JP2022141518A - 機能性水溶液供給装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 洗浄水としての機能性水溶液を電子部品・電子部材などの洗浄装置等のユースポイントに供給可能な機能性水溶液供給装置を提供する。【解決手段】 機能性水溶液供給装置１は、超純水Ｗを管路２から供給して洗浄水Ｗ１としての機能性水溶液を製造する補給水製造部３と、製造された洗浄水Ｗ１を配管４を介して供給・補給される貯留槽５と、該貯留槽５から洗浄水Ｗ１を枚葉式の洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄに供給するとともに未使用の洗浄水Ｗ１を貯留槽５に返送する循環管路７とを有する。循環管路７は供給管７Ａ，７Ｂ，７Ｃ及び７Ｄがそれぞれ分岐していて、さらに洗浄機６Ａ，６Ｂ…から循環管路７に連通する返送管８Ａ，８Ｂ，８Ｃ及び８Ｄがそれぞれ接続している。そして、洗浄機６Ａ，６Ｂ…の運転計画は、あらかじめ制御手段９に伝達され、この制御手段９により補給水製造部３が制御可能となっている。【選択図】 図１
Description
本発明は、電子産業分野等で使用される電子部品・電子部材などの洗浄装置等のユースポイントに洗浄水としての機能性水溶液を供給する装置に関し、特に洗浄水としての機能性水溶液を複数の洗浄機を有するユースポイントに効率的に供給可能な機能性水溶液供給装置に関する。
近年、電子産業分野のウエハ処理に使用される洗浄溶液として、超純水に導電率付与物質や酸化還元電位調整物質、ガスなどを添加することで、各種機能を付与した機能性水溶液が使用されている。この機能性水溶液を供給する方法として、特許文献１には、節水を目的として貯留槽を設け、洗浄機で使用しない機能性水溶液を貯留槽に戻し循環する方式が提案されている。
しかしながら、この特許文献１に記載された方式では、調整した機能性水溶液を貯留槽に補給しており、この際、補給する機能性水溶液の濃度を安定させるために、補給水の流量を一定にしており、貯留槽に機能性水溶液を補給しない時でも補給水としての機能性水溶液を作り続け、余剰分をドレン水として排出する必要があり、節水効果が小さい、という問題点がある。特にユースポイントが複数の枚葉式のウエハ洗浄機を有する場合には、使用する洗浄水の量が大きく変動するので、排出するドレン水が多くなってしまう。
本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、洗浄水としての機能性水溶液を電子部品・電子部材などの洗浄装置等のユースポイントに供給可能な機能性水溶液供給装置を提供することを目的とする。
上記目的に鑑み本発明は、原料水に対して、導電性付与物質、酸化還元電位調整物質およびｐＨ調整物質から選ばれた１種以上の機能性成分を添加した洗浄水をユースポイントに供給する機能性水溶液供給装置であって、前記洗浄水を製造する補給水製造部と、前記補給水製造部で製造された洗浄水を供給・補給して貯留する貯留槽と前記貯留槽から前記ユースポイントに洗浄水を供給する循環式の洗浄水供給管と、前記ユースポイントで未使用の洗浄水を前記循環式の洗浄水供給管に返送する返送管と、前記ユースポイントの前記洗浄液の使用予定情報に基づき前記補給水製造部から前記貯留槽に供給する洗浄水の補給量を制御する制御手段とを備える、機能性水溶液供給装置を提供する（発明１）。
かかる発明（発明１）によれば、洗浄水としての機能性水溶液の貯留槽への補給量をユースポイントでの洗浄液の使用予定情報に基づき制御することで、機能性水溶液の排出量を大幅に削減することができる。しかも、機能性水溶液の製造量も削減することができる。さらに、洗浄液の使用予定情報に基づき補給水製造部から前記貯留槽に供給する洗浄水の補給量に基づいて、機能性水溶液の製造量をあらかじめ必要量に応じて設定しておくことができるので、機能性水溶液の濃度を精度よく制御することができる。
上記発明（発明１）においては、前記ユースポイントが複数の洗浄機を有することが好ましい（発明２）。
かかる発明（発明２）によれば、複数の洗浄機の稼働状況によりユースポイントで使用する洗浄液の量は大きく変動するが、この洗浄機の稼働情報をあらかじめ入手して、ユースポイントで使用する洗浄液の量をあらかじめ予測して、その製造・補給量を制御することにより、機能性水溶液の排出量を大幅に削減し、機能性水溶液の製造量も削減することができる。また、機能性水溶液の濃度を精度よく制御することができる。
上記発明（発明１，２）においては、前記導電性付与物質が、アンモニア又は炭酸であることが好ましい（発明３）。
かかる発明（発明３）によれば、アンモニア又は炭酸を微量溶解する場合に特に好適に適用することができる。
また、上記発明（発明１，２）においては、前記酸化還元電位調整物質が、過酸化水素、Ｏ３もしくはＨ２であることが好ましい（発明４）。
かかる発明（発明４）によれば、過酸化水素、Ｏ３を微量溶解する場合に特に好適に適用することができる。
本発明の機能性水溶液供給装置によれば、ユースポイントの前記洗浄液の使用予定情報に基づき前記補給水製造部から前記貯留槽に供給する洗浄水の補給量を制御することができるので、機能性水溶液の排出量を大幅に削減することができ、しかも機能性水溶液の製造量も削減することができる。さらに、洗浄液の使用予定情報に基づき補給水製造部から前記貯留槽に供給する洗浄水の補給量を設定しておくことにより、機能性水溶液の濃度を精度よく制御することができる。特に複数の洗浄機の稼働状況によりユースポイントで使用する洗浄液の量は大きく変動するが、このような場合に好適に適用することができる。
以下、本発明の機能性水溶液供給装置の一実施形態について添付図面を参照にして詳細に説明する。
〔機能性水溶液供給装置〕
図１は、本発明の一実施形態による機能性水溶液供給装置を示しており、図１において機能性水溶液供給装置１は、原料水としての超純水ＷにｐＨ調整物質や酸化還元電位調整物質等を添加して洗浄水Ｗ１を製造し、ユースポイントとしての半導体ウエハの洗浄機に供給するためのものであり、超純水Ｗを管路２から供給して洗浄水Ｗ１としての機能性水溶液を製造する補給水製造部３と、製造された洗浄水Ｗ１が配管４を介して供給・補給される貯留槽５と、該貯留槽５から洗浄水Ｗ１をユースポイントとしての複数個（本実施形態においては４個）の枚葉式の洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄに供給するとともに未使用の洗浄水Ｗ１を貯留槽５に返送する循環管路７とを有する。循環管路７は、それぞれの洗浄機６Ａ，６Ｂ…に洗浄水Ｗ１を供給する供給管７Ａ，７Ｂ，７Ｃ及び７Ｄがそれぞれ分岐していて、さらに洗浄機６Ａ，６Ｂ…から循環管路７に連通する返送管８Ａ，８Ｂ，８Ｃ及び８Ｄがそれぞれ接続している。そして、ユースポイントとしての洗浄機６Ａ，６Ｂ…の運転計画は、あらかじめパーソナルコンピュータなどの制御手段９に伝達され、この制御手段９により補給水製造部３を制御可能となっている。なお、１０はドレン水ＤＷを排出するドレン配管である。
図１は、本発明の一実施形態による機能性水溶液供給装置を示しており、図１において機能性水溶液供給装置１は、原料水としての超純水ＷにｐＨ調整物質や酸化還元電位調整物質等を添加して洗浄水Ｗ１を製造し、ユースポイントとしての半導体ウエハの洗浄機に供給するためのものであり、超純水Ｗを管路２から供給して洗浄水Ｗ１としての機能性水溶液を製造する補給水製造部３と、製造された洗浄水Ｗ１が配管４を介して供給・補給される貯留槽５と、該貯留槽５から洗浄水Ｗ１をユースポイントとしての複数個（本実施形態においては４個）の枚葉式の洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄに供給するとともに未使用の洗浄水Ｗ１を貯留槽５に返送する循環管路７とを有する。循環管路７は、それぞれの洗浄機６Ａ，６Ｂ…に洗浄水Ｗ１を供給する供給管７Ａ，７Ｂ，７Ｃ及び７Ｄがそれぞれ分岐していて、さらに洗浄機６Ａ，６Ｂ…から循環管路７に連通する返送管８Ａ，８Ｂ，８Ｃ及び８Ｄがそれぞれ接続している。そして、ユースポイントとしての洗浄機６Ａ，６Ｂ…の運転計画は、あらかじめパーソナルコンピュータなどの制御手段９に伝達され、この制御手段９により補給水製造部３を制御可能となっている。なお、１０はドレン水ＤＷを排出するドレン配管である。
＜超純水＞
本実施形態において、原水となる超純水Ｗとは、例えば、抵抗率：１８．１ＭΩ・ｃｍ以上、微粒子：粒径５０ｎｍ以上で１０００個／Ｌ以下、生菌：１個／Ｌ以下、ＴＯＣ（Ｔｏｔａｌ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃａｒｂｏｎ）：１μｇ／Ｌ以下、全シリコン：０．１μｇ／Ｌ以下、金属類：１ｎｇ／Ｌ以下、イオン類：１０ｎｇ／Ｌ以下、過酸化水素；３０μｇ／Ｌ以下、水温：２５±２℃のものが好適である。
本実施形態において、原水となる超純水Ｗとは、例えば、抵抗率：１８．１ＭΩ・ｃｍ以上、微粒子：粒径５０ｎｍ以上で１０００個／Ｌ以下、生菌：１個／Ｌ以下、ＴＯＣ（Ｔｏｔａｌ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃａｒｂｏｎ）：１μｇ／Ｌ以下、全シリコン：０．１μｇ／Ｌ以下、金属類：１ｎｇ／Ｌ以下、イオン類：１０ｎｇ／Ｌ以下、過酸化水素；３０μｇ／Ｌ以下、水温：２５±２℃のものが好適である。
＜ｐＨ調整物質＞
本実施形態において、ｐＨ調整物質としては特に制限はなく、ｐＨ７未満に調整する場合には、クエン酸、ギ酸、塩酸などの液体やＣＯ２などの気体を用いることができる。また、ｐＨ７以上に調整する場合には、アンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を用いることができる。これらｐＨ調整物質は、微量添加するだけで導電性付与物質としても機能する。
本実施形態において、ｐＨ調整物質としては特に制限はなく、ｐＨ７未満に調整する場合には、クエン酸、ギ酸、塩酸などの液体やＣＯ２などの気体を用いることができる。また、ｐＨ７以上に調整する場合には、アンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を用いることができる。これらｐＨ調整物質は、微量添加するだけで導電性付与物質としても機能する。
＜酸化還元電位調整物質＞
本実施形態において、酸化還元電位調整物質としては特に制限はないが、酸化還元電位を正側に調整するには、過酸化水素水などの液体やオゾンガス（Ｏ３）、酸素ガス（Ｏ２）などのガス体を用いることができる。また、酸化還元電位を負側に調整するにはシュウ酸などの液体や水素（Ｈ２）などのガス体を用いることができる。
本実施形態において、酸化還元電位調整物質としては特に制限はないが、酸化還元電位を正側に調整するには、過酸化水素水などの液体やオゾンガス（Ｏ３）、酸素ガス（Ｏ２）などのガス体を用いることができる。また、酸化還元電位を負側に調整するにはシュウ酸などの液体や水素（Ｈ２）などのガス体を用いることができる。
〔機能性水の供給方法〕
前述したような構成を有する本実施形態の機能性水溶液供給装置１を用いた機能性水溶液Ｗ１の供給方法について以下説明する。
前述したような構成を有する本実施形態の機能性水溶液供給装置１を用いた機能性水溶液Ｗ１の供給方法について以下説明する。
まず、超純水Ｗを補給水製造部３に供給し、導電性付与物質、酸化還元電位調整物質およびｐＨ調整物質から選ばれた１種以上を添加することで補給水製造部３において洗浄水（機能性水溶液）Ｗ１を製造する。この機能性水溶液Ｗ１は、配管４から一旦貯留槽５に貯留して所定量の洗浄水Ｗ１を貯留したら、図示しない送液ポンプを駆動し、循環管路７から供給管７Ａ，７Ｂ，７Ｃ及び７Ｄを経由して洗浄機６Ａ，６Ｂ…に洗浄水Ｗ１を供給する。この際、枚葉式洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ，６Ｄで使用しなかった洗浄水Ｗ１は、返送管８Ａ，８Ｂ，８Ｃ，８Ｄから循環管路７に戻して貯留槽５に還流する。このとき返送された洗浄水Ｗ１は、枚葉式洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ，６Ｄなどで空気に接することによりその溶存酸素が上昇した状態となっているので、必要に応じ溶存酸素を除去した後返送してもよい。
このような枚葉式洗浄機６Ａ，６Ｂ・・・へ洗浄水Ｗ１を供給するに伴い、貯留槽５内の洗浄水Ｗ１が減少する。そこで、補給水製造部３で製造された洗浄水Ｗ１を配管４を介して貯留槽５に補給するが、本実施形態においては、予め洗浄機６Ａ，６Ｂ・・・の稼働情報をあらかじめ入手し、この稼働情報に基づき洗浄水Ｗ１の使用量を制御手段９により予測し、さらに補給水製造部３で製造する洗浄水Ｗ１の量をこの使用量に応じたものとすることにより、使用量の変動に対応して洗浄水Ｗ１を貯留槽５に洗浄水Ｗ１を補給する。これにより、洗浄水Ｗ１の製造量を削減し、かつ洗浄水Ｗ１の排出量を大幅に削減することができる。しかも、洗浄水Ｗ１の洗浄液の薬液濃度を精度よく制御することができる、という効果も奏する。
以上、本発明について添付図面を参照にして前記実施形態に基づき説明してきたが、本発明は前記実施形態に限定されず、種々の変更実施が可能である。例えば、補給水製造部３では、ｐＨ調整物質や酸化還元電位調整物質などを複数組み合わせて溶解して機能性水溶液（洗浄水）Ｗ１とすることができる。
以下の具体的実施例により本発明をさらに詳細に説明する。
［比較例１］
図２に示すように図１に示す機能性水溶液供給装置１において、補給水製造部３を制御する制御手段９を有せず、余剰の洗浄水Ｗ１をドレン配管１０から排出する構成の機能性水溶液供給装置１を用意した。この機能性水溶液供給装置１を用いて、補給水製造部３に１５０Ｌ／分で超純水Ｗを供給し、この超純水Ｗに導電率が１μＳ／ｃｍとなるようにアンモニア（導電性付与物質）を添加し、さらに過酸化水素（酸化還元電位調整物質）を１００ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水（機能性水溶液）Ｗ１を製造し、貯留槽５に送水した。貯留槽５から４台の洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄにこの洗浄水Ｗ１を送水し、使用しなかった洗浄水Ｗ１は貯留槽５に戻した。貯留槽５のレベルが低い時は補給水製造部３からの洗浄水Ｗ１を補給し、レベルが高い時は補給水製造部３で製造した洗浄水Ｗ１を貯留槽５に入れずにドレン配管１０からドレン水ＤＷとして排出した。
図２に示すように図１に示す機能性水溶液供給装置１において、補給水製造部３を制御する制御手段９を有せず、余剰の洗浄水Ｗ１をドレン配管１０から排出する構成の機能性水溶液供給装置１を用意した。この機能性水溶液供給装置１を用いて、補給水製造部３に１５０Ｌ／分で超純水Ｗを供給し、この超純水Ｗに導電率が１μＳ／ｃｍとなるようにアンモニア（導電性付与物質）を添加し、さらに過酸化水素（酸化還元電位調整物質）を１００ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水（機能性水溶液）Ｗ１を製造し、貯留槽５に送水した。貯留槽５から４台の洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄにこの洗浄水Ｗ１を送水し、使用しなかった洗浄水Ｗ１は貯留槽５に戻した。貯留槽５のレベルが低い時は補給水製造部３からの洗浄水Ｗ１を補給し、レベルが高い時は補給水製造部３で製造した洗浄水Ｗ１を貯留槽５に入れずにドレン配管１０からドレン水ＤＷとして排出した。
この結果、ドレン水の平均流量は１１０ｍＬ／分であった。また、貯留槽５から洗浄機６Ａ，６Ｂ・・・へ送水した洗浄水Ｗ１のアンモニア濃度のばらつきは＜±１０％であり、過酸化水素濃度のばらつきも＜±１０％であった。
比較例１における補給水製造部の制御の有無、導電性付与物質及びその設定値、酸化還元電位調整物質及びその設定濃度をそれぞれ表１に示す。また、導電率のばらつき率、酸化還元電位調整物質の濃度のばらつき率、及び平均ドレン水流量をそれぞれ表２に示す。
［比較例２］
図２に示す機能性水溶液供給装置１を用いて、補給水製造部３に１５０Ｌ／分で超純水Ｗを供給し、この超純水Ｗに導電率が１００μＳ／ｃｍとなるようにアンモニアを添加し、さらに過酸化水素を１００ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水Ｗ１を製造し、貯留槽５に送水した。貯留槽５から４台の洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄにこの洗浄水Ｗ１を送水し、使用しなかった洗浄水Ｗ１は貯留槽５に戻した。貯留槽５のレベルが低い時は補給水製造部３からの洗浄水Ｗ１を補給し、レベルが高い時は補給水製造部３で製造した洗浄水Ｗ１を貯留槽５に入れずにドレン配管１０からドレン水ＤＷとして排出した。
図２に示す機能性水溶液供給装置１を用いて、補給水製造部３に１５０Ｌ／分で超純水Ｗを供給し、この超純水Ｗに導電率が１００μＳ／ｃｍとなるようにアンモニアを添加し、さらに過酸化水素を１００ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水Ｗ１を製造し、貯留槽５に送水した。貯留槽５から４台の洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄにこの洗浄水Ｗ１を送水し、使用しなかった洗浄水Ｗ１は貯留槽５に戻した。貯留槽５のレベルが低い時は補給水製造部３からの洗浄水Ｗ１を補給し、レベルが高い時は補給水製造部３で製造した洗浄水Ｗ１を貯留槽５に入れずにドレン配管１０からドレン水ＤＷとして排出した。
この結果、ドレン水の平均流量は１１０Ｌ／分であった。また、貯留槽５から洗浄機６Ａ，６Ｂ・・・へ送水した洗浄水Ｗ１のアンモニア濃度のばらつきは＜±１０％であり、過酸化水素濃度のばらつきも＜±１０％であった。
比較例２における補給水製造部の制御の有無、導電性付与物質及びその設定値、酸化還元電位調整物質及びその設定濃度をそれぞれ表１にあわせて示す。また、導電率のばらつき率、酸化還元電位調整物質の濃度のばらつき率、及び平均ドレン水流量をそれぞれ表２にあわせて示す。
［比較例３］
図２に示す機能性水溶液供給装置１を用いて、補給水製造部３に１５０Ｌ／分で超純水Ｗを供給し、この超純水Ｗに導電率が１００μＳ／ｃｍとなるようにアンモニアを添加し、さらにオゾン（Ｏ３）（酸化還元電位調整物質）を３０ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水Ｗ１を製造し、貯留槽５に送水した。貯留槽５から４台の洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄにこの洗浄水Ｗ１を送水し、使用しなかった洗浄水Ｗ１は貯留槽５に戻した。貯留槽５のレベルが低い時は補給水製造部３からの洗浄水Ｗ１を補給し、レベルが高い時は補給水製造部３で製造した洗浄水Ｗ１を貯留槽５に入れずにドレン配管１０からドレン水ＤＷとして排出した。
図２に示す機能性水溶液供給装置１を用いて、補給水製造部３に１５０Ｌ／分で超純水Ｗを供給し、この超純水Ｗに導電率が１００μＳ／ｃｍとなるようにアンモニアを添加し、さらにオゾン（Ｏ３）（酸化還元電位調整物質）を３０ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水Ｗ１を製造し、貯留槽５に送水した。貯留槽５から４台の洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄにこの洗浄水Ｗ１を送水し、使用しなかった洗浄水Ｗ１は貯留槽５に戻した。貯留槽５のレベルが低い時は補給水製造部３からの洗浄水Ｗ１を補給し、レベルが高い時は補給水製造部３で製造した洗浄水Ｗ１を貯留槽５に入れずにドレン配管１０からドレン水ＤＷとして排出した。
この結果、ドレン水の平均流量は１１０Ｌ／分であった。また、貯留槽５から洗浄機６Ａ，６Ｂ・・・へ送水した洗浄水Ｗ１のアンモニア濃度のばらつきは＜±１０％であり、オゾン濃度のばらつきも＜±１０％であった。
比較例３における補給水製造部の制御の有無、導電性付与物質及びその設定値、酸化還元電位調整物質及びその設定濃度をそれぞれ表１にあわせて示す。また、導電率のばらつき率、酸化還元電位調整物質の濃度のばらつき率、及び平均ドレン水流量をそれぞれ表２にあわせて示す。
［比較例４］
図２に示す機能性水溶液供給装置１を用いて、補給水製造部３に１５０Ｌ／分で超純水Ｗを供給し、この超純水Ｗに導電率が１００μＳ／ｃｍとなるようにアンモニアを添加し、さらに水素ガス（Ｈ２）（酸化還元電位調整物質）を１．２ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水Ｗ１を製造し、貯留槽５に送水した。貯留槽５から４台の洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄにこの洗浄水Ｗ１を送水し、使用しなかった洗浄水Ｗ１は貯留槽５に戻した。貯留槽５のレベルが低い時は補給水製造部３からの洗浄水Ｗ１を補給し、レベルが高い時は補給水製造部３で製造した洗浄水Ｗ１を貯留槽５に入れずにドレン配管１０からドレン水ＤＷとして排出した。
図２に示す機能性水溶液供給装置１を用いて、補給水製造部３に１５０Ｌ／分で超純水Ｗを供給し、この超純水Ｗに導電率が１００μＳ／ｃｍとなるようにアンモニアを添加し、さらに水素ガス（Ｈ２）（酸化還元電位調整物質）を１．２ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水Ｗ１を製造し、貯留槽５に送水した。貯留槽５から４台の洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄにこの洗浄水Ｗ１を送水し、使用しなかった洗浄水Ｗ１は貯留槽５に戻した。貯留槽５のレベルが低い時は補給水製造部３からの洗浄水Ｗ１を補給し、レベルが高い時は補給水製造部３で製造した洗浄水Ｗ１を貯留槽５に入れずにドレン配管１０からドレン水ＤＷとして排出した。
この結果、ドレン水の平均流量は１１０Ｌ／分であった。また、貯留槽５から洗浄機６Ａ，６Ｂ・・・へ送水した洗浄水Ｗ１のアンモニア濃度のばらつきは＜±１０％であり、水素濃度のばらつきも＜±１０％であった。
比較例４における補給水製造部の制御の有無、導電性付与物質及びその設定値、酸化還元電位調整物質及びその設定濃度をそれぞれ表１にあわせて示す。また、導電率のばらつき率、酸化還元電位調整物質の濃度のばらつき率、及び平均ドレン水流量をそれぞれ表２にあわせて示す。
［比較例５］
図２に示す機能性水溶液供給装置１を用いて、補給水製造部３に１５０Ｌ／分で超純水Ｗを供給し、この超純水Ｗに導電率が１０μＳ／ｃｍとなるように二酸化炭素（ＣＯ２）（導電性付与物質）を添加し、さらに過酸化水素を１００ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水Ｗ１を製造し、貯留槽５に送水した。貯留槽５から４台の洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄにこの洗浄水Ｗ１を送水し、使用しなかった洗浄水Ｗ１は貯留槽５に戻した。貯留槽５のレベルが低い時は補給水製造部３からの洗浄水Ｗ１を補給し、レベルが高い時は補給水製造部３で製造した洗浄水Ｗ１を貯留槽５に入れずにドレン配管１０からドレン水ＤＷとして排出した。
図２に示す機能性水溶液供給装置１を用いて、補給水製造部３に１５０Ｌ／分で超純水Ｗを供給し、この超純水Ｗに導電率が１０μＳ／ｃｍとなるように二酸化炭素（ＣＯ２）（導電性付与物質）を添加し、さらに過酸化水素を１００ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水Ｗ１を製造し、貯留槽５に送水した。貯留槽５から４台の洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄにこの洗浄水Ｗ１を送水し、使用しなかった洗浄水Ｗ１は貯留槽５に戻した。貯留槽５のレベルが低い時は補給水製造部３からの洗浄水Ｗ１を補給し、レベルが高い時は補給水製造部３で製造した洗浄水Ｗ１を貯留槽５に入れずにドレン配管１０からドレン水ＤＷとして排出した。
この結果、ドレン水の平均流量は１１０Ｌ／分であった。また、貯留槽５から洗浄機６Ａ，６Ｂ・・・へ送水した洗浄水Ｗ１の炭酸濃度のばらつきは＜±１０％であり、過酸化水素濃度のばらつきも＜±１０％であった。
比較例５における補給水製造部の制御の有無、導電性付与物質及びその設定値、酸化還元電位調整物質及びその設定濃度をそれぞれ表１にあわせて示す。また、導電率のばらつき率、酸化還元電位調整物質の濃度のばらつき率、及び平均ドレン水流量をそれぞれ表２にあわせて示す。
［比較例６］
図２に示す機能性水溶液供給装置１を用いて、補給水製造部３に１５０Ｌ／分で超純水Ｗを供給し、この超純水Ｗに導電率が１０μＳ／ｃｍとなるように二酸化炭素（ＣＯ２）を添加し、さらにオゾン（Ｏ３）を３０ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水Ｗ１を製造し、貯留槽５に送水した。貯留槽５から４台の洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄにこの洗浄水Ｗ１を送水し、使用しなかった洗浄水Ｗ１は貯留槽５に戻した。貯留槽５のレベルが低い時は補給水製造部３からの洗浄水Ｗ１を補給し、レベルが高い時は補給水製造部３で製造した洗浄水Ｗ１を貯留槽５に入れずにドレン配管１０からドレン水ＤＷとして排出した。
図２に示す機能性水溶液供給装置１を用いて、補給水製造部３に１５０Ｌ／分で超純水Ｗを供給し、この超純水Ｗに導電率が１０μＳ／ｃｍとなるように二酸化炭素（ＣＯ２）を添加し、さらにオゾン（Ｏ３）を３０ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水Ｗ１を製造し、貯留槽５に送水した。貯留槽５から４台の洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄにこの洗浄水Ｗ１を送水し、使用しなかった洗浄水Ｗ１は貯留槽５に戻した。貯留槽５のレベルが低い時は補給水製造部３からの洗浄水Ｗ１を補給し、レベルが高い時は補給水製造部３で製造した洗浄水Ｗ１を貯留槽５に入れずにドレン配管１０からドレン水ＤＷとして排出した。
この結果、ドレン水の平均流量は１１０Ｌ／分であった。また、貯留槽５から洗浄機６Ａ，６Ｂ・・・へ送水した洗浄水Ｗ１の炭酸濃度のばらつきは＜±１０％であり、オゾン濃度のばらつきも＜±１０％であった。
比較例６における補給水製造部の制御の有無、導電性付与物質及びその設定値、酸化還元電位調整物質及びその設定濃度をそれぞれ表１にあわせて示す。また、導電率のばらつき率、酸化還元電位調整物質の濃度のばらつき率、及び平均ドレン水流量をそれぞれ表２にあわせて示す。
［比較例７］
図２に示す機能性水溶液供給装置１を用いて、補給水製造部３に１５０Ｌ／分で超純水Ｗを供給し、この超純水Ｗに導電率が１０μＳ／ｃｍとなるように二酸化炭素（ＣＯ２）を添加し、さらに水素ガス（Ｈ２）を１．２ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水Ｗ１を製造し、貯留槽５に送水した。貯留槽５から４台の洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄにこの洗浄水Ｗ１を送水し、使用しなかった洗浄水Ｗ１は貯留槽５に戻した。貯留槽５のレベルが低い時は補給水製造部３からの洗浄水Ｗ１を補給し、レベルが高い時は補給水製造部３で製造した洗浄水Ｗ１を貯留槽５に入れずにドレン配管１０からドレン水ＤＷとして排出した。
図２に示す機能性水溶液供給装置１を用いて、補給水製造部３に１５０Ｌ／分で超純水Ｗを供給し、この超純水Ｗに導電率が１０μＳ／ｃｍとなるように二酸化炭素（ＣＯ２）を添加し、さらに水素ガス（Ｈ２）を１．２ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水Ｗ１を製造し、貯留槽５に送水した。貯留槽５から４台の洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄにこの洗浄水Ｗ１を送水し、使用しなかった洗浄水Ｗ１は貯留槽５に戻した。貯留槽５のレベルが低い時は補給水製造部３からの洗浄水Ｗ１を補給し、レベルが高い時は補給水製造部３で製造した洗浄水Ｗ１を貯留槽５に入れずにドレン配管１０からドレン水ＤＷとして排出した。
この結果、ドレン水の平均流量は１１０Ｌ／分であった。また、貯留槽５から洗浄機６Ａ，６Ｂ・・・へ送水した洗浄水Ｗ１の炭酸濃度のばらつきは＜±１０％であり、水素濃度のばらつきも＜±１０％であった。
比較例７における補給水製造部の制御の有無、導電性付与物質及びその設定値、酸化還元電位調整物質及びその設定濃度をそれぞれ表１にあわせて示す。また、導電率のばらつき率、酸化還元電位調整物質の濃度のばらつき率、及び平均ドレン水流量をそれぞれ表２にあわせて示す。
［比較例８］
図２に示す機能性水溶液供給装置１を用いて、補給水製造部３に１５０Ｌ／分で超純水Ｗを供給し、この超純水Ｗに導電率が１μＳ／ｃｍとなるようにアンモニアを添加し、さらに過酸化水素を１００ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水Ｗ１を製造し、貯留槽５に送水した。貯留槽５から４台の洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄにこの洗浄水Ｗ１を送水し、使用しなかった洗浄水Ｗ１は貯留槽５に戻した。貯留槽５のレベルが低い時は補給水製造部３からの洗浄水Ｗ１を補給し、レベルが高い時は補給水製造部３での洗浄水Ｗ１の製造を停止した。
図２に示す機能性水溶液供給装置１を用いて、補給水製造部３に１５０Ｌ／分で超純水Ｗを供給し、この超純水Ｗに導電率が１μＳ／ｃｍとなるようにアンモニアを添加し、さらに過酸化水素を１００ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水Ｗ１を製造し、貯留槽５に送水した。貯留槽５から４台の洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄにこの洗浄水Ｗ１を送水し、使用しなかった洗浄水Ｗ１は貯留槽５に戻した。貯留槽５のレベルが低い時は補給水製造部３からの洗浄水Ｗ１を補給し、レベルが高い時は補給水製造部３での洗浄水Ｗ１の製造を停止した。
この結果、この結果、ドレン水の平均流量は０Ｌ／分であった。また、貯留槽５から洗浄機６Ａ，６Ｂ・・・へ送水した洗浄水Ｗ１のアンモニア濃度のばらつきは±２００％であり、過酸化水素濃度のばらつきは＜±１００％であった。これらのことより、ドレン水は少ないものの濃度のばらつきが大きく、実用的でないことがわかった。
比較例８における補給水製造部の制御の有無、導電性付与物質及びその設定値、酸化還元電位調整物質及びその設定濃度をそれぞれ表１にあわせて示す。また、導電率のばらつき率、酸化還元電位調整物質の濃度のばらつき率、及び平均ドレン水流量をそれぞれ表２にあわせて示す。
［比較例９］
図２に示す機能性水溶液供給装置１を用いて、補給水製造部３に１５０Ｌ／分で超純水Ｗを供給し、この超純水Ｗに導電率が１００μＳ／ｃｍとなるようにアンモニアを添加し、さらに過酸化水素を１００ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水（機能性水溶液）Ｗ１を製造し、貯留槽５に送水した。貯留槽５から４台の洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄにこの洗浄水Ｗ１を送水し、使用しなかった洗浄水Ｗ１は貯留槽５に戻した。貯留槽５のレベルが低い時は補給水製造部３からの洗浄水Ｗ１を補給し、レベルが高い時は補給水製造部３での洗浄水Ｗ１の製造を停止した。
図２に示す機能性水溶液供給装置１を用いて、補給水製造部３に１５０Ｌ／分で超純水Ｗを供給し、この超純水Ｗに導電率が１００μＳ／ｃｍとなるようにアンモニアを添加し、さらに過酸化水素を１００ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水（機能性水溶液）Ｗ１を製造し、貯留槽５に送水した。貯留槽５から４台の洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄにこの洗浄水Ｗ１を送水し、使用しなかった洗浄水Ｗ１は貯留槽５に戻した。貯留槽５のレベルが低い時は補給水製造部３からの洗浄水Ｗ１を補給し、レベルが高い時は補給水製造部３での洗浄水Ｗ１の製造を停止した。
この結果、ドレン水の平均流量は０Ｌ／分であった。また、貯留槽５から洗浄機６Ａ，６Ｂ・・・へ送水した洗浄水Ｗ１のアンモニア濃度のばらつきは±８０％であり、過酸化水素濃度のばらつきは＜±１００％であった。これらのことより、ドレン水は少ないものの濃度のばらつきが大きく、実用的でないことがわかった。
比較例９における補給水製造部の制御の有無、導電性付与物質及びその設定値、酸化還元電位調整物質及びその設定濃度をそれぞれ表１にあわせて示す。また、導電率のばらつき率、酸化還元電位調整物質の濃度のばらつき率、及び平均ドレン水流量をそれぞれ表２にあわせて示す。
［実施例１］
図１に示す機能性水溶液供給装置１を用いて、補給水製造部３に超純水Ｗを供給し、この超純水Ｗに導電率が１μＳ／ｃｍとなるようにアンモニア（導電性付与物質）を添加し、さらに過酸化水素（酸化還元電位調整物質）を１００ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水（機能性水溶液）Ｗ１を製造し、貯留槽５に送水した。貯留槽５から４台の洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄにこの洗浄水Ｗ１を送水し、使用しなかった洗浄水Ｗ１は貯留槽５に戻した。そして、洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄの稼働情報から制御手段９により予め洗浄水Ｗ１の使用量に関するデータ算出し、この洗浄水Ｗ１の使用量に関するデータに基づいて補給水製造部３を制御して、この使用量に応じて補給磯製造部３での洗浄水Ｗ１の製造量を調整した。この際、余剰の洗浄水Ｗ１はドレン水として排出した。
図１に示す機能性水溶液供給装置１を用いて、補給水製造部３に超純水Ｗを供給し、この超純水Ｗに導電率が１μＳ／ｃｍとなるようにアンモニア（導電性付与物質）を添加し、さらに過酸化水素（酸化還元電位調整物質）を１００ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水（機能性水溶液）Ｗ１を製造し、貯留槽５に送水した。貯留槽５から４台の洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄにこの洗浄水Ｗ１を送水し、使用しなかった洗浄水Ｗ１は貯留槽５に戻した。そして、洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄの稼働情報から制御手段９により予め洗浄水Ｗ１の使用量に関するデータ算出し、この洗浄水Ｗ１の使用量に関するデータに基づいて補給水製造部３を制御して、この使用量に応じて補給磯製造部３での洗浄水Ｗ１の製造量を調整した。この際、余剰の洗浄水Ｗ１はドレン水として排出した。
この結果、ドレン水の平均流量は３０Ｌ／分であった。また、貯留槽５から洗浄機６Ａ，６Ｂ・・・へ送水した洗浄水Ｗ１のアンモニア濃度のばらつきは＜±１０％であり、過酸化水素濃度のばらつきも＜±１０％であった。
実施例１における補給水製造部の制御の有無、導電性付与物質及びその設定値、酸化還元電位調整物質及びその設定濃度をそれぞれ表１にあわせて示す。また、導電率のばらつき率、酸化還元電位調整物質の濃度のばらつき率、及び平均ドレン水流量をそれぞれ表２にあわせて示す。
［実施例２］
図１に示す機能性水溶液供給装置１を用いて、補給水製造部３に超純水Ｗを供給し、この超純水Ｗに導電率が１００μＳ／ｃｍとなるようにアンモニアを添加し、さらに過酸化水素を１００ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水Ｗ１を製造し、貯留槽５に送水した。貯留槽５から４台の洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄにこの洗浄水Ｗ１を送水し、使用しなかった洗浄水Ｗ１は貯留槽５に戻した。そして、洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄの稼働情報から制御手段９により予め洗浄水Ｗ１の使用量に関するデータ算出し、この洗浄水Ｗ１の使用量に関するデータに基づいて補給水製造部３を制御して、この使用量に応じて補給磯製造部３での洗浄水Ｗ１の製造量を調整した。この際、余剰の洗浄水Ｗ１はドレン水として排出した。
図１に示す機能性水溶液供給装置１を用いて、補給水製造部３に超純水Ｗを供給し、この超純水Ｗに導電率が１００μＳ／ｃｍとなるようにアンモニアを添加し、さらに過酸化水素を１００ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水Ｗ１を製造し、貯留槽５に送水した。貯留槽５から４台の洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄにこの洗浄水Ｗ１を送水し、使用しなかった洗浄水Ｗ１は貯留槽５に戻した。そして、洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄの稼働情報から制御手段９により予め洗浄水Ｗ１の使用量に関するデータ算出し、この洗浄水Ｗ１の使用量に関するデータに基づいて補給水製造部３を制御して、この使用量に応じて補給磯製造部３での洗浄水Ｗ１の製造量を調整した。この際、余剰の洗浄水Ｗ１はドレン水として排出した。
この結果、ドレン水の平均流量は３０Ｌ／分であった。また、貯留槽５から洗浄機６Ａ，６Ｂ・・・へ送水した洗浄水Ｗ１のアンモニア濃度のばらつきは＜±１０％であり、過酸化水素濃度のばらつきも＜±１０％であった。
実施例２における補給水製造部の制御の有無、導電性付与物質及びその設定値、酸化還元電位調整物質及びその設定濃度をそれぞれ表１にあわせて示す。また、導電率のばらつき率、酸化還元電位調整物質の濃度のばらつき率、及び平均ドレン水流量をそれぞれ表２にあわせて示す。
［実施例３］
図１に示す機能性水溶液供給装置１を用いて、補給水製造部３に超純水Ｗを供給し、この超純水Ｗに導電率が１００μＳ／ｃｍとなるようにアンモニアを添加し、さらにオゾン（Ｏ３）（酸化還元電位調整物質）を３０ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水Ｗ１を製造し、貯留槽５に送水した。貯留槽５から４台の洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄにこの洗浄水Ｗ１を送水し、使用しなかった洗浄水Ｗ１は貯留槽５に戻した。そして、洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄの稼働情報から制御手段９により予め洗浄水Ｗ１の使用量に関するデータ算出し、この洗浄水Ｗ１の使用量に関するデータに基づいて補給水製造部３を制御して、この使用量に応じて補給磯製造部３での洗浄水Ｗ１の製造量を調整した。この際、余剰の洗浄水Ｗ１はドレン水として排出した。
図１に示す機能性水溶液供給装置１を用いて、補給水製造部３に超純水Ｗを供給し、この超純水Ｗに導電率が１００μＳ／ｃｍとなるようにアンモニアを添加し、さらにオゾン（Ｏ３）（酸化還元電位調整物質）を３０ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水Ｗ１を製造し、貯留槽５に送水した。貯留槽５から４台の洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄにこの洗浄水Ｗ１を送水し、使用しなかった洗浄水Ｗ１は貯留槽５に戻した。そして、洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄの稼働情報から制御手段９により予め洗浄水Ｗ１の使用量に関するデータ算出し、この洗浄水Ｗ１の使用量に関するデータに基づいて補給水製造部３を制御して、この使用量に応じて補給磯製造部３での洗浄水Ｗ１の製造量を調整した。この際、余剰の洗浄水Ｗ１はドレン水として排出した。
この結果、ドレン水の平均流量は３０Ｌ／分であった。また、貯留槽５から洗浄機６Ａ，６Ｂ・・・へ送水した洗浄水Ｗ１のオゾン濃度のばらつきは＜±１０％であり、過酸化水素濃度のばらつきも＜±１０％であった。
実施例３における補給水製造部の制御の有無、導電性付与物質及びその設定値、酸化還元電位調整物質及びその設定濃度をそれぞれ表１にあわせて示す。また、導電率のばらつき率、酸化還元電位調整物質の濃度のばらつき率、及び平均ドレン水流量をそれぞれ表２にあわせて示す。
［実施例４］
図１に示す機能性水溶液供給装置１を用いて、補給水製造部３に超純水Ｗを供給し、この超純水Ｗに導電率が１００μＳ／ｃｍとなるようにアンモニアを添加し、さらに水素ガス（Ｈ２）（酸化還元電位調整物質）を１．２ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水Ｗ１を製造し、貯留槽５に送水した。貯留槽５から４台の洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄにこの洗浄水Ｗ１を送水し、使用しなかった洗浄水Ｗ１は貯留槽５に戻した。そして、洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄの稼働情報から制御手段９により予め洗浄水Ｗ１の使用量に関するデータ算出し、この洗浄水Ｗ１の使用量に関するデータに基づいて補給水製造部３を制御して、この使用量に応じて補給磯製造部３での洗浄水Ｗ１の製造量を調整した。この際、余剰の洗浄水Ｗ１はドレン水として排出した。
図１に示す機能性水溶液供給装置１を用いて、補給水製造部３に超純水Ｗを供給し、この超純水Ｗに導電率が１００μＳ／ｃｍとなるようにアンモニアを添加し、さらに水素ガス（Ｈ２）（酸化還元電位調整物質）を１．２ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水Ｗ１を製造し、貯留槽５に送水した。貯留槽５から４台の洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄにこの洗浄水Ｗ１を送水し、使用しなかった洗浄水Ｗ１は貯留槽５に戻した。そして、洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄの稼働情報から制御手段９により予め洗浄水Ｗ１の使用量に関するデータ算出し、この洗浄水Ｗ１の使用量に関するデータに基づいて補給水製造部３を制御して、この使用量に応じて補給磯製造部３での洗浄水Ｗ１の製造量を調整した。この際、余剰の洗浄水Ｗ１はドレン水として排出した。
この結果、ドレン水の平均流量は３０Ｌ／分であった。また、貯留槽５から洗浄機６Ａ，６Ｂ・・・へ送水した洗浄水Ｗ１のアンモニア濃度のばらつきは＜±１０％であり、水素濃度のばらつきも＜±１０％であった。
実施例４における補給水製造部の制御の有無、導電性付与物質及びその設定値、酸化還元電位調整物質及びその設定濃度をそれぞれ表１にあわせて示す。また、導電率のばらつき率、酸化還元電位調整物質の濃度のばらつき率、及び平均ドレン水流量をそれぞれ表２にあわせて示す。
［実施例５］
図１に示す機能性水溶液供給装置１を用いて、補給水製造部３に超純水Ｗを供給し、この超純水Ｗに導電率が１０μＳ／ｃｍとなるように二酸化炭素（ＣＯ２）（導電性付与物質）を添加し、さらに過酸化水素を１００ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水Ｗ１を製造し、貯留槽５に送水した。貯留槽５から４台の洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄにこの洗浄水Ｗ１を送水し、使用しなかった洗浄水Ｗ１は貯留槽５に戻した。そして、洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄの稼働情報から制御手段９により予め洗浄水Ｗ１の使用量に関するデータ算出し、この洗浄水Ｗ１の使用量に関するデータに基づいて補給水製造部３を制御して、この使用量に応じて補給磯製造部３での洗浄水Ｗ１の製造量を調整した。この際、余剰の洗浄水Ｗ１はドレン水として排出した。
図１に示す機能性水溶液供給装置１を用いて、補給水製造部３に超純水Ｗを供給し、この超純水Ｗに導電率が１０μＳ／ｃｍとなるように二酸化炭素（ＣＯ２）（導電性付与物質）を添加し、さらに過酸化水素を１００ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水Ｗ１を製造し、貯留槽５に送水した。貯留槽５から４台の洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄにこの洗浄水Ｗ１を送水し、使用しなかった洗浄水Ｗ１は貯留槽５に戻した。そして、洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄの稼働情報から制御手段９により予め洗浄水Ｗ１の使用量に関するデータ算出し、この洗浄水Ｗ１の使用量に関するデータに基づいて補給水製造部３を制御して、この使用量に応じて補給磯製造部３での洗浄水Ｗ１の製造量を調整した。この際、余剰の洗浄水Ｗ１はドレン水として排出した。
この結果、ドレン水の平均流量は３０Ｌ／分であった。また、貯留槽５から洗浄機６Ａ，６Ｂ・・・へ送水した洗浄水Ｗ１の炭酸濃度のばらつきは＜±１０％であり、過酸化水素濃度のばらつきも＜±１０％であった。
実施例５に補給水製造部の制御の有無、導電性付与物質及びその設定値、酸化還元電位調整物質及びその設定濃度をそれぞれ表１にあわせて示す。また、導電率のばらつき率、酸化還元電位調整物質の濃度のばらつき率、及び平均ドレン水流量をそれぞれ表２にあわせて示す。
［実施例６］
図１に示す機能性水溶液供給装置１を用いて、補給水製造部３に超純水Ｗを供給し、この超純水Ｗに導電率が１０μＳ／ｃｍとなるように二酸化炭素（ＣＯ２）を添加し、さらにオゾン（Ｏ３）を３０ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水Ｗ１を製造し、貯留槽５に送水した。貯留槽５から４台の洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄにこの洗浄水Ｗ１を送水し、使用しなかった洗浄水Ｗ１は貯留槽５に戻した。そして、洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄの稼働情報から制御手段９により予め洗浄水Ｗ１の使用量に関するデータ算出し、この洗浄水Ｗ１の使用量に関するデータに基づいて補給水製造部３を制御して、この使用量に応じて補給磯製造部３での洗浄水Ｗ１の製造量を調整した。この際、余剰の洗浄水Ｗ１はドレン水として排出した。
図１に示す機能性水溶液供給装置１を用いて、補給水製造部３に超純水Ｗを供給し、この超純水Ｗに導電率が１０μＳ／ｃｍとなるように二酸化炭素（ＣＯ２）を添加し、さらにオゾン（Ｏ３）を３０ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水Ｗ１を製造し、貯留槽５に送水した。貯留槽５から４台の洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄにこの洗浄水Ｗ１を送水し、使用しなかった洗浄水Ｗ１は貯留槽５に戻した。そして、洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄの稼働情報から制御手段９により予め洗浄水Ｗ１の使用量に関するデータ算出し、この洗浄水Ｗ１の使用量に関するデータに基づいて補給水製造部３を制御して、この使用量に応じて補給磯製造部３での洗浄水Ｗ１の製造量を調整した。この際、余剰の洗浄水Ｗ１はドレン水として排出した。
この結果、ドレン水の平均流量は３０Ｌ／分であった。また、貯留槽５から洗浄機６Ａ，６Ｂ・・・へ送水した洗浄水Ｗ１の炭酸濃度のばらつきは＜±１０％であり、オゾン濃度のばらつきも＜±１０％であった。
実施例６における補給水製造部の制御の有無、導電性付与物質及びその設定値、酸化還元電位調整物質及びその設定濃度をそれぞれ表１にあわせて示す。また、導電率のばらつき率、酸化還元電位調整物質の濃度のばらつき率、及び平均ドレン水流量をそれぞれ表２にあわせて示す。
［実施例７］
図１に示す機能性水溶液供給装置１を用いて、補給水製造部３に超純水Ｗを供給し、この超純水Ｗに導電率が１０μＳ／ｃｍとなるように二酸化炭素（ＣＯ２）を添加し、さらに水素ガス（Ｈ２）を１．２ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水（機能性水溶液）Ｗ１を製造し、貯留槽５に送水した。貯留槽５から４台の洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄにこの洗浄水Ｗ１を送水し、使用しなかった洗浄水Ｗ１は貯留槽５に戻した。そして、洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄの稼働情報から制御手段９により予め洗浄水Ｗ１の使用量に関するデータ算出し、この洗浄水Ｗ１の使用量に関するデータに基づいて補給水製造部３を制御して、この使用量に応じて補給磯製造部３での洗浄水Ｗ１の製造量を調整した。この際、余剰の洗浄水Ｗ１はドレン水として排出した。
図１に示す機能性水溶液供給装置１を用いて、補給水製造部３に超純水Ｗを供給し、この超純水Ｗに導電率が１０μＳ／ｃｍとなるように二酸化炭素（ＣＯ２）を添加し、さらに水素ガス（Ｈ２）を１．２ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水（機能性水溶液）Ｗ１を製造し、貯留槽５に送水した。貯留槽５から４台の洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄにこの洗浄水Ｗ１を送水し、使用しなかった洗浄水Ｗ１は貯留槽５に戻した。そして、洗浄機６Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び６Ｄの稼働情報から制御手段９により予め洗浄水Ｗ１の使用量に関するデータ算出し、この洗浄水Ｗ１の使用量に関するデータに基づいて補給水製造部３を制御して、この使用量に応じて補給磯製造部３での洗浄水Ｗ１の製造量を調整した。この際、余剰の洗浄水Ｗ１はドレン水として排出した。
この結果、ドレン水の平均流量は３０Ｌ／分であった。また、貯留槽５から洗浄機６Ａ，６Ｂ・・・へ送水した洗浄水Ｗ１の炭酸濃度のばらつきは＜±１０％であり、水素濃度のばらつきも＜±１０％であった。
実施例７における補給水製造部の制御の有無、導電性付与物質及びその設定値、酸化還元電位調整物質及びその設定濃度をそれぞれ表１にあわせて示す。また、導電率のばらつき率、酸化還元電位調整物質の濃度のばらつき率、及び平均ドレン水流量をそれぞれ表２にあわせて示す。
１ 機能性水溶液供給装置
２ 管路
３ 補給水製造部
４ 配管
５ 貯留槽
６Ａ，６Ｂ，６Ｃ，６Ｄ 枚葉式洗浄機（ユースポイント）
７ 循環管路
７Ａ，７Ｂ，７Ｃ，７Ｄ 供給管
８Ａ，８Ｂ，８Ｃ，８Ｄ 返送管
９ 制御手段
Ｗ 超純水
Ｗ１ 洗浄水（機能性水溶液）
２ 管路
３ 補給水製造部
４ 配管
５ 貯留槽
６Ａ，６Ｂ，６Ｃ，６Ｄ 枚葉式洗浄機（ユースポイント）
７ 循環管路
７Ａ，７Ｂ，７Ｃ，７Ｄ 供給管
８Ａ，８Ｂ，８Ｃ，８Ｄ 返送管
９ 制御手段
Ｗ 超純水
Ｗ１ 洗浄水（機能性水溶液）
上記目的に鑑み本発明は、原料水に対して、導電性付与物質、酸化還元電位調整物質およびｐＨ調整物質から選ばれた１種以上の機能性成分を添加した洗浄水をユースポイントに供給する機能性水溶液供給装置であって、前記洗浄水を製造する補給水製造部と、前記補給水製造部で製造された洗浄水を供給・補給して貯留する貯留槽と前記貯留槽から前記ユースポイントに洗浄水を供給する循環式の洗浄水供給管と、前記ユースポイントで未使用の洗浄水を前記循環式の洗浄水供給管に返送する返送管と、前記ユースポイントの前記洗浄水の使用予定情報に基づき前記補給水製造部から前記貯留槽に供給する洗浄水の補給量を制御する制御手段とを備える、機能性水溶液供給装置を提供する（発明１）。
かかる発明（発明１）によれば、洗浄水としての機能性水溶液の貯留槽への補給量をユースポイントでの洗浄水の使用予定情報に基づき制御することで、機能性水溶液の排出量を大幅に削減することができる。しかも、機能性水溶液の製造量も削減することができる。さらに、洗浄水の使用予定情報に基づき補給水製造部から前記貯留槽に供給する洗浄水の補給量に基づいて、機能性水溶液の製造量をあらかじめ必要量に応じて設定しておくことができるので、機能性水溶液の濃度を精度よく制御することができる。
かかる発明（発明２）によれば、複数の洗浄機の稼働状況によりユースポイントで使用する洗浄水の量は大きく変動するが、この洗浄機の稼働情報をあらかじめ入手して、ユースポイントで使用する洗浄水の量をあらかじめ予測して、その製造・補給量を制御することにより、機能性水溶液の排出量を大幅に削減し、機能性水溶液の製造量も削減することができる。また、機能性水溶液の濃度を精度よく制御することができる。
本発明の機能性水溶液供給装置によれば、ユースポイントの前記洗浄水の使用予定情報に基づき前記補給水製造部から前記貯留槽に供給する洗浄水の補給量を制御することができるので、機能性水溶液の排出量を大幅に削減することができ、しかも機能性水溶液の製造量も削減することができる。さらに、洗浄水の使用予定情報に基づき補給水製造部から前記貯留槽に供給する洗浄水の補給量を設定しておくことにより、機能性水溶液の濃度を精度よく制御することができる。特に複数の洗浄機の稼働状況によりユースポイントで使用する洗浄水の量は大きく変動するが、このような場合に好適に適用することができる。
このような枚葉式洗浄機６Ａ，６Ｂ・・・へ洗浄水Ｗ１を供給するに伴い、貯留槽５内の洗浄水Ｗ１が減少する。そこで、補給水製造部３で製造された洗浄水Ｗ１を配管４を介して貯留槽５に補給するが、本実施形態においては、予め洗浄機６Ａ，６Ｂ・・・の稼働情報をあらかじめ入手し、この稼働情報に基づき洗浄水Ｗ１の使用量を制御手段９により予測し、さらに補給水製造部３で製造する洗浄水Ｗ１の量をこの使用量に応じたものとすることにより、使用量の変動に対応して洗浄水Ｗ１を貯留槽５に洗浄水Ｗ１を補給する。これにより、洗浄水Ｗ１の製造量を削減し、かつ洗浄水Ｗ１の排出量を大幅に削減することができる。しかも、洗浄水Ｗ１の洗浄水の薬液濃度を精度よく制御することができる、という効果も奏する。
Claims (4)
- 原料水に対して、導電性付与物質、酸化還元電位調整物質およびｐＨ調整物質から選ばれた１種以上の機能性成分を添加した洗浄水をユースポイントに供給する機能性水溶液供給装置であって、
前記洗浄水を製造する補給水製造部と、
前記補給水製造部で製造された洗浄水を供給・補給して貯留する貯留槽と
前記貯留槽から前記ユースポイントに洗浄水を供給する循環式の洗浄水供給管と、
前記ユースポイントで未使用の洗浄水を前記循環式の洗浄水供給管に返送する返送管と、
前記ユースポイントの前記洗浄液の使用予定情報に基づき前記補給水製造部から前記貯留槽に供給する洗浄水の補給量を制御する制御手段と
を備える、機能性水溶液供給装置。 - 前記ユースポイントが複数の洗浄機を有する、請求項１に記載の機能性水溶液供給装置。
- 前記導電性付与物質が、アンモニア又は炭酸である、請求項１又は２に記載の機能性水溶液供給装置。
- 前記酸化還元電位調整物質が、過酸化水素、Ｏ３もしくはＨ２である、請求項１又は２に記載の機能性水溶液供給装置。
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