JP2022123997A - 電気光学装置用基板、電気光学装置、電子機器、電気光学装置の製造方法、および検査回路 - Google Patents
電気光学装置用基板、電気光学装置、電子機器、電気光学装置の製造方法、および検査回路 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2022123997A JP2022123997A JP2021021504A JP2021021504A JP2022123997A JP 2022123997 A JP2022123997 A JP 2022123997A JP 2021021504 A JP2021021504 A JP 2021021504A JP 2021021504 A JP2021021504 A JP 2021021504A JP 2022123997 A JP2022123997 A JP 2022123997A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- terminal
- electro
- optical device
- voltage
- circuit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 190
- 238000007689 inspection Methods 0.000 title claims abstract description 121
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 17
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 46
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 3
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 33
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 18
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 17
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 17
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 14
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 14
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 10
- 230000008569 process Effects 0.000 description 10
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 9
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000002513 implantation Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WQJQOUPTWCFRMM-UHFFFAOYSA-N tungsten disilicide Chemical compound [Si]#[W]#[Si] WQJQOUPTWCFRMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021342 tungsten silicide Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N9/00—Details of colour television systems
- H04N9/12—Picture reproducers
- H04N9/31—Projection devices for colour picture display, e.g. using electronic spatial light modulators [ESLM]
- H04N9/3191—Testing thereof
- H04N9/3194—Testing thereof including sensor feedback
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01K—MEASURING TEMPERATURE; MEASURING QUANTITY OF HEAT; THERMALLY-SENSITIVE ELEMENTS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01K7/00—Measuring temperature based on the use of electric or magnetic elements directly sensitive to heat ; Power supply therefor, e.g. using thermoelectric elements
- G01K7/01—Measuring temperature based on the use of electric or magnetic elements directly sensitive to heat ; Power supply therefor, e.g. using thermoelectric elements using semiconducting elements having PN junctions
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133382—Heating or cooling of liquid crystal cells other than for activation, e.g. circuits or arrangements for temperature control, stabilisation or uniform distribution over the cell
- G02F1/133385—Heating or cooling of liquid crystal cells other than for activation, e.g. circuits or arrangements for temperature control, stabilisation or uniform distribution over the cell with cooling means, e.g. fans
-
- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09F—DISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
- G09F9/00—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
- G09F9/30—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements
-
- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09G—ARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
- G09G3/00—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes
- G09G3/006—Electronic inspection or testing of displays and display drivers, e.g. of LED or LCD displays
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/70—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
- H01L21/77—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
- H01L21/78—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
- H01L21/82—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, e.g. integrated circuits, each consisting of a plurality of components
- H01L21/84—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, e.g. integrated circuits, each consisting of a plurality of components the substrate being other than a semiconductor body, e.g. being an insulating body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/0203—Particular design considerations for integrated circuits
- H01L27/0248—Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N9/00—Details of colour television systems
- H04N9/12—Picture reproducers
- H04N9/31—Projection devices for colour picture display, e.g. using electronic spatial light modulators [ESLM]
- H04N9/3141—Constructional details thereof
- H04N9/3144—Cooling systems
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1306—Details
- G02F1/1309—Repairing; Testing
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133351—Manufacturing of individual cells out of a plurality of cells, e.g. by dicing
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133382—Heating or cooling of liquid crystal cells other than for activation, e.g. circuits or arrangements for temperature control, stabilisation or uniform distribution over the cell
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F2202/00—Materials and properties
- G02F2202/22—Antistatic materials or arrangements
-
- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09G—ARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
- G09G2330/00—Aspects of power supply; Aspects of display protection and defect management
- G09G2330/04—Display protection
- G09G2330/045—Protection against panel overheating
-
- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09G—ARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
- G09G2330/00—Aspects of power supply; Aspects of display protection and defect management
- G09G2330/06—Handling electromagnetic interferences [EMI], covering emitted as well as received electromagnetic radiation
-
- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09G—ARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
- G09G2330/00—Aspects of power supply; Aspects of display protection and defect management
- G09G2330/12—Test circuits or failure detection circuits included in a display system, as permanent part thereof
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Measuring Temperature Or Quantity Of Heat (AREA)
Abstract
【課題】センサー素子に接続された端子を短絡線等に電気的に接続した場合でも、センサー素子の電気特性を適正に検査することのできる電気光学装置用基板、電気光学装置、電子機器、電気光学装置の製造方法、および検査回路を提供すること。【解決手段】電気光学装置用基板は、センサー素子160に接続された第1実装端子M1および第2実装端子M2を有する。電気光学装置用基板は、第1実装端子M1と第2実装端子M2との間に接続された第1抵抗素子R1と、第1抵抗素子R1と第2実装端子M2との間に接続された第2抵抗素子R2と、第1抵抗素子R1と第2抵抗素子R2との間に接続された第3実装端子M3とを有する。検査回路40は、第1実装端子M1に通電する通電回路41と、第1実装端子M1と同一の電圧を第3実装端子M3に印加する電圧設定部42と、第1実装端子M1の電圧または電流を検出する検出回路43とを有する。【選択図】図2
Description
本発明は、センサー素子が設けられた電気光学装置用基板、電気光学装置、電気光学装置の製造方法、および検査回路に関するものである。
液晶装置や有機エレクトロルミネッセンス表示装置等の電気光学装置では、電気光学装置が具備する電気光学パネルを構成する基板にセンサー素子を設けることがある。例えば、投射型表示装置においてライトバルブとして用いられる電気光学装置では、照明光が高強度で電気光学パネルに照射されるため、電気光学パネルの温度が上昇しやすい。このような場合、液晶層の変調特性や応答特性が変化する。そこで、電気光学パネルに用いた基板に温度検出用のセンサー素子としてダイオード素子を設ける一方、基板の実装端子に電気的に接続された回路基板に定電流回路を設け、センサー素子に定電流回路から定電流を印加した際のセンサー素子の電圧に基づいて、冷却ファンの制御等を行う技術が提案されている(特許文献1参照)。
一方、電気光学装置の製造工程においては、マザー基板と呼ばれる大型基板に電気光学パネルを構成する基板を複数、設け、最終段階のスクライブ工程で個別の基板に分割する。その際の静電気から基板に形成された回路素子を保護する目的や、電気光学パネルとなった後の焼き付き等の原因と電荷を除去するために、実装端子同士を抵抗素子によって電気的に接続する構成が提案されている(特許文献2参照)。
特許文献2に記載の大型基板に対して、特許文献1に記載の温度検出回路を設けた場合、温度検出回路を構成するダイオード素子のアノード端子とカソード端子が抵抗素子を介して電気的に接続されることになる。従って、ダイオード素子の電気特性の検査を行うためにアノード端子から電流を流した際、ダイオード素子への電流経路と抵抗素子を経由する電流経路とが存在することになる。それ故、大型基板、あるいは大型基板を分割した基板からなる電気光学装置用基板に設けたダイオード素子の電気特性を適正に行うことができないという課題がある。かかる問題は、センサー素子として、温度検出用のダイオード素子以外のセンサー素子を設けた場合でも同様に発生する。
上記課題を解決するために、本発明に係る電気光学装置用基板は、センサー素子と、前記センサー素子の一方の電極に電気的に接続された第1端子と、前記センサー素子の他方の電極に電気的に接続された第2端子と、前記第1端子と前記第2端子との間に電気的に接続された第1抵抗素子と、前記第1抵抗素子と前記第2端子との間に電気的に接続された第2抵抗素子と、前記第1抵抗素子と前記第2抵抗素子との間に電気的に接続された第3端子と、を有することを特徴とする。
本発明に係る電気光学装置用基板は、画素電極が配列された画素領域、および前記画素領域と電気的に接続された実装端子を含む第1領域と、前記第1領域と隣り合う第2領域と、を含み、前記センサー素子、前記第1端子、前記第2端子、前記第3端子、前記第1抵抗素子、および前記第2抵抗素子が前記第1領域に設けられていることがある。かかる電気光学装置用基板は、分割した後の前記第1領域に相当する小型基板が電気光学装置に用いられる。この場合、電気光学装置は、前記小型基板に電気的に接続された回路基板と、前記回路基板に設けられたセンサー駆動回路と、を有し、前記センサー駆動回路は、前記第1端子に通電する通電回路と、前記第1端子の電圧に対応する電圧を前記第3端子に印加する電圧設定部と、前記第1端子の電圧または電流を検出する検出回路と、を備える。
本発明に係る電気光学装置用基板は、画素電極が配列された画素領域、および前記画素領域に電気的に接続された実装端子を含む第1領域と、前記第1領域に隣接する第2領域と、含み、少なくとも、前記センサー素子、前記第1端子、および前記第2端子が前記第1領域に設けられ、前記第1抵抗素子および前記第2抵抗素子の少なくとも一方が前記第2領域に設けられていることがある。かかる電気光学装置用基板は、分割した後の前記第1領域に相当する小型基板が電気光学装置に用いられる。この場合、電気光学装置は、前記電気光学装置用基板に電気的に接続された回路基板と、前記回路基板に設けられたセンサー駆動回路と、を有し、前記センサー駆動回路は、前記第1端子に通電する通電回路と、前記第1端子の電圧または電流を検出する検出回路と、を備える。
本発明に係る電気光学装置は電子機器に用いられ、かかる電子機器では、前記センサー素子の検出結果に基づいて、前記電気光学装置の駆動条件、冷却条件または加熱条件を調整する。
本発明において、電気光学装置用基板の状態でセンサー素子を検査する検査回路は、前記第1端子に通電する通電回路と、前記第1端子の電圧に対応する電圧を前記第3端子に印加する電圧設定部と、前記第1端子の電圧または電流を検出する検出回路と、を有する。
図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。なお、以下の説明で参照する図においては、各部材等を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各部材の縮尺を相違させるともに、部材の数を減らしてある。
以下に説明する電気光学パネル100において、画素電極170が設けられた第1基板10にはセンサー素子160が設けられている。かかるセンサー素子160は、製造工程の途中において、複数の第1基板10が配置されたマザー基板としての大型基板90の状態で検査される。
ここで、大型基板90は、第1基板10として分割される複数の第1領域91と、大型基板90から複数の第1基板10を個別の小型基板95として分割する際にスクライブされるスクライブ領域に対応する第2領域92とを備え、第1領域91に、センサー素子160を検査するために用いられる第1抵抗素子R1、および第2抵抗素子R2等が全て配置される場合がある。かかる場合の形態については第1実施形態として説明する。
また、大型基板90では、センサー素子160を検査するために用いられる第1抵抗素子R1、および第2抵抗素子R2のうちの少なくとも一方が、第1領域91に隣接する第2領域92に形成される場合もある。かかる場合の形態については第2実施形態として説明する。
[第1実施形態]
1-1.電気光学装置1の基本構成
図1は、本発明を適用した電気光学装置1の一態様を示す説明図である。図1では、x軸、y軸およびz軸からなる直交座標系を用いて各方向を表す。z軸方向は、電気光学パネル100の厚さ方向であり、y軸方向は、電気光学パネル100に接続される回路基板60の延在方向であり、x軸方向は、回路基板60の延在方向に対して直交する幅方向である。
1-1.電気光学装置1の基本構成
図1は、本発明を適用した電気光学装置1の一態様を示す説明図である。図1では、x軸、y軸およびz軸からなる直交座標系を用いて各方向を表す。z軸方向は、電気光学パネル100の厚さ方向であり、y軸方向は、電気光学パネル100に接続される回路基板60の延在方向であり、x軸方向は、回路基板60の延在方向に対して直交する幅方向である。
図1において、電気光学装置1は液晶装置であり、電気光学パネル100としての液晶パネルを備えている。電気光学パネル100は、第1基板10に形成された複数の画素電極170と、第2基板20に形成された共通電極(図示せず)と、画素電極170と共通電極との間に設けられた液晶層からなる電気光学層(図示せず)とを備えている。本形態において、第1基板10は、x軸方向に延在する2つの辺101、102と、y軸方向に延在する2つの辺103、104とを備えている。画素電極170は、電気光学層を介して共通電極と対向することによって画素17を構成しており、画素17がx軸方向およびy軸方向に配列されている領域が画素領域11である。第1基板10と第2基板20とは、枠状のシール材(図示せず)によって貼り合わされており、シール材で囲まれた領域に電気光学層が設けられている。画素17には、画素電極170に電気的に接続された画素スイッチング素子(図示せず)が設けられている。また、画素17には、一方の電極が画素電極170に電気的に接続された補助容量(図示せず)が設けられており、補助容量の他方の電極には共通電圧が印加される。
本形態の電気光学パネル100は透過型の液晶パネルである。従って、第1基板10の基板本体19、および第2基板20の基板本体29は、耐熱ガラスや石英基板等の透光性基板からなり、画素電極170および共通電極は透光性のITO(Indium Tin Oxide)等の導電膜からなる。透過型の電気光学パネル100では、例えば、第1基板10および第2基板20のうちの一方の基板から入射した照明光が他方の基板の側から出射する間に変調され、表示光として出射される。本形態においては、第2基板20から入射した照明光が第1基板10から出射する間に変調され、表示光として出射される。
第1基板10は、第2基板20の端部からy軸方向に張り出した張出部105を有している。張出部105には、第1辺101に沿って複数の実装端子Mが所定のピッチで配列された実装端子領域14が設けられている。電気光学装置1は、実装端子Mに接続された可撓性の第1回路基板60を有しており、第1回路基板60は、第1基板10から離間するようにy軸方向に延在している。また、第1回路基板60の電気光学パネル100と反対側には第2回路基板70が接続されている。第1回路基板60には駆動用IC61が設けられており、駆動用IC61は、第2回路基板70を介して入力された信号に基づいて生成した信号等を電気光学パネル100に出力する。第2回路基板70には、図2および図3を参照して後述するセンサー回路16を駆動するセンサー駆動回路50が設けられている。
1-2.第1基板10の構成
図2は、本発明の第1実施形態に係る電気光学装置1を製造するための大型基板90の説明図である。図2には、第1基板10を製造するための大型基板90の状態でセンサー素子160を検査する様子を示してある。本形態においては、大型基板90が本発明に係る「電気光学装置用基板」に相当する。
図2は、本発明の第1実施形態に係る電気光学装置1を製造するための大型基板90の説明図である。図2には、第1基板10を製造するための大型基板90の状態でセンサー素子160を検査する様子を示してある。本形態においては、大型基板90が本発明に係る「電気光学装置用基板」に相当する。
図2に示すように、大型基板90は、第1基板10が配置される第1領域91を複数備えている。大型基板90は、隣り合う第1領域91の間に、大型基板90から第1基板10としての小型基板95を分割する際にスクライブされる第2領域92を備えており、第1領域91と第2領域92とは隣接している。第1基板10には、画素領域11に対してx軸方向で隣り合う位置に走査線駆動回路12が設けられ、画素領域11と複数の実装端子Mが配列された実装端子領域14との間にデータ線駆動回路13が設けられる。走査線駆動回路12は、走査線(図示せず)を介して各画素の画素スイッチング素子に走査信号を供給する。データ線駆動回路13は、データ線(図示せず)および画素スイッチング素子を介して画素電極170に画像信号を供給する。従って、実装端子領域14は、画素領域11と直接、電気的に接続された実装端子Mを含む。また、実装端子領域14は、走査線駆動回路12またはデータ線駆動回路13を介して画素領域11と電気的に接続された実装端子Mを含む。
複数の実装端子M、および複数の実装端子Mから延在する配線は各々、以下の信号や電圧に対応する。なお、図示した信号や電源は代表例であって、実際には、画像信号は多数の端子から入力され、図示を省略した出力制御信号により走査線駆動回路12が出力する走査信号の波形の整形が実施され、データ線駆動回路13によるデータ線への画像信号の供給タイミング信号の整形が実施される。
走査線駆動回路用のクロック信号VCLK
クロック信号VCLKに対する反転クロック信号VCLKB
走査線駆動回路用のスタートパルスVSP
画像信号VID
データ線駆動回路用のクロック信号HCLK
クロック信号HCLKに対する反転クロック信号HCLKB
データ線駆動回路用のスタートパルスHSP
高電圧VDD
低電圧VSS
共通電圧LCCOM
走査線駆動回路用のクロック信号VCLK
クロック信号VCLKに対する反転クロック信号VCLKB
走査線駆動回路用のスタートパルスVSP
画像信号VID
データ線駆動回路用のクロック信号HCLK
クロック信号HCLKに対する反転クロック信号HCLKB
データ線駆動回路用のスタートパルスHSP
高電圧VDD
低電圧VSS
共通電圧LCCOM
本形態では、実装端子領域14とデータ線駆動回路13との間にx軸方向に延在する短絡線15が設けられている。短絡線15は低電圧VSSに対応する実装端子Mと電気的に接続されている。上記の信号や電圧に対応する複数の実装端子Mのうち、低電圧VSSに対応する実装端子M以外の複数の実装端子Mは各々、抵抗素子Rを介して短絡線15に電気的に接続されている。抵抗素子Rの抵抗値は例えば1MΩである。なお、実装端子領域14には、ダミーDUMの実装端子Mも設けられている。ダミーDUMの実装端子Mには配線が設けられておらず、ダミーDUMの実装端子Mは、短絡線15に電気的に接続されていない。
第1基板10には、画素領域11の外側にセンサー素子160を備えたセンサー回路16が設けられる。本形態において、センサー素子160は、ダイオード素子からなる温度センサー素子である。図2には1個のダイオード素子を示してあるが、温度に対する感度を高めるために複数個のダイオード素子を直列に電気的に接続することが好ましい。例えば、5個のダイオード素子を直列に電気的に接続する。かかるダイオード素子は、画素領域11、走査線駆動回路12、データ線駆動回路13にスイッチング素子等を形成するプロセスを利用して形成される。
センサー回路16では、ダイオード素子を定電流で駆動すると、ダイオード素子の順方向の電圧は温度に対して負の相関があり、室温から80℃まで良い線形性を有する。例えば、5個のダイオード素子を直列に電気的に接続した場合、例えば0.7μAの定電流で駆動すると、温度検出感度は、約-10mV/℃である。従って、汎用的なA/Dコンバーターで順方向電圧の変化を十分検出できるから、電気光学パネル100の温度を感度良く検出することができる。
第1基板10において、実装端子領域14には、センサー素子160の一方の電極に電気的に接続された第1実装端子M1と、センサー素子160の他方の電極に電気的に接続された第2実装端子M2が設けられており、図1に示す第1回路基板60は、第1実装端子M1および第2実装端子M2にも電気的に接続される。本形態において、センサー素子160はダイオード素子であり、センサー素子160の一方の電極はダイオード素子のアノードに相当し、センサー素子160の他方の電極はダイオード素子のカソードに相当する。従って、第1実装端子M1は、ダイオード素子のアノードに電気的に接続され、第2実装端子M2は、ダイオード素子のカソードに電気的に接続されている。
ここで、第1基板10には、画素領域11の外側に、第1実装端子M1と第2実装端子M2との間に電気的に接続された第1抵抗素子R1と、第1抵抗素子R1と第2実装端子M2との間に電気的に接続された第2抵抗素子R2と、第1抵抗素子R1と第2抵抗素子R2との間に電気的に接続された第3実装端子M3とが設けられている。
第1抵抗素子R1は、一方端が第1実装端子M1に電気的に接続され、他方端は第2抵抗素子R2の一方端に電気的に接続されている。第2抵抗素子R2の第1抵抗素子R1と電気的に接続された一方端とは反対側の他方端は、短絡線15に電気的に接続されている。従って、第1抵抗素子R1と第2抵抗素子R2とは、第1実装端子M1と短絡線15との間で直列に電気的に接続されており、第2抵抗素子R2は短絡線15を介して第2実装端子M2に電気的に接続されている。ここで、第1基板10では、実装端子領域14において、第2実装端子M2、第1実装端子M1、および第3実装端子M3が順に配置されている。
このように、本形態の第1基板10には第1実装端子M1、第2実装端子M2および第3実装端子M3が設けられており、これらの実装端子は、以下に示すように、本発明における「第1端子」、「第2端子」および「第3端子」に相当する。
第1端子=第1実装端子M1
第2端子=第2実装端子M2
第3端子=第3実装端子M3
第1端子=第1実装端子M1
第2端子=第2実装端子M2
第3端子=第3実装端子M3
また、第1基板10には、第2実装端子M2に一方端が電気的に接続された第3抵抗素子R3が設けられ、第3抵抗素子R3の他方端は短絡線15に電気的に接続されている。従って、第2抵抗素子R2は、短絡線15および第3抵抗素子R3を介して第2実装端子M2に電気的に接続されている。第3抵抗素子R3の抵抗値は、抵抗素子Rと同様、1MΩである。第1抵抗素子R1および第2抵抗素子R2の抵抗値は、抵抗素子Rと同様、1MΩである。
かかる構成によれば、図2に示す画素領域11や実装端子M等の全ての構成要素を大型基板90に形成した後、大型基板90から第1基板10を小型基板95として分割する際に実装端子Mに静電気が侵入しても、短絡線15を含む大きな容量体によって静電気の電荷を吸収することができる。従って、画素領域11、走査線駆動回路12、データ線駆動回路13等に設けたスイッチング素子等の回路素子を静電気から保護することができる。
同様に、第1実装端子M1、および第2実装端子M2に静電気が侵入しても、第1抵抗素子R1、第2抵抗素子R2、第3抵抗素子R3、および短絡線15を利用して静電気を吸収することができる。また、第3実装端子M3に静電気が侵入しても、第2抵抗素子R2を利用して短絡線15を含む大きな容量体へ静電気を吸収することができる。従って、センサー回路16に設けたセンサー素子160を静電気から保護することができる。
詳細は後述するが、ダイオード素子からなるセンサー素子160を定電流駆動する際に第1抵抗素子R1を流れる電流I2の抑制を図りたい。また、第3実装端子M3から侵入した静電気は、第2抵抗素子R2を介して短絡線15へ効率よく逃がしたい。従って、抵抗値については、第1抵抗素子R1>第2抵抗素子R2とすることがよい。なお、第1抵抗素子R1、第2抵抗素子R2、第3抵抗素子R3は、第1基板10上に回路素子を形成する際の半導体膜や、ゲート電極膜を利用すると、シート抵抗値が大きいので面積効率良く抵抗素子を形成することができる。
1-3.大型基板90の状態でのセンサー素子160の検査
図2に示すように、第1基板10のセンサー素子160を大型基板90の状態で検査する場合には、第1基板10とは別体の検査回路40を用いる。検査回路40は、第1プローブP1、第2プローブP2、および第3プローブP3を有する。第1プローブP1、第2プローブP2、および第3プローブP3を各々、第1実装端子M1、第2実装端子M2、および第3実装端子M3に当接させることで第1基板10のセンサー素子160の電気的測定を実施する。
図2に示すように、第1基板10のセンサー素子160を大型基板90の状態で検査する場合には、第1基板10とは別体の検査回路40を用いる。検査回路40は、第1プローブP1、第2プローブP2、および第3プローブP3を有する。第1プローブP1、第2プローブP2、および第3プローブP3を各々、第1実装端子M1、第2実装端子M2、および第3実装端子M3に当接させることで第1基板10のセンサー素子160の電気的測定を実施する。
ここで、検査回路40は、第2実装端子M2の電圧を固定した状態で第1実装端子M1に通電する通電回路41と、第3実装端子M3の電圧VF2を第1実装端子M1の電圧VF1と対応する電圧とする電圧設定部42と、第1実装端子M1の電圧または電流を検出する検出回路43とを有する。例えば、電圧設定部42は、第3実装端子M3の電圧VF2を第1実装端子M1の電圧VF1との差が一定の電圧とする。本形態において、電圧設定部42は、第3実装端子M3の電圧VF2を第1実装端子M1の電圧VF1と同一電圧とする。かかる構成は、電圧VF1が入力されるボルテージフォロワーの出力電圧を電圧VF2とすることによって実現することができる。また、通電回路41と電圧設定部42を各々、別電源としてもよく、かかる構成は、一般的な半導体解析装置で実現することができる。
本形態において、第1プローブP1は、検出回路43を介して、通電回路41に電気的に接続される。通電回路は、電圧出力回路からなる。検出回路43は、通電回路41と第1プローブP1との間に配置された電流計からなる。第2プローブP2は、グランド電圧GNDとされる。第3プローブP3は、電圧設定部42に電気的に接続されている。従って、センサー素子160を検査する際、通電回路41は、第2プローブP2および第2実装端子M2を介してセンサー素子160のカソードの電圧をグランド電圧GNDとする一方、第1実装端子M1を介してセンサー素子160のアノードに電圧VF1を印加し、検出回路43は、第1実装端子M1を流れる電流I1を検出する。その際、電圧設定部42は、第3プローブP3を介して第3実装端子M3の電圧VF2を以下の条件を維持する。
VF1=VF2
VF1=VF2
このため、第1抵抗素子R1と第2抵抗素子R2との接続ノードには、電圧VF2(=VF1)が印加される。従って、第1抵抗素子R1の両端子には同じ電圧が与えられるから、第1抵抗素子R1を流れる電流I2はゼロとなる。それ故、第1実装端子M1から流れる電流I1はそのままセンサー素子160を流れる電流I4となる。よって、第1実装端子M1および第2実装端子M2が短絡線15を経由して電気的に接続されている場合でも、第1実装端子M1の電圧VF1と電流I1とによって、センサー素子160の電気特性を精度よく測定することができる。
ここで、電圧VF1を入力したボルテージフォロワーから電圧VF2を生成する場合、オペアンプのオフセット電圧によって数mV、例えば5mVずれる場合がある。その場合、第1抵抗素子R1を流れる電流I2=5mV/1MΩ=5nAとなる。ダイオード素子の良否判別は動作点電流で判別することが適当である。従って、動作点電流を例えば0.7μAとするならば、電流I2によって受ける影響は1%以下である。第1抵抗素子R1の抵抗値は大きい方が、上記オフセット電圧による影響等を排除しやすいので電流II1の測定には好ましい。
また、第1抵抗素子R1および第2抵抗素子R2は例えば液晶パネルのスイッチング素子を構成する半導体膜等を利用して形成される。そのシート抵抗は不純物注入工程のばらつきやアニール工程のばらつきによって変化する。その場合でも、第1抵抗素子R1の両端子には微小な電圧しか発生しないので、電流I2のばらつきは動作点電流に比較すれば極めてわずかである。もちろん電流I2については検査装置を十分に調整してVF1=VF2に近づければほとんどゼロにできる。
また、第2抵抗素子R2には、短絡線15と第3抵抗素子R3を介して第2実装端子M2へ向かう電流I3が流れる。例えば、室温でVF1=VF2=3Vとするならば、I3=3V/2MΩ=1.5μAである。この程度の微小電流であれば、ボルテージフォロワーを構成するオペアンプから十分供給できるから格段の問題にはならない。また、第3実装端子M3から第1抵抗素子R1と第2抵抗素子R2との接続ノードまでの接続配線は、第1抵抗素子R1よりも十分小さい抵抗値で形成する。例えば、接続配線を1kΩの抵抗値で形成すれば、接続ノードの電圧は下式となるので、電流I2をほとんど無視することができる。接続配線は、第1基板10上に回路素子を形成する際のゲート電極膜や、ソース電極、ドレイン電極、あるいは共通電圧等を供給する配線を構成するアルミニウムを主体とした配線層で形成できる。または画素17のスイッチング素子への入射光を低減するタングステンシリサイドを用いた遮光層を用いてもよいし、ITO等の透光性導電膜を用いてもよい。
(1MΩ/(1MΩ+1kΩ))×VF1
=0.999×VF1
(1MΩ/(1MΩ+1kΩ))×VF1
=0.999×VF1
なお、電圧VF2を出力するボルテージフォロワーには、第2抵抗素子R2を介して大きな容量負荷(短絡線15のノード)がある。従って、短絡線15に電気的に接続されている低電圧VSSに対応する実装端子Mにも第4プローブP4を当接させて短絡線15にもグランド電圧GNDを与えるとよい。
また、本形態では、相展開駆動方式の電気光学パネルである。このため、実装端子Mの数が少ないので、実装端子Mの端子幅は比較的大きい。それ故、検査時には、第1プローブP1、第2プローブP2、第3プローブP3、および第4プローブP4を直接、当接させて、所望の信号や電圧を与えることができる。
なお、検査回路40と第1基板10とを電気的に接続するにあたっては、検査回路40が設けられた基板にコネクタを設け、コネクタに第1回路基板60を備えた電気光学パネル100を装着してもよい。
1-4.電気光学装置1の駆動時の温度検出
図3は、図1に示す電気光学パネル100の温度を検出する様子を示す説明図である。図3には、電気光学装置1の状態で電気光学パネル100の温度を検出する様子を示してある。図2を参照して説明した検査工程において基板単体の状態でセンサー素子160が検査された第1基板10は、図1に示す電気光学装置1の電気光学パネル100に用いられる。ここで、図3に示すように、電気光学装置1では、センサー回路16を駆動するセンサー駆動回路50が第2回路基板70に設けられており、センサー駆動回路50は、第1実装端子M1からなる第1端子と、第2実装端子M2からなる第2端子と、第3実装端子M3からなる第3端子とを利用してセンサー回路16を駆動する。
図3は、図1に示す電気光学パネル100の温度を検出する様子を示す説明図である。図3には、電気光学装置1の状態で電気光学パネル100の温度を検出する様子を示してある。図2を参照して説明した検査工程において基板単体の状態でセンサー素子160が検査された第1基板10は、図1に示す電気光学装置1の電気光学パネル100に用いられる。ここで、図3に示すように、電気光学装置1では、センサー回路16を駆動するセンサー駆動回路50が第2回路基板70に設けられており、センサー駆動回路50は、第1実装端子M1からなる第1端子と、第2実装端子M2からなる第2端子と、第3実装端子M3からなる第3端子とを利用してセンサー回路16を駆動する。
但し、電気光学装置1を構成した状態でも、第1基板10では、第1実装端子M1は第1抵抗素子R1および第2抵抗素子R2を介して短絡線15に電気的に接続し、第2実装端子M2は第3抵抗素子R3を介して短絡線15に電気的に接続している。この場合でも、第1基板10には、第1抵抗素子R1と第2抵抗素子R2との接続ノードに電気的に接続する第3実装端子M3が存在する。
従って、本形態において、センサー駆動回路50は、図1に示す検査回路40と略同様、第2実装端子M2の電圧を固定した状態で第1実装端子M1に通電する通電回路51と、第3実装端子M3の電圧VF2を第1実装端子M1の電圧VF1に対応する電圧とする電圧設定部52と、第1実装端子M1の電圧VF1または電流を検出する検出回路53とを有する。
本形態において、通電回路51は、センサー素子160に対して、第1実装端子M1を介して定電流(電流I1)を供給する定電流回路510である。電圧設定部52は、第3実装端子M3の電圧VF2を第1実装端子M1の電圧VF1に対応する電圧とする。例えば、電圧設定部52は、第3実装端子M3の電圧VF2を第1実装端子M1の電圧VF1と一定の差の電圧とする。本形態において、電圧設定部52は、第3実装端子M3の電圧VF2を第1実装端子M1の電圧VF1と同一の電圧とする。より具体的は、電圧設定部52は、例えば、ボルテージフォロワー520によって構成されており、ボルテージフォロワー520の入力端子を第1実装端子M1に電気的に接続し、出力端子を第3実装端子M3に電気的に接続する。検出回路53は、定電流回路510から電流I1が第1実装端子M1に供給された際のセンサー素子160のアノード電圧である第1実装端子M1の電圧VF1をデジタル信号に変換するA/Dコンバーター530である。また、センサー駆動回路50は、グランド配線とセンサー素子160のアノードの電圧VF1の出力線との間に安定化容量542を備え、グランド配線とボルテージフォロワー520の出力線との間に安定化容量541を備える。
また、センサー駆動回路50において、A/Dコンバーター530は、センサー素子160のアノードの電圧VF1を入力したボルテージフォロワー520から出力された電圧VF2をデジタル化し、中央制御部55に出力する。従って、定電流回路510から出力された電流I1がセンサー素子160に印加された際の第1実装端子M1の電圧VF1は、電気光学パネル100の温度に対して負の相関を持つので、電圧VF1を検出回路53によって検出すれば、かかる検出結果は、電気光学パネル100の温度に対応する温度信号として中央制御部55に出力される。
温度検出の際、第1抵抗素子R1の両端子には同じ電圧が与えられるから、第1抵抗素子R1を流れる電流I2はゼロとなる。従って、第1実装端子M1から流れる電流I1は、そのままセンサー素子160へ流れる電流I4となる。このため、センサー素子160を適正に駆動することができ、電気光学パネル100の温度を精度よく検出することができる。それ故、電気光学装置1を備えた電子機器では、中央制御部55の制御の下、電気光学装置1の駆動条件等を調整することができるので、高い表示品位を維持することができる。例えば、電子機器では、中央制御部55の制御の下、電気光学パネル100に対する冷却ファンによる冷却条件の制御や、低温環境対策としてのヒーターによる加熱条件の制御、あるいは画像信号補正を適正に行うことができるので、高い表示品位を維持することができる。
ここで、ボルテージフォロワー520を構成するオペアンプのスルーレートは、電気光学パネル100の温度変化に伴うセンサー素子160の順方向の電圧VF1の変化に対して余裕がある。具体的には、投射型表示装置の点灯時の電気光学パネル100の温度上昇は数℃/秒程度であるから、ボルテージフォロワー520の追随性には問題のないものである。従って、電圧VF1と電圧VF2とは等しい値に維持される。また、オペアンプのオフセット電圧によって電圧VF1と電圧VF2が数mVずれていても、そのずれはわずかであり、第1抵抗素子R1の抵抗値は、1MΩであり、十分大きい。従って、電流I2は微小電流である。また、ダイオード素子からなるセンサー素子160は、電流I1(=I4)の変化に対して順方向の電圧VF1の変化はわずかであるから、温度検出としては十分機能する。
[第1実施形態の変形例1]
図4は、本発明の第1実施形態の変形例1に係る電気光学装置1の説明図である。図4には、電気光学装置1の状態で電気光学パネル100の温度を検出する様子を示してある。なお、本形態の基板的な構成は第1実施形態と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略する。
図4は、本発明の第1実施形態の変形例1に係る電気光学装置1の説明図である。図4には、電気光学装置1の状態で電気光学パネル100の温度を検出する様子を示してある。なお、本形態の基板的な構成は第1実施形態と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略する。
第1実施形態では、センサー素子160のカソードに電気的に接続された第2実装端子M2、センサー素子160のアノードに電気的に接続された第1実装端子M1、および第1実装端子M1の電圧VF1と同一の電圧VF2が印加される第3実装端子M3が順に配置されている。本形態では、図4に示すように、第1実装端子M1、第3実装端子M3、および第2実装端子M2が順に配置されており、第1実装端子M1と第2実装端子M2との間には第3実装端子M3が配置されている。
より具体的には、第1実装端子M1と第2実装端子M2とが隣り合っている場合、例えば、第1回路基板60や第1基板10の実装端子M近傍で高抵抗短絡部があるとセンサー素子160を駆動する電流I1の一部が第1実装端子M1のノード(GND)へ漏れるから、温度検出に誤差が発生する。高抵抗短絡であると不良として検出することが難しい場合があり、仮に検出して良品と判定されたとしても、高湿環境におかれると、配線金属材料の腐食等によりリーク電流成分が増加する可能性がある。
これに対して、本形態では、第1実装端子M1と第2実装端子M2との間には第3実装端子M3が配置されているため、センサー素子160のアノードに電気的に接続された配線に隣り合う配線が第3実装端子M3から延在する配線である。ここで、第1実装端子M1の電圧VF1と第3実装端子M3の電圧VF2とは、ボルテージフォロワー520の入力電圧と出力電圧の関係であるから、センサー素子160のアノードに電気的に接続された配線と第3実装端子M3から延在する配線との間のリーク電流はほぼゼロにできる。それ故、センサー素子160の定電流駆動を適正に維持することができる。また、図4に示すように、第1実装端子M1に隣接する一方の実装端子Mを第3実装端子M3とし、他方で隣接する実装端子Mを電気的にフローティングであるダミーDUMの実装端子Mとしておけば、温度検出の信頼性をより高めることができる。また、ダミーDUMの実装端子Mにも第3実装端子M3と同様に電圧VF2を供給するようにしてもよい。
[第1実施形態の変形例2]
実施形態1では、大型基板90において、第1基板10として分割される複数の第1領域91にセンサー素子160を検査するために用いられる第1抵抗素子R1、および第2抵抗素子R2等が全て配置されている。従って、大型基板90から第1基板10を分割した状態でセンサー素子160の検査を行ってもよい。この場合、第1基板10自身が、本発明に係る「電気光学装置用基板」に相当する。
実施形態1では、大型基板90において、第1基板10として分割される複数の第1領域91にセンサー素子160を検査するために用いられる第1抵抗素子R1、および第2抵抗素子R2等が全て配置されている。従って、大型基板90から第1基板10を分割した状態でセンサー素子160の検査を行ってもよい。この場合、第1基板10自身が、本発明に係る「電気光学装置用基板」に相当する。
[第2実施形態]
2-1.大型基板90の構成
図5は、本発明の第2実施形態に係る電気光学装置1を製造するための大型基板90の説明図である。図5には、第1基板10を製造するための大型基板90の状態でセンサー素子160を検査する様子を示してある。なお、本形態の基本的な構成は第1実施形態と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略する。
2-1.大型基板90の構成
図5は、本発明の第2実施形態に係る電気光学装置1を製造するための大型基板90の説明図である。図5には、第1基板10を製造するための大型基板90の状態でセンサー素子160を検査する様子を示してある。なお、本形態の基本的な構成は第1実施形態と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略する。
本形態において、大型基板90は、第1基板10が配置される第1領域91を複数備え、隣り合う第1領域91の間には、第1基板10を個別の基板に分割する際にスクライブされるスクライブ領域98、99に対応する第2領域92を備えている。第2実施形態では、大型基板90の第1領域91が第1基板10として小型基板95に分割され、大型基板90の第2領域92には、第1抵抗素子R1と、第2抵抗素子R2と、第3抵抗素子R3と、第1短絡線151と、抵抗素子Rと、および各部を接続する接続線とが配置されている。本形態においては、大型基板90が本発明における「電気光学装置用基板」に相当する。
図5に示すように、本形態においても、実施形態1と同様、第1基板10の実装端子領域14には、複数の実装端子Mが配列されており、複数の実装端子M、および複数の実装端子Mから延在する配線は各々、以下の信号や電圧に対応する。なお、本形態では、光学装置では、基板の表示領域で延在する複数のデータ線をブロック化し、各ブロックに対応して設けられた画像信号配線から供給された画像信号をデマルチプレクサーによってデータ線に分配する。このため、選択信号SELに対応する実装端子M、および画像信号VIDeven、VIDoddに対応する実装端子Mは複数、設けられているが、図5には、選択信号SELに対応する実装端子M、および画像信号VIDeven、VIDoddに対応する実装端子Mを各々、1個だけの省略表記としている。なお、図示した信号や電源は代表例であって、実際には図示省略した出力制御信号により走査線駆動回路12の出力する走査信号の波形の整形が実施される。
走査線駆動回路用のクロック信号VCLK
クロック信号VCLKに対する反転クロック信号VCLKB
走査線駆動回路用のスタートパルスVSP
選択信号SE
偶数系列の画像信号VIDeven
奇数系列の画像信号VIDodd
高電圧VDD
低電圧VSS
共通電圧LCCOM
走査線駆動回路用のクロック信号VCLK
クロック信号VCLKに対する反転クロック信号VCLKB
走査線駆動回路用のスタートパルスVSP
選択信号SE
偶数系列の画像信号VIDeven
奇数系列の画像信号VIDodd
高電圧VDD
低電圧VSS
共通電圧LCCOM
本形態では、画像信号端子が相展開駆動方式と比較して多数になるので、実装端子領域14における実装端子Mの端子幅が小さい。このため、実装端子Mに検査プローブを当接させることが困難である。従って、実装端子領域14とデータ線駆動回路13との間には、実装端子領域14と並列するように検査端子領域18が設けられており、検査端子領域18には、実装端子Mに対応して検査端子Tが設けられている。かかる検査端子Tは、走査線駆動回路の動作や隣接する画像信号線間の短絡、あるいは所定の信号線の導通・断線などの検査等に使用される。
また、検査端子領域18には、第1実装端子M1に電気的に接続された第1検査端子T1と、第2実装端子M2に電気的に接続された第2検査端子T2と、第3検査端子T3とが設けられている。それ故、本形態では、第1実装端子M1、第2実装端子M2、第3実装端子M3、第1検査端子T1、第2検査端子T2、および第3検査端子T3によって、本発明における「第1端子」、「第2端子」および「第3端子」が構成されている。
第1端子=第1実装端子M1+第1検査端子T1
第2端子=第2実装端子M2+第2検査端子T2
第3端子=第3検査端子T3
第1端子=第1実装端子M1+第1検査端子T1
第2端子=第2実装端子M2+第2検査端子T2
第3端子=第3検査端子T3
また、本形態でも、第1実施形態と同様、第1基板10には、画素領域11の外側にセンサー素子160を備えたセンサー回路16が設けられている。本形態において、センサー素子160は、ダイオード素子からなる温度検出素子である。
2-2.大型基板90の状態でのセンサー素子160の検査
本形態では、第1基板10のセンサー素子160を検査するにあたっては、図5に示すように、第1基板10が配置された第1領域91を複数、備えた大型基板90の状態で検査を行う。ここで、隣り合う第1領域91の間の第2領域92にはスクライブ領域98、99が存在しており、図5には、スクライブ領域98、99のそれぞれのスクライブ中心線980、990を一点鎖線で示してある。第2領域92は、大型基板90から複数の第1基板10を個別の基板に分割する際に削られて、その大部分が失われる。また、第1基板10として分割される第1領域91は、スクライブ領域98、99で小型基板95に分割されたときの分割予定線981、991を介して第2領域92に隣接している。
本形態では、第1基板10のセンサー素子160を検査するにあたっては、図5に示すように、第1基板10が配置された第1領域91を複数、備えた大型基板90の状態で検査を行う。ここで、隣り合う第1領域91の間の第2領域92にはスクライブ領域98、99が存在しており、図5には、スクライブ領域98、99のそれぞれのスクライブ中心線980、990を一点鎖線で示してある。第2領域92は、大型基板90から複数の第1基板10を個別の基板に分割する際に削られて、その大部分が失われる。また、第1基板10として分割される第1領域91は、スクライブ領域98、99で小型基板95に分割されたときの分割予定線981、991を介して第2領域92に隣接している。
本形態においては、第2領域92には、第1基板10の端部に沿ってx軸方向に延在する第1短絡線151と、第1基板10の端部に沿ってy軸方向に延在する第2短絡線152とが設けられており、第1領域91は、第1短絡線151と第2短絡線152とによって囲まれている。第1短絡線151と第2短絡線152とは互いに電気的に接続されており、第1基板10として分割される第1領域91を囲むガードリングを構成している。第1短絡線151と第2短絡線152は、例えば、ゲート電極膜等の導電層で形成されている。
実装端子Mは、スクライブ領域98に設けられた抵抗素子Rを介して第1短絡線151に電気的に接続されている。それ故、実装端子Mに電気的に接続する回路を製造工程中の静電気から保護することができる。但し、画像信号VIDeven、VIDoddに対応する実装端子Mは、リーク電流が検査の障害となるので、抵抗素子Rを介して第1短絡線151に電気的に接続された構造にはなっていない。また、画像信号VIDeven、VIDoddは、スクライブ領域98に設けられた配線を経由して検査端子Tに電気的に接続されている。従って、画像信号VIDeven、VIDoddのそれぞれの実装端子Mから第1基板10内部へ延在する配線間に短絡があるか否かを簡単に検査できる。
また、スクライブ領域98には、第1実装端子M1と第2実装端子M2との間に電気的に接続された第1抵抗素子R1と、第1抵抗素子R1と第2実装端子M2との間に電気的に接続された第2抵抗素子R2とが設けられている。また、第1基板10には、画素領域11の外側に、第1抵抗素子R1と第2抵抗素子R2との間に電気的に接続された第3検査端子T3が設けられている。本形態でも、実施形態1と同様、第1抵抗素子R1は、一方端が第1実装端子M1に電気的に接続され、他方端は第2抵抗素子R2の一方端に電気的に接続されている。第2抵抗素子R2の他方端は第1短絡線151に電気的に接続されている。従って、第1抵抗素子R1と第2抵抗素子R2とは、第1実装端子M1と第1短絡線151との間で直列に電気的に接続されており、第2抵抗素子R2は第1短絡線151を介して第2実装端子M2に電気的に接続されている。
また、スクライブ領域98には、第2実装端子M2に一方端が電気的に接続された第3抵抗素子R3が設けられ、第3抵抗素子R3の他方端は第1短絡線151に電気的に接続されている。それ故、第1実装端子M1、および第2実装端子M2に電気的に接続する回路を製造工程中の静電気から保護することができる。ここで、抵抗素子R、第1抵抗素子R1、第2抵抗素子R2、および第3抵抗素子R3はいずれも、抵抗値が等しい。例えば、抵抗素子R、第1抵抗素子R1、第2抵抗素子R2、および第3抵抗素子R3はいずれも、抵抗値が1MΩである。
このように構成した大型基板90において、第1基板10として分割される第1領域91のセンサー素子160を検査するにあたっては、第1実施形態と同様、検査回路40を用いる。より具体的には、検査回路40の3つの第1プローブP1、第2プローブP2、および第3プローブP3を第1端子、第2端子、および第3端子に当接させる。またこの際には、図示省略するが、他の検査端子Tにも同時にプローブを当接して、例えばグランド電圧GND電圧を印加することが好ましい。なお、図5における検査回路40は大型基板90上ではなく、外部にある別体の装置である。
本形態においては、以下に示すように、第1実装端子M1、第2実装端子M2、第1検査端子T1、第2検査端子T2、および第3検査端子T3のうち、第1検査端子T1、第2検査端子T2、および第3検査端子T3に検査回路40の3つの第1プローブP1、第2プローブP2、および第3プローブP3を当接させる。従って、検査時、第1検査端子T1、第2検査端子T2、および第3検査端子T3によって、本発明における「第1端子」、「第2端子」および「第3端子」が構成されている。
第1端子=第1検査端子T1
第2端子=第2検査端子T2
第3端子=第3検査端子T3
第1端子=第1検査端子T1
第2端子=第2検査端子T2
第3端子=第3検査端子T3
従って、通電回路41は、第2プローブP2および第2検査端子T2を介してセンサー素子160のカソード電圧をグランド電圧GNDとした状態で、第1検査端子T1に電圧VF1を印加し、検出回路43は、第1検査端子T1を流れる電流I1を検出する。その際、電圧設定部42は、第3プローブP3を介して第3検査端子T3に印加する電圧VF2については以下の条件を維持する。
VF1=VF2
VF1=VF2
このため、第1抵抗素子R1と第2抵抗素子R2との接続ノードには、電圧VF2(=VF1)が印加される。従って、第1抵抗素子R1の両端子には同じ電圧が与えられるから、第1抵抗素子R1を流れる電流I2はゼロとなる。それ故、第1実装端子M1から流れる電流I1はそのままセンサー素子160に流れる電流I4となる。よって、第1実装端子M1の電圧VF1と電流I1とによって、センサー素子160の電気特性を精度よく測定することができる。
2-3.電気光学装置1の駆動時の温度検出
図6は、本発明の第2実施形態に係る電気光学装置1の説明図である。図5を参照して説明した検査工程において、基板単体の状態でセンサー素子160が検査された大型基板90から第1基板10を小型基板95として分割した後、第1基板10は、図1に示す電気光学装置1の電気光学パネル100に用いられる。従って、図6に示すように、電気光学装置1の状態で、第1基板10には、第1短絡線151、第2短絡線152、抵抗素子R、第1抵抗素子R1、第2抵抗素子R2、および第3抵抗素子R3がスクライブ工程によって破壊されるから典型的には存在しない。一部が残存することもある。なお、第3検査端子T3は、第1基板10に残っており、第3検査端子T3から延在する配線は、第1基板10の辺101まで到達している。また、第1回路基板60は、実装端子M、第1実装端子M1、および第2実装端子M2に電気的に接続される。従って、温度検出時、第1検査端子T1、および第2検査端子T2によって、本発明における「第1端子」、および「第2端子」が構成される。
第1端子=第1実装端子M1
第2端子=第2実装端子M2
図6は、本発明の第2実施形態に係る電気光学装置1の説明図である。図5を参照して説明した検査工程において、基板単体の状態でセンサー素子160が検査された大型基板90から第1基板10を小型基板95として分割した後、第1基板10は、図1に示す電気光学装置1の電気光学パネル100に用いられる。従って、図6に示すように、電気光学装置1の状態で、第1基板10には、第1短絡線151、第2短絡線152、抵抗素子R、第1抵抗素子R1、第2抵抗素子R2、および第3抵抗素子R3がスクライブ工程によって破壊されるから典型的には存在しない。一部が残存することもある。なお、第3検査端子T3は、第1基板10に残っており、第3検査端子T3から延在する配線は、第1基板10の辺101まで到達している。また、第1回路基板60は、実装端子M、第1実装端子M1、および第2実装端子M2に電気的に接続される。従って、温度検出時、第1検査端子T1、および第2検査端子T2によって、本発明における「第1端子」、および「第2端子」が構成される。
第1端子=第1実装端子M1
第2端子=第2実装端子M2
また、センサー駆動回路50は、第2実装端子M2の電圧を固定した状態で第1実装端子M1に通電する通電回路51と、第1実装端子M1の電圧を検出する検出回路53とを有する。
通電回路51は、第2実装端子M2をグランド電圧GNDとし、定電流からなる電流I1を第1実装端子M1に供給する定電流回路510である。また、検出回路53は、A/Dコンバーター530であり、電圧VF1を入力されたボルテージフォロワー560から出力された電圧VF2をデジタル信号に変換する。電圧VF1は、定電流回路510から電流I1が第1実装端子M1に供給された際のセンサー素子160のアノード電圧である。なお、センサー駆動回路50は、通電回路51から第2実装端子M2に延在する配線と、ボルテージフォロワー560から第1実装端子M1に延在する配線との間に安定化容量540を備える。
かかる構成によれば、大型基板90から第1基板10を分割した後、第1基板10には、第1短絡線151、第2短絡線152、抵抗素子R、第1抵抗素子R1、第2抵抗素子R2、および第3抵抗素子R3が存在しない。このため、第1実装端子M1から流れる電流I1は、そのままセンサー素子160へ流れる電流I4となる。このため、センサー素子160を適正に駆動することができる。従って、電流I1がセンサー素子160に印加された際の第1実装端子M1の電圧VF1は、電気光学パネル100の温度に対して負の相関を持つので、電圧VF1に相当する電圧VF2を検出回路53によって検出すれば、かかる検出結果は、検出回路53は、電気光学パネル100の温度に対応する温度信号として中央制御部55に出力される。従って、電気光学装置1では、中央制御部55の制御の下、電気光学パネル100に対する冷却ファンの制御や、低温環境対策としてのヒーターの制御、あるいは画像信号補正を行うことができる。なお、本形態では、第1抵抗素子R1、および第2抵抗素子R2のいずれもが第2領域72に設けられていたが、第1抵抗素子R1、および第2抵抗素子R2の一方のみが第2領域72に設けられている場合にも適用することができる。例えば、第1実装端子M1と、第1実装端子M1に隣接するダミーDUMの実装端子Mとの間に第1抵抗素子R1を配置してもよい。この場合、第1基板10には第1抵抗素子R1が残存する。
[第2実施形態の変形例1]
図7は、本発明の第2実施形態の変形例1の説明図である。図7には、第1基板10を製造するための大型基板90を示してある。なお、本形態の基本的な構成は第2実施形態と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略する。本形態においては、大型基板90が本発明における「電気光学装置用基板」に相当する。
図7は、本発明の第2実施形態の変形例1の説明図である。図7には、第1基板10を製造するための大型基板90を示してある。なお、本形態の基本的な構成は第2実施形態と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略する。本形態においては、大型基板90が本発明における「電気光学装置用基板」に相当する。
図7に示すように、本形態においても、第2実施形態と同様、第1基板10の実装端子領域14には、複数の実装端子Mが配列されており、複数の実装端子M、および複数の実装端子Mから延在する配線は各々、以下の信号や電圧に対応する。なお、図示した信号や電源は代表例であることは第2実施形態と同様であり、これらに限定されるものではない。
走査線駆動回路用のクロック信号VCLK
クロック信号VCLKに対する反転クロック信号VCLKB
走査線駆動回路用のスタートパルスVSP
選択信号SEL
偶数系列の画像信号VIDeven
奇数系列の画像信号VIDodd
高電圧VDD
低電圧VSS
共通電圧LCCOM
走査線駆動回路用のクロック信号VCLK
クロック信号VCLKに対する反転クロック信号VCLKB
走査線駆動回路用のスタートパルスVSP
選択信号SEL
偶数系列の画像信号VIDeven
奇数系列の画像信号VIDodd
高電圧VDD
低電圧VSS
共通電圧LCCOM
電気光学パネル100の画素ピッチが比較的大きい場合、実装端子Mの端子幅を大きくできるので、検査用のプローブを当接できる場合がある。本形態では、実装端子Mが比較的大きいため、図5に示す検査端子T、第1検査端子T1、第2検査端子T2、および第3検査端子T3が設けられていない。それ故、本形態では、第1実装端子M1、第2実装端子M2、および第3実装端子M3によって、本発明における「第1端子」、「第2端子」および「第3端子」が構成されている。
第1端子=第1実装端子M1
第2端子=第2実装端子M2
第3端子=第3実装端子M3
第1端子=第1実装端子M1
第2端子=第2実装端子M2
第3端子=第3実装端子M3
また、本形態では、第2実施形態と同様、スクライブ領域98、99に第1短絡線151、第2短絡線152、第1抵抗素子R1、第2抵抗素子R2、および第3抵抗素子R3が設けられている。従って、第2実施形態と同様、第1実装端子M1、第2実装端子M2、および第3実装端子M3を各々、第1端子、第2端子、および第3端子として、検査回路40によってセンサー素子160を適正に検査することができる。また、電気光学装置1の状態で、第1基板10には、第1短絡線151、第2短絡線152、抵抗素子R、第1抵抗素子R1、および第2抵抗素子R2、および第3抵抗素子R3がスクライブ工程によって破壊されるから典型的には存在しない。また、第3実装端子M3は、第1基板10に残っており、第3実装端子M3から延在する配線は、第1基板10の辺101まで到達している。従って、第2実施形態と同様、第1実装端子M1、および第2実装端子M2を各々、第1端子、および第2端子として、センサー駆動回路50によって温度を検出することができる。
[第2実施形態の変形例2]
図8は、本発明の第2実施形態の変形例2の説明図である。図8には、第1基板10を製造するための大型基板90を示してある。なお、本形態の基本的な構成は第2実施形態と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略する。本形態においては、大型基板90が本発明における「電気光学装置用基板」に相当する。
図8は、本発明の第2実施形態の変形例2の説明図である。図8には、第1基板10を製造するための大型基板90を示してある。なお、本形態の基本的な構成は第2実施形態と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略する。本形態においては、大型基板90が本発明における「電気光学装置用基板」に相当する。
図8に示すように、本形態においても、第2実施形態と同様、第1基板10の実装端子領域14には、複数の実装端子Mが配列されており、複数の実装端子M、および複数の実装端子Mから延在する配線は各々、以下の信号や電圧に対応する。なお、図示した信号や電源は代表例であることは第2実施形態と同様であり、これらに限定されるものではない。
走査線駆動回路用のクロック信号VCLK
クロック信号VCLKに対する反転クロック信号VCLKB
走査線駆動回路用のスタートパルスVSP
選択信号SEL
偶数系列の画像信号VIDeven
奇数系列の画像信号VIDodd
高電圧VDD
低電圧VSS
共通電圧LCCOM
走査線駆動回路用のクロック信号VCLK
クロック信号VCLKに対する反転クロック信号VCLKB
走査線駆動回路用のスタートパルスVSP
選択信号SEL
偶数系列の画像信号VIDeven
奇数系列の画像信号VIDodd
高電圧VDD
低電圧VSS
共通電圧LCCOM
また、本形態では、検査端子T、第1検査端子T1、第2検査端子T2、および第3検査端子T3が設けられている。それ故、本形態では、第1実装端子M1、第2実装端子M2、第3実装端子M3、第1検査端子T1、第2検査端子T2、および第3検査端子T3によって、本発明における「第1端子」、「第2端子」および「第3端子」が構成されている。
第1端子=第1実装端子M1+第1検査端子T1
第2端子=第2実装端子M2+第2検査端子T2
第3端子=第3実装端子M3+第3検査端子T3
第1端子=第1実装端子M1+第1検査端子T1
第2端子=第2実装端子M2+第2検査端子T2
第3端子=第3実装端子M3+第3検査端子T3
また、本形態では、第2実施形態と同様、スクライブ領域98、99に第1短絡線151、第2短絡線152、第1抵抗素子R1、第2抵抗素子R2、および第3抵抗素子R3が設けられている。従って、3つの第1プローブP1、第2プローブP2、および第3プローブP3を第1検査端子T1、第2検査端子T2、および第3検査端子T3に当接させ、検査回路40によってセンサー素子160を適正に検査することができる。
ここで、第2実装端子M2および第2検査端子T2に電気的に接続された第3抵抗素子R3は直接、第1短絡線151に電気的に接続されておらず、スクライブ領域98にある配線部961に接続されている。また、第1抵抗素子R1は直接、第2抵抗素子R2に電気的に接続されておらず、スクライブ領域98にある配線部961に接続されている。さらに、配線部961は、第3実装端子M3および第2抵抗素子R2を介して第1短絡線151に電気的に接続されている。第3検査端子T3は第3実装端子M3に電気的に接続されている。なお、図8では、第3検査端子T3と第3実装端子M3とは、第1基板10内で電気的に接続されているが、スクライブ領域98で電気的に接続されていてもよい。また、図8では、第3検査端子T3と第3実装端子M3とは、第3実装端子M3の矩形状を成す端子電極の長辺部で電気的に接続されているが、第1基板10の内部側の短辺部で電気的に接続してもよい。
このように配置すると、第1抵抗素子R1、第1抵抗素子R2、第3抵抗素子R3は実装端子Mの配列方向(x軸方向)に並べることになるので、他の抵抗素子R等と同じレイアウトの抵抗素子を並べることが簡単になる。図5に示した第2実施形態では、第1抵抗素子R1と第2抵抗素子R2がy軸方向に並ぶので、他の抵抗素子R等とは異なるレイアウトにする必要があり、抵抗素子の製造管理工数が増加する。また、スクライブ工程時のばらつきによっては、第1基板10に分割された後に、第1実装端子M1と第3検査端子T3とが第1抵抗素子R1を経由して電気的に接続されたままになる可能性がある。その場合、センサー回路16への静電気侵入経路を増やすことになるので好ましくない。
加えて、センサー回路16に電気的に接続される第1実装端子M1と第2実装端子M2は、第1抵抗素子R1と、スクライブ領域98にある配線部961と、第3抵抗素子R3とによって電気的に接続され、さらに、配線部961は、第3実装端子M3と第2抵抗素子R2を経由して第1短絡線151に電気的に接続されている。従って、造工程中の静電気による破壊からセンサー回路16を保護する効果も得ることができる。また、本形態でも、第2抵抗素子R2が十分に大きな抵抗値を有するので、第1抵抗素子R1と第2抵抗素子R2との接続ノードには、電圧VF2(=VF1)が印加される。
また、電気光学装置1の状態で、第1基板10には、第1短絡線151、第2短絡線152、抵抗素子R、第1抵抗素子R1、および第2抵抗素子R2、および第3抵抗素子R3がスクライブ工程によって破壊されるから典型的には存在しない。また、第3実装端子M3は、第1基板10に残っており、第3実装端子M3から延在する配線は、ダミーの実装端子Mを経由して第1基板10の辺101まで到達している。従って、第2実施形態と同様、第1実装端子M1、および第2実装端子M2を各々、第1端子、および第2端子として、センサー駆動回路50によって温度を検出することができる。
[第3実施形態の変形例3]
図9は、本発明の第2実施形態の変形例3の説明図である。図8には、第1基板10を製造するための大型基板90を示してある。なお、本形態の基本的な構成は第2実施形態の変形例2と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略する。本形態においては、大型基板90が本発明における「電気光学装置用基板」に相当する。
図9は、本発明の第2実施形態の変形例3の説明図である。図8には、第1基板10を製造するための大型基板90を示してある。なお、本形態の基本的な構成は第2実施形態の変形例2と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略する。本形態においては、大型基板90が本発明における「電気光学装置用基板」に相当する。
図9に示すように、本形態においても、複数の実装端子Mに加えて、検査端子T、第1検査端子T1、第2検査端子T2、および第3検査端子T3が設けられている。それ故、本形態では、第1実装端子M1、第2実装端子M2、第1検査端子T1、第2検査端子T2、および第3検査端子T3によって、本発明における「第1端子」、「第2端子」および「第3端子」が構成されている。
第1端子=第1実装端子M1+第1検査端子T1
第2端子=第2実装端子M2+第2検査端子T2
第3端子=第3検査端子T3
第1端子=第1実装端子M1+第1検査端子T1
第2端子=第2実装端子M2+第2検査端子T2
第3端子=第3検査端子T3
ここで、第3検査端子T3は、大型基板90において、y軸方向に隣接する第1領域91にある。つまり、第1基板10を見ると、第1基板10の辺102側には、隣りの第1領域91に対応する第3検査端子T3が存在し、第3検査端子T3から第1基板10の辺102に向かう配線部962が存在する。
このように構成すると、第3検査端子T3の配置の自由度が大きくなる。例えば、他の検査端子T、第1検査端子T1、第2検査端子T2の近傍に第3検査端子T3を配置しようとした場合に、第1基板10上の各種信号線や電源配線の配線幅を狭くしてしまい、駆動上の問題を発生させることによって表示品質を低下させてしまうことを回避できる。
また、センサー回路16に電気的に接続される第1実装端子M1と第2実装端子M2は、第1抵抗素子R1と、スクライブ領域98にある配線部963と、第3抵抗素子R3によって電気的に接続され、さらに、配線部963は第2抵抗素子R2を経由して第1短絡線151に電気的に接続されている。従って、製造工程中の静電気による破壊からセンサー回路16を保護する効果も得る。第2実施形態と同様、第1検査端子T1、第2検査端子T2、および第3検査端子T3を各々、第1端子、第2端子、および第3端子として、検査回路40によってセンサー素子160を適正に検査することができる。
また、電気光学装置1の状態で、第1基板10には、第1短絡線151、第2短絡線152、抵抗素子R、第1抵抗素子R1、および第2抵抗素子R2、および第3抵抗素子R3がスクライブ工程によって破壊されるから典型的には存在しない。また、第1基板10には、隣りの第1領域91に対応する第3検査端子T3が残っており、第3検査端子T3から延在する配線部962は、第1基板10の辺102まで到達している。従って、第2実施形態と同様、第1実装端子M1と第2実装端子M2との間にはセンサー回路16以外の意図しない短絡経路は存在しない。従って、第2実施形態と同様、第1実装端子M1、および第2実装端子M2を各々、第1端子、および第2端子として、センサー駆動回路50によって温度を検出することができる。
[他の実施の形態]
上記実施形態において、図3に示す定電流回路510およびボルテージフォロワー520等の回路の少なくとも一部は、第1回路基板60に設けてもよい。例えば、図6に示した第2実施形態において、安定化容量540の一部を第1回路基板60に設けてもよい。安定化容量540は、例えば、0.1μF~1μFである。センサー回路16は静電気保護回路を備えているが、電気光学パネル100の温度上昇に伴うリーク電流を抑制するために強固な保護回路を設けることが困難である。ここで、安定化容量540の一部を第1回路基板60に設けると、第1回路基板60の第2回路基板70側の接続端子から静電気が侵入した際に、センサー回路16の静電気に対する保護を強化することができる。
上記実施形態において、図3に示す定電流回路510およびボルテージフォロワー520等の回路の少なくとも一部は、第1回路基板60に設けてもよい。例えば、図6に示した第2実施形態において、安定化容量540の一部を第1回路基板60に設けてもよい。安定化容量540は、例えば、0.1μF~1μFである。センサー回路16は静電気保護回路を備えているが、電気光学パネル100の温度上昇に伴うリーク電流を抑制するために強固な保護回路を設けることが困難である。ここで、安定化容量540の一部を第1回路基板60に設けると、第1回路基板60の第2回路基板70側の接続端子から静電気が侵入した際に、センサー回路16の静電気に対する保護を強化することができる。
上記第1実施形態において、電圧設定部52は、電圧VF2を第1実装端子M1の電圧VF1と同一にしたが、第1実装端子M1の電圧VF1に対応する電圧VF2であれば、電圧VF1と電圧VF2とが相違してもよい。すなわち、第1抵抗素子R1を流れる電流I2は、(VF1-VF2)/R1であるので、電圧VF1と電圧VF2との差が一定であれば、(電流I1-電流I2)による定電流駆動が可能である。この場合、電圧設定部52は、ボルテージフォロワー520ではなく、安定したリファレンス電圧との加算回路や減算回路等によって構成される。
上記実施形態において、ダイオードについては、トランジスタをダイオード接続した構成であってもよい。また、上記実施形態において、センサー素子160が温度検出用であったが、センサー素子160が光検出用であってもよい。例えば、環境の照度をセンサー素子160によって検出することによって、環境の照度に対応して、電気光学装置1の駆動条件や、電子機器の照明装置の照度等を制御してもよい。
その場合、例えば、図2において、第1実装端子M1にダイオード素子(センサー素子160)のカソードが電気的に接続され、第2実装端子M2にダイオード素子のアノードが電気的に接続されて、ダイオード素子の逆バイアス電流をカソード側で検出する。検出回路43は電流計である。ダイオード素子のアノードとカソード間に抵抗素子による短絡経路があると、適切に電気特性を測定することができない。しかし本発明に係る構成によれば、第1実装端子M1に印加した電圧VF1と同じ電圧VF2を第3実装端子M3に印加する。従って、第1抵抗素子R1を流れる電流I2を無視できる。つまりをダイオード素子の電気特性を適切に測定することができる。
また、別の構成も可能である。例えば、図2において、第1実装端子M1にダイオード素子(センサー素子160)のアノードが電気的に接続され、第2実装端子M2にダイオード素子のカソードが電気的に接続されて、ダイオード素子の逆バイアス電流をアノード側で検出する。第2実装端子M2にはグランド電圧GNDではなく、独立した正の電圧が印加される。検査回路40は、電流I1を吸い込み電流として検出回路43の電流計で検出する。この場合でも、第1実装端子M1に印加した電圧VF1と同じ電圧VF2を第3実装端子M3に印加する。従って、第1抵抗素子R1を流れる電流I2を無視できる。つまりをダイオード素子の電気特性を適切に測定することができる。
上記実施形態において、検査回路40では、通電回路41によって定電圧からなる電圧VF1を印加した際の電流I1を検出回路43によって検出することによってセンサー素子160を検査したが、通電回路41によって定電流からなる電流I1を通電した際の電圧VF1を検出回路43によって検出することによってセンサー素子160を検査してもよい。通電回路41の出力電圧や出力電流をスイープさせて測定してもよいのはもちろんである。また、上記実施形態において、センサー駆動回路50では、通電回路51によって定電流からなる電流I1を通電した際の電圧VF1を検出回路53によって検出することによって電気光学パネル100の温度を検出したが、通電回路51によって定電圧からなる電圧VF1を印加した際の電流I1を検出回路53によって検出することによって温度等を検出してもよい。
上記実施の形態では、電気光学装置1が透過型の液晶装置であったが、電気光学装置1が反射型の液晶装置である場合や、電気光学装置1が有機エレクトロルミネッセンス装置等の発光型素子を用いた表示装置である場合に本発明を適用してもよい。また、画素については、DMD(Digital Micromirror Device)等の表示素子(MEMSデバイス)を採用した構成としてもよい。
[電子機器の構成例]
図10は、本発明を適用した電子機器2100の概略構成図である。図10には、本発明を適用した電子機器2100の一例として、本発明を適用した電気光学装置1を備えた投射型表示装置を示してある。なお、図10では、電気光学装置1の入射側や出射側に配置される偏光板等の光学素子の図示を省略してある。
図10は、本発明を適用した電子機器2100の概略構成図である。図10には、本発明を適用した電子機器2100の一例として、本発明を適用した電気光学装置1を備えた投射型表示装置を示してある。なお、図10では、電気光学装置1の入射側や出射側に配置される偏光板等の光学素子の図示を省略してある。
図10において、電子機器2100は、投射型表示装置であり、ハロゲンランプ等の白色光源を有するランプユニット2102が光源部として設けられている。ランプユニット2102から射出された投射光は、内部に配置された3枚のミラー2106、および2枚のダイクロイックミラー2108によって、赤色r、緑色g、青色bの3原色の光に分離される。分離された光は、各色に対応する電気光学装置1(r)、1(g)、1(b)にそれぞれ導かれる。電気光学装置1(r)、1(g)、1(b)はいずれも透過型の液晶装置である。青色bの光は、他の赤色rや緑色gと比較すると光路が長いので、その損失を防ぐために、入射レンズ2122、リレーレンズ2123および出射レンズ2124を有するリレーレンズ系2121を介して導かれる。
電子機器2100においては、各色の階調レベルを指定する画像信号が各々、外部の上位回路から電子機器2100に供給された後、電子機器2100の処理回路で処理され、電気光学装置1(r)、1(g)、1(b)に供給される。そして、電気光学装置1(r)、1(g)、1(b)は、画像信号に基づいて入射光を変調する。電気光学装置1(r)、1(g)、1(b)から出射された変調光は、ダイクロイックプリズム2112に3方向から入射する。ダイクロイックプリズム2112において、赤色rの光および青色bの光は90度に反射し、緑色gの光は透過する。従って、各色の変調光がダイクロイックプリズム2112で合成された後、投射光学系2114によってスクリーン2120等の被投射部材にカラー画像として投射される。なお、投射型表示装置については、光源部として、各色の光を出射するLED光源等を用い、かかるLED光源等から出射された色光を各々、電気光学装置1(r)、1(g)、1(b)に供給するように、構成してもよい。
このように構成した電子機器2100では、電気光学パネル100の温度を検出した際、図3等に示す中央制御部55の制御の下、電気光学装置1の駆動条件を切り換えることができるので、高い表示品位を維持することができる。例えば、電子機器2100では、中央制御部55の制御の下、電気光学パネル100に対する冷却ファンの制御や、低温環境対策としてのヒーターの制御、あるいは映像信号補正を適正に行うことができるので、高い表示品位を維持することができる。
[他の電子機器]
本発明を適用した電気光学装置1を備えた電子機器は、上記実施形態の電子機器2100に限定されない。例えば、投射型のHUD(ヘッドアップディスプレイ)や直視型のHMD(ヘッドマウントディスプレイ)、パーソナルコンピューター、デジタルスチルカメラ、液晶テレビ等の電子機器に用いてもよい。
本発明を適用した電気光学装置1を備えた電子機器は、上記実施形態の電子機器2100に限定されない。例えば、投射型のHUD(ヘッドアップディスプレイ)や直視型のHMD(ヘッドマウントディスプレイ)、パーソナルコンピューター、デジタルスチルカメラ、液晶テレビ等の電子機器に用いてもよい。
1…電気光学装置、10…第1基板、11…画素領域、12…走査線駆動回路、13…データ線駆動回路、14…実装端子領域、15…短絡線、16…センサー回路、17…画素、18…検査端子領域、19…基板本体、20…第2基板、40…検査回路、41、51…通電回路、42、52…電圧設定部、43、53…検出回路、50…センサー駆動回路、55…中央制御部、61…駆動用IC、95…領域、90…大型基板、91…第1領域、92…第2領域、95…小型基板、98、99…スクライブ領域、100…電気光学パネル、105…張出部、151…第1短絡線、152…第2短絡線、160…センサー素子、170…画素電極、510…定電流回路、520、560…ボルテージフォロワー、530…A/Dコンバーター、961、962、963…配線部、980、990…スクライブ中心線、981、991…分割予定線、2100…電子機器、2102…ランプユニット、2106…ミラー、2108…ダイクロイックミラー、2112…ダイクロイックプリズム、2114…投射光学系、2120…スクリーン、2121…リレーレンズ系、2122…入射レンズ、2123…リレーレンズ、2124…出射レンズ、M…実装端子、M1…第1実装端子、M2…第2実装端子、M3…第3実装端子、P1…第1プローブ、P2…第2プローブ、P3…第3プローブ、P4…第4プローブ、R…抵抗素子、R1…第1抵抗素子、R2…第2抵抗素子、R3…第3抵抗素子、T…検査端子、T1…第1検査端子、T2…第2検査端子、T3…第3検査端子。
Claims (16)
- センサー素子と、
前記センサー素子の一方の電極に電気的に接続された第1端子と、
前記センサー素子の他方の電極に電気的に接続された第2端子と、
前記第1端子と前記第2端子との間に電気的に接続された第1抵抗素子と、
前記第1抵抗素子と前記第2端子との間に電気的に接続された第2抵抗素子と、
前記第1抵抗素子と前記第2抵抗素子との間に電気的に接続された第3端子と、
を有することを特徴とする電気光学装置用基板。 - 請求項1に記載の電気光学装置用基板において、
前記センサー素子は、ダイオード素子を備えた温度センサーであることを特徴とする電気光学装置用基板。 - 請求項1または2に記載の電気光学装置用基板において、
短絡線と、
前記第2端子と前記短絡線との間に電気的に接続された第3抵抗素子と、
を有し、
前記第2抵抗素子の前記第1抵抗素子と電気的に接続された一方端とは反対側の他方端は、前記短絡線に電気的に接続されていることを特徴とする電気光学装置用基板。 - 請求項1から3までの何れか一項に記載の電気光学装置用基板において、
前記第3端子が前記第1端子と前記第2端子との間に配置されていることを特徴とする電気光学装置用基板。 - 請求項1から4までの何れか一項に記載の電気光学装置用基板において、
画素電極が配列された画素領域、および前記画素領域と電気的に接続された実装端子を含む第1領域と、
前記第1領域と隣り合う第2領域と、
を含み、
前記センサー素子、前記第1端子、前記第2端子、前記第3端子、前記第1抵抗素子、および前記第2抵抗素子が前記第1領域に設けられていることを特徴とする電気光学装置用基板。 - 請求項1から4までの何れか一項に記載の電気光学装置用基板において、
画素電極が配列された画素領域、および前記画素領域と電気的に接続された実装端子を含む第1領域と、
前記第1領域と隣り合う第2領域と、
を含み、
少なくとも、前記センサー素子、前記第1端子、および前記第2端子が前記第1領域に設けられ、
前記第1抵抗素子、および前記第2抵抗素子の少なくとも一方が前記第2領域に設けられていることを特徴とする電気光学装置用基板。 - 請求項5に記載の電気光学装置用基板を分割した後の前記第1領域に相当する小型基板を備えた電気光学装置であって、
前記小型基板に電気的に接続された回路基板と、
前記回路基板に設けられたセンサー駆動回路と、
を有し、
前記センサー駆動回路は、前記第1端子に通電する通電回路と、前記第1端子の電圧または電流を検出する検出回路と、前記第1端子の電圧に対応する電圧を前記第3端子に印加する電圧設定部と、前記第1端子の電圧または電流を検出する検出回路と、を備えることを特徴とする電気光学装置。 - 請求項6に記載の電気光学装置用基板を分割した後の前記第1領域に相当する小型基板を備えた電気光学装置であって、
前記小型基板に電気的に接続された回路基板と、
前記回路基板に設けられたセンサー駆動回路と、
を有し、
前記センサー駆動回路は、前記第1端子に通電する通電回路と、前記第1端子の電圧または電流を検出する検出回路と、を備えることを特徴とする電気光学装置。 - 請求項7または8に記載の電気光学装置において、
前記通電回路は、定電流回路であり、
前記検出回路は、前記第1端子の電圧を検出することを特徴とする電気光学装置。 - 請求項7に記載の電気光学装置において、
前記電圧設定部は、前記第1端子の電圧と同一の電圧を前記第3端子に印加することを特徴とする電気光学装置。 - 請求項10に記載の電気光学装置において、
前記電圧設定部はボルテージフォロワーであり、
前記ボルテージフォロワーの入力端子に前記第1端子が電気的に接続され、
前記ボルテージフォロワーの出力端子が前記第3端子に電気的に接続されていることを特徴とする電気光学装置。 - 請求項7から11までの何れか一項に記載の電気光学装置を備えた電子機器であって、
前記検出回路からの出力に基づいて、前記電気光学装置の駆動条件、冷却条件または加熱条件を調整することを特徴とする電子機器。 - 請求項5または6に記載の電気光学装置用基板を用いた電気光学装置の製造方法において、
前記電気光学装置用基板を分割した後の前記第1領域に相当する小型基板を用いて電気光学装置を製造することを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 請求項1から6までの何れか一項に記載の電気光学装置用基板の前記センサー素子を検査する検査回路であって、
前記第1端子に通電する通電回路と、
前記第1端子の電圧に対応する電圧を前記第3端子に印加する電圧設定部と、
前記第1端子の電圧または電流を検出する検出回路と、
を有することを特徴とする検査回路。 - 請求項14に記載の検査回路において、
前記電圧設定部は、前記第1端子の電圧と同一の電圧を前記第3端子に印加することを特徴とする検査回路。 - 請求項15に記載の検査回路において、
前記電圧設定部はボルテージフォロワーであり、
前記ボルテージフォロワーの入力端子に前記第1端子が電気的に接続され、
前記ボルテージフォロワーの出力端子が前記第3端子に電気的に接続されていることを特徴とする検査回路。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021021504A JP2022123997A (ja) | 2021-02-15 | 2021-02-15 | 電気光学装置用基板、電気光学装置、電子機器、電気光学装置の製造方法、および検査回路 |
US17/670,850 US11682327B2 (en) | 2021-02-15 | 2022-02-14 | Substrate for electro-optical device, electro-optical device, and electronic apparatus, method for manufacturing electro-optical device, and inspection circuit |
CN202210133757.2A CN114942538B (zh) | 2021-02-15 | 2022-02-14 | 电光装置、电子设备、电光装置的制造方法以及检查电路 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021021504A JP2022123997A (ja) | 2021-02-15 | 2021-02-15 | 電気光学装置用基板、電気光学装置、電子機器、電気光学装置の製造方法、および検査回路 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022123997A true JP2022123997A (ja) | 2022-08-25 |
Family
ID=82801555
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021021504A Pending JP2022123997A (ja) | 2021-02-15 | 2021-02-15 | 電気光学装置用基板、電気光学装置、電子機器、電気光学装置の製造方法、および検査回路 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11682327B2 (ja) |
JP (1) | JP2022123997A (ja) |
CN (1) | CN114942538B (ja) |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3240829B2 (ja) | 1994-04-22 | 2001-12-25 | ソニー株式会社 | 液晶表示パネル |
JP3353523B2 (ja) * | 1995-03-15 | 2002-12-03 | ソニー株式会社 | 液晶表示装置の基板およびその基板の分割方法 |
JP2004012744A (ja) * | 2002-06-06 | 2004-01-15 | Sharp Corp | 液晶パネルおよびその製造方法 |
JP2006091239A (ja) * | 2004-09-22 | 2006-04-06 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置用基板及び電気光学装置、並びに検査方法 |
JP4869807B2 (ja) * | 2006-06-30 | 2012-02-08 | 株式会社 日立ディスプレイズ | 表示装置 |
JP2010243526A (ja) * | 2009-04-01 | 2010-10-28 | Sony Corp | 電気光学装置 |
JP2014163952A (ja) * | 2013-02-21 | 2014-09-08 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置用基板、電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置、電子機器 |
CN104008743B (zh) * | 2014-05-28 | 2017-01-11 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种静电放电保护芯片及驱动电路 |
US10134511B2 (en) * | 2015-03-26 | 2018-11-20 | Seiko Epson Corporation | Resistance element, electrostatic protection circuit, temperature detection circuit, and electro-optic apparatus |
JP2016184719A (ja) | 2015-03-26 | 2016-10-20 | セイコーエプソン株式会社 | 抵抗素子、静電保護回路、温度検出回路および電気光学装置 |
WO2017094555A1 (ja) * | 2015-11-30 | 2017-06-08 | シャープ株式会社 | Ledバックライトの検査方法 |
-
2021
- 2021-02-15 JP JP2021021504A patent/JP2022123997A/ja active Pending
-
2022
- 2022-02-14 CN CN202210133757.2A patent/CN114942538B/zh active Active
- 2022-02-14 US US17/670,850 patent/US11682327B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US11682327B2 (en) | 2023-06-20 |
US20220262288A1 (en) | 2022-08-18 |
CN114942538A (zh) | 2022-08-26 |
CN114942538B (zh) | 2023-08-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN110503907B (zh) | 显示面板及其裂纹检测方法、显示装置 | |
JP4984815B2 (ja) | 電気光学装置の製造方法 | |
US20120105085A1 (en) | Display device and system for inspecting bonding resistance and inspecting method thereof | |
JP7302417B2 (ja) | 温度検出回路、電気光学装置および電子機器 | |
JP2017120299A (ja) | 電気光学装置及び電子機器 | |
JP2008009246A (ja) | 表示装置 | |
JP2007183527A (ja) | 能動素子配列基板、液晶表示パネル及びその検査方法 | |
WO2012140815A1 (ja) | アクティブマトリクス基板、アクティブマトリクス基板の検査方法、表示パネル、および表示パネルの製造方法 | |
WO2021006379A1 (ko) | 디스플레이 화소 자동 검사 시스템 및 방법 | |
JP2021018367A (ja) | 電気光学パネル、電気光学装置および電子機器 | |
KR20150102167A (ko) | 어레이 기판 및 이를 포함하는 표시 장치 | |
JP2022123997A (ja) | 電気光学装置用基板、電気光学装置、電子機器、電気光学装置の製造方法、および検査回路 | |
US11151915B2 (en) | Electro-optical device, electronic apparatus, and inspection method for electro-optical device | |
US9761162B2 (en) | Array substrate for display panel and method for inspecting array substrate for display panel | |
KR20160084963A (ko) | 액정 표시 장치 | |
CN115798343A (zh) | 显示装置 | |
KR101621560B1 (ko) | 액정표시장치 테스트 패턴 | |
US11804156B2 (en) | Electro-optical device and electronic apparatus | |
JP2021060499A (ja) | 電気光学装置、および電子機器 | |
US11585702B2 (en) | Temperature detection device and electronic apparatus | |
TWI627419B (zh) | 顯示面板測試系統和顯示面板測試方法 | |
JP6927805B2 (ja) | 発光素子基板の検査方法および発光素子基板 | |
JP2022062887A (ja) | 温度検出回路、電気光学装置および電子機器 | |
TW202409692A (zh) | 顯示裝置及檢測其之檢測方法 | |
JP2023033860A (ja) | 電気光学装置および電子機器 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20210914 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20211102 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20240205 |