JP2023069822A5 - - Google Patents

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JP7763385B2 (ja) * 2023-09-28 2025-10-31 古河電気工業株式会社 接合用フィルム、半導体モジュール、インバータ、電子機器及び半導体モジュールの製造方法
JP2025137155A (ja) * 2024-03-08 2025-09-19 三菱マテリアル株式会社 酸性電解銅めっき液

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3498306B2 (ja) * 1999-09-16 2004-02-16 石原薬品株式会社 ボイドフリー銅メッキ方法
JP5366076B2 (ja) * 2008-11-21 2013-12-11 奥野製薬工業株式会社 多孔質めっき皮膜形成用添加剤を含有する多孔質めっき皮膜用電気めっき浴
FR2995912B1 (fr) * 2012-09-24 2014-10-10 Alchimer Electrolyte et procede d'electrodeposition de cuivre sur une couche barriere
JP6543526B2 (ja) * 2015-07-13 2019-07-10 株式会社Jcu 多孔質壺状銅めっき皮膜形成用電気めっき浴およびこれを用いた多孔質壺状銅めっき皮膜の形成方法
TWI819048B (zh) * 2018-08-23 2023-10-21 日商Dic股份有限公司 積層體、成形品、導電性圖案及電子電路

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