JP2022050498A - グレージングを製造する方法及びその方法により製造されたグレージング - Google Patents

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Abstract

【課題】バーンライン歪みを減らすまたは防ぐことができ、成型ガラスの他の領域の全体的な光学的品質に悪影響を及ぼさず、美観上の問題も引き起こさない、エナメルの層を有するグレージングを提供する。【解決手段】グレージングは、その表面の少なくとも第１の部分にエナメルの層が接着されたガラス基板を含み、エナメルは２０～８０重量％のフリットと１０～５０重量％の無機顔料とを含む。エナメルの層の厚みは２μｍ～５０μｍの範囲であり、無機顔料は、ガラス基板の表面の第１の部分の赤外反射率が８００ｎｍ～２２５０ｎｍの波長範囲内のある領域全体で３７％以上であるように赤外反射率を有する。【選択図】図２

Description

本発明はエナメル部分を有するガラス基板を含むグレージング、自動車用及び建築用グ
レージングを含む積層グレージング、そのようなグレージングを製造する方法、ならびに
成型された積層グレージングを製造する方法に関する。
例えば、スクリーン印刷によりエナメルインクをガラスに印刷することが知られている
。エナメルインクは典型的にはフリット（フラックス）、顔料とエナメルインクのスクリ
ーン印刷の特性を改善するためのビヒクルとして機能する液体成分（例えばオイル）を含
む。スクリーン印刷の後、エナメルインクは硬化（例えば、紫外線照射による）または乾
燥（例えば約３００℃まで加熱することにより）され得る。そして次に高温に加熱するこ
とにより焼成されフラックスを溶融して、エナメルのガラスの表面への優れた接着を確保
する。そのようなエナメルは、一度焼成されると気候及び摩滅に耐える。ガラス上のエナ
メル領域は、例えば、自動車用途において、自動車のグレージングの周辺域に塗布される
ことにより、日光／紫外（ＵＶ）光から接着剤を隠し、保護するなど種々の使用を有し得
る。エナメルのそのようなバンドは一般に掩蔽バンドとして知られ、可視光やＵＶ光に不
透明な黒いまたは非常に暗いエナメルからなる。他の用途ではエナメルは他の技術により
適用され得、他の色を有して、種々の程度で可視光と他の波長を吸収できる。エナメルは
、模様等の種々の形態で塗布され得る。エナメルの別の用途は、日照調整である。
ＵＳ－Ｂ－６，１７１，３８３は、特に赤外（ＩＲ）領域で改善された反射率特性をも
つビスマスマンガンオキサイド緑色顔料を開示している。
ＵＳ－Ｂ－６，１７４，３６０は、無機着色顔料の固溶体を開示している。特に、これ
は無機着色顔料として有用なコランダム－ヘマタイト結晶構造を有する固溶体を開示しし
ており、それらのいくつかは、低いＹ ＣＩＥ三刺激値と電磁波スペクトルの近赤外部に
おいて高い反射率を示している。
ＵＳ－Ｂ－６，４１６，８６８は、プラスチック、ガラス、セラミック、ペイント、エ
ナメル、インク、及び他の種類の材料用の顔料を開示しており、特に顔料としてアルカリ
土類酸化マンガン組成物の使用に関する。
ＵＳ－Ａ－２０１５／０１５２２３８は、高い日光反射率の黒色顔料を、特に（Ｃｒ，
Ｆｅ）２Ｏ３固溶体を含む黒色顔料を開示している。
ＵＳ－Ｂ－８，５４６，４７５は、鉄とマンガンを含む赤外光を反射する黒色顔料を開
示している。
ガラス上に印刷されたエナメルを焼成する、及びまた印刷されたガラス基板を成型する
種々のプロセスが開示されている。
ＥＰ－Ａ－０４１５０２０（ＵＳ－Ｂ－４，９５４，１５３に相当する）は、ガラスの
光学的品質に悪い影響を与えることなく装飾的セラミックエナメル周縁を有するガラス板
を優先して加熱する方法を開示している。優先的加熱は、エナメルをガラスよりも迅速に
加熱するように、ガラスよりもエナメルにより容易に吸収される選択された波長で熱エネ
ルギーを放射するヒーターを用いることにより達成される。１つの特定の実施形態では、
セラミックエナメルの周縁をもつガラスはその歪点より高い温度まで予熱される。コート
されたガラスは次に石英管ヒーターに曝され、ガラス上にエナメルを焼成するのに十分に
高い温度にまで優先的にエナメルを加熱する。セラミックエナメルは、次にガラスの他の
部分の温度にまで冷却される。
ＵＳ－Ｂ－５，４４３，６６９は、１つまたは２つの曲線をもつ積層ガラス板を製造す
る方法、特に自動車用、さらにとりわけ印刷された模様をもつガラス板を製造する方法、
特に模様が周縁であり得る自動車用フロントガラスを製造する方法を開示している。印刷
された模様はガラスフラックスペースト、少なくとも１つのセラミック顔料、バインダー
形成成分及び有機スクリーン印刷オイルを含むスクリーン印刷可能なエナメルインクを使
用して形成される。
ＷＯ２０１３／０２３８３２Ａ１は、その表面の少なくとも一部にエナメルコーティン
グを含む自動車用グレージングを開示している。前記コーティングは、光の伝達に対する
障害として作用する。グレージングは、エナメルコーティングが８００ｎｍより長い波長
の１０％より多く、好ましくは１５％より多く反射することを特徴とする。これは熱処理
の間、特に曲げ加工の間の、グレージングのエナメル化されていない部分と比較してエナ
メル化された部分による赤外放射の吸収の違いから生じるガラス板の温度の制御の難しさ
に応じるためである。
先に述べたように、自動車では（及び他のグレージングでは）エナメルはグレージング
の周縁に掩蔽バンドを加えるために使用できる。積層ガラス、例えば、フロントガラスで
は、掩蔽バンドは表面４（つまり、取り付けられたとき乗物の内側の積層体の外部表面）
に印刷でき、または積層体の内部表面（例えば、表面２、取り付けられたとき、積層体の
内側にあるガラス／ポリマーの界面であって、ガラスプライの内側表面により形成され、
前記ガラスプライの他の表面は乗物の外側にある積層体の外側表面を形成する）に印刷で
きる。そのようなバンドは不透明であり固定具のようなグレージング上の部品を隠すこと
に、またＵＶ保護を、例えばグレージングを適所に固定するために使用される接着剤に与
えることに役立つ。掩蔽バンドをもつグレージングは通常、エナメルがガラス基板に塗布
された後、高温に加熱することにより成型される。エナメルは加熱工程により焼成される
ことが多い。
成型後、ガラスの印刷領域／非印刷領域の間の境界で光学的な歪みが生じる場合がある
。そのような光学的な歪みは、Ｍｉｋａ Ｅｒｏｎｅｎ による、”ＳＡＧ Ｂｅｎｄｉ
ｎｇ Ｗｉｎｄｓｈｉｅｌｄｓ Ｉｎｔｒｏｄｕｃｔｉｏｎ ｏｆ Ｋｅｙ Ｐｒｏｃｅ
ｓｓ Ｐａｒａｍｅｔｅｒｓ ｔｏ Ｓｕｐｅｒｉｏｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｑｕａｌｉｔ
ｙ” （２０１２， Ｓａｆｅｔｙ Ｇｌａｓｓ Ｅｘｐｅｒｔｓ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉ
ｏｎａｌ Ｏｙ Ｌｔｄ）で論じられているとおり、「バーンライン」（ｂｕｒｎｌｉｎ
ｅ）と呼ばれることがある。
温度面の点から曲げプロセスのパラメーターを変えることによりバーンラインを減らす
もしくは除くこと、ならびに／またはガラス曲げ器具／鋳型上の遮蔽の設計、製作及び取
り付けが試みられてきた。他の試みられた解決法は、Ｋｒｉｓ Ｖｏｃｋｌｅｒによる”
Ｓｏｌｕｔｉｏｎｓ ｔｏ Ｃｏｍｍｏｎ Ｏｂｓｃｕｒａｔｉｏｎ Ｂａｎｄ Ｐｒｏ
ｂｌｅｍｓ”（２０１３，ｗｗｗ．ｉｃｄｃｏａｔｉｎｇｓ．ｃｏｍ）で述べられている
ように、常に掩蔽バンドを積層体の内側表面（例えば、表面２または表面３）に印刷する
ことを含む。
残念ながら、そのような試みられた解決法は、不満足なものであって、遮蔽の設計、製
作、取り付け及び製造の最適化のための多くの余分な費用と時間のような不都合がある。
また、成型ガラスの他の領域の全体的な光学的品質は、追加された遮蔽により悪影響を受
ける場合がある。さらに、試みられた解決法は、焼成中に掩蔽バンドのエナメルインクに
より起こされるさらなる美観上の問題につながる場合がる。
本発明の発明者らは、驚くべきことにエナメルの特性を修飾することがバーンライン歪
みを減らすまたは防ぐことができ、それにより先に試みられた解決法の問題を避け得るこ
とを発見した。
第１の態様では、本発明はしたがって、ガラス基板の表面の少なくとも第１の部分に接
着されたエナメル層を有するガラス基板を含むグレージングであって、エナメルは２０～
８０重量％のフリット及び１０～５０重量％の無機顔料を含み、エナメルの層の厚みは２
μｍ～５０μｍの範囲にあり、無機顔料が、ガラス基板の表面の第１の部分の赤外反射率
が８００ｎｍ～２２５０ｎｍの波長範囲内のある領域全体で３７％以上であるように赤外
反射率を有することを特徴とする、グレージングを提供する。
他の態様では、本発明はガラス基板の表面の少なくとも第１の部分に接着されたエナメ
ルを有するガラス基板を含むグレージングであって、エナメルはフリット及び無機顔料を
含み、エナメルが、ガラス基板の表面の第１の部分の赤外反射率が８００ｎｍ～２２５０
ｎｍの波長範囲内のある領域全体で、２７％以上であるように適合されることを特徴とす
るグレージングを提供する。
エナメルの特性を変えてＮＩＲ（近赤外）とＩＲ（赤外）の波長領域の反射率スペクト
ルを大きくする（これは、特に中間的温度及び高温において、印刷されたガラス表面と印
刷されないガラス表面の間の放射率の違いを少なくすることと等価でありえる）ことによ
り、バーンラインの歪みが大きく減少または除去されるので、これは非常に有利である。
したがって、本発明は印刷／非印刷領域において光学的品質の点で、従来試みられた解決
法よりも非常に良好な結果を与え、遮蔽を備えた高価な曲げ鋳型を開発、製造及び組み立
てる必要がなく、ガラス成型においてより良好な全体的な光学的品質をも与える。さらに
、本発明は焼成下でエナメルから生じる問題を避け、または少なくする。
ＩＲ反射率特性を与えるためのエナメルの適合化は、適切な顔料を選択すること、エナ
メル中の顔料（及び／またはフリット）の量と比率を調整すること、及び／またはエナメ
ルの厚みを調整すること（例えば、スクリーン印刷される場合、スクリーンのスレッド／
ｃｍを変えることにより）によることができる。これら全ては以下で論じられるとおりで
ある。
一般的に、エナメルは可視光に対して実質的に不透明であるように適合され得、その結
果、グレージングのエナメル化された最初の部分のＩＳＯ９０５０可視光透過率は１％以
下、好ましくは、０．５％以下、及びさらに好ましくは０．１％以下である。不透明なエ
ナメルは、ガラス上に模様や遮蔽を与え得るので有利である。
ガラス基板は成型されていなくてもよい（例えば、それは、ガラスの平らな板であって
もよい）が、しかし成型及び／または強化のため、後の加熱処理プロセスを経ることが意
図されてもよい。しかし、好ましくは成型ガラス基板である。通常、エナメルは平らなガ
ラス基板に塗布され、その後成型される。エナメルは、熱処理の間に焼成されてガラス基
板を成型し単一の加熱工程を可能にするので、これは一般に有利である。いくつかの状況
では、しかし、エナメルは、成型されたガラス基板に塗布されてもよい。この場合、エナ
メルは通常、その後焼成されよう。
エナメルは図柄を与えるため着色されることができ、好ましくは非常に暗くでき、より
好ましくは可視色の中では実質的に黒であることができる。通常、ガラス基板の表面のエ
ナメル化された第１の部分はグレージングの周辺部を形成してもよい。そのため、好まし
くは、エナメル化されたガラス基板の表面の第１の部分は掩蔽バンドを形成できる。
グレージングの第１の部分の赤外反射率は、８００ｎｍ～２２５０ｎｍの波長範囲内の
ある領域全体で、３８％以上でありえることが好ましく、好ましくは３９％以上、より好
ましくは４０％以上、最も好ましくは４１％以上でもよい。
好ましくは、８００ｎｍ～２２５０ｎｍの波長範囲内のある領域は４００ｎｍ以上、好
ましくは４５０ｎｍ以上、より好ましくは５５０ｎｍ以上、最も好ましくは６１０ｎｍ以
上に延びる。８００ｎｍ～２２５０ｎｍの波長範囲内のその領域は６５０ｎｍを超え、７
００ｎｍを超え、７５０ｎｍを超え、８００ｎｍを超え、また８２５ｎｍをすら超えて延
びてもよい。
好ましくは、エナメルは、適切な赤外及び／または近赤外反射性顔料を選択し、エナメ
ルに適量で赤外反射性顔料を含めることによりＩＲ反射性を与えるように適合される。良
好なＩＲ反射性、良好な色、及び／または十分な可視不透明性を確保するため、エナメル
は１０重量％～５０重量％の無機顔料を、好ましくは１０重量％～４０重量％、より好ま
しくは１５重量％～３５重量％を含む。あるいは、無機顔料の量は１０重量％～１５重量
％または４０重量％～５０重量％であることができる。
赤外反射性無機顔料は、約０．１重量％～５０重量％、または約１重量％～４５重量％
、または約５重量％～４０重量％、または１０重量％～３５重量％、または１５重量％～
３０重量％の量でエナメルを印刷するために使用されるセラミックインクに含まれてもよ
い。好ましくは、赤外または近赤外反射性無機顔料は約１０重量％～約４０重量％の範囲
の量で、例えば、約２０重量％～約３０重量％、または約２２重量％～約２８重量％でセ
ラミックインクに含まれ得る。
無機顔料それのみの、つまりエナメルインクに含ませる前にそれのみで測定された顔料
の赤外反射率は４０～９０％、好ましくは５０～８５％の範囲であることができる。
エナメルは焼成の間に溶け、基板と化学的及び機械的に結合するガラス質の層を作るフ
リット粒子を含む。無機顔料は細かく分割された形で提供され、顔料粒子はフリットから
形成されたガラス質の層に分散されている。エナメルは２０重量％～８０重量％のフリッ
ト、好ましくは３０重量％～７５重量％を含む。あるいは、エナメルは２０重量％～４０
重量％または６０重量％～８０重量％のフリットを含むことができる。
フリットは、通常、シリカと酸化金属を含むことができ、好ましくは酸化物フリットは
、環境及び健康への配慮に適合するよう鉛またはカドミウムを含まない。
酸化物フリットはシリカ、チタニア、アルミナ、ジルコニア、フッ素イオンを有する化
合物（例えば、フルオライト、フルオラパタイト、クリオライトなど）、酸化ビスマス、
酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化カリウム、酸化ナトリウム、酸化カルシム、酸化バリウム、
酸化鉛、酸化リチウム、酸化リン、酸化モリブデン、酸化ストロンチウム、酸化マグネシ
ムから選ばれる少なくとも１つの化合物の粒子を含み得る。いくつかの実施形態では、多
数の酸化物フリットが調合され得、及び／または酸化物フリットの粒子サイズは所望の特
性（例えば融点）を達成するために管理できる。例えば、いくつかの実施形態では、使用
される酸化物フリットは、２０ミクロン未満のサイズをもつ粒子を使用できる。酸化物フ
リットについて有利なＤ５０値は約２ミクロン～６ミクロンに及んでもよい。１つ以上の
実施形態では、酸化物フリットは約２０重量％～８０重量％、または３０重量％～７０重
量％、または４０重量％～６０重量％の量でセラミックインク組成物に含まれてもよい。
シリカが酸化物フリットに含まれるとき、それはセラミックインク組成物中に約１重量
％～６０重量％、または約５重量％～５５重量％、または約１０重量％～４５重量％、ま
たは約１５重量％～３５重量％、または約１８重量％～２８重量％の量でセラミックイン
ク組成物に含まれることができる。
酸化ビスマスが酸化物フリットに含まれるとき、それは、約５重量％～７５重量％、ま
たは約１０重量％～約７０重量％、または約１５重量％～６５重量％、または１８重量％
～６２重量％の量でセラミックインク組成物に含まれ得る。
フッ素イオンを有する化合物が酸化物フリットに含まれるとき、それらは約０．１重量
％～５重量％、または約０．５重量％～４重量％、または約１重量％～３重量％の範囲の
量でセラミックインク組成物に含まれ得る。
酸化亜鉛が酸化物フリットに含まれるとき、それは約０．１重量％～６０重量％、また
は約０．５重量％～５５重量％、または約０．７５重量％～５０重量％、または約１重量
％～約４５重量％、または約１．２５重量％～約４０重量％、または約１．５重量％～約
３０重量％、または約１．７５重量％～約２０重量％、または約２重量％～約１０重量％
、または約２．２５重量％～約８重量％の範囲の量でセラミックインク組成物に含まれ得
る。
酸化カリウムが酸化物フリットに含まれるとき、それは約０．１～５重量％、または約
０．５重量％～４重量％、または約１重量％～３重量％の範囲の量でセラミックインク組
成物に含まれ得る。
酸化ナトリウムが酸化物フリットに含まれるとき、それは約１重量％～約２０重量％、
または、約１．２５重量％～約１５重量％、または約１．５重量％～約１０重量％、また
は約２重量％～約５重量％の範囲の量でセラミックインク組成物に含まれ得る。
酸化リチウムが酸化物フリットに含まれるとき、それは約０．１重量％～５重量％、ま
たは約０．５重量％～４．５重量％、または約１重量～４重量％の範囲の量でセラミック
インク組成物に含まれ得る。
ジルコニアが酸化物フリットに含まれるとき、それは、約０．１重量％～１５重量％、
または約０．２５重量％～１０重量％、また約０．５重量％～５重量％の範囲の量でセラ
ミックインク組成物に含まれ得る。
チタニアが酸化物フリットに含まれるとき、それは約０．１重量％～１５重量％、また
は約０．５重量～１２重量％、または約１重量～１０重量％の範囲の量でセラミックイン
ク組成物に含まれ得る。
酸化ストロンチウムが酸化物フリットに含まれるとき、それは約０．１重量％～５重量
％、または約０．２５重量％～２．５重量％、または約０．５重量％～２重量％の範囲の
量でセラミックインク組成物に含まれ得る。
酸化カルシムが酸化物フリットに含まれるとき、それは約０．１重量％～５重量％、ま
たは約０．５重量％～４重量％、または約１重量％～３重量％の範囲の量でセラミックイ
ンク組成物に含まれ得る。
酸化マグネシウムが酸化物フリットに含まれるとき、それは約０．１重量％～５重量％
、または約０．２５重量％～２．５重量％、または約０．５重量％～２重量％の範囲の量
でセラミックインク組成物に含まれ得る。
酸化モリブデンが酸化物フリットに含まれるとき、約０．１重量％～５重量％、または
０．２５重量％～２．５重量％、または約０．５重量％～２重量％の範囲の量でセラミッ
クインク組成物に含まれ得る。
酸化リンが酸化物フリットに含まれるとき、それは約０．１重量％～５重量％、または
約０．５重量％～４重量％、または約１重量％～３重量％の範囲の量でセラミックインク
組成物に含まれ得る。
アルミナが酸化物フリットに含まれるとき、それは、約０．１重量％～５重量％、また
は約０．５重量％～４重量％、または約１重量％～３重量％の範囲の量でセラミックイン
ク組成物に含まれ得る。
酸化ホウ素が酸化物フリットに含まれるとき、それは約０．１重量％～４０重量％、ま
たは約１重量％～３５重量％、または約２．５重量％～約３０重量％、または約５重量％
～約２５重量％、または約７．５重量％～約２０重量％、または約１０重量％～約１５重
量％の範囲の量でセラミックインク組成物に含まれ得る。
特定の化合物について、上記範囲内に含まれる値のいずれかは、前記化合物の範囲内に
含まれるいずれか他の値と組み合わされ、さらに限定された重量パーセントの範囲を作り
得ることが、本開示に上記化合物を特定の重量パーセント範囲で含める明白な目的である
。さらに、多数の化合物が、それらの相対量が上記に開示された重量パーセントの範囲内
にある限り、または、特定の化合物に関する範囲内に含まれるいずれかの値と、その化合
物に関する範囲内に含まれるいずれか他の値との組み合わせであり得るより限定された重
量パーセントの範囲内にある限り、本開示に従い前記酸化物フリットに含まれ得る。
１つ以上の実施形態においては、フリットは酸化亜鉛と、シリカ、フッ素イオンを有す
る化合物、酸化カリウム、酸化ナトリウム、酸化リチウム、ジルコニア、チタニア、酸化
ストロンチウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化モリブデン、酸化リン、アル
ミナ及び酸化ホウ素のうちの少なくとも１つ、を含む亜鉛ベースのフリットであり得る。
例えば、ある実施形態では、亜鉛ベースのフリットは約５重量％～５５重量％のシリカ、
約０重量％～５重量％のフッ素含有化合物、約１０重量％～５０重量％の酸化亜鉛、約０
重量％～５重量％の酸化カリウム、約０重量％～１５重量％の酸化ナトリウム、約０重量
％～４重量％の酸化リチウム、約０重量～１０重量％ジルコニア、約０重量％～約１０重
量％チタニア、約０重量％～２重量％の酸化ストロンチウム、約０重量％～５重量％酸化
カルシウム、約０重量％～２重量％の酸化マグネシウム、約０重量％～２重量％酸化モリ
ブデン、約０重量％～５重量％の酸化リン、約０重量％～５重量％のアルミナ、及び約１
０重量％～２８重量％の酸化ホウ素を含み得る。
例えば、亜鉛ベースのフリットは下記表１に示される実施形態１～３に従い調合され得
る。
Figure 2022050498000002
１つ以上の実施形態では、フリットは酸化ビスマスと、シリカ、酸化亜鉛、フッ素イオ
ンを含む化合物、酸化カリウム、酸化ナトリウム、酸化リチウム、ジルコニア、チタニア
、酸化ストロンチウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化モリブデン、酸化リン
、アルミナ及び酸化ホウ素のうちの少なくとも１つを含むビスマスベースのフリットであ
り得る。
例えば、ある実施形態では、ビスマスベースのフリットは約３重量％～４０重量％のシ
リカ、１０重量％～６５重量％の酸化ビスマス、０重量～５重量％のフッ素含有化合物、
０重量％～２０重量％の酸化亜鉛、０重量％～５重量％の酸化カリウム、０重量％～８重
量％の酸化ナトリウム、０重量％～４重量％の酸化リチウム、０重量％～６重量％のジル
コニア、０重量％～１０重量％のチタニア、０重量％～２重量％の酸化ストロンチウム、
０重量％～５重量％の酸化カルシウム、０重量％～２重量％の酸化マグネシウム、０重量
％～２重量％の酸化モリブデン、０重量％～５重量％の酸化リン、０重量％～５重量％の
アルミナ、及び２重量％～２０重量％の酸化ホウ素を含み得る。
他の実施形態では、ビスマスベースのフリットは約１０重量％～３０重量％のシリカ、
４０重量％～６５重量％の酸化ビスマス、１重量％～１０重量％の酸化亜鉛、０．０５重
量％～２重量％の酸化カリウム、１重量％～６重量％の酸化ナトリウム、０．０５重量％
～２重量％ジルコニア、０．５重量％～５重量％のアルミナ、及び６重量％～１６重量％
の酸化ホウ素を含み得る。さらに他の実施形態では、ビスマスベースのフリットは約１３
重量％～２３重量％のシリカ、５０重量％～６５重量％の酸化ビスマス、２重量％～６重
量％の酸化亜鉛、０．０５重量％～０．５重量％の酸化カリウム、２重量％～５重量％の
酸化ナトリウム、０．１重量％～１重量％のジルコニア、１重量％～４重量％のアルミナ
、及び８重量％～１５重量％の酸化ホウ素を含み得る。
例えば、ビスマスベースのフリットは、下記表２に示す実施形態４～６により調合でき
る。
Figure 2022050498000003
フリット（フラックスとしても知られている）は、ガラス組成物であり得、例えば、ケ
イ酸ホウ素ガラス組成物であり得る。フリットは、エナメルのケイ素／ホウ素（Ｓｉ／Ｂ
）重量％比が１０以下、８以下、６以下、４以下、３以下、好ましくは２以下、またはよ
り好ましくは１．５以下であり得る。
ＳｉとＢの含量を決定するエナメルの分析は、ケイ素についてＸ線蛍光（ＸＲＦ）によ
り、ホウ素について誘導結合プラズマスペクトル分析によることができる。一般に、Ｓｉ
／Ｂｉの比はガラス基板上に一度焼成されたエナメルにおける重量％での比であり得る、
またはエナメル化される部分を作るのに用いられるエナメルインクの重量％（乾燥重量ベ
ース）での比であり得る。
驚くべきことに、適した赤外反射性無機顔料は、実質的にスピネル結晶構造、逆スピネ
ル結晶構造、ヘマタイト結晶構造、コランダム結晶構造、またはルチル結晶構造を示す物
質を含む無機顔料であり得る。好ましい顔料は実質的にコランダム結晶構造を示す物質を
含む。
適した無機顔料はＦｅ／Ｃｒ顔料、Ｃｏ／Ａｌ顔料、Ｃｏ／Ａｌ／Ｃｒ顔料、Ｃｏ／Ｔ
ｉ顔料、Ｃｏ／Ｃｒ顔料、Ｎｉ／Ｆｅ／Ｃｒ顔料、Ｔｉ／Ｃｒ／Ｓｂ顔料、Ｆｅ顔料、Ｃ
ｒ顔料及び／またはこれらの顔料の２つ以上の混合物から選択される顔料を含み得る。好
ましい無機顔料はＦｅ顔料である。最も好ましい顔料は鉄とクロムの両者を含む。Ｆｅ／
Ｃｒ顔料は、例えば、ＣｒＦｅＯ３（酸化クロム鉄）であり得、好ましくはコランダム型
構造（例えば、斜方面体晶系）で含む。
より具体的には、適した無機顔料は、ピグメントブルー２８（ＣＩ７７３４６；ＣＡＳ
１３４５－１６－０）、ピグメントブルー２９（ＣＩ７７００７；ＣＡＳ５７４５５－３
７－５、６７０５３－７９－６）、ピグメントグリーン５０（ＣＩ７７３７７、ＣＡＳ６
８１８６－８５－６）、ピグメントブラック３０（ＣＩ７７５０４、ＣＡＳ７１６３１－
１５－７）、ピグメントブラック３３（ＣＩ７７５３７、ＣＡＳ６８１８６－９４－７）
、ピグメントブルー３６（ＣＩ７７３４３、ＣＡＳ６８１９７－１１－１）、ピグメント
グリーン１７（ＣＩ７７２８８、ＣＡＳ６８９０９－７９－５）；ピグメントブラウン３
５（ＣＩ７７５０１、ＣＡＳ６８１８７－０９－７）、ピグメントブラウン２４（ＣＩ７
７３１０、ＣＡＳ６８１８６－９０－３）、ピグメントブラウン２９（ＣＩ７７５００、
ＣＡＳ１２７３７－２７－８）、ピグメントイエロー１６４（ＣＩ７７８９９、ＣＡＳ６
８４１２－３８－４）、ピグメントブラウン３３（ＣＩ７７５０３、ＣＡＳ６８１８６－
８８－９）のうちの１つ以上から選択され得る。ここで、ＣＩ番号はカラーインデックス
インターナショナル標準データベース（ｔｈｅ Ｃｏｌｏｕｒ Ｉｎｄｅｘ Ｉｎｔｅｒ
ｎａｔｉｏｎａｌ ｒｅｆｅｒｅｎｃｅ ｄａｔａｂａｓｅ）（英国染料染色学会及び米
国繊維化学技術・染色技術協会による共同運営）を示す。ＣＡＳはケミカルアブストラク
トサービス登録番号、またはＣＡＳ番号を示すもので、つまり、全ての化学物質にＣＡＳ
により割り当てられた識別番号である。
一般的に、好ましい無機顔料はクロム－鉄顔料から選ぶことができ、好ましくはフェラ
イト顔料から、加えてまたは代わって、クロム鉄鉱またはフェライト／クロム鉄鉱（鉄ク
ロマイトとしても知られている）顔料から選ぶことができる。特に適した顔料はピグメン
トブラウン３３（ＺｎＦｅＣｒタイプ、ＣＩ７７５０３、ＣＡＳ６８１８６－８８－９）
、ピグメントブラウン２９（ＦｅＣｒタイプ、ＣＩ７７５００、ＣＡＳ１２７３７－２７
－８）、クロムグリーンブラックヘマタイトピグメントグリーン１７（ＦｅＣｒタイプ、
ＣＩ７７２８８、ＣＡＳ６８９０９－７９－５）、ピグメントブラウン３５（ＦｅＣｒタ
イプ、ＣＩ７７５０１、ＣＡＳ６８１８７－０９－７）、ピグメントブラック３０（Ｎｉ
ＣｒＭｎタイプ、ＣＩ７７５０４、ＣＡＳ７１６３１－１５－７）から選ぶことができる
顔料を含む。
最も好ましい顔料は、酸化クロム鉄ピグメントブラウン２９（ＣＩ７７５００ ＣＡＳ
１２７３７－２７－８）、ピグメントブラック３０（ＣＩ７７５０４、ＣＡＳ７１６３１
－１５－７）、クロムグリーンブラックヘマタイト（ＣＩ７７２８８、ＣＡＳ６８９０９
－７９－５）及び酸化クロム鉄ニッケルから選ばれる。
先に論じたように、好ましい顔料は鉄（特に、鉄ＩＩＩ）を含む。したがって、エナメ
ルが鉄（Ｆｅ２Ｏ３として決定される）をエナメルの総重量の５重量％以上の量で含めば
好ましい、好ましくはエナメルの総重量の１０重量％以上の量、より好ましくはエナメル
の総重量の１５重量％以上の量、及び最も好ましくはエナメルの総重量の２０重量％以上
の量で含む。一般に、鉄の重量％はガラス基板に一度焼成されたエナメル中の鉄の重量％
でもよく、またはエナメル化された部分を作るために使用されるエナメルインク中の鉄の
重量％（乾燥重量ベース）であり得る。鉄含量の決定はＸＲＦまたはＥＤＳ及び／または
湿式化学法によりなされ得る。
エナメルがクロム（Ｃｒ２Ｏ３として決定される）をエナメルの総重量の５重量％以上
の量で含むことが好ましい。好ましくはエナメルの総重量の１０重量％以上の量で、より
好ましくはエナメルの総重量の１５重量％以上の量で及び最も好ましくは、エナメルの総
重量の２０重量％以上の量で含む。一般に、クロムの重量％はガラス基板上に一度焼成さ
れたエナメル中のクロムの重量％、またはエナメル化された部分を作るため使用されるエ
ナメルインク中のクロムの重量％（乾燥重量ベース）であり得る。クロム含量の決定はＸ
ＲＦ、ＳＥＭ、または湿式化学法によりなされ得る。
好ましくは、エナメルはエナメルの総重量の２５重量％以下の量でクロム（Ｃｒ２Ｏ３
として決定される）を含む。
一般に、エナメル層は適切な可視及びＩＲ特性を与えるのに十分な厚みをもつであろう
。したがって、好ましくは焼成後ガラス基板に接着されたエナメル層の厚み（または、例
えば、エナメル層が積層体の一表面より多くで印刷される場合、２つ以上のエナメル層の
厚みの合計）は、２μｍ～５０μｍの範囲、好ましくは４μｍ～４０μｍ、より好ましく
は６μｍ～３５μｍ、最も好ましくは９μｍ～３０μｍの範囲にあり得る。
先に論じたように、本発明の大きな利点は、大きくバーンラインの光学的歪みを減らす
ことである。これは、例えば自動車のフロントガラスに使用され得る積層グレージングに
特に重要であり得る。
したがって、本発明は、第２の態様において、第１の態様によるガラス基板を含む第１
のガラスプライと、第２のガラスプライと、第１のガラスプライと第２のガラスプライと
の間に延びる、つまりプライの間に「サンドイッチ」された中間層のポリマープライとを
含む積層グレージングを提供する。
本グレージングは、特に、乗物のグレージング（例えば、自動車、列車、船、飛行機）
及び／または建築用グレージングまたはストーブ、オーブンまたは大型家電製品（例えば
、フリーザーまたは冷蔵庫）のガラス、またはディスプレイカウンターまたはディスプレ
イキャビネットのガラスになり得る。
したがって、本発明は第３の態様において、第１または第２の態様に全般的に従う自動
車用グレージングを提供する。
本発明は、第４の態様において、本発明の第１または第２の態様に全般的に従う建築用
グレージングを提供する。
本発明によるグレージングはガラス基板の表面にエナメルインクを印刷し、任意に、イ
ンクを乾燥及び／または硬化し、続いて、多くはガラス成型工程において、加熱すること
により作り得る。好ましくは、エナメルインクは平らなガラス基板に印刷され、これは続
いて成型される。いくつかの場合、エナメルインクは、しかし、成型されたガラス基板上
に印刷され、任意に乾燥され及び／または硬化され、そして続いて焼成される。通常、印
刷する方法はスクリーン印刷であり、しかし、パッド印刷（タンポグラフィー）またはイ
ンクジェット及び／またはデジタル印刷という他の方法等の他の方法も適し得る。
１つ以上の実施形態では、セラミックインクは無機顔料を懸濁するために使用される液
体媒体（また、ビヒクルまたは担体として知られている）と酸化物フリットを含み、それ
らは焼成前に基板表面に均一に、一様に塗布できる。液体媒体は溶媒（例えばアルコール
）、有機オイル（例えば、１つ以上のテルペン類）、ポリマー前駆体（例えば、インクが
ＵＶ照射により硬化されることが意図されている場合、アクリレート前駆体）、及び／ま
たは粘度調整添加剤（例えば、１つ以上のグリコール、例えば、ブチルグリコール）を含
み得る。液体媒体は、任意の乾燥、任意の前焼成または加熱処理プロセスにおいて蒸発ま
たは他の方法で除去されるようなものであるべきである。ビヒクルまたは担体は、セラミ
ックインク組成物内に約１０重量％～４０重量％、好ましくは約１５重量％～３５重量％
、より好ましくは約２０重量％～３０重量％、の量で含まれる。
１つ以上の実施形態では、ビヒクルは２，２，４－トリメチルペンタンジオールモノイ
ソブチレート、アルファ－テルピネオール、ベータ－テルピネオール、ガンマテルピネオ
ール、トリデシルアルコール、ジエチレングリコールエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールブチルエーテル、松根油、植物油、鉱油、低分子量石油フラクション、トリデシルア
ルコール、合成または天然樹脂（例えば、セルロース樹脂またはアクリル樹脂）、ＰＭ（
プロピレングリコールモノメチルエーテル）、ＤＰＭ（ジプロプレングリコールモノメチ
ルエーテル）、ＴＰＭ（トリプロピレングリコールモノメチルエーテル）、ＰｎＢ（プロ
ピレングリコールモノｎ－ブチルエーテル）、ＤＰｎＢ（ジプロプレングリコールモノブ
チルエーテル）、ＴＰＮＢ（トリプロピレングリコールモノｎ－ブチルエーテル）、Ｐｎ
Ｐ（プロピレングリコールモノプロピルエーテル）、ＤＰｎＰ（ジプロピレングリコール
モノプロピルエーテル）、ＴＰＮＢ－Ｈ（プロピレングリコールブチルエーテル）、ＰＭ
Ａ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）、Ｄｏｗａｎｏｌ ＤＢ（ジ
エチレングリコールモノブチルエーテル、（Ｄｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ
、ＵＳＡ）より入手可能）または他のエチレンまたはプロピレングリコールエーテルのよ
うな有機溶媒を含む。いくつかの実施形態では、ビヒクルは２つ以上の異なる有機溶媒の
混合物であり得る。
さらに、セラミックインク組成物は、セラミックインク組成物及び／または，その焼成
から得られるエナメル膜の特性を調整するため湿潤剤、分散剤、均染剤（ｌｅｖｅｌｌｉ
ｎｇ ａｇｅｎｔｓ）、レオロジー修飾剤等を含み得る。
したがって、第５の態様では、本発明はグレージングを製造する方法を提供する。この
方法は、ガラス基板を提供することと、２０重量％～８０重量％のフリット、１０重量％
～５０重量％の無機顔料、及び１０重量％～４０重量％の液体媒体を含むエナメルインク
を提供することと、ガラス基板の表面の少なくとも第１の部分にエナメルインクを塗布す
ることと、任意にエナメルインクを乾燥及び／または硬化することと、任意に、約４８０
℃より高い温度にエナメルインクを前焼成することと、５７０℃より高い温度に加熱し、
それによりエナメルインクを焼成し、ガラス基板の表面の少なくとも第１部分に接着した
エナメルの層を作ることと、ここでエナメルの層の厚みは２μｍ～５０μｍの範囲にあり
、を含み、無機顔料が、ガラス基板の表面の第１の部分の赤外反射率が８００ｎｍ～２２
５０ｎｍの波長範囲内のある領域全体で、３７％以上であるような赤外反射率を有するこ
とを特徴とする。
先に述べたように、液体媒体は好ましくは溶媒、有機オイル、重合性前駆体及び／また
は粘度調整添加剤を含む。
通常、エナメルインクを塗布する方法はガラス基板の表面の少なくとも第１の部分に、
好ましくはガラス基板の表面の周辺部分に、インクを印刷することによる。好ましくは、
エナメルインクはスクリーン印刷により塗布される。
本明細書で論じたように、グレージングは積層されたグレージングであり得る。したが
って、第６の態様では、本発明は成型された積層グレージングを製造する方法を提供する
。この方法は第１のガラス基板及び第２の基板を提供することと、２０～８０重量％のフ
リット、１０～５０重量％の無機顔料及び１０～４０重量％の液体媒体を含むエナメルイ
ンクを提供することと、エナメルインクを第１のガラス基板の表面の少なくとも第１の部
分に塗布することと、任意にインクを乾燥及び／または硬化することと、任意にインクを
４８０℃より高い温度に前焼成すること、５７０℃を超える温度に加熱することにより少
なくとも第１のガラス基板を成型し、それによりエナメルインクを焼成し、第１のガラス
基板の表面の少なくとも第１の部分に接着されたエナメルの層であって、その厚みが２μ
ｍ～５０μｍの範囲にある、エナメルの層を作ることと、第１のガラス基板と第２のガラ
ス基板との間の中間層であるポリマープライを置くことと、第１のガラス基板、ポリマー
プライ、及び第２のガラス基板を共に積層することと、を含み、エナメルが第１のガラス
基板の表面の第１の部分の赤外反射率が、８００ｎｍ～２２５０ｎｍの波長範囲内のある
領域全体で３７％以上であるように調整されていることを特徴とする。
掩蔽バンドは、必要があれば、もちろん積層体のいずれかの表面に塗布され得る。
本発明が、以降単に例として、添付の図面を参照して説明される。
本発明による積層されたフロントグラスの概略の平面図である。 図１（ａ）のフロントガラスの直線Ａ－Ａに沿った概略の断面図である。 実施例１、実施例２、比較例Ａ及び比較例Ｂによるエナメルを使用した多くのエナメル化された基板について波長の関数としてＩＲ反射率を示すグラフである。 実施例１と比較例Ｃによるエナメルを使用してエナメル化されたガラス基板について、焼成／成型プロセスの焼成及び焼きなまし温度ゾーンにおける、時間の関数として温度（Ｔ）とΔＴを示すグラフである。
図１は、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）のポリマー中間層２０により共に積層されて
いる外部表面２６を備える外部ガラスプライ１８（表面１、乗物に取り付けられたときの
外部表面）と内部表面２４を備える内部ガラスプライ２２（表面４、乗物に取り付けられ
たときの内側）含む本発明による積層グレージング１０を示す。積層されたグレージング
は自動車用のフロントガラスである。積層されたグレージング１０の周縁で、内部ガラス
プライ２２上で、内部表面２４にエナメル掩蔽バンド１２が印刷される。掩蔽バンドは表
面にエナメルインクをスクリーン印刷し、インクを硬化／乾燥し、そしてそれを焼成し、
それによって内部表面２４にエナメルを作ることにより形成されたエナメルの層を含む。
エナメル（下記、実施例１または実施例２におけるような組成を有する）はフリットと、
鉄及びクロムを含む少なくとも１つの無機顔料とを含む。透明なガラスと掩蔽バンド１２
の間の境界１６では、「バーンライン」光学的歪みに影響を受け易い領域がある。本発明
によるグレージングでは、バーンライン光学的歪みは使用されたエナメルにより大きく減
少または防がれる。図１（ａ）に示されている点１、２、３、４、及び５において、本発
明によるグレージングと比較例における光学的歪み（下記実施例参照）は決定され得る。
図１に示された積層グレージングは一般的に以下のようにして作られ得る。平坦なガラ
ス基板（例えば、２．１ｍｍの厚みのソーダ石灰フロートガラス）は、シルク－スクリー
ンとドクターブレードによりエナメルインク（例えば実施例１または実施例２のような組
成をもつ、下記参照）でスクリーン印刷を受け（例えば、５０～１２０スレッド／ｃｍの
ポリエステルスクリーン、例えば７７または１００スレッド／ｃｍのポリエステルスクリ
ーンを有しても良いスクリーンを使い）スクリーン印刷された周縁を形成する、これは３
００℃より低温で赤外ヒーターからの赤外照射をこの基板に受けさせることにより任意に
乾燥される。２枚のガラス基板（１枚は印刷されていない）は、次に重ねられ、重ねられ
た基板は曲げ加工を受ける。この工程では、熱源が与えられ、通常、８分間より長く５７
０℃まで加熱され、１分間この温度で保持され、そしていずれかの標準曲げ鋳型または、
型枠の中でプレスにより、またはサグベンディングにより曲げを行うことができる。基板
は分離され、次に、冷却後、ＰＶＢ中間層（約０．７６ｍｍの厚み）を使って共に積層さ
れる。
グレージングは、例えば、最初に、ニップローラを含む方法、またはＰＶＢ層を脱気す
るため、第１及び第２のガラスのプライの端部に適用された真空リングを使う方法により
積層され得る。第１及び第２のガラスプライならびにＰＶＢ層は６バール～１４バールの
圧力範囲及び１１０℃～１５０℃の温度範囲で、オートクレーブ中で共に積層される。
図２では、Ｐｅｒｋｉｎ Ｅｌｍｅｒ Ｌａｍｂｄａ ９５０分光器により決定された
、波長の関数としての反射率のグラフが４ｍｍフロートガラス上の焼成エナメル（５７０
℃で）の試料について示されている。グラフは、７７スレッド／ｃｍのポリエステルスク
リーン（曲線３０）または１００スレッド／ｃｍのポリエステルスクリーン（曲線３４）
を使って塗布された実施例１で使用されたエナメル、７７スレッド／ｃｍのポリエステル
スクリーン（曲線３５）または１００スレッド／ｃｍのポリエステルスクリーン（曲線３
６）を使う実施例２におけるエナメル及び、比較例Ｂ（曲線３８）または比較例Ａ（曲線
４０）で使用されたエナメルに関し特性の違いを示す。
本発明のエナメルは、８００ｎｍ～２２５０ｎｍの範囲上の４００ｎｍより大きい領域
で２７％より高い反射率を示し、かつバーンライン光学的歪みの減少に関し優れているこ
とをはっきり示した。使用したエナメルは、概して、以下の表１及び表２に示された組成
からなっていた（実施例１、実施例２及び比較例Ａ、Ｂ）。
図３では、実施例１（表１に示されたようなエナメルインク組成物）及び比較例Ｃで使
用されたエナメルを使ったエナメル化されたガラス基板に関して時間の関数としての温度
及びΔＴは、プロセス全体を通じた温度の大きな違いを示している。表５及び６に示され
ているように、実施例１のエナメルは大きく減少したバーンラインの歪みを示している。
縛られることは望まないが、実施例１によるエナメルの赤外反射率と温度特性は、透明な
エナメルのないガラスに近いので、エナメル化された領域とエナメル化されていない領域
の間の温度の違いは、粘度の違いと同様に減少し、そのため、ガラスの流動性の差及び光
学的歪みも減少すると考えられる。ガラス曲げ加工温度におけるエナメル化された領域と
エナメルのない領域の挙動はより一様になり、そのため、光学的歪みは起こりにくい。
本発明はさらに以下の実施例により説明されるが、それにより限定されることはない。
エナメル
エナメルの膜は、本開示による赤外反射性無機顔料、または赤外吸収性の従来の無機顔
料のいずれかを含むスクリーン印刷セラミックインク組成物により作られた。表３は実施
例１及び２ならびに比較例Ａに使用されるフリットの詳細を提供する。
Figure 2022050498000004
実施例の各インク調合物は５９．７重量％（±５重量％）のフリット、２３．３重量％
（±３重量％）の含量、及び１７重量％（±２重量％）ビヒクルを含んでいた。実施例１
では、使用された顔料は酸化クロム鉄顔料ブラウン２９（ＣＩ７７５００、ＣＡＳ１２７
３７－２７－８）であった。実施例２では、使用された顔料はクロムグリーンブラックヘ
マタイト（ＣＩ７７２８８、ＣＡＳ６８９０９－７９－５）であった。
実施例１及び２によるエナメルは、両方とも本発明の開示に従う、フリット及び赤外反
射性無機顔料を含むセラミックインク組成物を印刷するため、１００または７７スレッド
／ｃｍのスクリーンを使ってスクリーン印刷された。２０～２５ミクロンの厚みの膜（前
焼成）が１００スレッド／ｃｍスクリーン印刷により得られ、２６～３０ミクロンの厚み
の膜（前焼成）が７７スレッド／ｃｍスクリーン印刷より得られた。
比較例Ａでは、使用された従来の無機顔料は市販される標準ブラック顔料であった。
上記のように、実施例１及び実施例２ならびに比較例Ａ使用されたフリットに組成的に
類似のフリット。同一のビヒクルが使用され、それはグリコール、グリコールエーテル及
びセルロース樹脂を含んでいた。したがって、実施例１及び２ならびに比較例Ａの間で変
わった唯一の可変要素は実施例１及び２の赤外反射性無機顔料の使用対、比較例Ａでの赤
外吸収性顔料の使用であった。
実施例１は１１．２μｍの厚みのエナメル層を有し（焼成後のＳＥＭによる）、実施例
２は１２．６μｍの厚みのエナメル層を有し（焼成後のＳＥＭによる）、また比較例Ｂは
１３．６μｍの厚みのエナメル層を有した（焼成後のＳＥＭによる）。
実施例１、実施例２、及び比較例Ｂによるエナメルに関し、印刷焼成されたサンプルにつ
いて、Ｂｕｒｋｅｒ Ｄ８ ＤｉｓｃｏｖｅｒＸ線回折計を使用してＸ線回折（ＸＲＤ）
が行われた。Ｂｕｒｋｅｒ Ｄ８ ＤｉｓｃｏｖｅｒＸ線回折計は、それぞれ波長０．１
５４０５６及び０．１５４４３９ｎｍの単色ＣｕＫα１及びＣｕＫα２放射を使用し、４
０ｋＶの電圧及び４０ｍＡの電流により強度比２：１で放射した。
Ｘ線回折は実施例１及び実施例２による（結晶性物質のみの）エナメルは、コランダム
型構造（斜方面体晶系）のＣｒＦｅＯ３（酸化クロム鉄）を含むことを示す。比較例Ｂに
よるエナメルはＦｅＭｎＮｉＯ４（酸化マンガン鉄ニッケル）（立方体）を含む。
バーンライン実施例１及び比較例Ｂ
比較例Ｂ及びＣによるエナメルの組成は、下記表４に示されているとおりである。分析
は、誘導結合プラズマスペクトル分析（ＩＣＰ）（酸化ホウ素と酸化リチウムに関し）と
Ｘ線蛍光分析（ＸＲＦ）（ＣＥＲＡＭ、方法Ｃ２０１、Ｃ１５、及びＢＳ ＥＮ ＩＳＯ
１２６７７使用）による、半定量的なものであった。分析する前に、インクの試料は１１
０℃で乾燥され、４００℃より高い温度で焼成されて、液体媒体の成分（有機成分を含む
）を除いた。
Figure 2022050498000005
図１に関して、概略的に論じたように、実施例１及び比較例Ｂによるエナメルは表面４
にスクリーン印刷され、積層フロントガラス上に掩蔽バンドを作る。
フロントガラスが積層され、底部のバーンラインの箇所１～５（図１（ａ）で示されて
いる点を指す）における光学的歪みが１２ｍｍ離れた平行な黒線をもつ印刷された白いシ
ートを使ってゼブラ試験をして決定された。歪みは、白板を背景に歪んだ黒線を見、フロ
ントガラス全体にわたる５点で最大幅と最小幅を測定することにより決定された。変化率
（最大幅－最小幅）≦４ｍｍで最小幅＞８．５ｍｍならば試験は合格とみなされる。傾斜
角は６０°であった。
比較例Ｂに対する２個の繰り返し比較試料の光学的歪みの結果は、下記表５に与えられ
ている。実施例１に関する２個の繰り返し試料の結果は、下記表６に与えられている。本
発明によるＩＲ反射性エナメルの使用はバーンライン光学的歪みを著しく減少させる。表
５と６では、Ａは最大歪みを示し、Ｂは最小歪みを示し、Ｃは変化率を示し、Ｄはバンド
からの距離を示す。
本発明での使用に適したエナメルは、Ｄｕｋｅ Ｓｔｒｅｅｔ，Ｆｅｎｔｏｎ，Ｓｔｏ
ｋｅ－ｏｎ－Ｔｒｅｎｔ，Ｓｔａｆｆｏｒｄｓｈｉｒｅ，Ｕｎｉｔｅｄ Ｋｉｎｇｄｏｍ
，ＳＴ４ ３ＮＲのＰｒｉｎｃｅ Ｍｉｎｅｒａｌｓ Ｌｉｍｉｔｅｄから、また、Ｐｒ
ｉｎｃｅ Ｍｉｎｅｒａｌｓ ＬＬＣ，Ｐ．Ｏ．Ｂｏｘ ２５１，Ｑｕｉｎｃｙ，Ｉｌｌ
ｉｎｏｉｓ ６２３０６，ＵＳＡ及び１５３１１ Ｖａｎｔａｇｅ Ｐａｒｋｗａｙ Ｗ
ｅｓｔ，Ｓｕｉｔｅ ３５０，Ｈｏｕｓｔｏｎ，Ｔｅｘａｓ ７７０３２，ＵＳＡから入
手できる。
Figure 2022050498000006
Figure 2022050498000007

Claims (15)

  1. ガラス基板の表面の少なくとも第１の部分に接着したエナメルの層を有する前記ガラス
    基板を含むグレージングであって、前記エナメルは２０～８０重量％のフリットと、１０
    ～５０重量％の無機顔料とを含み、前記エナメルの層の厚みは２μｍ～５０μｍの範囲に
    あり、前記無機顔料が、前記ガラス基板の表面の前記第１の部分の赤外反射率が８００ｎ
    ｍ～２２５０ｎｍの波長範囲内のある領域全体で３７％以上であるような、前記赤外反射
    率を有することを特徴とする、グレージング。
  2. 前記グレージングの前記第１の部分の前記赤外反射率は、８００ｎｍ～２２５０ｎｍの
    波長範囲内のある領域全体で３８％以上、好ましくは３９％以上、より好ましくは４０％
    以上、最も好ましくは４１％以上である、請求項１に記載のグレージング。
  3. 前記８００ｎｍ～２２５０ｎｍの波長範囲内のある前記領域は４００ｎｍ以上、好まし
    くは４５０ｎｍ以上、より好ましくは５５０ｎｍ以上、最も好ましくは６１０ｎｍ以上延
    びている、請求項１または２のいずれかに記載のグレージング。
  4. 前記エナメルは１０重量％～４０重量％、好ましくは１５重量％～３５重量％の無機顔
    料を含む、請求項１～３のいずれか１項に記載のグレージング。
  5. 前記エナメルが３０重量％～８０重量％、好ましくは３５重量％～７５重量％のフリッ
    トを含む、請求項１～４のいずれか１項に記載のグレージング。
  6. 前記無機顔料が実質的にスピネル結晶構造、逆スピネル結晶構造、ヘマタイト結晶構造
    、コランダム結晶構造、またはルチル結晶構造を示す物質を含む、請求項１～５項のいず
    れか１項に記載のグレージング。
  7. 前記無機顔料は、Ｆｅ／Ｃｒ顔料、Ｃｏ／Ａｌ顔料、Ｃｏ／Ａｌ／Ｃｒ顔料、Ｃｏ／Ｔ
    ｉ顔料、Ｃｏ／Ｃｒ顔料、Ｎｉ／Ｆｅ／Ｃｒ顔料、Ｔｉ／Ｃｒ／Ｓｂ顔料、Ｆｅ顔料、Ｃ
    ｒ顔料、クロム鉄顔料、フェライト顔料、クロマイト顔料、フェライト／クロマイト顔料
    （鉄クロマイトとしても知られている）、及び／またはこれらの顔料のうちの２つ以上の
    混合物から選択される顔料を含む、請求項１～６のいずれか１項に記載のグレージング。
  8. 前記無機顔料が、ピグメントブルー２８（ＣＩ７７３４６）、ピグメントブルー２９（
    ＣＩ７７００７）、ピグメントグリーン５０（ＣＩ７７３７７）、ピグメントブラック３
    ０（ＮｉＣｒＭｎタイプ、ＣＩ７７５０４）、ピグメントブラック３３（ＣＩ７７５３７
    ）、ピグメントブルー３６（ＣＩ７７３４３）、ピグメントグリーン１７（ＦｅＣｒタイ
    プ、ＣＩ７７２８８）、ピグメントブラウン３５（ＦｅＣｒタイプ、ＣＩ７７５０１）、
    ピグメントブラウン２４（ＣＩ７７３１０）、ピグメントブラウン２９（ＦｅＣｒタイプ
    、ＣＩ７７５００）、ピグメントイエロー１６４（ＣＩ７７８９９）、ピグメントブラウ
    ン３３（ＺｎＦｅＣｒタイプ、ＣＩ７７５０３）のうちの１つ以上から選択される、請求
    項１～７のいずれか１項に記載のグレージング。
  9. 前記エナメルが、前記エナメルの総重量の５重量％以上の量で、好ましくは、前記エナ
    メルの総重量の１０重量％以上の量で、より好ましくは前記エナメルの総重量の１５重量
    ％以上の量で、最も好ましくは前記エナメルの総重量の２０重量％以上の量で鉄（Ｆｅ２
    Ｏ３として決定される）を含む、請求項１～８のいずれか１項に記載のグレージング。
  10. 前記エナメルが、前記エナメルの総重量の５重量％以上の量で、好ましくは前記エナメ
    ルの総重量の１０重量％以上の量で、より好ましくは前記エナメルの総重量の１５重量％
    以上の量で、最も好ましくは前記エナメルの総重量の２０重量％以上の量でクロム（Ｃｒ
    ２Ｏ３として決定される）を含む、請求項１～９のいずれか１項に記載のグレージング。
  11. 前記エナメルが、前記エナメルの総重量の２５重量％以下の量でクロム（Ｃｒ２Ｏ３と
    して決定される）を含む、請求項１～１０のいずれか１項に記載のグレージング。
  12. 前記ガラス基板に接着した前記エナメル層の厚みが４μｍ～４５μｍ、好ましくは、６
    μｍ～４０μｍ、より好ましくは８μｍ～３５μｍ、最も好ましくは１０μｍ～３０μｍ
    の範囲にある、請求項１～１１のいずれか１項に記載のグレージング。
  13. 前記ガラス基板として機能する第１のガラスプライであって、前記ガラスプライの表面
    の少なくとも第１の部分に接着した前記エナメルの層を有する、第１のガラスプライと、
    第２のガラスプライと、前記第１のガラスプライと前記第２のガラスプライとの間に延び
    る中間層であるポリマープライとを含む、請求項１～１２のいずれか１項に記載の積層さ
    れたグレージング。
  14. グレージングを製造する方法であって、前記方法は、
    ガラス基板を提供することと、
    ２０～８０重量％のフリット、１０～５０重量％の無機顔料、及び１０～４０重量％の
    液体媒体を含むエナメルインクを提供することと、
    前記エナメルインクを前記ガラス基板の表面の少なくとも第１の部分に塗布することと
    、
    任意に前記インクを乾燥及び／または硬化することと、任意に４８０℃より高い温度に
    前記インクを前焼成することと、
    ５７０℃を超える温度に加熱することにより前記ガラス基板を成型し、それにより前記
    エナメルインクを焼成して、前記ガラス基板の前記表面の前記少なくとも第１の部分に接
    着したエナメルの層を製造することと、を含み、前記エナメルの層の厚みは２μｍ～５０
    μｍの範囲にあり、
    前記無機顔料が、前記ガラス基板の前記表面の前記第１の部分の赤外反射率が８００ｎ
    ｍ～２２５０ｎｍの波長範囲にある領域全体で３７％以上であるような、前記赤外反射率
    を有することを特徴とする、方法。
  15. 成型された積層グレージングを製造する方法であって、前記方法は、
    第１のガラス基板及び第２のガラス基板を提供することと、
    ２０～８０重量％のフリット、１０～５０重量％の無機顔料、及び１０～４０重量％の
    液体媒体を含むエナメルインクを提供することと、
    前記第１のガラス基板の表面の少なくとも第１の部分へ前記エナメルインクを塗布する
    ことと、
    任意に前記インクを乾燥及び／または硬化することと、任意に４８０℃より高い温度に
    前記インクを前焼成することと、
    ５７０℃を超える温度に加熱することにより少なくとも前記第１のガラス基板を成型し
    、それにより前記エナメルインクを焼成して、前記第１のガラス基板の前記表面の前記少
    なくとも第１の部分に接着したエナメルの層であって、その厚みが２μｍ～５０μｍの範
    囲にある、エナメルの層を製造することと、第１のガラス基板と第２のガラス基板との間
    に中間層であるポリマープライを置くことと、
    前記第１のガラス基板、前記ポリマープライ、及び第２のガラス基板を合わせて積層す
    ることと、を含み、前記エナメルが、前記第１のガラス基板の前記表面の前記第１の部分
    の赤外光反射率が、８００ｎｍ～２２５０ｎｍの波長範囲のある領域全体で３７％以上で
    あるように適合されていることを特徴とする、方法。
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