JP2023101925A - 液晶セル、液晶装置 - Google Patents

Abstract

【課題】液晶装置を高温の環境下に曝した場合であっても、液晶材料の滲出を抑制できる液晶セル、液晶装置を提供することができる。【解決手段】液晶セル１０は、第１積層体１２と、第２積層体１３と、第１積層体１２及び第２積層体１３により挟持された液晶層１４と、第１積層体１２と第２積層体１３と間に設けられ、液晶層１４の液晶材料を封止するシール材２５とを備え、第１積層体１２及び第２積層体１３は、透明フィルムからなる第１基材２１Ａ，第２基材２１Ｂと、これら基材に形成された第１透明電極２２Ａ，第２透明電極２２Ｂとを有し、これらの電極の駆動により、透過光を制御する。平面視における液晶セル１０の面積が４８００００ｍｍ２以上であり、シール材２５は、１００℃環境下において、第１積層体１２及び第２積層体１３に対して、９０度剥離接着強さが０．３Ｎ／１０ｍｍ以上であり、かつ、せん断強度が０．５Ｎ／ｍｍ２以上である。【選択図】図２

Description

本開示の実施形態は、液晶セル、液晶装置に関するものである。

従来、窓等の透光部材と組み合わせて用いられ、外来光の透過を制御する電子ブラインド等に利用可能な、液晶を用いた調光部材や、このような調光部材を用いた調光装置等の液晶装置が提案されている（例えば、特許文献１参照）。

国際公開第２０１９／１９８７４８号

このような液晶装置では、一対のガラス板と、このガラス板間に配置される液晶セルと、各ガラス板と液晶セルとの間に設けられる接合層を備える構成が用いられている。

しかし、完成後の液晶装置を高温の環境下に曝した場合、液晶セル内に封止された液晶材料が液晶セル外に漏れたり、シール材の接着面上に滲み出したりする現象（以下、液晶材料の滲出、という）が生じる場合がある。液晶装置を高温環境下に曝した場合、接合層が高温により膨張する。これにより、液晶セルが押圧されて液晶材料が流動し、シール材が押圧される。このとき、シール材の接着強度が不十分であると、シール材の剥離や破損により、上述のような液晶材料の滲出が生じてしまう。液晶材料の滲出は、液晶セルの性能を低下させるとともに、液晶装置の外観も損なうため、好ましくない。

本開示の実施形態の課題は、液晶装置を高温の環境下に曝した場合であっても、液晶材料の滲出を抑制できる液晶セル、液晶装置を提供することである。

本開示の実施形態は、以下のような解決手段により、前記課題を解決する。なお、理解を容易にするために、本開示の実施形態に対応する符号を付して説明するが、これに限定されるものではない。
第１の開示の実施形態は、第１積層体（１２）と、第２積層体（１３）と、前記第１の積層体及び前記第２積層体により挟持された液晶層（１４）と、前記第１の積層体と前記第２積層体と間に設けられ、前記液晶層の液晶材料を封止するシール材（２５）と、を備え、前記第１の積層体及び前記第２積層体は、透明フィルムからなる基材（２１Ａ，２１Ｂ）と、前記基材に形成された電極（２２Ａ，２２Ｂ）とを有し、前記電極の駆動により、透過光を制御する液晶セルであって、平面視における面積が４８００００ｍｍ^２以上であり、前記シール材は、１００℃環境下において、前記第１積層体及び前記第２積層体に対して、９０度剥離接着強さが０．３Ｎ／１０ｍｍ以上であり、かつ、せん断強度が０．５Ｎ／ｍｍ^２以上である、液晶セル（１０）である。
第２の開示の実施形態は、第１の開示の実施形態の液晶セルにおいて、平面視の形状が矩形形状であり、短辺が４８０ｍｍ以上である、液晶セル（１０）である。
第３の開示の実施形態は、第１又は第２の開示の実施形態の液晶セル（１０）と、前記液晶セルの一方の面側に位置する第１透明基板（４１）と、前記液晶セルの他方の面側に位置する第２透明基板（４２）と、前記第１透明基板と前記液晶セルとの間に配置された第１接合層（３１）と、前記第２透明基板と前記液晶セルとの間に配置された第２接合層（３２）と、を備え、前記第１接合層及び前記第２接合層は、圧着性の接着成分を含有する接合体を含まない、液晶装置（１）である。
第４の開示の実施形態は、第３の開示の実施形態の液晶装置において、前記第１接合層（３１）がＯＣＲであり、前記第２接合層（３２）がＯＣＲ又はＯＣＡである、液晶装置（１）である。

本開示の実施形態によれば、液晶装置を高温の環境下に曝した場合であっても、液晶材料の滲出を抑制できる液晶セル、液晶装置を提供することができる。

本開示の実施形態の液晶装置１の構成を示す分解斜視図である。 本開示の実施形態による液晶装置１（合わせガラス）の層構成を示す断面図である。 シール材２５の９０度剥離接着強さの試験片６０の作製方法を説明する図である。 シール材２５の９０度剥離接着強さの測定方法を説明する図である。 シール材２５のせん断強度の試験片７０の作製方法を説明する図である。 シール材２５のせん断強度の測定方法を説明する図である。

以下、図面等を参照して、本開示の実施形態について説明する。なお、図１を含め、以下に示す各図は、模式的に示した図であり、各部の大きさ、形状は、理解を容易にするために、適宜誇張している。
また、以下の説明では、具体的な数値、形状、材料等を示すが、これらは、適宜変更することができる。また、本明細書及び特許請求の範囲において規定する具体的な数値には、一般的な誤差範囲は含むものとして扱うべきものである。すなわち、±１０％程度の差異は、実質的には違いがないものであって、本件の数値範囲をわずかに超えた範囲に数値が設定されているものは、実質的には、本件発明の範囲内のものと解釈すべきである。

本明細書において、形状や幾何学的条件を特定する用語、例えば、平行や直交等の用語については、厳密に意味するところに加え、同様の光学的機能を奏し、平行や直交と見なせる程度の誤差を有する状態も含むものとする。
また、本明細書において、透明とは、少なくとも利用する波長の光を透過するものをいう。例えば、仮に可視光を透過しないものであっても、赤外線を透過するものであれば、赤外線用途に用いる場合においては、透明として取り扱うものとする。

本明細書において、板、シート、フィルム等の言葉を使用しているが、これらは、一般的な使い方として、厚さの厚い順に、板、シート、フィルムの順で使用されており、本明細書中でもそれに倣って使用している。しかし、このような使い分けには、技術的な意味は無いので、これらの文言は、適宜置き換えることができるものとする。
本明細書において、シート面とは、各シートにおいて、そのシート全体として見たときにおける、シートの平面方向となる面を示すものであるとする。なお、板面、フィルム面に関しても同様であるとする。
また、本明細書及び特許請求の範囲において、特に限定がある場合を除いて、平面視とは、液晶装置の主たる面に対して垂直な方向から見た状態である。

（実施形態）
図１は、本開示の実施形態の液晶装置１の構成を示す分解斜視図である。
液晶装置１は、光の透過率の調整が求められる様々な技術分野に応用可能であり、適用範囲は特に限定されない。液晶装置１は、例えば、建築物の窓ガラスや、ショーケース、屋内の透明パーテーション、車両のウインドウ（例えば、フロントや、サイド、リア、ルーフ等のウインドウ）、車両内部のパーテーションボード等の調光を図る部位に配置される。これにより、建築物や車両等の内側への入射光の光量を制御したり、又は建築物や車両等の内部における所定区域への入射光の光量を制御したりすることができる。

本開示の実施形態による液晶装置１は、表面形状が平面状（すなわち、平板状）である例を挙げて説明する。しかし、これに限らず、液晶装置１は、表面形状が曲面形状を有する３次元形状により構成されていてもよく、例えば、液晶装置１が一方の面側に凸となる形状を有していてもよい。

図１に示すように、本開示の実施形態による液晶装置（合わせガラス）１は、第１ガラス板４１と、第１接合層３１と、液晶セル１０と、第２接合層３２と、第２ガラス板４２とを備えている。液晶装置１の厚み方向において、第１ガラス板４１と、第１接合層３１と、液晶セル１０と、第２接合層３２と、第２ガラス板４２とは、この順番で積層配置されている。

図２は、本開示の実施形態による液晶装置１（合わせガラス）の層構成を示す断面図である。
図２に示すように、液晶装置１は、第１ガラス板４１と、第２ガラス板４２と、第１ガラス板４１と第２ガラス板４２との間に配置された液晶セル１０とを備えている。
液晶セル１０は、第１基材２１Ａと第１透明電極２２Ａと第１配向層２３Ａとを含む第１積層体１２と、第２基材２１Ｂと第２透明電極２２Ｂと第２配向層２３Ｂとを含む第２積層体１３と、第１積層体１２と第２積層体１３との間に配置された液晶層１４とを備えている。

第１ガラス板（第１透明基板）４１及び第２ガラス板（第２透明基板）４２は、それぞれ、液晶装置１の表裏面に配置され、高い透光性を有する板ガラスである。
本開示の実施形態では、第１ガラス板４１及び第２ガラス板４２は、厚さが０．５ｍｍ以上４ｍｍ以下であり、一例として、いずれも厚さ２ｍｍの板ガラスを用いている。第１ガラス板４１及び第２ガラス板４２として無機ガラスを用いた場合、耐熱性、耐傷性に優れた液晶装置１とすることができる。第１ガラス板４１及び第２ガラス板４２には、必要に応じて、ハードコート等の表面処理がなされてもよい。

なお、第１ガラス板（第１透明基板）４１及び第２ガラス板（第２透明基板）４２には、無機ガラスの代わりに透明樹脂板（いわゆる、樹脂ガラス）を用いてもよい。第１透明基板及び第２透明基板として用いる透明樹脂板としては、例えば、ポリカーボネート、アクリル等を用いることができる。第１透明基板及び第２透明基板に透明樹脂板を用いた場合、液晶装置１を軽量化することができる。

第１接合層３１は、第１ガラス板４１と液晶セル１０との間に配置されており、第１ガラス板４１と液晶セル１０とを互いに接合させる部材である。
第１接合層３１は、液晶セル１０よりも平面視の大きさが大きい。これに限らず、第１接合層３１は、平面視において、第１ガラス板４１及び第２ガラス板４２と同一の大きさであってもよいし、液晶セル１０よりも大きく第１ガラス板４１及び第２ガラス板４２よりも小さくてもよい。

図２に示すように、第１接合層３１は、液晶セル１０を覆う領域に加え、液晶セル１０の周囲に相当する部分にも形成されており、この部分において第１接合層３１は、第２接合層３２に接続されている。第１接合層３１をこのような形態とすることにより、液晶セル１０の側面又はその一部が液晶装置１の側面に露出することを防ぎ、また、液晶装置１の側面からの水分等の侵入を抑止し、液晶装置１の遮水性をより高めることができる。

本開示の実施形態では、第１接合層３１は、ＯＣＲ（Optical Clear Resin）から構成されている。ＯＣＲは、重合性化合物を含む液状の硬化性接着層用組成物を硬化した硬化物である。具体的には、ＯＣＲは、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂又はウレタン系樹脂等のベース樹脂と添加剤とを混合した液状の樹脂を対象物に塗布した後、例えば紫外線（ＵＶ）等を用いて硬化したものである。
第１接合層３１は、光学透明性を有しており、さらに少なくとも１２０℃程度までの耐熱性、耐湿熱性、耐候性を有することが好ましい。
第１接合層３１の厚さは、その材料等に応じて適宜選択してよい。具体的には、平面視において液晶セル１０と重複する領域における第１接合層３１の厚さは、３０μｍ以上１０００μｍ以下とすることができる。

第２接合層３２は、第２ガラス板４２と液晶セル１０との間に配置されており、第２ガラス板４２と液晶セル１０とを互いに接合させる部材である。
第２接合層３２は、液晶セル１０よりも平面視の大きさが大きい。これに限らず、第２接合層３２は、平面視において、第１ガラス板４１及び第２ガラス板４２と同一の大きさであってもよいし、液晶セル１０よりも大きく第１ガラス板４１及び第２ガラス板４２よりも小さくてもよい。

本開示の実施形態では、第２接合層３２は、ＯＣＡ（Optical Clear Adhesive）から構成した。ＯＣＡは、例えば、以下のようにして作製された層である。
まず、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等の離型フィルム上に、重合性化合物を含む液状の硬化性接着層用組成物を塗布し、これを例えば紫外線（ＵＶ）等を用いて硬化し、ＯＣＡシートを得る。上記の硬化性接着層用組成物は、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂又はウレタン系樹脂等の光学用粘着剤であってもよい。
このＯＣＡシートを対象物に貼合した後、離型フィルムを剥離除去することにより、上記ＯＣＡからなる層が得られる。

ＯＣＡからなる第２接合層３２は、光学透明性を有しており、さらに少なくとも１２０℃程度までの耐熱性、耐湿熱性、耐候性を有することが好ましい。
なお、本開示の実施形態において、第２接合層３２は、ＯＣＡから構成される例を挙げて説明するが、これに限らず、第１接合層３１と同様にＯＣＲにより構成されてもよいし、第１接合層３１及び第２接合層３２が、いずれもＯＣＡにより構成されてもよい。また、第１接合層及び第２接合層３２は、一方が、ＯＣＡ又はＯＣＲにより構成され、他方がＰＶＢ（ポリビニルブチラール）により構成されてもよいし、いずれもＰＶＢにより構成されてもよい。
第２接合層３２の厚さは、その材料等に応じて適宜選択してよい。具体的には、第２接合層３２の厚さは、３０μｍ以上５００μｍ以下としてもよく、５０μｍ以上２００μｍ以下とすることが好ましい。

なお、本開示の実施形態において、第１接合層３１は、第１ガラス板４１と液晶セル１０とを直接接合させ、第２接合層３２は、第２ガラス板４２と液晶セル１０とを直接接合させている。しかし、これに限らず、第１ガラス板４１と液晶セル１０との間、第２ガラス板４２と液晶セル１０との間の少なくとも１ヶ所に、例えば、紫外線（ＵＶ）カットフィルム等のフィルムを介在させてもよい。

上述のように、第１接合層３１及び第２接合層３２は、非圧着性の接着成分を含有する接合体である。ここで、「非圧着性の接着成分を含有する接合体」とは、隣接物体に対して適切に接着するために加圧が不要な接合体であり、常圧下で隣接物体と適度に接着することが可能なものをいう。

本開示の実施形態では、第１接合層３１は、ＯＣＲから形成される層であるので、第１ガラス板４１は、第１接合層３１により加圧されることなく（すなわち環境圧下（通常は大気圧下）で）、液晶セル１０に接着可能である。また、第１ガラス板４１は、第１接合層３１により、常温（例えば１０℃以上３０℃以下）で液晶セル１０に接着可能である。同様に、第２接合層３２は、ＯＣＡから形成される層であるので、第２ガラス板４２は、第２接合層３２により加圧されることなく（すなわち環境圧下（通常は大気圧下）で）、液晶セル１０に接着可能である。また、第２ガラス板４２は、第２接合層３２により、常温（例えば１０℃以上３０℃以下）で液晶セル１０に接着可能である。

なお、液晶装置１は、接合層として圧着性の接着成分を含有する接合体を用いてもよい。圧着性の接着成分を含有する接合体としては、例えばＰＶＢ（ポリビニルブチラール）等からなる中間膜を挙げることができる。なお、「圧着性の接着成分を含有する接合体」とは、隣接物体に対して適切に接着するために加圧（すなわち常圧よりも大きな圧力）が必要となる接合体をいう。常圧は、環境圧であり、通常は大気圧に等しく、標準大気圧としうる。
ＰＶＢ等からなる中間膜のような圧着性の接着成分を含有する接合体に関しても、本開示の実施形態の第１接合層３１及び第２接合層３２として使用可能であるが、高温環境下において、この中間膜が軟化して液晶溜まりが生じる場合がある。そのような観点から、前述の「非圧着性の接着成分を含有する接合体」であるＯＣＡやＯＣＲにより、第１接合層３１及び第２接合層３２を形成することが好ましい。

液晶セル１０（調光フィルム、液晶フィルム）は、印加電圧を変化させることにより透過光の光量を制御することができるフィルムである。液晶セル１０は、第１ガラス板４１と第２ガラス板４２との間に挟持されるように配置されている。
この液晶セル１０は、二色性色素を使用したゲストホスト型の液晶層を有しており、液晶に印加する電界により透過光量を変化させる部材である。液晶セル１０は、フィルム状の第１積層体１２と、フィルム状の第２積層体１３と、第１積層体１２と第２積層体１３との間に配置された液晶層１４とを備えている。

図２に示すように、第１積層体１２は、第１基材２１Ａと、第１透明電極２２Ａと、第１配向層２３Ａとを備え、第１接合層３１側から、第１基材２１Ａ、第１透明電極２２Ａ、第１配向層２３Ａの順番で積層配置されている。
また、第２積層体１３は、第２基材２１Ｂと、第２透明電極２２Ｂと、第２配向層２３Ｂとを備え、第２接合層３２側から、第２基材２１Ｂ、第２透明電極２２Ｂ、第２配向層２３Ｂの順番で積層配置されている。

さらに、第１積層体１２と第２積層体１３との間には、複数のビーズスペーサー２４が配置されている。液晶層１４は、第１積層体１２及び第２積層体１３の間において、複数のビーズスペーサー２４の間に液晶が充填されることで配置されている。複数のビーズスペーサー２４は、それぞれ不規則的に配置されていてもよいし、規則的に配置されていてもよい。

液晶セル１０は、第１積層体１２及び第２積層体１３に設けられた第１透明電極２２Ａ及び第２透明電極２２Ｂの駆動により、液晶層１４のゲストホスト液晶組成物による液晶材料の配向を変化させ、これにより透過光の光量を変化させるものである。

第１基材２１Ａ及び第２基材２１Ｂは、透明な樹脂製であって、可撓性を有するフィルムを適用することができる。第１基材２１Ａ及び第２基材２１Ｂとしては、光学異方性が小さく、また、可視域の波長（３８０ｎｍ以上８００ｎｍ以下）に対する透過率が８０％以上である透明樹脂フィルムを適用することが望ましい。
このような透明樹脂フィルムの材料としては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のアセチルセルロース系樹脂、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル系樹脂、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン、ポリメチルペンテン、ＥＶＡ等のポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリサルホン（ＰＳＦ）、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、（メタ）アクロニトリル、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、シクロオレフィンコポリマー等の樹脂を挙げることができる。透明樹脂フィルムの材料としては、特に、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ポリエチレンテレフタレート等の樹脂が好ましい。

また、第１基材２１Ａ及び第２基材２１Ｂとして用いられる透明樹脂フィルムの厚みは、その材料にもよるが、その透明樹脂フィルムが可撓性を有する範囲内で適宜選択することができる。第１基材２１Ａ及び第２基材２１Ｂの厚みは、それぞれ５０μｍ以上２００μｍ以下としてもよい。
本開示の実施形態では、第１基材２１Ａ及び第２基材２１Ｂの一例として、厚み１２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムが適用される。

第１透明電極２２Ａ及び第２透明電極２２Ｂは、それぞれ第１基材２１Ａ及び第２基材２１Ｂ（透明樹脂フィルム）に積層される透明導電膜から構成されている。透明導電膜としては、この種の透明樹脂フィルムに適用される各種の透明電極材料を適用することができ、酸化物系の全光透過率が５０％以上の透明な金属薄膜、例えば、酸化錫系、酸化インジウム系、酸化亜鉛系が挙げられる。

酸化錫（ＳｎＯ_２）系としては、ネサ（酸化錫ＳｎＯ_２）、ＡＴＯ（Antimony Tin Oxide：アンチモンドープ酸化錫）、ＦＴＯ（フッ素ドープ酸化錫）が挙げられる。酸化インジウム（Ｉｎ_２Ｏ_３）系としては、酸化インジウム、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide：インジウム錫酸化物）、ＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）が挙げられる。酸化亜鉛（ＺｎＯ）系としては、酸化亜鉛、ＡＺＯ（アルミドープ酸化亜鉛）、ＧＺＯ（ガリウムドープ酸化亜鉛）が挙げられる。
本開示の実施形態では、第１透明電極２２Ａ及び第２透明電極２２Ｂを構成する透明導電膜は、ＩＴＯにより形成されている。

ビーズスペーサー２４は、液晶層１４における外周部を除く部分の厚み（セルギャップ）を規定する部材である。本開示の実施形態では、ビーズスペーサー２４として、球形状のビーズスペーサーを用いている。ビーズスペーサー２４の直径は、１μｍ以上２０μｍ以下としてもよく、３μｍ以上１５μｍ以下とすることが好ましい。
ビーズスペーサー２４は、シリカ等による無機材料による構成、有機材料による構成、これらを組み合わせたコアシェル構造の構成等を広く適用することができる。
なお、ビーズスペーサーは、球形状による構成の他に、円柱形状、楕円柱形状、多角柱形状等のロッド形状により構成してもよい。また、ビーズスペーサー２４は、透明部材により製造されるが、必要に応じて着色した材料を適用して、色味を調整するようにしてもよい。

なお、本開示の実施形態では、ビーズスペーサー２４は、第２積層体１３に設けられるが、これに限定されるものでなく、第１積層体１２及び第２積層体１３の両方、又は、第１積層体１２にのみ設けられるようにしてもよい。また、ビーズスペーサー２４は、必ずしも設けられていなくてもよい。また、ビーズスペーサー２４に代えて、もしくはビーズスペーサー２４とともに、柱状のスペーサーを用いてもよい。

第１配向層２３Ａ及び第２配向層２３Ｂは、液晶層１４に含まれる液晶分子群を所望の方向に配向させるための部材である。
第１配向層２３Ａ及び第２配向層２３Ｂは、光配向層により形成される。光配向層に適用可能な光配向材料は、光配向の手法を適用可能な各種の材料を広く適用することができ、例えば、光分解型、光二量化型、光異性化型等を挙げることができる。
本開示の実施形態では、光二量化型の材料を使用する。光二量化型の材料としては、例えば、シンナメート、クマリン、ベンジリデンフタルイミジン、ベンジリデンアセトフェノン、ジフェニルアセチレン、スチルバゾール、ウラシル、キノリノン、マレインイミド、又は、シンナミリデン酢酸誘導体を有するポリマー等を挙げることができる。光二量化型の材料としては、特に、配向規制力が良好である点で、シンナメート、クマリンの一方又は両方を有するポリマーが好ましく用いられる。

なお、光配向層に代えて、ラビング配向層を用いてもよい。ラビング配向層に関しては、ラビング処理を行わないものとしてもよいし、ラビング処理を行い、微細なライン状凹凸形状を賦型処理して配向層を作製してもよい。
本開示の実施形態では、液晶セル１０は、第１配向層２３Ａ及び第２配向層２３Ｂを備えているが、これに限らず、第１配向層２３Ａ及び第２配向層２３Ｂを備えない形態としてもよい。

液晶層１４には、ゲストホスト液晶組成物、二色性色素組成物を広く適用して形成することができる。ゲストホスト液晶組成物にはカイラル剤を含有させ、液晶材料を水平配向させた場合に液晶層１４の厚み方向に螺旋形状に配向させるようにしてもよい。
また、第１積層体１２と第２積層体１３との間において、液晶層１４を取り囲むように、平面視で環状又は枠状のシール材２５が配置されている。このシール材２５により、第１積層体１２と第２積層体１３とが一体に接着されて保持され、液晶材料の漏出が防止される。
シール材２５は、エポキシ樹脂、アクリル樹脂等の熱硬化性樹脂や紫外線硬化性樹脂等を適用することができる。
また、シール材２５は、その幅が３～５ｍｍであり、厚みを２５～３０μｍとすることができる。

シール材２５は、高温（１００℃）環境下において、第１積層体１２や第２積層体１３に対する接着強度が十分高いことが好ましい。具体的には、高温（１００℃）環境下におけるシール材２５の第１積層体１２、第２積層体１３に対する９０度剥離接着強さ（いわゆる、Ｔ型剥離接着強さ）が０．３Ｎ／１０ｍｍ以上であり、かつ、高温（１００℃）環境下におけるシール材２５の第１積層体１２、第２積層体１３に対するせん断強度が０．５Ｎ／ｍｍ^２以上であることが好ましい。シール材２５が第１積層体１２及び第２積層体１３に対して上述の接着強度を満たすことにより、液晶装置１を高温環境下に曝した場合に、シール材が剥離したり破損したりすることにより生じる液晶材料の滲出を抑制することができる。このような液晶材料の滲出は、液晶セル１０の平面視での面積が大きいほど生じやすい傾向を有し、特に、液晶セル１０の平面視での面積が４８００００ｍｍ^２以上である場合には、シール材２５が上記接着強度を満たすことが、液晶材料の滲出を抑制する観点から特に有効である。
なお、液晶セル１０の平面視での面積とは、平面視での液晶セル１０全体の面積、すなわち、液晶セル１０の外形の面積であり、シール材２５の内側に位置する液晶層１４の平面視での面積ではない。
シール材２５の９０度剥離接着強さ（Ｔ型剥離接着強さ）及びせん断強度の測定方法等については、詳細を後述する。

液晶層１４には、重合性官能基を有していない液晶化合物として、ネマチック液晶化合物、スメクチック液晶化合物及びコレステリック液晶化合物を適用することができる。
ネマチック液晶化合物としては、例えば、ビフェニル系化合物、ターフェニル系化合物、フェニルシクロヘキシル系化合物、ビフェニルシクロヘキシル系化合物、フェニルビシクロヘキシル系化合物、トリフルオロ系化合物、安息香酸フェニル系化合物、シクロヘキシル安息香酸フェニル系化合物、フェニル安息香酸フェニル系化合物、ビシクロヘキシルカルボン酸フェニル系化合物、アゾメチン系化合物、アゾ系化合物、及びアゾオキシ系化合物、スチルベン系化合物、トラン系化合物、エステル系化合物、ビシクロヘキシル系化合物、フェニルピリミジン系化合物、ビフェニルピリミジン系化合物、ピリミジン系化合物、及びビフェニルエチン系化合物等を挙げることができる。

スメクチック液晶化合物としては、例えば、ポリアクリレート系、ポリメタクリレート系、ポリクロロアクリレート系、ポリオキシラン系、ポリシロキサン系、ポリエステル系等の強誘電性高分子液晶化合物を挙げることができる。
コレステリック液晶化合物としては、例えば、コレステリルリノレート、コレステリルオレエート、セルロース、セルロース誘導体、ポリペプチド等を挙げることができる。

ゲストホスト方式に用いられる二色性色素としては、液晶に対して溶解性があり、二色性の高い色素、例えば、アゾ系、アントラキノン系、キノフタロン系、ペリレン系、インジゴ系、チオインジゴ系、メロシアニン系、スチリル系、アゾメチン系、テトラジン系等の二色性色素が挙げられる。

液晶セル１０は、無電界時において遮光状態のゲストホスト液晶組成物の配向となるように、第１配向層２３Ａ及び第２配向層２３Ｂを一定の方向にプレチルトに係る配向規制力を設定した水平配向層に構成し、これによりノーマリーダークにより構成される。なお、液晶セル１０は、電界印加時において遮光状態となるノーマリークリアとして構成してもよい。
ここで、ノーマリーダークとは、液晶に電圧がかかっていない時に透過率が最小となり、遮光状態となる構造である。ノーマリークリアとは、液晶に電圧がかかっていない時に透過率が最大となり、透光状態となる構造である。

また、透光状態において液晶セル１０を通して見える景色等が明瞭に見えることが望ましいので、透光状態でのヘイズ値は低いことが望ましい。具体的には、液晶セル１０の透光状態でのヘイズ値は、３０％以下であることが望ましく、１５％以下であることがより望ましい。このような低いヘイズ値を実現するためには、液晶混合物中に重合性化合物が入っていないことが望ましい。

本開示の実施形態の液晶セル１０は、ゲストホスト型の液晶層１４を備える例を示したが、これに限られるものではない。液晶セル１０は、二色性色素組成物を用いないＴＮ（Twisted Nematic）方式、ＶＡ（Vertical Alignment）方式、ＩＰＳ（In-Plane-Switching）方式等の液晶層１４を備える構成としてもよい。このような液晶層１４を備える場合、第１基材２１Ａ及び第２基材２１Ｂの表面にそれぞれ直線偏光層をさらに設けることで、調光フィルムとして機能させることができる。

図１に示すように、液晶セル１０には、第１透明電極２２Ａ及び第２透明電極２２Ｂと外部との電気的接続を行うために、フレキシブルプリント配線基板１８が配置されている。
フレキシブルプリント配線基板１８は、例えば、第１透明電極２２Ａ及び第２透明電極２２Ｂが液晶層１４を挟んでいない領域において、第１透明電極２２Ａ及び第２透明電極２２Ｂに挟まれて配置されることにより接続することができる。なお、フレキシブルプリント配線基板１８は、例えば、第１透明電極２２Ａ及び第２透明電極２２Ｂに挟まれていない形態としてもよい。

（シール材２５の接着強度に関して）
シール材２５の高温（１００℃）環境下での９０度剥離接着強さ（Ｔ型剥離接着強さ）及びせん断強度の好ましい範囲等について説明する。
シール材２５は、１００℃環境下において、９０度剥離接着強さ（Ｔ型剥離接着強さ）が０．３Ｎ／１０ｍｍ以上であり、かつ、せん断強度が０．５Ｎ／ｍｍ^２であることが、高温環境下でのシール材２５の破断や第１積層体１２や第２積層体１３からの剥離による液晶材料の滲出を抑制する観点から好ましい。

液晶装置１が高温環境下に曝された場合、第２接合層３２のＯＣＲ材料が膨張する。このとき、液晶セル１０は、第１ガラス板４１及び第２ガラス板４２に挟持されているため、ＯＣＲ材料の膨張により液晶セル１０が加圧される。これにより、液晶材料が液晶層１４の外端側（シール材２５側）へ流動し、シール材２５と第１積層体１２及び第２積層体１３との接着面に強い圧力がかかる。このとき、シール材２５の第１積層体１２及び第２積層体１３への接着強度が不十分だと、シール材２５の剥離や破損が生じ、液晶材料がシール材２５と第１積層体１２や第２積層体１３との接着面や液晶セル１０外へ滲み出すという現象が生じる。このような液晶材料の滲出は、液晶セル１０の平面視での面積が大きい場合に生じやすく、液晶装置１としての光学性能の低下や外観性の低下等を招き、好ましくない。

そこで、特に、液晶セル１０の平面視での面積が４８００００ｍｍ^２を超える場合に、高温（１００℃）環境下における、シール材２５の第１積層体１２及び第２積層体１３に対する接着強度は、９０度剥離接着強さが０．３Ｎ／１０ｍｍ以上であり、かつ、せん断強度が０．５Ｎ／ｍｍ^２であることが、液晶材料の滲出を抑制する観点から好ましい。

前述のように、本開示の実施形態では、液晶セル１０において、シール材２５は、第１積層体１２と第２積層体１３とを接着して液晶層１４の液晶材料を封止している。第１積層体１２は、第１基材２１Ａの液晶層１４側の面に第１透明電極２２Ａ及び第１配向層２３Ａが設けられており、第２積層体１３は、第２基材２１Ｂの液晶層１４側の面に第２透明電極２２Ｂ及び第２配向層２３Ｂが設けられている。
したがって、本開示の実施形態でのシール材２５の第１積層体１２、第２積層体１３との接着強度は、シール材２５とこれらの積層体の液晶側の面（配向層、電極が積層された面）との接着強度に相当する。

９０度剥離接着強さ、せん断強度の測定方法等を説明する。
図３は、シール材２５の９０度剥離接着強さの試験片６０の作製方法を説明する図である。
図４は、シール材２５の９０度剥離接着強さの測定方法を説明する図である。
シール材２５の９０度剥離接着強さ試験に用いる試験片６０は、以下のように作製される。まず、図３（ａ）に示すように、不図示のノズル等により、第２積層体１３の液晶層１４側となる面（第２透明電極２２Ｂ及び第２配向層２３Ｂが設けられている面）上にシール材２５を枠状に塗布する。このとき、シール材２５が、液晶セル１０の製造時と同様の幅及び厚みとなるように塗布する。

次に図３（ｂ）に示すように、第２積層体１３及びシール材２５の上に第１積層体１２をラミネートで貼り合わせて積層体６０Ａとし、シール材２５を硬化させる。このとき、第１積層体１２は、その液晶層１４側となる面（第１透明電極２２Ａ及び第１配向層２３Ａが設けられている面）がシール材２５及び第２積層体１３側となるように積層する。また、積層体６０Ａの厚み方向から見て、図３（ｃ）に示すように、第１積層体１２は、第２積層体１３に対して全面に積層された状態となっている。
次に、図３（ｃ）に示すように、積層体６０Ａから、９０度剥離接着強さの測定用の試験片に応じた大きさ及びシール材２５の位置となるように、試験片６０を切り出す。

試験片６０は、図３（ｄ）に示すように、平面視での形状が長方形形状である。平面視において、試験片６０のシール材２５は、試験片６０の長辺方向の一方の端部近傍に、短辺方向に平行に延在している。このとき、試験片６０の短辺の寸法Ｄ１１が１０ｍｍであり、シール材２５から試験片６０の長辺方向に沿って他方側の短辺までの寸法Ｄ１２が１５ｍｍである。シール材２５の幅は３～５ｍｍ、シール材２５の厚みは２５～３０μｍである。
次に、この試験片６０のシール材２５の位置から長辺方向に沿って他方の短辺側へ寸法Ｄ１３＝８ｍｍの位置（解放されている短辺から寸法Ｄ１４＝７ｍｍの位置）で、図３（ｅ）に示すように、第１積層体１２を９０度上側へ、第２積層体１３を９０度下側へ折る。この状態の試験片６０を用いて、９０度剥離接着強さの測定を行う。

９０度剥離接着強さは、以下のように測定した。
まず、図４に示すように、試験片６０の各積層体の接着されていない側、すなわち、９０度折り曲げられた側の端部を治具８１Ａ，８１Ｂで保持する。治具８１Ａ，８１Ｂ間の寸法Ｄ１５は、５～１０ｍｍである。
次に、治具８１Ａ，８１Ｂを反対方向（例えば、図４に示すように、鉛直方向に沿って第１積層体１２を上側、第２積層体１３を下側）へ速度１０ｍｍ／ｍｉｎで引っ張ぱり、シール材２５が破損したときの強さを測定する。この測定は、引張試験機であるインストロン５５６５（インストロン社製）を用い、その恒温槽内に試験片６０等を配置し、恒温槽の温度を１００℃まで上昇させた状態で行った。

図５は、シール材２５のせん断強度の試験片７０の作製方法を説明する図である。
図６は、シール材２５のせん断強度の測定方法を説明する図である。
シール材２５のせん断強度試験に用いる試験片７０は、以下のように作製される。まず、図５（ａ）に示すように、第２積層体１３の液晶層１４側となる面（第２透明電極２２Ｂ及び第２配向層２３Ｂが設けられている面）の上の一辺近傍（図５（ａ）では、左側の辺近傍）に、その一辺に平行な線状に不図示のノズル等によりシール材２５を塗布する。このとき、シール材２５が、液晶セル１０の製造時と同様の幅及び厚みとなるように塗布する。

次に、図５（ｂ）に示すように、シール材２５が設けられた第２積層体１３の端部に、第１積層体１２の他方側の辺の端部（図５（ｂ）では、第１積層体１２の右側の辺の端部）が積層されるように載置してラミネートで貼り合わせ、積層体７０Ａとし、シール材２５を硬化させる。このとき、第１積層体１２は、その液晶層１４側となる面（第１透明電極２２Ａ及び第１配向層２３Ａが設けられている面）がシール材２５及び第２積層体１３側となるように積層する。また、図５（ｃ）に示すように、第１積層体１２と第２積層体１３とは、平面視において、シール材２５を挟む積層領域７１以外は積層されていない状態であり、シール材２５は、第１積層体１２と第２積層体１３とが積層された積層領域７１の中央に位置している。

その後、積層体７０Ａから、図５（ｃ）に示すように、せん断強度の測定用の試験片に応じた大きさ及びシール材の位置となるように、試験片７０を切り出す。
試験片７０は、図５（ｄ）に示すように、平面視において、長方形形状である。試験片７０の短辺の寸法Ｄ２１は、１０ｍｍであり、各積層体の長辺方向において、一方の端部からシール材２５までの寸法Ｄ２２は、１５ｍｍである。シール材２５は、この試験片７０の長辺方向の中央に位置し、試験片７０の短辺方向に平行に延在するように設けられている。シール材２５の幅は３～５ｍｍ、シール材２５の厚みは２５～３０μｍである。

せん断強度の測定は、以下のように行った。
まず、図６に示すように、試験片７０の長辺方向の両端部（第１積層体１２の端部、第２積層体１３の端部）を治具８１Ａ，８１Ｂにより保持する。このとき、治具８１Ａ，８１Ｂ間の寸法Ｄ２３は、１５～２０ｍｍである。
次に、治具８１Ａ，８１Ｂを鉛直方向に沿って反対方向（例えば、第１基材２１Ａを上側、第２基材２１Ｂを下側）へ速度１０ｍｍ／ｍｉｎで引っ張ぱり、シール材２５が破損したときの強さ測定する。なお、この測定は、引張試験機であるインストロン５５６５（インストロン社製）を用い、その恒温槽内に試験片６０等を配置し、恒温槽の温度を１００℃まで上昇させた状態で行った。
９０度剥離接着強さ及びせん断強度は、それぞれ、試験片を５枚用いて測定を計５回行い、その平均値を採用した。

上述の測定方法により測定された９０度剥離接着強さ及びせん断強度が異なる複数のシール材２５の材料を用意し、それぞれのシール材２５を用いて大きさの異なる液晶セル１０及び液晶装置１を作製し、液晶装置１を高温環境に曝した場合のシール材２５の剥離や破損による液晶材料の滲出の有無を評価した。
用意した試料１～５のシール材の９０度剥離接着強さ及びせん断強度は、以下の通りである。
試料１：９０度剥離接着強さが０．０Ｎ／１０ｍｍ、せん断強度が０．２Ｎ／ｍｍ^２
試料２：９０度剥離接着強さが０．０Ｎ／１０ｍｍ、せん断強度が０．４Ｎ／ｍｍ^２
試料３：９０度剥離接着強さが０．３Ｎ／１０ｍｍ、せん断強度が０．５Ｎ／ｍｍ^２
試料４：９０度剥離接着強さが０．３Ｎ／１０ｍｍ、せん断強度が０．７Ｎ／ｍｍ^２
試料５：９０度剥離接着強さが０．４Ｎ／１０ｍｍ、せん断強度が１．７Ｎ／ｍｍ^２

また、液晶セル１０、液晶装置１（合わせガラス）の平面視での大きさは、以下の４通りである。
サイズ１：液晶セル１０は５０ｍｍ×５０ｍｍ、液晶装置１は６０ｍｍ×６０ｍｍ
サイズ２：液晶セル１０は２８０ｍｍ×２８０ｍｍ、液晶装置１は３００×３００ｍｍ
サイズ３：液晶セル１０は２８０ｍｍ×５８０ｍｍ、液晶装置１は３００ｍｍ×６００ｍｍ
サイズ４：液晶セル１０は４８０ｍｍ×１０００ｍｍ、液晶装置１は５００ｍｍ×１０２０ｍｍ
なお、いずれのサイズにおいても、液晶層１４の厚み（セルギャップ）は、１２μｍである。

各試料を用いた各サイズの液晶セル及び液晶装置を作製し、これらを高温（８５℃）環境下に立て置き（液晶装置１の主面が鉛直方向に平行となる配置）して６０分間放置する。そして、高温環境下から取り出した直後の各液晶装置を目視し、シール材２５の剥離や破損による液晶材料の滲出の有無を確認した。

表１は、試料１のシール材２５での液晶材料の滲出の有無を示す表である。
表２は、試料２のシール材２５での液晶材料の滲出の有無を示す表である。
表３は、試料３のシール材２５での液晶材料の滲出の有無を示す表である。
表４は、試料４のシール材２５での液晶材料の滲出の有無を示す表である。
表５は、試料５のシール材２５での液晶材料の滲出の有無を示す表である。

表２のサンプル７，８に示すように、液晶装置を立て置きした場合に鉛直方向に平行な辺は、短辺方向であっても長辺方向であっても、シール材２５の剥離や破損による液晶材料の滲出の有無に影響はなかった。
また、表１，２に示す試料１，２のように、９０度剥離接着強さが０．３Ｎ／１０ｍｍ未満、かつ、せん断強度が０．５Ｎ／ｍｍ^２未満であり、接着強度が好ましい範囲を満たしていないシール材２５を用いていても、液晶セル１０及び液晶装置１（合わせガラス）の大きさが小さい場合（サンプル１～３，５～８）は、シール材の剥離や破損による液晶材料の滲出は生じていない。しかし、液晶セル１０の面積が４８００００ｍｍ^２である場合（サンプル４，９）には、液晶材料の滲出が生じていた。

表３，４，５に示す試料３，４，５のように、９０度剥離接着強さが０．３Ｎ／１０ｍｍ以上、かつ、せん断強度が０．５Ｎ／ｍｍ^２以上であり、接着強度が好ましい範囲を満たしているシール材２５を用いた場合には、液晶セル１０の面積が小さい場合（サンプル１０～１２，１４～１６，１８～２０）も、液晶セル１０の面積が４８００００ｍｍ^２と大きい場合（サンプル１３，１７，２１）も、液晶材料の滲出は生じていなかった。

なお、９０度剥離接着強さ及びせん断強度が好ましい範囲を満たしていない試料２のシール材を用いて４８０ｍｍ×１０００ｍｍの液晶セル１０を作製し、５００ｍｍ×１０２０ｍｍの大きさの第２ガラス板４２に第２接合層３２（ＯＣＡによる層）により接合した状態、すなわち、第１接合層３１と第１ガラス板４１とが積層されておらず合わせガラスとはなっていない状態の積層部材を作製し、８５℃環境下に６０分間立て置きで配置した場合と、８５℃環境下に６０分間平置き（液晶装置１の主面が水平方向に平行となる配置）した場合に、液晶材料の滲出が生じるか確認する試験も行った。このとき、この積層部材の状態、すなわち、液晶セル１０の片面に第１接合層３１及び第１ガラス板４１が積層されていない状態では、シール材２５の剥離や破損による液晶材料の滲出は生じていなかった。
したがって、シール材の破損や剥離による液晶材料の滲出は、合わせガラス（液晶装置１）とした状態で高温環境下に曝された場合に生じる現象であると確認された。

以上のことから、本開示の実施形態によれば、１００℃環境下での液晶セル１０のシール材２５の９０度剥離接着強さが０．３Ｎ／１０ｍｍ以上、かつ、せん断強度が０．５Ｎ／ｍｍ^２であるシール材２５を用いることにより、液晶装置１が高温（８５℃）環境下に曝された場合のシール材２５の剥離や破損による液晶材料の滲出を抑制することができる。また、この液晶材料の滲出の抑制効果は、液晶セル１０の平面視での面積が４８００００ｍｍ^２以上である場合に特に有効である。
また、本開示の実施形態によれば、液晶セル１０は、平面視での面積が４８００００ｍｍ^２以上であって、平面視での形状が矩形形状である場合には、短辺の寸法が４８０ｍｍ以上であると、高温環境下でのシール材の剥離や破損による液晶材料の滲出が生じやすいが、上述の条件を満たすことにより、液晶材料の滲出を効果的に抑制できる。

（変形形態）
以上説明した実施形態に限定されることなく、種々の変形や変更が可能であって、それらも本開示の実施形態の範囲内である。

（１）本開示の実施形態において、液晶装置１及び液晶セル１０が、平面視において長方形である例を挙げて説明した。これに限らず、例えば、液晶セル１０は、平面視において正方形や平行四辺形、台形等であってもよく、液晶セル１０の平面視での形状は適宜変更可能である。

（２）本開示の実施形態において、液晶セル１０は、光の透過率の調整を行う調光セルである例を挙げて説明した。これに限らず、液晶セル１０は、情報表示を行うものとしてもよく、そのような液晶セル１０を含む液晶装置にも好適に適用できる。

なお、実施形態及び変形形態は、適宜組み合わせて用いることもできるが、詳細な説明は省略する。また、本開示の実施形態は、以上説明した各実施形態によって限定されることはない。

１ 液晶装置
１０ 液晶セル
１２ 第１積層体
１３ 第２積層体
１４ 液晶層
１８ フレキシブルプリント配線基板
２１Ａ 第１基材
２１Ｂ 第２基材
２２Ａ 第１透明電極
２２Ｂ 第２透明電極
２３Ａ 第１配向層
２３Ｂ 第２配向層
２４ ビーズスペーサー
２５ シール材
３１ 第１接合層
３２ 第２接合層
４１ 第１ガラス板
４２ 第２ガラス板

Claims (4)

1. 第１積層体と、
   第２積層体と、
   前記第１積層体及び前記第２積層体により挟持された液晶層と、
   前記第１積層体と前記第２積層体と間に設けられ、前記液晶層の液晶材料を封止するシール材と、
   を備え、
   前記第１積層体及び前記第２積層体は、透明フィルムからなる基材と、前記基材に形成された電極とを有し、
   前記電極の駆動により、透過光を制御する液晶セルであって、
   平面視における面積が４８００００ｍｍ^２以上であり、
   前記シール材は、１００℃環境下において、前記第１積層体及び前記第２積層体に対して、９０度剥離接着強さが０．３Ｎ／１０ｍｍ以上であり、かつ、せん断強度が０．５Ｎ／ｍｍ^２以上である、
   液晶セル。
2. 請求項１に記載の液晶セルにおいて、
   平面視の形状が矩形形状であり、短辺が４８０ｍｍ以上である、
   液晶セル。
3. 請求項１又は請求項２に記載の液晶セルと、
   前記液晶セルの一方の面側に位置する第１透明基板と、
   前記液晶セルの他方の面側に位置する第２透明基板と、
   前記第１透明基板と前記液晶セルとの間に配置された第１接合層と、
   前記第２透明基板と前記液晶セルとの間に配置された第２接合層と、
   を備え、
   前記第１接合層及び前記第２接合層は、圧着性の接着成分を含有する接合体を含まない、
   液晶装置。
4. 請求項３に記載の液晶装置において
   前記第１接合層がＯＣＲであり、
   前記第２接合層がＯＣＲ又はＯＣＡである、
   液晶装置。
   

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