JP2022165816A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2022165816A5
JP2022165816A5 JP2021071333A JP2021071333A JP2022165816A5 JP 2022165816 A5 JP2022165816 A5 JP 2022165816A5 JP 2021071333 A JP2021071333 A JP 2021071333A JP 2021071333 A JP2021071333 A JP 2021071333A JP 2022165816 A5 JP2022165816 A5 JP 2022165816A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
component
imprint
height distribution
distribution information
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2021071333A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP7610463B2 (ja
JP2022165816A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2021071333A priority Critical patent/JP7610463B2/ja
Priority claimed from JP2021071333A external-priority patent/JP7610463B2/ja
Priority to US17/718,463 priority patent/US11840011B2/en
Priority to CN202210403072.5A priority patent/CN115220299A/zh
Priority to KR1020220047946A priority patent/KR102855302B1/ko
Publication of JP2022165816A publication Critical patent/JP2022165816A/ja
Publication of JP2022165816A5 publication Critical patent/JP2022165816A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7610463B2 publication Critical patent/JP7610463B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2021071333A 2021-04-20 2021-04-20 インプリント装置、インプリント方法および物品製造方法 Active JP7610463B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021071333A JP7610463B2 (ja) 2021-04-20 2021-04-20 インプリント装置、インプリント方法および物品製造方法
US17/718,463 US11840011B2 (en) 2021-04-20 2022-04-12 Imprint apparatus, imprint method, and method of manufacturing article
CN202210403072.5A CN115220299A (zh) 2021-04-20 2022-04-18 压印装置、压印方法和物品制造方法
KR1020220047946A KR102855302B1 (ko) 2021-04-20 2022-04-19 임프린트 장치, 임프린트 방법 및 물품 제조 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021071333A JP7610463B2 (ja) 2021-04-20 2021-04-20 インプリント装置、インプリント方法および物品製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2022165816A JP2022165816A (ja) 2022-11-01
JP2022165816A5 true JP2022165816A5 (https=) 2024-05-07
JP7610463B2 JP7610463B2 (ja) 2025-01-08

Family

ID=83602048

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021071333A Active JP7610463B2 (ja) 2021-04-20 2021-04-20 インプリント装置、インプリント方法および物品製造方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US11840011B2 (https=)
JP (1) JP7610463B2 (https=)
KR (1) KR102855302B1 (https=)
CN (1) CN115220299A (https=)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2025076140A (ja) * 2023-11-01 2025-05-15 キヤノン株式会社 調整方法、インプリント方法、物品製造方法、およびインプリント装置

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005101201A (ja) 2003-09-24 2005-04-14 Canon Inc ナノインプリント装置
JP2007299994A (ja) 2006-05-01 2007-11-15 Canon Inc 加工装置及び方法、並びに、デバイス製造方法
JP2008066634A (ja) 2006-09-11 2008-03-21 Canon Inc 露光装置
US7894038B2 (en) * 2007-03-14 2011-02-22 Asml Netherlands B.V. Device manufacturing method, lithographic apparatus, and a computer program
JP5412713B2 (ja) * 2007-05-22 2014-02-12 大日本印刷株式会社 測定システム、測定方法及びプログラム
WO2015104074A1 (en) * 2014-01-10 2015-07-16 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method and associated data processing apparatus and computer program product
JP6497938B2 (ja) * 2015-01-05 2019-04-10 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法。
JP6762746B2 (ja) * 2015-04-15 2020-09-30 キヤノン株式会社 露光装置および露光方法、ならびに物品の製造方法
JP6732419B2 (ja) 2015-09-02 2020-07-29 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法
JP6590667B2 (ja) 2015-11-30 2019-10-16 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法
NL2017860B1 (en) 2015-12-07 2017-07-27 Ultratech Inc Systems and methods of characterizing process-induced wafer shape for process control using cgs interferometry
KR20190005955A (ko) * 2016-05-12 2019-01-16 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 측정치 획득 방법, 프로세스 단계 수행 장치, 계측 장치, 디바이스 제조 방법
JP2017224812A (ja) 2016-06-09 2017-12-21 キヤノン株式会社 位置合わせ方法、インプリント装置、プログラム、および物品の製造方法
EP3364247A1 (en) 2017-02-17 2018-08-22 ASML Netherlands B.V. Methods & apparatus for monitoring a lithographic manufacturing process
JP7263088B2 (ja) 2019-04-08 2023-04-24 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法
JP7256684B2 (ja) 2019-05-14 2023-04-12 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法および物品製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7118928B2 (ja) 半導体ウエハの局所的歪みの特定に基づく全体的ウエハ歪みの改善
CN105759565B (zh) 压印装置及物品的制造方法
TW201723421A (zh) 用於使用cgs干涉儀進行處理控制的特徵化處理誘導晶圓形狀之系統及方法
JP5404570B2 (ja) 滴下制御方法および滴下制御装置
JP6600391B2 (ja) ナノインプリントリソグラフィにおけるテンプレートの歪みのリアルタイム補正
US10353286B2 (en) Imprint method, imprint apparatus, and article manufacturing method
TWI663632B (zh) 圖案配置修正的方法及系統
JP6512840B2 (ja) インプリント装置及び方法、並びに物品の製造方法
JP2011159764A (ja) パターン形成方法、レジスト塗布分布算出装置及びレジスト塗布分布算出プログラム
JP2006235321A5 (https=)
JP2017055115A (ja) インプリント装置、物品製造方法、レシピ生成装置、レシピを変更する方法およびプログラム
JP2020008841A5 (https=)
JP2022165816A5 (https=)
JP6978926B2 (ja) 計測方法、計測装置、露光装置、および物品製造方法
JP2022054250A5 (https=)
JP2015002260A5 (https=)
JP2020194891A5 (ja) リソグラフィ装置、物品の製造方法及び制御方法
US11556055B2 (en) Systems and methods for generating drop patterns
JP6450105B2 (ja) インプリント装置及び物品製造方法
CN112882340A (zh) 光罩、监控片及晶圆表面清洗精度的监测方法
CN108885407A (zh) 叠加方差稳定化方法及系统
JP2017224812A5 (https=)
JP6838393B2 (ja) ガラス基板の検査方法および製造方法
TW201316389A (zh) 用以校正結合至第二晶圓之第一晶圓上之位置偏差之方法
CN115101466A (zh) 晶圆校准方法