickel [Ni] as principal constituent
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- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
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- H01L2224/05001—Internal layers
- H01L2224/05099—Material
- H01L2224/051—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/05163—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than 1550°C
- H01L2224/05164—Palladium [Pd] as principal constituent
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- H01L2224/05001—Internal layers
- H01L2224/05099—Material
- H01L2224/051—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/05163—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than 1550°C
- H01L2224/05166—Titanium [Ti] as principal constituent
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- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/05001—Internal layers
- H01L2224/05099—Material
- H01L2224/051—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/05163—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than 1550°C
- H01L2224/05181—Tantalum [Ta] as principal constituent
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- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/05001—Internal layers
- H01L2224/05099—Material
- H01L2224/051—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/05163—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than 1550°C
- H01L2224/05184—Tungsten [W] as principal constituent
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- H01L2224/05601—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of less than 400°C
- H01L2224/05611—Tin [Sn] as principal constituent
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- H01L2224/056—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/05638—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/05639—Silver [Ag] as principal constituent
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- H01L2224/05638—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/05644—Gold [Au] as principal constituent
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- H01L2224/05638—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/05655—Nickel [Ni] as principal constituent
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- H01L2224/056—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/05663—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than 1550°C
- H01L2224/05664—Palladium [Pd] as principal constituent
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- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
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- H01L2224/0605—Shape
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- H01L2224/18—High density interconnect [HDI] connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/23—Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process
- H01L2224/24—Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process of an individual high density interconnect connector
- H01L2224/241—Disposition
- H01L2224/24135—Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
- H01L2224/24137—Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being arranged next to each other, e.g. on a common substrate
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- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
- H01L2224/29—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/29001—Core members of the layer connector
- H01L2224/29099—Material
- H01L2224/291—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
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- H01L2224/96—Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips the devices being encapsulated in a common layer, e.g. neo-wafer or pseudo-wafer, said common layer being separable into individual assemblies after connecting
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- H01L23/31—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
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Abstract
【課題】半導体パッケージングのための構造及び方法を提供する。【解決手段】半導体パッケージング構造100は、ダイ102が、ボンドパッド124とダイ上に配置される第1の金属層構造(第1の金属層107及びシード層106)とを含み、第1の金属層は第1の幅109を有し、第1の金属層構造がボンドパッド124に電気的に結合される。半導体パッケージング構造はまた、第1の金属層構造の側面の周囲の感光性の絶縁材料104と、第1の金属層構造の上及び絶縁材料104の一部分の上に配置される第2の金属層構造(第2の金属層114及びシード層112)と、を含む。第2の金属層構造は、第1の金属層構造に電気的に結合され、第1の幅より大きい第2の幅119を有する。また、半導体パッケージング構造は、第2の金属層構造の側面の周囲の感光性の絶縁材料110を含む。【選択図】図1
Description
本願は半導体パッケージングのための方法及び構造に関する。
エレクトロニクスの普及及び機能性の増大とともに、トランジスタ及び集積回路(IC)等の半導体デバイスのサイズ及びコストが低減されている。半導体デバイスのサイズが低減されると、電力及び電流密度が増加し、それが高温及び早期パッケージング故障を引き起こし得る。ダイが小さくなると、パッケージング内の電流密度が増大する。ダイのサイズ縮小は、ダイのパッケージングに関連して、導電線のエレクトロマイグレーション及び破損等の問題を引き起こし得る。
少なくとも1つの例示の半導体パッケージング構造が、ボンドパッドを含むダイとダイ上に配置される第1の金属層構造とを含み、第1の金属層構造は第1の幅を有し、第1の金属層構造は第1の金属層を含み、第1の金属層はボンドパッドに電気的に結合される。半導体パッケージング構造はまた、第1の金属層構造の側面の周囲の第1の感光性材料と、第1の金属層構造の上及び第1の感光性材料の一部分の上に配置される第2の金属層構造とを含み、第2の金属層構造は第1の金属層構造に電気的に結合され、第2の金属層構造は第2の幅を有し、第2の幅は第1の幅より大きい。また、半導体パッケージング構造は、第2の金属層構造の側面の周囲の第2の感光性材料を含む。
少なくとも1つの例示の半導体パッケージング構造が、ボンドパッドを含むダイとダイ上に配置される第1の金属層構造とを含み、第1の金属層構造は第1の金属層を含み、第1の金属層はボンドパッドに電気的に結合され、第1の金属層は第1の幅を有する。半導体パッケージング構造はまた、第1の金属層構造の側面の周囲の第1の絶縁材料と第1の金属層構造の上及び第1の絶縁材料の少なくとも一部分の上に配置される第2の金属層構造とを含み、第2の金属層構造は第1の金属層構造に電気的に結合され、第2の金属層構造は平坦化された表面を有し、第2の金属層構造は第2の幅を有し、第2の金属層構造の第2の幅は第1の金属層構造の第1の幅より大きい。また、半導体パッケージング構造は、第2の金属層構造の側面の周囲の第2の絶縁材料と、第2の金属層構造の平坦化された表面上に配置されるメッキ層とを含み、メッキ層は、第2の絶縁材料の頂部表面の上に延在する。
少なくとも1つの例示の半導体パッケージング構造が、ボンドパッドを含むダイとダイ上に配置される第1の金属層構造とを含み、第1の金属層構造は第1の金属層を含み、第1の金属層はボンドパッドに電気的に結合される。半導体パッケージング構造はまた、第1の金属層構造の側面の周囲の第1の絶縁材料と、第1の金属層構造の上及び第1の絶縁材料の一部分の上に配置される第2の金属層構造とを含み、第2の金属層構造は、第1の金属層に電気的に結合され、第2の金属層構造はダイの端部を超えて延在する。また、半導体パッケージング構造は、第2の金属層構造の側面の周囲の第2の絶縁材料を含む。
少なくとも1つの例示の方法が、第1の絶縁材料をボンドパッドを含む半導体構造に適用することと、第1の絶縁材料内に開口を形成して、ボンドパッドの少なくとも一部分を露出させることとを含む。この方法はまた、第1のシード層を第1の絶縁材料の上であって第1の絶縁材料の開口内に堆積させることと、第1の金属層を第1のシード層の上であって第1の絶縁材料の開口内にメッキすることとを含む。また、この方法は、第1の金属層、第1のシード層、及び第1の絶縁材料の少なくとも一部分上で化学機械研磨(CMP)を行って第1の絶縁材料の開口内に第1の金属層構造を形成することと、第1の絶縁材料の上であって第1の金属層構造の上に第2の絶縁材料を適用することとを含む。また、この方法は、第2の絶縁材料内に開口を形成することと、第1の金属層構造の少なくとも一部分及び第1の絶縁材料の少なくとも一部分を露出させることと、第2の絶縁材料の上であって第2の絶縁材料の開口内に第2のシード層を堆積させることとを含む。この方法はまた、第2のシード層の上であって第2の絶縁材料の開口内に第2の金属層をメッキすることと、第2の金属層上、第2のシード層上、及び第2の絶縁材料上でCMPを行って第2の絶縁材料の開口内に第2の金属層構造を形成することとを含み、第2の金属層構造は第2の金属層及び第2のシード層を含む。
少なくとも1つの例示の方法が、第1の絶縁材料をボンドパッドを含む半導体構造に適用することと、第1の絶縁材料に開口を形成してボンドパッドの少なくとも一部分を露出させることとを含む。この方法はまた、第1の絶縁材料の上であって第1の絶縁材料の開口内に第2の絶縁材料を適用することと、第2の絶縁材料内に、第1の絶縁材料の開口の少なくとも一部分を介して延在する開口を形成して、ボンドパッドの少なくとも一部分を露出させることとを含む。また、この方法は、第2の絶縁材料の上であって第2の絶縁材料及び第1の絶縁材料の開口内にシード層を堆積させることと、第2の絶縁材料及び第1の絶縁材料の開口内のシード層の上に金属層をメッキすることとを含む。また、この方法は、金属層の少なくとも一部分上、シード層上、及び第2の絶縁材料上でCMPを行って、第1の絶縁材料の開口内に第1の金属層構造を、及び第2の絶縁材料の開口内に第2の金属層構造を形成することを含む。
トランジスタ及び集積回路(IC)等の半導体デバイスのサイズ及びコストは低減している。半導体デバイスのサイズが小さくなると電力及び電流密度が増加し、それが高温及び早期パッケージング故障を引き起こす。ダイが小さくなるとパッケージング内の電流密度が増加する。ダイのサイズ縮小は、エレクトロマイグレーション及びパッケージング故障等のダイのパッケージングに関連する問題を引き起こし得る。
本明細書に詳細に説明されるように、チップスケールパッケージングのための或る実施形態の半導体パッケージング構造は、半導体パッケージング構造内に半田を含まない。半導体パッケージング構造内部に半田がないことは、エレクトロマイグレーションを低減し得、高温問題を低減し得、信頼性を向上させ得る。
本明細書に詳細に説明されるように、或る実施形態の半導体パッケージング構造のチップスケールパッケージングは、フレキシブルなフットプリントに備える一方で、ダイを保護する。例えば、或る実施形態の半導体パッケージング構造は、印刷回路板(PCB)への結合のため、ダイの小さい面積を半導体パッケージング構造上の大きい面積に効果的に結合させるために複数の金属層を用いる。したがって、半導体パッケージング構造の外側部分の上の電流は、ダイ付近の電流より大きい面積にわたって拡散され、半導体パッケージング構造の耐久性を向上させる。
本明細書に詳細に説明されるように、或る実施形態の半導体パッケージング構造において、シード層及びメッキ層等の障壁金属が銅含有材料を完全に囲む。銅含有材料を囲むことは、銅マイグレーションを防止し、半導体パッケージング構造の信頼性を向上させる。
本明細書に詳細に説明されるように、或る実施形態の半導体パッケージング構造は、ワイヤボンドを含まない。半導体パッケージング構造においてワイヤボンドがないことは、信頼性を向上し、寄生を低減する。
本明細書に詳細に説明されるように、或る実施形態の半導体パッケージング構造は、モールド化合物又は付加的な封止を含まない。付加的な封止がないことは、半導体パッケージング構造のサイズ及びコストを低減する。また、封止がないことは、付加的な材料、処理、及び重量からの故障モードを回避する。
本明細書に詳細に説明されるように、或る実施形態の半導体パッケージング構造は、例えば200℃より高い高温で、例えば50時間より長い時間期間動作し得る。
或る実施形態の半導体パッケージング構造において、パッケージサイズはダイサイズと同じである。これは、パッケージング材料の量を減らし、効率を向上させる。
本明細書に詳細に説明されるように、或る実施形態の半導体パッケージング構造は、大量の電力をダイから外部接続に伝送する。例えば、或る実施形態の半導体パッケージング構造が2mW~5Wの間の電力を伝送し得る。
本明細書に詳細に説明されるように、或る実施形態の半導体パッケージング構造は、リードフレーム又は他のパッケージング基板を用いない。リードフレーム又は他のパッケージング構造がないことは、半導体パッケージング構造のサイズを低減する。
本明細書に詳細に説明されるように、或る実施形態の半導体パッケージング構造は、モールド化合物内にダイを含み、半導体パッケージング構造は露出されたシリコンを含まない。したがって、ダイは、機械的、光学的、及び環境的に保護される。複数の金属層で、後続の金属層が初期の層より大きい場合、ファンアウトルーティングとして知られ得る。或る実施形態の半導体パッケージング構造において、ダイの端部を超えてファンアウトルーティングが延在する。
図1は、チップスケールパッケージングのための半導体パッケージング構造100の断面図を図示する。少なくとも1つの実施形態において、半導体パッケージング構造100は半田を含まない。半導体パッケージング構造100における基板102等の半導体構造が、ダイ又はウェハの一部分であり、少なくとも1つの半導体デバイス(例えば、少なくとも1つのトランジスタ)又は集積回路を含む。基板102の1つの表面上に配置されるボンドパッド124が、半導体デバイスの少なくとも1つに電気的に結合される。ボンドパッド124は、ダイ又はウェハにおける一番上の層である。或る実施形態において、ボンドパッド124より上に半導体材料がない。少なくとも1つの実施形態(図示されない)において、ボンドパッド424の頂部表面は、基板102の頂部表面よりわずかに下である。ボンドパッド424の一部がポリイミドで被覆され得る。裏側被覆122は、不透明フィルム、例えば黒フィルムであり得るが、ボンドパッド124に対して基板102の反対側に配置される。裏側被覆122は、例えば約25μm~約35μmなど、約10μm~約60μmの厚み126を有する。基板102は厚み103を有し、それは、例えば約200μm~約300μmなど、約50μm~約500μmであり得る。
絶縁材料104が基板102上、ボンドパッド124の上に配置される。絶縁材料104は、低吸水性、低弾性率、及び高密着性を有し得る。少なくとも1つの例において、絶縁材料104はポリマーである。或る実施形態において、絶縁材料104は、エポキシベースの近紫外線(例えば、約350nm~約400nm)フォトレジストである。付加的な実施形態において、絶縁材料104は、アクリレートベースのフォトレジスト又はノバラック(novalak)ベースのフォトレジストである。例えば、絶縁材料104は、約2GPa~約6GPaの弾性率を有し得る。或る実施形態において、絶縁材料104は、約0.2~約0.25のポワソン比(Poisson ration)を有する。或る実施形態において、絶縁材料104は、例えば約16Mpa~約19Mpaなど、15Mpa~65Mpaの膜応力を有する。或る実施形態において、絶縁材料104は、約0.01の最大剪断歪みを有する。絶縁材料104は、約0.2μの摩擦係数を有し得る。或る実施形態において、絶縁材料104は、約20ppm/K~約55ppm/Kの熱膨張係数を有する。絶縁材料104は、製造及び動作の応力に耐え得る感光性材料であり得る。絶縁材料104は、従来のフォトレジストより厚くし得る。或る例において、感光性材料は、例えばSU-8、Riston(商標)、TMMR-S2000(商標)、又はTMMF-S2000(商標)等の永久フォトレジストである。或る永久フォトレジストは、容易に除去されないように設計されたフォトレジストである。或る永久フォトレジストは、後続の工程に耐え得るように充分に堅牢である。或る実施形態において、或る永久フォトレジストが従来のフォトレジストより厚く、例えば5μmより大きいか又は50μmより大きい。少なくとも1つの例において、絶縁材料104は、モールド化合物等の感光性ではない材料であり得る。少なくとも1つの実施形態において、絶縁材料104は、例えば約50μm~約80μmなど、約5μm~約100μmの厚み105を有する。絶縁材料104の厚み105は、50μmより大きくし得、例えば約100μmであり得る。
或る第1の金属層構造が、第1の金属層107及びシード層106を含む。第1の金属層107はボンドパッド124に電気的に結合される。また、第1の金属層構造は、第1の金属層107、シード層106、及び絶縁材料104を含み、平坦化された頂部表面を有する。絶縁材料104は第1の金属層構造の側面の周囲に配置される。第1の金属層107及びシード層106は、絶縁材料104の開口内に配置される。第1の金属層107は、スタンドオフ厚み及び微小応力に対する柔軟性を提供する。少なくとも1つの実施形態において、第1の金属層107は、銅を含むか又は導電性金属の合金である。シード層106は、第1の金属層107と絶縁材料104との間に配置される。シード層106は、第1の金属層107と絶縁材料104との間に障壁を提供して、第1の金属層107内への銅のクリーページを防止し、第1の金属層107を湿気から保護する。シード層106は、チタン、TiW等のチタン合金、タンタル、又はTaNなどのタンタル合金を含む。シード層103は、2μm未満の厚み128を有する。少なくとも1つの例において、第1の金属層107は、20μm~200μmの間であり得る幅109、及び4μm~100μmであり得る厚み101を有する。少なくとも1つの例において、第1の金属層107の厚み101及びシード層106の厚みは、絶縁材料の厚み105にほぼ等しい。
絶縁材料110は、絶縁材料104、第1の金属層107、及びシード層106の平坦化された表面上に配置される。少なくとも1つの例において、絶縁材料110はポリマーである。絶縁材料110は、永久フォトレジスト、例えばSU-8、Riston(商標)、AZ-9260TMMR-S2000(商標)、又はTMMF-S2000(商標)等の感光性材料であり得る。幾つかの例において、絶縁材料110は、モールド化合物などの非感光性材料である。少なくとも1つの例において、絶縁材料110は、絶縁材料104と同じ材料で構成される。絶縁材料110と絶縁材料104は、それらが同じタイプの材料で構成される場合、絶縁材料104の平坦化された表面によって、差別化され得る。絶縁材料104の表面は、絶縁材料110の形成の前に、絶縁材料104に対して成される化学機械研磨(CMP)プロセスによって平坦化され得る。別の例において、絶縁材料110は、絶縁材料104とは異なる材料で構成される。絶縁材料110の厚み111は、例えば約100μm~約200μmなど、約25μm~約300μmである。少なくとも1つの例において、絶縁材料110の厚み111は、250μmより大きい。絶縁材料110の厚み111は、絶縁材料104の厚み105より大きくし得る。少なくとも1つの例において、絶縁材料110の厚み111は絶縁材料104の厚み105と同じであるか、或いは絶縁材料110の厚み111は絶縁材料104の厚み105より小さい。
第2の金属層構造が、第2の金属層114及びシード層112を含み、第1の金属層構造の少なくとも部分的に上の、絶縁材料110の開口内に配置される。シード層112は、開口の底部及び/又は側壁を少なくとも部分的に被覆し得、第2の金属層114はシード層112上に形成される。少なくとも1つの例において、第2の金属層構造は、第1の金属層構造を完全に被覆する。第2の金属層114は、第1の金属層107に電気的に結合される。シード層112は、絶縁材料110から第2の金属層114を物理的に分離して、障壁を提供する。シード層112は、Ti、TiW、Ta、又はTaNで構成され得、2μm未満の厚み113を有する。少なくとも1つの例において、シード層106及びシード層112はともに、第2の金属層114を第1の金属層107から分離するシード層112を用いて、第1の金属層107を完全に囲む。他の例において、第1の金属層107と第2の金属層114との間にシード層はなく、第1の金属層107は、第2の金属層114と区別がつかない可能性がある。少なくとも1つの例において、第2の金属層114、シード層112、及び絶縁材料110は、平坦化された表面を有する。第2の金属層114は、電流を拡散させるために充分に厚く、良好な機械的強度を提供する。電流を拡散することは、エレクトロマイグレーションを低減し、電流密度を低減し、信頼性を向上させる。第2の金属層114は、銅含有材料等の金属で構成されるか又は導電性金属の合金である。第2の金属層114は、約25μm~300μmの間の厚み115、及び150μmより大きい幅117を有する。少なくとも1つの例において、第2の金属層114の幅117は、第1の金属層107の幅109より大きい。少なくとも1つの例において、第2の金属層の厚み115は、第1の金属層107の厚み101より大きい。少なくとも1つの例において、第2の金属層114は、第1の金属層107と同じ材料で構成される。少なくとも1つの実施形態が、第1の金属層107と第2の金属層114との間の受動素子又はセンサ等の付加的な要素を含む。
メッキ層118が、第2の金属層114及びシード層112の平坦化された表面上に配置される。メッキ層118は、絶縁材料110の頂部表面の上に延在する。メッキ層118は、ニッケル、すず、或いは、NiAu、NiPd、NiPdAu、NiAg、又はNiSn等のニッケル合金で構成され得る。少なくとも1つの例において、メッキ層418は、無電解ニッケル置換金(ENIG)、無電解ニッケル無電解金(ENEG)、又は無電解ニッケル無電解パラジウム置換金(ENEPIG)等の半田付け可能な金属スタックである。ENIG及びENEPIGにおいて、金の薄層がニッケルを酸化から保護する。少なくとも1つの例において、メッキ層118は、約2μm~8μmの間の厚み115を有する。少なくとも1つの例において、メッキ層118は、第2の金属層114、シード層112、及び絶縁材料110の平坦化された表面の上に厚み115を延伸する。メッキ層118は、例えば、約25μm~約300μmの幅119を有し、低抵抗を提供する。メッキ層118の広い幅が、電流密度及び熱放出を低減し、信頼性を向上させる。メッキ層118は、耐破損性の堅牢な半田接合を提供する一方で、第2の金属層114及び第1の金属層107内の金属を保護する。第2の金属層114内及び第1の金属層107内の銅が、シード層106及び112、及びメッキ層118によって完全に囲まれている。
半導体パッケージング構造100はダイに分割され得る。メッキ層118は、ダイを印刷回路板(PCB)に取り付けるために用いられ、基板102及びPCBにおけるトランジスタ間の電気的及び熱的接続を提供する。メッキ層118から、第2の金属層114を介し、シード層112を介し、第1の金属層107を介し、シード層106を介するボンドパッド124への電気的接続は、例えば、約2mΩ~約5mΩなどの低抵抗を提供する。低抵抗は、熱及びエレクトロマイグレーションを低減し、信頼性を向上させる。
図2は、半導体パッケージング構造130の三次元の図である。半導体パッケージング構造130は、基板層132、第1の金属及び絶縁材料層134、第2の金属及び絶縁材料層136、及びメッキ層138を含む。基板層132は、少なくとも1つの半導体デバイスを備えるダイを形成する。基板層132の上の第1の金属及び絶縁材料層134は、永久フォトレジスト等の絶縁材料と、シード層によって囲まれる銅で構成され得る第1の金属層構造とを含む。第1の金属及び絶縁材料層134の上の第2の金属及び絶縁材料層136は、別の永久レジスト層等の別の絶縁材料と、シード層によって少なくとも部分的に囲まれる銅を含み得る第2の金属層とを含む。メッキ層138は、半田付け可能な材料で構成され、第2の金属及び絶縁材料層136の頂部の平坦化された表面の上に延在する。少なくとも1つの例において、メッキ層138内の大きいパッド又はストリップが、例えば電力ピン等のための幾つかの接続に対して用いられる一方、メッキ層138内のより小さいパッドが、信号ピン等のためのその他の接続に対して用いられる。メッキ層138は、基板層132内の半導体をPCBに接続するため、PCBに半田付けされ得る。メッキ層138は、一列に並ぶ4個のより小さいストリップ137、及び並列に並ぶ2つの長いストリップ139を含む。より小さいストリップ137は、より低い電流接続(信号ピン)に対して有用であり、電流密度を充分低く保つ一方で低面積を保ち、長いストリップ139は、より高い電流接続(電力ピン)に対して有用であり、電流密度を低減する。しかしながら、メッキ層は、高度にカスタマイズ可能であり、任意のパターンを含み得る。
図3A~図3Hは、第1の金属層構造及び第2の金属層構造構成の水平断面の例示のトップダウン断面図を図示する。第1の金属層断面は、図1によって示される半導体パッケージング構造100において幅109の方向におけるものであり、第2の金属層断面は、図1によって示される半導体パッケージング構造100において幅117の方向におけるものである。1つの半導体パッケージング構造が、異なるサイズ及び形状の第1の金属層構造、及び異なるサイズ及び形状の第2の金属層構造を含み得る。第2の金属層構造は、第1の金属層構造より大きい面積を有し、場合によってはかなり大きい面積を有する。少なくとも1つの例において、第2の金属層構造及び第1の金属層構造は類似の形状を有する。他の例において、第2の金属層構造と第1の金属層構造とは異なる断面形状を有する。少なくとも1つの例において、複数の第1の金属層構造が第2の金属層構造に結合される。他の例において、1つの第1の金属層構造が第2の金属層構造に結合される。
図3Aにおいて、第2の金属層構造240が長方形断面を有し、第1の金属層構造242が円形断面を有する。少なくとも1つの例において、第2の金属層構造240は正方形断面を有し得る。図3Bにおいて、第2の金属層構造250が円形断面を有し、第1の金属層構造252も円形断面を有する。図3Cにおいて、第2の金属層構造260及び第1の金属層構造262がともに楕円形断面を有する。図3Dにおいて、第2の金属層構造270が長方形断面を有し、第1の金属層構造272が正方形断面を有する。少なくとも1つの例において、第1の金属層構造272は、長方形であるが正方形ではない断面を有する。図3Eにおいて、第2の金属層構造290が円形断面を有し、第1の金属層構造292が正方形断面を有する。他の例において、第1の金属層構造及び第2の金属層構造は、他の形状を有し得、例えば、それらは、三角形、又は、例えば五角形、六角形、又は八角形等の別の多角形、或いは不規則な形状として形成され得る。
図3Fにおいて、第1の金属層構造284及び第1の金属層構造282が正方形断面を有し、第2の金属層構造280が長方形断面を有する。少なくとも1つの例において、第1の金属層構造282は第2の金属層構造280を第1のボンドパッドに結合し、第1の金属層構造284は第2の金属層構造280を第2のボンドパッドに結合する。少なくとも1つの例において、第1の金属層構造282及び284は、例えば、円形又は長方形等、種々の断面形状を有し得る。少なくとも1つの例において、第1の金属層構造282は、第1の金属層構造284とは異なる断面形状を有する。例えば、第1の金属層構造282は正方形断面を有し、第1の金属層構造284は円形断面を有する。2つの第1の金属層構造282及び284が第2の金属層構造280に結合されて描かれているが、第2の金属層において、更に多くの、例えば、3、4、5、6、7、又は8の第1の金属層が存在し得る。これらの異なる第1の金属層構造は、下にある集積回路における種々の箇所に接し得る。
図3Gにおいて、第1の金属層構造287が六角形の断面を有し、第2の金属層構造285が六角形断面を有する。他の実施形態において、第1の金属層構造及び第2の金属層構造は、例えば、五角形、七角形、八角形、又は十角形など、異なる多角形であり得る。幾つかの実施形態において、第1の金属層構造と第2の金属層構造は異なる多角形であり得る。図3Hにおいて、第1の金属層構造297及び第2の金属層構造295は角丸長方形である。他の実施形態において、第1の金属層構造及び第2の金属層構造は、角丸五角形、角丸六角形、角丸七角形、角丸八角形、又は角丸十角形等の異なる角丸多角形である。
幾つかの例示の半導体パッケージング構造は、だんだん幅広くなる金属特徴を備える2より多くの絶縁材料層を有し得る。図4は、金属特徴を備える3層の絶縁材料を備える半導体パッケージング構造300を図示する。他の半導体パッケージング構造が、これより多くの、例えば4、5、又は6の絶縁体及び金属の層を有し得る。半導体パッケージング構造300において、絶縁材料302は、絶縁材料110、第2の金属層114、及びシード層112の平坦化された表面の上に位置する。絶縁材料302は、永久レジスト等の感光性材料で構成され得る。一実施形態において、絶縁材料302は、絶縁材料110及び絶縁材料104と同じ材料で構成される。絶縁材料302が形成される前に絶縁材料110に対して成されるCMPによって形成される絶縁材料110の平坦化された表面に起因してそれらが同じ材料で構成される場合、絶縁材料302は絶縁材料110から区別可能であり得る。他の例において、絶縁材料302は絶縁材料110とは異なる材料であり、及び/又は、絶縁材料302は絶縁材料104とは異なる材料である。絶縁材料302は、絶縁材料110の厚み111より大きい厚み303を有し得、例えば、約100μm~約500μmである。
第3の金属層306及びシード層304を含む第3の金属層構造が、第2の金属層114及び絶縁材料110の一部分の上の、絶縁材料302の開口内に位置する。第3の金属層306は銅含有材料で構成され得る。シード層304は、例えばチタン、タンタル、チタン合金、又はタンタル合金等であり、第3の金属層306を絶縁材料302から物理的に分離する。図示されるように、第2の金属層114は、シード層112及びシード層304によって完全に囲まれ、第3の金属層306と第2の金属層114との間に位置する。他の例において、第3の金属層306は、中間のシード層無しに、第2の金属層114に直接接する。第3の金属層306は、第2の金属層114より有意に幅広くなり得る。例えば、第3の金属層は約100μm~約500μmの幅305を有し得る。
メッキ層308が、例えばニッケル、スズ、ニッケル合金、ENIG、ENEG、又はENEPIGであり、第3の金属層306の上に位置し、第3の金属層306及び絶縁材料302の頂部表面の上に延在する。少なくとも1つの例において、メッキ層308及びシード層304は、第3の金属層306を完全に囲む。低抵抗接続が、メッキ層308から、第3の金属層306を介し、任意選択的にシード層304を介し、第2の金属層114を介し、任意選択的にシード層112を介し、第1の金属層107を介し、シード層112を介して、ボンドパッド124まで存在する。メッキ層308は、PCBをボンドパッド124及び下にある回路要素に電気的に結合するように、PCBに接続され得る。
図5は、第1の金属層357が絶縁材料354を介して先細りにされている半導体パッケージング構造350を図示する。第1の金属層357の底部は、シード層356を介してボンドパッド124に接し、第2の金属層114に接する第1の金属層357の頂部より狭い。第1の金属層357は、第2の金属層114において頂部幅355を、及びボンドパッド124において底部幅359を有し、頂部幅355は底部幅359より大きい。少なくとも1つの例において、第2の金属層114の側面も先細りにされ得、ダイ側で狭くなり、外部接触側で広くなっている。
図6A~図6Lは、半導体パッケージング構造を製造するための例示の方法を図示する。図6Aは基板102を図示し、基板102は、少なくとも1つの半導体デバイスを含むシリコン基板であり得る。少なくとも1つの半導体デバイスへの電気的接続を提供するボンドパッド124が、基板102の表面上に配置される。少なくとも1つの例において、ポリイミド(PI)が基板102に、ボンドパッド124の少なくとも一部の上に、付加される。PIはまた、ダイとパッケージングとの間のピン位置を分離する。
図6Bにおいて、絶縁材料140が基板102上の、ボンドパッド124と同じ側に形成される。絶縁材料140はポリマーである。一実施形態において、絶縁材料140は、永久フォトレジスト等の感光性材料であり、例えば、SU-8、Riston(商標)、SPR 220-7、Ordyl P-50100、Diaplate132であり、或いは、TOK(商標)によって製造された永久フォトレジスト等の別の永久フォトレジスト、例えば、TMMR-S2000(商標)又はTMMF-S2000(商標)である。別の実施形態において、絶縁材料110はモールド化合物である。少なくとも1つの例において、絶縁材料140は、基板102上に液体をスピンコーティングすることによって形成される。別の実施形態において、絶縁材料140は、基板102上にドライフィルムを積層させることによって形成される。付加的な実施形態において、絶縁材料140はフォトレジストをスプレーコーティングすることによって形成される。ドライフィルム材料が、液体に比べて、より大きい厚みとより小さい収縮及び応力を可能にする。その後、溶剤を除去するために、液体又はフィルムに対してソフトべークが行われ得る。少なくとも1つの例において、例えば、絶縁材料が有する溶剤が少量である場合、ソフトベークは行われない。絶縁材料140は、厚みが厚く、例えば、約5μm~約100μmの厚さである。
図6Cにおいて、ボンドパッド124の上の絶縁材料140内に開口150が形成されて、ボンドパッド124の少なくとも一部を露出させ、絶縁材料152を保持する。絶縁材料が永久フォトレジストである少なくとも1つの例において、開口150は、フォトリソグラフィマスクを用いて永久フォトレジストを露出させることによって形成される。別の実施形態において、絶縁材料140は、レーザエッチングによって又はプラズマエッチングによってパターニングされる。
図6Dにおいて、シード層162が絶縁材料152上に配置されて、ボンドパッド124の上の開口150の底部及び側面を被覆する。シード層106は、Ti、TiW、TiWCu、Ta、TaN、又は、別のチタン又はタンタル合金であり得る。シード層106は、蒸着、スパッタリング、又は化学気相堆積(CVD)を用いて堆積され得る。
図6Eにおいて、例えば銅含有材料などの金属170が、シード層106を用いてメッキされる。金属170は、開口150を充填し、絶縁材料152の上のシード層162の頂部表面より上に延在する。金属170の頂部表面は不規則形状を有し得る。
図6Fにおいて、金属170の頂部及びシード層162及び絶縁材料152の頂部に対してCMPが行われて、平坦化された表面を形成する。半導体構造は、シード層106によってライニングされた第1の金属層107を含む第1の金属層構造を含む。第1の金属層107及びシード層106は、ボンドパッド124に電気的に結合される。絶縁材料104は、第1の金属層107及びシード層106を囲む。CMPの後、アッシュクリーニングが行われて、表面に残る任意の銅を除去する。少なくとも1つの例において、絶縁材料104はモールド化合物で置き換えられる。少なくとも1つの例において、CMPを行う前に、半導体構造は、焼結ひずみを低減するため固いキャリアに取り付けられる。
図6Gにおいて、絶縁材料180が、絶縁材料104、第1の金属層107、及びシード層106の平坦化された表面の上に適用される。一実施形態において、絶縁材料180は、絶縁材料104と同じ材料であり、同じ手法で適用される。CMP工程によって形成された平坦化された表面に起因して、絶縁材料180と絶縁材料104が同じ材料で構成されている場合でも、絶縁材料180と絶縁材料104との間の境界が存在する。他の例において、絶縁材料180は、絶縁材料104とは異なる材料で構成される。少なくとも1つの例において、絶縁材料はポリマー材料である。少なくとも1つの例において、絶縁材料180は感光性材料であり、例えば、SU-8等の永久レジストである。絶縁材料180は、例えば、約25μm~約300μmの絶縁材料である。
図6Hにおいて、絶縁材料184を生成するため、開口182が絶縁材料180内に形成される。開口182は、第1の金属層107の頂部表面を少なくとも部分的に露出させる。図示されるように、開口182の1つが第1の金属層107の1つの部分の頂部表面を完全に露出させ、開口182の1つが第1の金属層107の2つの部分の頂部表面を完全に露出させる。少なくとも1つの例において、開口が第1の金属層のより多くの部分、例えば、第1の金属層の3、4、5、又はそれ以上の部分を露出させ得る。開口182は、図示されるように、第1の金属層107より幅広い。少なくとも1つの例において、絶縁材料は永久フォトレジストである。
図6Iにおいて、シード層190が絶縁材料184の上に堆積されて、開口182の底部及び側面を被覆する。シード層190は、Ti、TiW、Ta、TaN、又は、別のチタン又はタンタル合金であり得る。シード層190は、蒸着、スパッタリング、又はCVDを用いて堆積され得る。少なくとも1つの例において、シード層190は2μm未満の厚みである。
図6Jにおいて、例えば銅含有材料である金属195が、シード層190の上に堆積される。金属195は、開口182を充填し、絶縁材料184及びシード層190の頂部表面の上に延在する。金属195の頂部表面は不規則形状であり得る。
図6Kにおいて、金属195の頂部表面、シード層190、及び絶縁材料184に対してCMPが行われて、フラットな平坦化された頂部表面が生成される。CMPを行った後、アッシュクリーニングが行われ得る。一実施形態において、絶縁材料はモールド化合物で置き換えられる。一実施形態において、絶縁材料110及び絶縁材料104はいずれも単一工程で置き換えられる。
図6Lにおいて、第2の金属層114の頂部の平坦化された表面上にメッキ層118が形成される。少なくとも1つの例において、メッキ層118は、NiSn、Sn、NiAg、NiPd、NiPdAu、NiAu、或いは、ENIG、ENEG、又はENEPIG等の耐酸化性の別の貴表面(novel surface)で構成される。メッキ層118は、第2の金属層114内の銅を保護し、PCBとの堅牢な半田接合を提供する。このように、第2の金属層114及び第1の金属層107は、メッキ層118、シード層112、及びシード層106によって囲まれる。
図6Lに図示される半導体構造から、図1の半導体パッケージング構造100を形成するために、基板102は薄化され、裏側被覆122が、ボンドパッド124を含む表面の反対側の、基板102の表面に適用される。裏側被覆122を適用する前に、基板102は、例えば、約50μm~約500μmの厚み103まで、薄化される。少なくとも1つの例において、裏側被覆122を適用する前にキャリアが除去される。裏側被覆122は、スピンコーティング又はフィルム装着を用いて適用され得る。裏側被覆122は約10μm~約60μmの間であり得る。少なくとも1つの例において、裏側被覆122は、例えば、黒等の不透明材料である。また、半導体パッケージング構造100に記号が適用され得る(図示されない)。また、半導体パッケージング構造100は検査され得る。ウェハは個片化され得、ダイを形成する。ダイのメッキ層118は、少なくとも1つのPCBに取り付けられ得る。
図7A~図7Gは、半導体パッケージング構造を製造する別の例示の方法を示す。図7Aに図示される半導体構造は、図6Cに図示される半導体構造から形成される。絶縁材料104の上及び開口150内に絶縁材料200が堆積される。絶縁材料200は、SU-8又は別の永久フォトレジスト等の感光性材料であり得る、ポリマーで構成され得る。絶縁材料200は、スピンコーティング又は積層によって適用される。
図7Bにおいて、絶縁材料200内にパターンが形成され、絶縁材料204内に開口202を形成する。開口202は、絶縁材料204及び絶縁材料104を介して延在し、ボンドパッド124の少なくとも一部を露出させる。絶縁材料204及び104が永久フォトレジストである少なくとも1つの例において、パターンはフォトリソグラフィによって形成される。
図7Cにおいて、シード層210が、絶縁材料204及び絶縁材料104に適用され、ボンドパッド124の上及び開口202を完全に被覆する。少なくとも1つの例において、シード層210は、Ti、TiW、Ta、TaN、又は別のチタン又はタンタル合金であり得、2μm未満の厚みである。シード層210は、例えば、蒸着、スパッタリング、又はCVDによって堆積される。
図7Dにおいて、例えば銅含有材料などの金属220が、シード層210上にメッキされる。金属220は、開口202を充填し、絶縁材料204及びシード層210の頂部より上に延在する。金属220の頂部表面は不規則である。
図7Eにおいて、金属220の頂部に対し及びシード層210の頂部に対しCMPを行うことによって、平坦化された頂部表面が形成され、シード層230及び金属層232を形成する。金属層232は、絶縁材料110によって囲まれる第2の金属層と絶縁材料104によって囲まれる第1の金属層とを含み、これらの金属層の間に明確な境界はない。
図7Fにおいて、例えばNiSn、Sn、NiPd、NiAu、又はNiPdAuで構成されるメッキ層118が、金属層232の頂部上に形成される。少なくとも1つの例において、メッキ層118は、約2μmの厚み~約8μmの厚みである。メッキ層118は、無電解メッキを用いて適用され得る。メッキ層118は、半導体パッケージング構造を少なくとも1つのPCBに取り付けるために用いられ得る、半田付け可能な仕上げ(finish)を形成する。
図7Gにおいて、例えば不透明フィルムである裏側被覆122が、基板102の裏側上に形成される。裏側被覆122は、ボンドパッド124を含む表面の反対側の、基板102の表面上に形成される。少なくとも1つの例において、裏側被覆122は約10μm~約60μmである。基板102は、裏側被覆122が適用される前に薄化され得る。ウェハ形態の半導体パッケージング構造が個片化され得、パッケージング構造を生成する。
別の実施形態において、モールド化合物内に埋め込まれたダイが、複数の絶縁及び金属層を備える半導体パッケージング構造を形成する。図8は、モールド化合物422に埋め込まれたダイ402等の半導体構造を含む半導体パッケージング構造400を示す。少なくとも1つの例において、モールド化合物422は、例えば黒の不透明材料である。ダイ402は、少なくとも1つの半導体デバイスであり、例えば、少なくとも1つのトランジスタ及びボンドパッド424である。ダイ402は約50μm~約200μmの厚み403を有し、モールド化合物422は約100μm~約700μmの厚み423を有する。
ダイ402の上及びモールド化合物422の上に絶縁材料404が形成される。絶縁材料404は、低吸水性、低弾性、及び高密着性を有し得る。また、絶縁材料404は、製造及び動作の応力に耐え得る。少なくとも1つの例において、絶縁材料110はポリマーである。絶縁材料404は、永久フォトレジスト等の感光性材料であり得、例えば、SU-8、Riston(商標)であり、或いは、TOK(商標)によって製造される永久フォトレジスト等の別の永久フォトレジストであり得、例えばTMMR-S2000(商標)又はTMMF-S2000(商標)である。少なくとも1つの例において、絶縁材料404は、モールド化合物等の感光性ではない材料とし得る。少なくとも1つの例において、絶縁材料404は、約5μm~約100μmの厚み405を有する。
第1の金属層407及びシード層406を含む第1の金属層構造が絶縁材料404の開口内に配置される。第1の金属層407、シード層406、及び絶縁材料404は、ダイ402から離れた平坦化された頂部表面を有する。シード層406は、Ti、TiW、TiWCu、Ta、TaNで構成され得、2μm未満の厚みであり得る。第1の金属層407は、銅を含み得、絶縁材料404を介して延在して、シード層406の底部を介してダイ402内のボンドパッド424に結合する。少なくとも1つの例において、第1の金属層407は、約25μm~約200μmの幅409を有する。第1の金属層407の高さが高く幅が狭い寸法が、微小応力を低減するために、スタンドオフ厚み及び柔軟性を提供する。少なくとも1つの例において、半導体パッケージング構造400内の第1の金属層407の異なる部分が、異なる幅を有する。他の例において、半導体パッケージング構造400内の第1の金属層107の異なる部分が、類似の又は同じ幅を有する。図示されるように、第1の金属層構造は真っすぐな側壁を有する。少なくとも1つの例において、第1の金属層構造は、角度のある側壁を有し、ダイ402側で狭くなり、ダイ402から離れると広くなる。ダイ402内のシリコンは、モールド化合物422、絶縁材料404、及びシード層406と第1の金属層407とを含む第1の金属層構造によって完全に囲まれている。
絶縁材料410は、絶縁材料404、第1の金属層407、及びシード層406の平坦化された表面上に配置される。絶縁材料410は、例えば、永久フォトレジスト等の感光性材料であるポリマーを含む。少なくとも1つの例において、絶縁材料410はモールド化合物である。一実施形態において、絶縁材料410は、絶縁材料404と同じ材料で構成される。絶縁材料410を適用する前に絶縁材料404に対して成されるCMP工程によって形成される平坦化された表面に起因して、それらが同じ組成を有する場合であっても、絶縁材料410は絶縁材料404から区別可能であり得る。少なくとも1つの例において、絶縁材料410は、絶縁材料404とは異なる材料で構成される。絶縁材料410は、約25μm~約300μmの厚み411を有する。少なくとも1つの例において、絶縁材料410の厚み411は、絶縁材料404の厚み403より大きい。少なくとも1つの例において、厚み411は厚み403とおよそ同じ厚みであり、厚み411は厚み403より小さい。
絶縁材料410は、シード層412によって囲まれる第2の金属層414を含む第2の金属層構造を含む。シード層412は、Ti、TiW、TiWCu、Ta、及びTaNで構成され得、2μm未満の厚みであり得る。第2の金属層414は、銅を含み得、150μmより大きい厚み415を有する。第2の金属層414は、ダイ402の端を超えて延在する。したがって、外部コンタクトのサイズがダイのサイズより大きくなり得、ダイの小さなサイズを維持する一方で、電流伝送及び良好なコンタクトを促進する。これは、低電流密度及び低熱密度を備えたより大きいPCBにシームレスにダイを結合させ得る一方で、ダイの小型化を可能にする。図示されるように、シード層412は、第2の金属層414と第1の金属層407との間に位置する。しかしながら、少なくとも1つの例において、第2の金属層414は、第1の金属層407上に直接配置される。図示されるように、第2の金属層414はまっすぐな側壁を持つが、少なくとも1つの例において、それは、ダイ側で狭くなり、コンタクト側で幅広くなる傾斜のある側壁を有していてもよい。第2の金属層414は、機械的及び冶金的強度を提供し得る。第2の金属層414、シード層412、及び絶縁層410は、平坦化された頂部表面を有する。
第2の金属層414の平坦化された表面上にメッキ層418が配置される。メッキ層418は、ダイ402の端を超えて延在する。メッキ層418は、NiSn、Sn、或いは、ニッケル又はすず合金などの半田付け可能な材料で構成される。少なくとも1つの例において、メッキ層418は、ENIG、ENEG、又はENEPIG等の半田付け可能な金属スタックである。メッキ層418は、第2の金属層414内の銅及び第1の金属層407内の銅を保護し、堅牢な半田接合を可能にする。第2の金属層414及び第1の金属層407内の銅は、シード層406及び412によって及びメッキ層418によって完全に囲まれる。メッキ層418は、約2μm~約8μmの厚みを有し、第2の金属層414及び絶縁材料410の頂部表面を超えて延在する。
半導体パッケージング構造400は、絶縁材料における幅が増大する2つの金属層構造を備えて図示されているが、これより多くの金属層構造、例えば、3、4、又は5の金属層が存在し得、各金属層は、より低い金属層よりも幅広い特徴を備える。より多くの層の数が、非常に大きい接続への結合を促進し得る。
少なくとも1つの例が付加的な層、例えば付加的な金属層、例えば、COA(copper over anything)又は付加的なポリイミド又はフォトレジスト等を含み得る。
図9は、複数のダイ、ダイ402及びダイ552を備える半導体パッケージング構造550を図示する。ダイ402及びダイ552は、モールド化合物572によって少なくとも部分的に囲まれる。少なくとも1つの例において、モールド化合物572はエポキシ樹脂である。ダイ402は、トランジスタ等の少なくとも1つの半導体デバイスを含み、ボンドパッド424及び425に接する。同様に、ダイ552は、少なくとも1つのトランジスタ等の少なくとも1つの半導体デバイスを含み、ボンドパッド574及び575に接する。
絶縁材料554が、ボンドパッド424、425、574、及び575の側の、モールド化合物572及びダイ402及び552の上に配置される。絶縁材料554はポリマーであり得、例えば、永久レジスト等の感光性ポリマーであり得る。第1の金属層構造は、シード層556によって被覆された第1の金属層557、558、555、及び559を含む。第1の金属層557、558、555、及び559は、例えば、銅含有材料で作成され、絶縁材料554を介して、それぞれ、ボンドパッド424、425、574、及び575まで延在する。第1の金属層557、558、559、及び555は、同様のサイズで図示されているが、少なくとも1つの例において、第1の金属層557は異なるサイズを有し得る。シード層556は、Ti、TiW、TiWCu、Ta、TaN、或いは、別のチタン又はタンタル合金で構成される。
絶縁材料554の上に絶縁材料560が配置される。少なくとも1つの例において、絶縁材料560は、絶縁材料554と同じ材料で構成される。他の例において、絶縁材料560は絶縁材料560とは異なる材料で構成される。側面上及び底部の全て又は一部上にシード層562を備える、第2の金属層564及び第2の金属層565を含む第2の金属層構造が、それぞれ、第1の金属層557及び559を絶縁材料560を介してメッキ層467及び469に電気的に結合する。同様に、第2の金属層566が、シード層570によって、第2の金属層564、566、及び565の側面上及び底部の全て又は一部上にある。第2の金属層566は、第1の金属層558及び555を互いに、及びメッキ層568に結合する。したがって、ダイ402におけるボンドパッド425は、ダイ552におけるボンドパッド574に電気的に結合される。
少なくとも1つの例において、半導体パッケージング構造内に複数のダイが存在するが、ダイは、パッケージング構造を介して互いに電気的に結合されない。例えば、第2の金属層566は存在せず、第2の金属層566は、第1の金属層558及び555を個別のメッキ層に個別に結合するが第1の金属層558を第1の金属層555に電気的に結合しない、2つの第2の金属層で置き換えられる。
図10A~図10Oは、例えば、図8によって図示された半導体パッケージング構造400等の半導体パッケージング構造を製造する例示の方法を示す。図10Aにおいて、キャリア430が得られる。キャリア430は、鋼板等の金属、シリコンウェハ等のウェハ、ガラス、PCBパネル、或いは、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリオレフィン、又はポリエチレン等の粘着テープであり得る。
図10Bにおいて、ダイ402、442、及び444がキャリア430に取り付けられる。少なくとも1つの例において、ダイ402、442、及び444は、ウェハを薄化しウェハを個片化して、ダイを生成することによって形成されている。少なくとも1つの例において、例えば、キャリア430が接着テープである場合、ダイ402、442、及び444はキャリア430上に直接置かれる。ダイ402は、キャリア430に面するボンドパッド424を用いて置かれ、ダイ442は、キャリア430に面するボンドパッド446を用いて置かれ、ダイ444はキャリア430に面するボンドパッド448を用いて置かれる。
図10Cにおいて、モールド化合物450が、ダイ402、ダイ442、及びダイ444を少なくとも部分的に被覆するように、トランファーモールドを介してキャリア430に適用される。その後、システムはモールド化合物をキュアし、モールド化合物を硬化させる。モールド化合物450は塑性材料であり得、例えば、キャリア430とともに、ダイ402、442、及び444を囲むエポキシ樹脂であり得る。
図10Dにおいて、キャリア430は除去されて、モールド化合物450及びダイ402、442、及び444を含む再構成されたウェハ451を生成する。ダイ402、442、及び444の、ボンドパッド424、446、及び448を備えるアクティブ側が露出される。
図10Eは、明確にするために反転された、ダイ402を備えるモールド化合物422を含む再構成されたウェハ451の一部を図示する。明確にするために、単一のダイが図示されているが、ダイ442及び444、又はそれより多くのダイ等複数のダイが、モールド化合物422内に埋め込まれ得る。
少なくとも1つの例において、ポリイミドの層が、ダイ402及びモールド化合物422の上、例えば、ボンドパッド424の少なくとも幾つかの部分の上に付加され得る。
図10Fにおいて、絶縁材料460は、モールド化合物422の上、及びダイ402上のボンドパッド424の上に形成される。絶縁材料460は厚いポリマー層であり、例えば約10μm~約100μmの厚みであり得る。絶縁材料460は、永久フォトレジスト等の感光性材料であり得る。他の例において、絶縁材料460はモールド化合物である。
図10Gにおいて、開口470が、ボンドパッド424の上の絶縁材料460内に形成され、絶縁材料472を形成する。開口470は、フォトリソグラフィによって形成され得る。他の実施形態において、開口470は、レーザエッチング又はプラズマエッチング等の別の方法によって形成される。開口470は、同じサイズとして図示されているが、それらは異なるサイズであり得る。また、少なくとも1つの例において、例えば、3、4、5、6、7、8、9、又はそれより多くの開口等、2つより多くの開口とし得る。開口470は、真っすぐな側壁を有して図示されるが、それらは、ボンドパッド424の付近のダイでより狭くなり、反対側で幅広くなる、傾斜のついた側壁を有し得る。
図10Hにおいて、シード層480が絶縁材料472の上に堆積され、ボンドパッド424を含む開口470の底部及び側面を被覆する。シード層480は、Ti、TiW、別のチタン合金、Ta、TaN、又は別のタンタル合金であり得る。ダイ402内のシリコンは、モールド化合物422、絶縁材料472、及びシード層480によって完全に囲まれている。シード層480は、ダイ402及び第1の金属層(まだ製造されていない)双方に対する障壁として働く。
図10Iにおいて、シード層480が、例えば銅含有材料などの金属490でメッキされる。
図10Jにおいて、金属490、シード層480、及び絶縁材料472の頂部表面に対してCMPが行われて、半導体構造において平らな平坦化された表面を形成する。シード層406は第1の金属層407を底部及び側面上で囲み、頂部の平坦化された表面が露出された第1の金属層構造を形成する。少なくとも1つの例において、CMPを行う前か又は後に、絶縁材料404がモールド化合物で置き換えられる。
図10Kにおいて、絶縁材料492が、絶縁材料404、第1の金属層407、及びシード層406の頂部表面に形成される。絶縁材料492は、絶縁材料404と同じ材料であり得る、又は、それは絶縁材料404とは異なる材料、例えば別のポリマー材料であり得る。CMP工程によって生成された平坦化された表面に起因して、絶縁材料492は、それらが同じ構成を有する場合でも、絶縁材料404から区別可能であり得る。絶縁材料492は非常に厚くし得、例えば約50μm~約200μmの厚みであり得る。
図10Lにおいて、絶縁材料492内に開口494が形成されて、絶縁材料483を形成する。図示されるように、開口494は相対的に真っすぐな側壁を有するが、それらは、第1の金属層407の近くのダイ端部上で狭くなり頂部でより幅広くなる、角度のある側壁を有し得る。第1の金属層407は、不規則形状、円形、楕円形、正方形、丸い形、正方形、長方形、又は、例えば、五角形、六角形、又は八角形等の別の多角形を含む、ボンドパッド424に対して平行な種々の断面を有し得る。少なくとも1つの例は、3~10の開口等、2より多くの開口494を有する。開口494は、異なるサイズを有して図示されているが、それらは同じサイズ又は類似のサイズを有し得る。
図10Mにおいて、シード層496は、第1の金属層407の上を含み、絶縁材料483上、及び開口494の底部及び側面上に堆積される。シード層496は、例えば、チタン、タンタル、チタン合金、又はタンタル合金であり得る。第1の金属層407は、シード層406及びシード層496によって完全に囲まれる。
図10Nにおいて、金属498は、シード層496を用いてメッキされる。金属498は銅含有材料であり得る。
図10Oにおいて、金属498、シード層496、及び絶縁材料483の頂部に対してCMPが行われ、半導体構造内に、第2の金属層414、シード層412、及び絶縁材料483を備える平らな面状の表面を形成する。このように、システムは、第2の金属層414及びシード層412を含む第2の金属層構造を形成する。第2の金属層414は、ダイ402の端部を超えて延在する。第2の金属層414は種々の形状を有し得る。例えば、第2の金属層414は、相対的に真っすぐな側壁を有し得、又は、それらは、第1の金属層407によって狭くなり頂部で幅広くなる、傾斜のある側壁を有し得る。第2の金属層414は、横方向に種々の断面を有し得、不規則、円形、楕円形、正方形、角丸、正方形、長方形、又は別の多角形、例えば五角形、六角形、又は八角形の断面を有し得る。他の例において、第2の金属層414は、種々の形状又は不規則な形状を有する。
図10Oに図示される半導体構造から、図8における半導体パッケージング構造400を形成するため、メッキ層418が、無電解メッキを用いて第2の金属層414に適用される。メッキ層418は、NiSn、ENIG、Sn、ENEPIG、ENEG、又は別の半田付け可能な材料で構成され得る。メッキ層418は、ダイ402の端部を超えて延在する。第2の金属層414は、シード層412及びメッキ層418によって完全に囲まれ、シリコンマイグレーションを防止する。メッキ層418を適用した後、個片化が行われて、個別の半導体パッケージング構造を形成する。半導体パッケージング構造400はその後、メッキ層418によってPCBに取り付けられ得る。
図11A~図11Fは、ダイを含む半導体パッケージング構造を製造するための別の例示の方法を図示する。図11Aにおいて、絶縁材料500は、絶縁材料404の上及び図10Gに示される半導体構造の開口470内に形成される。絶縁材料500は、約50μm~約250μmの厚みを有する、永久フォトレジスト等のポリマーであり得る。絶縁材料500は、絶縁材料404と同じ材料であり得る。他の例において、絶縁材料500は絶縁材料404とは異なる材料、例えば別のポリマー材料である。
図11Bにおいて、絶縁材料500内に開口510が形成され、絶縁材料512を形成する。開口510は、絶縁材料512及び絶縁材料404を介してボンドパッド424まで延在する。絶縁材料500が感光性材料である場合、開口510は、フォトリソグラフィマスクを用いて絶縁材料500を露出させ、絶縁材料500を現像し、絶縁材料500を硬化させることによって形成され得る。他の例において、開口510は、プラズマエッチング又はレーザエッチングによって形成される。
図11Cにおいて、シード層520が、絶縁材料512上に形成され、開口510を被覆し、ボンドパッド424に接する。シード層520はスパッタリング又は蒸着によって形成されて、絶縁材料512を完全に被覆する。シード層522は、障壁を提供し、例えば、チタン、タンタル、チタン合金、又はタンタル合金で構成され得る。ダイ402は、モールド化合物422、絶縁材料404、及びシード層522によって完全に囲まれる。
図11Dにおいて、例えば銅含有材料などの金属530が、シード層520を用いてメッキされる。
図11Eにおいて、金属530、絶縁材料512、及びシード層520の頂部を除去することによって、平らな平坦化された頂部表面を形成するためにCMPが行われる。したがって、シード層542で被覆された、第2の金属層及び第1の金属層を含む金属層540が形成される。金属層540は、ダイ402の端部を超えて横方向に延在する。
図11Fにおいて、無電解メッキによって金属層540上にメッキ層418が形成されて、半導体パッケージング構造547を形成する。メッキ層418は、例えば、Ni/Sn、ENIG、ENEPPIG、ENEG、又はSnで構成される半田付け可能な仕上げである。メッキ層418は、ダイ402の端部を超えて横方向に延在する。金属層540は、シード層542及びメッキ層418によって完全に囲まれる。半導体パッケージング構造547は、メッキ層418によってPCBに取り付けられ得る。
図12は、半導体パッケージング構造を製造する例示の方法に対するフローチャート600を示す。ブロック602において、集積回路内にダイが形成される。ウェハの頂部上において、システムは外部接続のためのボンドパッドを製造する。
ブロック604において、システムは、複数層の金属構造を製造し、金属構造の各々は、ブロック602において製造されたウェハ上の絶縁材料によって囲まれる。図6A~図6L及び図6I及び図7A~図7Gは、ブロック604において実施され得る幾つかの例示のプロセスを図示する。徐々に幅広になる金属構造を備える、2、3、又はそれ以上の絶縁材料が、製造され、第1の層上の第1の金属層がボンドパッドに接する。システムは、一番外側の金属層にメッキ層を適用する。このように、システムは、半導体パッケージング構造を形成する。
ブロック606において、システムは、ブロック604において生成された半導体パッケージング構造に対して裏側研削を行って、所望の厚みを有する薄化されたウェハ構造を生成する。システムは、半導体パッケージング構造の頂部表面をクリーニングする。また、システムは、ウェハの頂部表面の上に保護テープを適用して、ウェハを機械的損傷及び汚染から保護する。システムは、ウェハをカセットの上にロードし、カセットを裏側研削機械のカセットホルダーに置く。裏側研削機械は、ロボットアームを用いウェハの裏側をピックアップし、ウェハを裏側研削のために位置決めする。研削ホイールがウェハに対して裏側研削を行う。システムは、裏側研削の間、脱イオン水を用いてウェハを継続的に洗浄し得る。裏側研削の後、システムはウェハをカセットに戻す。システムは、例えば脱テープツール(de-tape tool)を用いて、ウェハから裏側研削テープを除去する。
ブロック608において、システムは、ブロック604において生成された薄化されたウェハ構造の裏側に裏側被覆を適用して、被覆されたウェハ構造を生成する。裏側被覆122は不透明フィルムであり得る。システムは、スピンコーティング又はフィルム装着を用いて、フィルム裏側被覆をウェハに適用する。
ブロック610において、システムは、被覆されたウェハ構造、例えば裏側被覆に記号を適用して、記号ウェハ構造を生成する。記号はダイを識別する。
ブロック612において、システムは、ウェハを個片化し、個別にパッケージ化されたダイを生成する。システムは、接着フィルムを用いてリングに取り付けられているプラスチックテープ上に記号ウェハ構造を取り付ける。システムは、例えば、天然ダイヤモンド、合成ダイヤモンド、又はボラゾン等の研磨グリットを含む、金属又は樹脂ボンドを用いてウェハをダイシングする。これらのダイは、その後、メッキ層を用いてPCBに取り付けられ得る。
図13は、半導体パッケージング構造を製造する例示の方法に対するフローチャート800を示す。ブロック802において、システムはウェハ上に半導体デバイスを製造する。集積回路及び関連する要素がウェハ内に製造され、外部接続を提供するボンドパッドを備える。
ブロック804において、システムは、ブロック802において製造された半導体デバイスを用いて、ウェハ上で裏側研削を行って、ウェハを所望の厚みまで薄化し、薄化されたウェハ構造を生成する。システムは、ウェハの頂部表面をクリーニングする。また、システムは、ウェハの頂部表面の上に保護テープを適用し、ウェハを機械的損傷及び汚染から保護する。研削ホイールがウェハに対して裏側研削を行う。システムは、裏側研削の間、ウェハを脱イオン水で継続的に洗浄し得る。システムは、ウェハから裏側研削テープを除去する。
ブロック806において、システムは、薄化されたウェハ構造を個片化して、ダイを生成する。システムは、接着フィルムを用いてリングに取り付けられたプラスチックテープ上にウェハを取り付ける。システムは、例えば、天然ダイヤモンド、合成ダイヤモンド、又はボラゾン等の研磨グリットを含む金属又は樹脂ボンドを用いて、ウェハをダイシングする。
ブロック808において、システムは、ボンドパッドをキャリアの方に向けて、ダイをキャリアに取り付ける。図10Bは、ブロック808に示されるプロセスの例を図示する。接着テープ等の接着材料が用いられる場合、システムは、ダイを直に接着材料に取り付ける。ウェハ又はPCBパネル等の非接着材料が用いられる場合、システムは、グルーを用いて、ダイをキャリアに取り付ける。
ブロック810において、システムは、ダイの周囲のモールディングを行う。図10Cは、ブロック810において行われるプロセスの例を図示する。トランファーモールドにおいて、システムは、モールド化合物を液化し、モールド化合物をモールドプレス内に移送する。その後、システムは、モールド化合物をキュアし、モールド化合物を硬化させる。モールドは、例えばエポキシ樹脂などの可塑性材料であり得る。
ブロック812において、システムは、キャリアを除去し、モールド化合物がダイを保持する再構成されたウェハが残される。図10Dは、ブロック812において行われるプロセスの例を図示する。ボンドパッドを備えるダイのアクティブ側が露出される。
ブロック814において、システムは、再構成されたウェハに対して、チップファンアウトパッケージングを形成する。ボンドパッドを備える複数層の絶縁材料が製造され、ダイに最も近い層が最も狭い特徴(第1の金属層)を有し、ダイから最も遠い層が最も幅広いボンドパッドを有する。図10E~図10O及び図8及び図11A~図11Fは、ブロック814において行われるプロセスの例を図示する。最上部層上のボンドパッドは、ダイの端部を超えて延在し得る。少なくとも1つの例において、最上部金属層は、複数のダイを電気的に結合する。システムはまた、最も外側の金属層の上にメッキ層を形成する。
ブロック816において、システムは、識別記号を、金属層の反対側のモールド化合物上に適用する。
ブロック818において、システムは、ダイ間のモールド化合物をダイシングすることによってウェハを個片化して、ダイを形成する。一実施形態において、各ダイが個別のパッケージング構造になっている。他の例において、モールド化合物を用いて、複数のダイがともに単一のパッケージング構造に結合される。ダイは、メッキ層を用いてPCBに取り付けられ得る。
図14は、半導体パッケージング構造を製造する例示の方法に対するフローチャート700を示す。フローチャート700は、例えば、フローチャート600のブロック604、フローチャート800のブロック814、図6A~図6L、図1、図7A~図7G、図10A~図10O、図8、及び図11A~図11Fにおいて行われ得る方法を説明する。ブロック702において、システムは、ウェハ又はダイを得る。ウェハ又はダイは、ボンドパッドを備える少なくとも1つの半導体デバイスを含む。一実施形態において、ウェハは、モールド化合物に埋め込まれたダイを含む再構成されたウェハである。
ブロック704において、システムは絶縁材料を、ブロック702において得られたウェハ又はダイのボンドパッド側に適用する。システムは、ウェハ上に絶縁材料をスピンコーティング又は積層することによって、絶縁材料を適用し得る。システムは、絶縁材料から溶剤を除去するために、ウェハを焼成し得る。絶縁材料は永久フォトレジスト等のポリマーであり得る。一例において、絶縁材料はモールド化合物である。
ブロック706において、システムはブロック704において適用された絶縁材料内に開口を形成する。例えば、システムは、永久フォトレジストである絶縁材料に対してフォトリソグラフィを行う。システムは、フォトリソグラフィマスクを用いて永久フォトレジストを露出させる。その後、システムは永久フォトレジストを現像し、現像したフォトレジストを焼成する。別の例において、システムは、絶縁材料をレーザエッチング又はプラズマエッチングすることによって絶縁材料をパターニングする。一実施形態において、システムは、ブロック714に進み、絶縁材料の第2の層を適用する。別の実施形態において、システムは、ブロック708に進み、絶縁材料内にシード層を堆積させる。
ブロック708において、システムは、ブロック706において形成された開口内に、及び絶縁材料の上に、シード層を堆積させる。シード層は、例えば、Ti、TiW、TiWCu、Ta、又はTaNで構成され得る。システムは、スパッタリング、蒸着、又はCVDによってシード材料を堆積し得、絶縁材料の頂部を被覆するとともに、開口を完全に被覆する。
ブロック710において、システムは、ブロック708において開口内に形成されたシード層の上に、例えば銅含有材料等の金属をメッキする。システムは、金属をオーバーメッキし、金属を絶縁材料の頂部の上に延在させる。
ブロック712において、システムは、金属層、シード層、及び絶縁材料の頂部に対してCMPを行い、平坦化された頂部表面を形成する。このように、システムは、底部及び側面上がシード層でライニングされた半導体ポストを備える半導体ポスト構造を生成する。
ブロック714において、システムは、例えば、絶縁材料をスピンコーティング又は積層することによって、絶縁材料を第1の絶縁材料の上に適用する。一実施形態において、絶縁材料は、ブロック712において形成された第1の金属層構造の上に堆積される。別の実施形態において、絶縁材料は、ブロック706において形成された開口内に堆積される。第2の絶縁材料は、第1の絶縁材料と同じ材料であり得る。他の例において、第2の絶縁材料は第1の絶縁材料とは異なる層である。第2の絶縁材料は永久フォトレジスト等の感光性材料であり得る。
ブロック716において、システムは第2の絶縁材料内に開口を形成する。例えば、システムはフォトリソグラフィを行って、開口を形成する。システムは、フォトリソグラフィマスクを用いて永久フォトレジストを露出させる。その後、システムは、永久フォトレジストを現像し、現像したフォトレジストを焼成する。別の例において、システムは、絶縁材料をレーザエッチング又はプラズマエッチングすることによって、絶縁材料をパターニングする。
ブロック718において、システムは、ブロック716において形成された開口内を含み、第2の絶縁材料の上にシード層を堆積する。システムは、蒸着、スパッタリング、又はCVDによってシード層を堆積し得る。
ブロック720において、システムは、例えば銅含有材料を用いて、シード層をメッキして、絶縁材料内の開口を充填する。システムは、金属をオーバーメッキし、そのため、金属が第2の絶縁材料の頂部の上に延在する。
ブロック722において、システムは、金属層、シード層、及び絶縁材料に対してCMPを行い、平坦化された表面を形成する。このように、システムは、シード層によって少なくとも部分的に囲まれた第2の金属層を含んで、第2の金属層構造を形成する。少なくとも1つの例において、厚い金属層構造は、ダイの端部を超えて横方向に延在する。
少なくとも1つの例において、ブロック714、716、718、720、及び722が繰り返されて、絶縁材料によって囲まれる、徐々に幅広くなる金属特徴の付加的な層を形成する。
ブロック724において、システムは、無電解メッキを行い、第2の金属層上にメッキ層を形成する。メッキ層は、Ni/Sn、ENIG、ENEPPIG、ENEG、Sn、又は別のメッキ層であり得る。
特許請求の範囲内で、説明した実施形態における変更が可能であり、他の実施形態が可能である。
Claims (44)
- 半導体パッケージング構造であって、
ボンドパッドを含むダイ、
前記ダイ上に配置される第1の金属層構造であって、前記第1の金属層構造が第1の幅を有し、前記第1の金属層構造が第1の金属層を含み、前記第1の金属層が前記ボンドパッドに電気的に結合される、前記第1の金属構造、
前記第1の金属層構造の側面の周囲の第1の感光性材料、
前記第1の金属層構造の上と前記第1の感光性材料の一部分の上とに配置される第2の金属層構造であって、前記第2の金属層構造が前記第1の金属層構造に電気的に結合され、前記第2の金属層構造が第2の幅を有し、前記第2の幅が前記第1の幅より大きい、前記第2の金属層構造、及び
前記第2の金属層構造の側面の周囲の第2の感光性材料、
を含む、半導体パッケージング構造。 - 請求項1に記載の半導体パッケージング構造であって、
前記第1の感光性材料が永久フォトレジストである、半導体パッケージング構造。 - 請求項1に記載の半導体パッケージング構造であって、
前記第1の金属層構造が、前記第1の金属層と前記第1の感光性材料との間の第1のシード層を含み、前記第2の金属層構造が、第2の金属層及び前記第2の金属層と前記第2の感光性材料との間に配置される第2のシード層を含む、半導体パッケージング構造。 - 請求項3に記載の半導体パッケージング構造であって、
前記第2の金属層の上に配置されるメッキ層を更に含み、前記メッキ層及び前記第2のシード層が前記第2の金属層を完全に囲む、半導体パッケージング構造。 - 請求項1に記載の半導体パッケージング構造であって、
前記第1の金属層が3μm~100μmの厚みを有し、前記第1の金属層が20μm~200μmの幅を有する、半導体パッケージング構造。 - 請求項1に記載の半導体パッケージング構造であって、
前記第2の金属層構造が25μm~300μmの厚みを有し、前記第2の金属層構造が150μmより大きい幅を有する、半導体パッケージング構造。 - 請求項1に記載の半導体パッケージング構造であって、
前記第1の金属層が、長方形、正方形、円形、又は楕円形である断面を有し、前記第2の金属層構造が、長方形、円形、楕円形、多角形、又は丸い角を持つ多角形である断面を有する、半導体パッケージング構造。 - 請求項1に記載の半導体パッケージング構造であって、
前記ボンドパッドが第1のボンドパッドであり、前記第1の金属層構造が前記第2の金属層構造を前記ダイの第2のボンドパッドに電気的に結合する、半導体パッケージング構造。 - 請求項1に記載の半導体パッケージング構造であって、
前記第1の金属層が、前記第2の金属層構造に接する頂部幅と前記ボンドパッドに接する底部幅とを有し、前記頂部幅が前記底部幅より大きい、半導体パッケージング構造。 - 請求項1に記載の半導体パッケージング構造であって、
前記ボンドパッドが前記ダイの第1の側に配置され、前記半導体パッケージング構造が、前記ダイの第2の側に配置され
る裏側被覆を更に含み、前記ダイの前記第2の側が前記ダイの前記第1の側の反対側である、半導体パッケージング構造。 - 請求項10に記載の半導体パッケージング構造であって、
前記裏側被覆が黒フィルムである、半導体パッケージング構造。 - 請求項1に記載の半導体パッケージング構造であって、
前記半導体パッケージング構造が半田を含まない、半導体パッケージング構造。 - 請求項1に記載の半導体パッケージング構造であって、
前記第1の金属層が、銅か又は導電性金属の合金を含み、前記第2の金属層構造が、銅か又は導電性金属の合金を含む、半導体パッケージング構造。 - 請求項1に記載の半導体パッケージング構造であって、
前記第2の金属層構造の上、及び前記第2の感光性材料の少なくとも一部分の上に配置される第3の金属層構造、及び
前記第3の金属層構造の側面の周囲の第3の感光性材料、
を更に含む、半導体パッケージング構造。 - 請求項14に記載の半導体パッケージング構造であって、
前記第3の金属層構造が第3の幅を有し、前記第3の幅が前記第2の幅より大きい、半導体パッケージング構造。 - 請求項1に記載の半導体パッケージング構造であって、
前記第2の金属層構造が、平坦化された表面を有し、前記半導体パッケージング構造が、前記第2の金属層構造の前記平坦化された表面上に配置されるメッキ層を更に含み、前記メッキ層の少なくとも一部分が前記第2の感光性材料の頂部表面より上に延在する、半導体パッケージング構造。 - 請求項16に記載の半導体パッケージング構造であって、
前記第1の金属層が3μm~100μmの厚みを有し、前記第1の金属層が25μm~200μmの幅を有する、半導体パッケージング構造。 - 請求項17に記載の半導体パッケージング構造であって、
前記第2の金属層構造が25μm~300μmの厚みを有し、前記第2の金属層構造が150μmより大きい幅を有する、半導体パッケージング構造。 - 請求項16に記載の半導体パッケージング構造であって、
前記メッキ層が2μm~8μmの厚みを有する、半導体パッケージング構造。 - 請求項16に記載の半導体パッケージング構造であって、
前記第1の金属層構造が、前記第1の金属層と前記第1の感光性材料との間の第1のシード層を更に含み、前記第2の金属層構造が、第2の金属層及び前記第2の金属層と前記第2の感光性材料との間の第2のシード層を含む、半導体パッケージング構造。 - 請求項20に記載の半導体パッケージング構造であって、
前記第1のシード層、前記第2のシード層、及び前記メッキ層が、前記第1の金属層及び前記第2の金属層を囲む、半導体パッケージング構造。 - 請求項16に記載の半導体パッケージング構造であって、
前記メッキ層が、Ni、NiAu、NiPd、NiPdAu、NiAg、Sn、NiSn、無電解ニッケル置換金(ENIG)、無電解ニッケル無電解金(ENEG)、又は無電解ニッケル無電解パラジウム置換金(ENEPIG)を含む、半導体パッケージング構造。 - 半導体パッケージング構造であって、
ボンドパッドを含むダイ、
前記ダイを少なくとも部分的に囲むモールド化合物、
前記ダイ上に配置される第1の金属層構造であって、前記第1の金属層構造が第1の金属層を含み、前記第1の金属層が前記ボンドパッドに電気的に結合される、前記第1の金属層構造、
前記第1の金属層構造の側面の周囲の第1の絶縁材料、
前記第1の金属層構造の上に及び前記第1の絶縁材料の一部分の上に配置される第2の金属層構造であって、前記第2の金属層構造が前記第1の金属層に電気的に結合され、前記第2の金属層構造の少なくとも一部分が前記モールド化合物の上の前記ダイの端部を超えて延在する、前記第2の金属層構造、及び
前記第2の金属層構造の側面の周囲の第2の絶縁材料、
を含む、半導体パッケージング構造。 - 請求項23に記載の半導体パッケージング構造であって、
前記第1の絶縁材料及び前記第2の絶縁材料が感光性材料で構成される、半導体パッケージング構造。 - 請求項24に記載の半導体パッケージング構造であって、
前記感光性材料が永久フォトレジストである、半導体パッケージング構造。 - 請求項23に記載の半導体パッケージング構造であって、
前記第1の金属層を囲むシード層を更に含む、半導体パッケージング構造。 - 請求項23に記載の半導体パッケージング構造であって、
前記第2の金属層構造上に配置されるメッキ層、及び
前記第2の金属層構造を少なくとも部分的に囲むシード層を更に含み、前記メッキ層及び前記シード層が前記第2の金属層構造を囲む、半導体パッケージング構造。 - 請求項27に記載の半導体パッケージング構造であって、
前記メッキ層が前記第2の絶縁材料の頂部表面を超えて延在する、半導体パッケージング構造。 - 請求項23に記載の半導体パッケージング構造であって、
前記ダイが第1のダイであり、前記ボンドパッドが第1のボンドパッドであり、前記半導体パッケージング構造が、
第2のボンドパッドを含む第2のダイ、及び
前記第2のダイ上に配置される第2の金属層構造であって、前記第2の金属層構造が、前記第2のボンドパッドを前記第2の金属層構造に電気的に結合する前記第2の金属層構造を更に含み、前記第2の金属層構造が前記第1のダイの少なくとも一部分の上及び前記第2のダイの少なくとも一部分の上に配置される、半導体パッケージング構造。 - 請求項29に記載の半導体パッケージング構造であって、
前記モールド化合物が前記第1のダイ及び前記第2のダイを少なくとも部分的に囲む、半導体パッケージング構造。 - 方法であって、
ボンドパッドを含む半導体構造に第1の絶縁材料を適用すること、
前記第1の絶縁材料に開口を形成して、前記ボンドパッドの少なくとも一部分を露出させること、
第1のシード層を、前記第1の絶縁材料の上と前記第1の絶縁材料の前記開口の底部又は側壁の少なくとも一部分上とに堆積させること、
第1の金属層を、前記第1のシード層の上及び前記第1の絶縁材料の前記開口内にメッキすること、
前記第1の絶縁材料における前記開口内に第1の金属層構造を形成するように、前記第1の金属層、前記第1のシード層、及び前記第1の絶縁材料の少なくとも一部分に対して化学機械研磨(CMP)を行うこと、
第2の絶縁材料を前記第1の絶縁材料の上及び前記第1の金属層構造の上に適用すること、
前記第2の絶縁材料内に開口を形成して、前記第1の金属層構造の少なくとも一部分及び前記第1の絶縁材料の少なくとも一部分を露出させること、
第2のシード層を前記第2の絶縁材料の上に及び前記第2の絶縁材料の前記開口の底部又は側壁の少なくとも一部分上に堆積させること、
第2の金属層を前記第2のシード層の上及び前記第2の絶縁材料の前記開口内にメッキすること、及び
前記第2の絶縁材料の前記開口内に第2の金属層構造を形成するように、前記第2の金属層上、前記第2のシード層上、及び前記第2の絶縁材料に対してCMPを行うことであって、前記第2の金属層構造が前記第2の金属層及び前記第2のシード層を含むこと、
を含む、方法。 - 請求項31に記載の方法であって、
前記第1の絶縁材料を適用することが、前記第1の絶縁材料を前記半導体構造上にスピンコーティングすることを含み、前記第2の絶縁材料を適用することが、前記第2の絶縁材料を前記第1の絶縁材料上及び前記第1の金属層構造上にスピンコーティングすることを含む、方法。 - 請求項31に記載の方法であって、
前記第1の絶縁材料を適用することが、前記第1の絶縁材料を前記半導体構造上に積層することを含み、前記第2の絶縁材料を適用することが前記第2の絶縁材料を前記第1の絶縁材料上及び前記第1の金属層構造上に積層することを含む、方法。 - 請求項31に記載の方法であって、
前記第1の絶縁材料内に前記開口を形成することが、前記第1の絶縁材料に対してフォトリソグラフィを行うことを含み、前記第2の絶縁材料内に前記開口を形成することが、前記第2の絶縁材料に対してフォトリソグラフィを行うことを含む、方法。 - 請求項31に記載の方法であって、
メッキ層を前記第2の金属層構造に適用することを更に含み、前記メッキ層が前記第2の絶縁材料の頂部表面より上に延在する、方法。 - 請求項31に記載の方法であって、
前記半導体構造の表面に裏側被覆を適用することを更に含む、方法。 - 請求項31に記載の方法であって、
前記半導体構造がダイであり、前記方法が、
前記ダイをキャリアに取り付けること、
前記ダイが前記キャリアに取り付けられている間に、前記ダイを覆うため、前記ダイに対してモールドを行うこと、及び
前記ダイに対してモールドを行った後に、再構成されたウェハを生成するため、前記キャリアを除去すること、
を更に含む、方法。 - 請求項37に記載の方法であって、
前記半導体構造が第1のダイを含み、前記方法が、
前記第1のダイを前記キャリアに取り付けること、及び
第2のダイを前記キャリアに取り付けること、
を更に含む、方法。 - 方法であって、
ボンドパッドを含む半導体構造に第1の絶縁材料を適用すること、
前記第1の絶縁材料内に開口を形成し、前記ボンドパッドの少なくとも一部分を露出させること、
前記第1の絶縁材料の上と前記第1の絶縁材料の前記開口の底部又は側壁の少なくとも一部分上とに第2の絶縁材料を適用すること、
前記第2の絶縁材料内に、前記第1の絶縁材料の前記開口の少なくとも一部分を介して延在する開口を形成し、前記ボンドパッドの少なくとも一部分を露出させること、
前記第2の絶縁材料の上と前記第2の絶縁材料及び前記第1の絶縁材料の前記開口の底部又は側壁の少なくとも一部分上とにシード層を堆積させること、
金属層を前記シード層の上及び前記第2の絶縁材料及び前記第1の絶縁材料の前記開口内に堆積させること、及び
第1の金属層構造を前記第1の絶縁材料の前記開口内に、及び第2の金属層構造を前記第2の絶縁材料の前記開口内に形成するため、前記金属層の少なくとも一部分上と、前記シード層上と、前記第2の絶縁材料とに対してCMPを行うこと、
を含む、方法。 - 請求項39に記載の方法であって、
前記第2の絶縁材料を適用することが、前記第2の絶縁材料を前記第1の絶縁材料上にスピンコーティングすること又は積層することを含む、方法。 - 請求項39に記載の方法であって、
前記開口を、前記第2の絶縁材料内に及び前記第1の絶縁材料の前記開口を介して形成することが、前記第2の絶縁材料に対してフォトリソグラフィを行うことを含む、方法。 - 請求項39に記載の方法であって、
メッキ層を前記第2の金属層構造に適用することを更に含み、前記メッキ層が前記第2の絶縁材料の頂部より上に延在する、方法。 - 請求項39に記載の方法であって、
裏側被覆を前記半導体構造の前記ボンドパッドの側とは反対の側に適用することを更に含む、方法。 - 請求項39に記載の方法であって、
前記半導体構造がダイであり、前記方法が、
前記ダイをキャリアに取り付けること、
前記ダイが前記キャリアに取り付けられている間に、前記ダイを少なくとも部分的に覆うように、前記ダイに対してモールドを行うこと、及び
前記ダイに対してモールドを行った後に、再構成されたウェハを生成するため、前記ダイから前記キャリアを除去すること、
を更に含む、方法。
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