JP2022043561A - ロボット、基板ウェット処理ロボットシステム、及び液体回収方法 - Google Patents
ロボット、基板ウェット処理ロボットシステム、及び液体回収方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2022043561A JP2022043561A JP2020148891A JP2020148891A JP2022043561A JP 2022043561 A JP2022043561 A JP 2022043561A JP 2020148891 A JP2020148891 A JP 2020148891A JP 2020148891 A JP2020148891 A JP 2020148891A JP 2022043561 A JP2022043561 A JP 2022043561A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- robot
- substrate
- hand
- unit
- posture
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 81
- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims abstract description 22
- 238000011084 recovery Methods 0.000 title claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 131
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 31
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 4
- 230000036544 posture Effects 0.000 description 32
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 17
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 15
- 210000000707 wrist Anatomy 0.000 description 10
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 6
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000011265 semifinished product Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B25—HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
- B25J—MANIPULATORS; CHAMBERS PROVIDED WITH MANIPULATION DEVICES
- B25J9/00—Programme-controlled manipulators
- B25J9/06—Programme-controlled manipulators characterised by multi-articulated arms
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
- H01L21/304—Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Robotics (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Manipulator (AREA)
Abstract
【課題】基板のウェット処理において、ハンド部に保持されている基板を3次元的に傾斜できるロボットを提供する。
【解決手段】基板を搬送するためのロボットは、アーム部と、ハンド部と、姿勢変更機構と、ロボット制御部と、を備える。前記ハンド部は、前記アーム部に設けられ、前記基板を保持して搬送する。前記姿勢変更機構は、前記ハンド部の姿勢を任意の方向に傾けることが可能である。前記ロボット制御部は、前記ハンド部の姿勢を制御する。前記ロボット制御部は、液体が付着した基板を前記ハンド部で保持した状態で、前記ハンド部の幅方向とは異なる方向に前記液体を自重で移動させるために、前記ハンド部の姿勢を傾斜させる傾斜制御を行う。
【選択図】図3
【解決手段】基板を搬送するためのロボットは、アーム部と、ハンド部と、姿勢変更機構と、ロボット制御部と、を備える。前記ハンド部は、前記アーム部に設けられ、前記基板を保持して搬送する。前記姿勢変更機構は、前記ハンド部の姿勢を任意の方向に傾けることが可能である。前記ロボット制御部は、前記ハンド部の姿勢を制御する。前記ロボット制御部は、液体が付着した基板を前記ハンド部で保持した状態で、前記ハンド部の幅方向とは異なる方向に前記液体を自重で移動させるために、前記ハンド部の姿勢を傾斜させる傾斜制御を行う。
【選択図】図3
Description
本発明は、主として、半導体ウェハやプリント基板等の基板を搬送するためのロボットに関する。詳細には、基板のウェット処理におけるロボットの姿勢制御に関する。
従来から、基板の保管装置、基板処理装置等から基板を取り出して搬送する基板搬送用のロボットが知られている。特許文献1は、この種のロボットであるウェハ搬送装置を開示する。
特許文献1のウェハ搬送装置は、ハンドの姿勢を検出する姿勢検知部と、アクチュエータと、を備える。このウェハ搬送装置は、姿勢検知部で検出されるハンドの姿勢情報に基づいてアクチュエータの伸縮度を制御することで、ハンドの姿勢を調整する構成となっている。
ところで、基板の種類等によっては、当該基板の表面に、液体を用いたウェット処理を行うことがある。このウェット処理において、他の機械を介せずに、上記特許文献1等のようなロボットにより、基板上の余分な液体を当該基板から取り除く要望があった。
本発明は以上の事情に鑑みてされたものであり、その目的は、ロボットを用いて、基板に付着している液体を円滑に除去することにある。
本発明の解決しようとする課題は以上の如くであり、次にこの課題を解決するための手段とその効果を説明する。
本発明の第1の観点によれば、以下の構成のロボットが提供される。即ち、基板を搬送するためのロボットは、アーム部と、ハンド部と、姿勢変更機構と、ロボット制御部と、を備える。前記ハンド部は、前記アーム部に設けられ、前記基板を保持して搬送する。前記姿勢変更機構は、前記ハンド部の姿勢を任意の方向に傾けることが可能である。前記ロボット制御部は、前記ハンド部の姿勢を制御する。前記ロボット制御部は、液体が付着した基板を前記ハンド部で保持した状態で、前記ハンド部の幅方向とは異なる方向に前記液体を自重で移動させるために、前記ハンド部の姿勢を傾斜させる傾斜制御を行う。
本発明の第2の観点によれば、以下の液体回収方法が提供される。即ち、この液体回収方法は、アーム部と、ハンド部と、姿勢変更機構と、ロボット制御部と、を備えるロボットを用いる。前記ハンド部は、前記アーム部に設けられ、基板を保持する。前記姿勢変更機構は、前記ハンド部の姿勢を任意の方向に傾けることが可能である。この液体回収方法は、基板傾斜工程を含む。前記基板傾斜工程では、前記ロボット制御部が、液体が付着した基板を前記ハンド部で保持した状態で、前記ハンド部の幅方向とは異なる方向に前記液体を自重で移動させるために、当該基板を保持する前記ハンド部の姿勢を傾斜させる。
これにより、基板の液切りのための装置を別途に設ける必要がなく、基板を搬送するロボットを用いて液体を端部へ寄せて除去することが可能になるので、コストの低減を実現できる。ハンド部の幅方向とは異なる方向に液体を自重で移動させるので、液体が基板から離脱する場所の自由度を高めることができる。また、液切りした基板をロボットにより基板保管装置等へそのまま搬送することができるので、基板に対する処理工数及び処理時間を低減できる。更に、装置の間での基板の受渡し回数を減らすことができるので、受渡しミス等による基板損傷のリスクを減らすことができる。
本発明によれば、ロボットを用いて、基板に付着している液体を円滑に除去することができる。
次に、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。図1は、本発明の一実施形態に係るロボット100の全体的な構成を示す斜視図である。
図1に示すロボット100は、例えば、半導体ウェハ、プリント基板等の基板Wの製造工場、倉庫等に設置される。ロボット100は、図略の基板処理装置と基板保管装置との間で基板Wを搬送するために用いられる。ただし、ロボット100は、例えば、基板Wを処理する複数の基板処理装置の間で基板Wを搬送するために用いられても良い。基板Wは、基板の原料、加工中の半完成品、加工済の完成品のうち何れであっても良い。基板Wの形状は、本実施形態では円板状であるが、これに限定されない。
このロボット100は、主として、基台1と、ロボットアーム(アーム部)2と、ロボットハンド(ハンド部)3と、チルト機構(姿勢変更機構)4と、ロボット制御部9と、を備える。
基台1は、工場の床面等に固定される。しかし、これに限定されず、基台1は、例えば、前述の基板処理装置を備える基板処理設備のケーシングに固定されても良い。また、基台1は、基板処理装置(又は設備)と基板保管装置の間で走行する図略の走行台車等に固定されても良い。
ロボットアーム2は、図1に示すように、上下方向に移動可能な昇降軸11を介して基台1に取り付けられている。ロボットアーム2は、昇降軸11に対して回転可能である。
ロボットアーム2は、水平多関節型のロボットアームから構成される。ロボットアーム2は、第1アーム21と、第2アーム22と、を備える。
第1アーム21は、水平な直線状に延びる細長い部材として構成される。第1アーム21の長手方向の一端が、昇降軸11の上端部に取り付けられている。第1アーム21は、昇降軸11の軸線(鉛直軸)を中心として回転可能に支持されている。第1アーム21の長手方向の他端には、第2アーム22が取り付けられている。
第2アーム22は、水平な直線状に延びる細長い部材として構成される。第2アーム22の長手方向の一端が、第1アーム21の先端に取り付けられている。第2アーム22は、昇降軸11と平行な軸線(鉛直軸)を中心として回転可能に支持されている。第2アーム22の長手方向の他端には、ロボットハンド3が取り付けられている。
昇降軸11、第1アーム21及び第2アーム22のそれぞれは、図示しない適宜のアクチュエータにより駆動される。このアクチュエータは、例えば電動モータとすることができる。
昇降軸11と第1アーム21との間、第1アーム21と第2アーム22との間、及び第2アーム22とロボットハンド3との間に位置するアーム関節部には、第1アーム21、第2アーム22、及びロボットハンド3のそれぞれの回転位置を検出する図略のエンコーダが取り付けられている。また、ロボット100の適宜の位置には、高さ方向における第1アーム21の位置変化(即ち昇降軸11の昇降量)を検出するエンコーダも設けられている。
ロボット制御部9は、各エンコーダにより検出された第1アーム21、第2アーム22、又はロボットハンド3の回転位置又は高さ位置を含む位置情報に基づいて、昇降軸11、第1アーム21、第2アーム22、及びロボットハンド3のそれぞれを駆動する電動モータの動作を制御する。なお、以下の説明においては、エンコーダにより検出された「位置情報」という場合、ロボット100の姿勢を表す、それぞれのエンコーダにより検出された位置情報の組合せを意味する。
ロボットハンド3は、図1に示すように、手首部31と、ハンド本体部32と、を備える。
手首部31は、チルト機構4を介して、第2アーム22の先端に取り付けられている。手首部31は、昇降軸11と平行な軸線(鉛直軸)を中心として回転可能に支持されている。ただし、チルト機構4によって、手首部31の回転軸を、昇降軸11と平行な直線に対して傾けることができる。チルト機構4の詳細な構成は後述する。手首部31は、図示しない適宜のアクチュエータにより回転駆動される。このアクチュエータは、例えば電動モータとすることができる。手首部31には、ハンド本体部32が連結されている。手首部31及びハンド本体部32は一体的に形成されても良い。
ハンド本体部32は、基板Wを保持するために作用する部分である。ハンド本体部32は、Y字状(又はU字状)に形成された板状の部材から構成される。ハンド本体部32は、手首部31に連結される側と反対側(言い換えれば、先端側)が2股に分かれた形状となっている。以下の説明においては、分岐されたそれぞれの部分を第1指部32a及び第2指部32bと称することがある。第1指部32a及び第2指部32bは、互いに対称となるように形成されている。
本実施形態のハンド本体部32の先端側及び基端側のそれぞれに、基板Wを保持するためのガイド部33が複数設けられている。それぞれのガイド部33は、例えばゴム等から構成される。ガイド部33は、板状のハンド本体部32から上側に突出するように設けられている。ガイド部33は、例えば、図1に示すように、第1指部32a及び第2指部32bのそれぞれに1つずつ設けられ、ハンド本体部32の基端側に2つ設けられる。
図1に示すように、ガイド部33は、ロボットハンド3に載置された基板Wの周縁近傍における下面に接触して、基板Wを保持する。ガイド部33は、基板Wの縁に径方向外側から接触することで、ロボットハンド3に載せられた基板Wが水平方向にズレないように規制することができる。
ロボットハンド3が基板Wを保持する構成は、上述の構成に限定されない。ロボットハンド3は、例えば、基板Wの上面又は下面を負圧で吸着する構造等によって基板Wを保持しても良い。例えば公知のベルヌーイチャックをロボットハンド3に備えることで、非接触式で基板Wを保持しても良い。
チルト機構4は、第2アーム22の先端側(第1アーム21に連結される側と反対側)に取り付けられている。
チルト機構4は、図2に示すように、下板部41と、上板部42と、を備える。下板部41は、第2アーム22の上面に固定されている。上板部42には、ロボットハンド3の手首部31が回転可能に支持されている。下板部41と上板部42の間には、高さ調整機構5が配置されている。チルト機構4は、この高さ調整機構5を用いて、上板部42の下板部41に対する傾斜角度及び傾斜方向を調整する。
この高さ調整機構5は、例えば、図2に示すように、下板部41及び上板部42の間の異なる位置に設けられた3つの支持部51,52,53を備える。支持部51,52,53は、説明の便宜上、図2(b)においては直線的に並べて描かれているが、実際は図2(a)に示すように、平面視で3角形をなすように配置されている。
3つのうち2つの支持部51,52は、オネジ56と、メネジ57と、球面軸受58と、を備える。オネジ56のネジ軸は、下板部41に、軸線を上下方向に向けて回転可能に支持されている。このネジ軸は、図略のアクチュエータ(例えば、電動モータ)によって、2つの支持部51,52で独立して回転させることができる。メネジ57はオネジ56のネジ軸にネジ結合されている。ネジ軸を回転させると、メネジ57が上下方向に移動する。このネジ送りにより、支持部51,52が上板部42を支持する高さを変更することができる。メネジ57と上板部42との間には、球面軸受58が配置されている。
残りの支持部53には、球面軸受58が配置されている。この支持部53は、ネジ送りによる支持高さ変更機能を有していない。
電動モータを駆動し、下板部41に対する上板部42の高さを複数の支持部51,52で独立して変更することで、上板部42の下板部41に対する傾斜角度及び傾斜方向を変更することができる。この結果、ロボットハンド3の第2アーム22に対する姿勢(傾斜角度及び傾斜方向)を調整することができる。なお、高さ調整機構5(ひいてはチルト機構4)はこの構成に限定されない。
ロボット制御部9は、ロボットハンド3の姿勢に対応するエンコーダの検出結果をロボットハンド3の姿勢情報として記憶する。これにより、ロボット制御部9は、ロボットハンド3の姿勢を検出するエンコーダの検出結果が、記憶している姿勢情報と一致となるように、ロボット100の各部(昇降軸11、第1アーム21、第2アーム22、ロボットハンド3等)を駆動する電動モータを制御することで、ロボットハンド3の姿勢を再現することができる。
ロボット制御部9は、図1に示すように、基台1とは別途に設けられている。ただし、ロボット制御部9は、基台1の内部に配置されても良い。ロボット制御部9は、公知のコンピュータとして構成されており、マイクロコントローラ、CPU、MPU、PLC、DSP、ASIC又はFPGA等の演算処理部と、ROM、RAM、HDD等の記憶部と、外部装置と通信可能な通信部と、を備える。記憶部には、演算処理部が実行するプログラム等が記憶されている。通信部は、各種センサ(例えば、エンコーダ等)の検出結果を外部装置へ送信可能に、また、外部装置からの情報を受信可能に構成されている。
続いて、本実施形態のロボット100による基板Wのウェット処理について、図3等を参照して詳細に説明する。なお、以下においては、基板Wの製造工程の間に、基板Wの酸化を防止するためのウェット処理を行う例で説明する。なお、後述の廃液回収部7及びロボット100等は、本発明の基板ウェット処理ロボットシステムを構成する。
このウェット処理は、例えば、ある工程で処理された基板が次の工程で処理されるまで空気中に保管するとき、基板Wの表面の酸化を防止するために行われる。このウェット処理においては、例えば、表面が洗浄された後の基板Wを、例えば、酸素(O)成分が含まない溶液に浸漬することで、基板Wの表面に保護膜を形成する。
上記のウェット処理において、基板Wを溶液から取り出した後、その表面に余分の溶液(液体)が残留する場合がある。本実施形態のロボット100は、基板Wの表面に保護膜を形成した後(即ち、基板Wを溶液から取り出した後)、廃液回収部(液体回収部)7へ基板W上の残液(液体)を回収する。その後、本実施形態のロボット100は、残液が除去された基板Wを基板保管装置まで搬送する。
具体的には、図3に示すように、ロボット制御部9は、ウェット処理において、ロボットアーム2及び/又はロボットハンド3を移動させることで、溶液から取り出された基板Wを水平状態に保ったまま、廃液回収部7の近傍まで搬送する(基板搬送工程)。この結果、ロボットハンド3(ひいては基板W)は、廃液回収部7の上方の空間に近接して位置する。
その後、ロボット制御部9は、チルト機構4を駆動することで、ロボットハンド3を傾斜させる。この結果、ロボットハンド3により保持された基板Wが、図3又は図4に示すように、廃液回収部7に近い側が低くなるように傾斜する(基板傾斜工程)。
以下、ロボットハンド3の傾斜について詳細に説明する。ロボットハンド3を水平姿勢とした状態が、図3に鎖線で示されている。このときのロボットハンド3の幅方向中心線をロール軸A1とし、幅方向の線をピッチ軸A2とする。ロボットハンド3がフリップ動作可能に構成されている場合、このフリップ(反転)は、ロール軸A1を中心としてロボットハンド3が180°回転することにより行われる。従って、ロール軸A1はフリップ軸と呼ぶこともできる。基板傾斜工程では、ロボットハンド3は、ロール方向にもピッチ方向にも傾斜を有するように、水平から傾いた姿勢となる。従って、平面視で見たとき、基板W上の液体は、ロール軸A1の軸方向ともピッチ軸A2の軸方向とも異なる斜め方向に自重で流れる。傾斜の大きさは、基板W上の残液が自重により基板Wの最下方における端部まで移動して落下することができ、かつ、基板Wがロボットハンド3から外れないように、適宜定められる。
図3と図4には、ロボットハンド3の傾斜姿勢の互いに異なる例が示されている。何れの例においても、ロボットハンド3はピッチ方向の傾斜を有している。従って、基板W上の残液は、平面視でロボットハンド3の幅方向とは異なる方向に自重で移動し、基板Wの最下端から落下する。基板Wから落下した残液は、下方に位置する廃液回収部7により回収される。
上記のように、本実施形態のロボット100は、チルト機構4を備えているので、ロボットハンド3を任意の方向に(3次元的に、言い換えれば2軸で)傾斜させることができる。この結果、平面視で残液を任意の方向に流すことができるので、廃液回収部7の設置位置の自由度を高めることができる。
このように、本実施形態のロボット100を含むロボットシステムでは、廃液回収部7の近傍まで基板Wを搬送した後、ロボットハンド3の姿勢を調整するだけで、基板W上の残液を任意の方向に流して液切りを行うことができる。また、第1アーム21、第2アーム22等の姿勢を調整する必要がないため、小さな動きで液切りを行うことができる。
ロボットハンド3をロール方向に傾斜させず、ピッチ方向にのみ傾斜させることもできる。図5の変形例では、ロボットハンド3の先端側が低くなるようにピッチ方向に傾斜させる場合が示されている。この変形例は、残液がロボットハンド3及びロボットアーム2に付着して汚れることが少ない点で有利である。
以上に説明したように、本実施形態のロボット100は、基板Wを搬送するために用いられる。ロボット100は、ロボットアーム2と、ロボットハンド3と、チルト機構4と、ロボット制御部9と、を備える。ロボットハンド3は、ロボットアーム2に設けられ、基板Wを保持して搬送する。チルト機構4は、ロボットハンド3の姿勢を任意の方向に傾けることが可能である。ロボット制御部9は、ロボットハンド3の姿勢を制御する。ロボット制御部9は、残液が付着した基板Wをロボットハンド3で保持した状態で、ロボットハンド3の幅方向とは異なる方向に液体を自重で移動させるために、ロボットハンド3の姿勢を傾斜させる傾斜制御を行う。
これにより、基板W上の液切りのための装置を別途に設ける必要がなく、基板Wを搬送するロボット100を用いて残液を端部へ寄せて除去することが可能になるので、コストの低減を実現できる。ロボットハンド3の幅方向とは異なる方向に残液を自重で移動させるので、残液が基板Wから離脱する場所(最下端となる場所)の自由度を高めることができる。従って、ロボットシステム全体のコンパクト化が容易になる。また、液切りした基板Wをロボット100によって基板保管装置等へそのまま搬送することができるので、基板Wに対する処理工数及び処理時間を低減できる。更に、装置の間での基板の受渡し回数を減らすことができるので、受渡しミス等による基板損傷のリスクを減らすことができる。
また、本実施形態及び変形例のロボット100において、ロボットハンド3を水平姿勢としたときの幅方向中心線をロール軸A1とし、水平姿勢でのロボットハンド3の幅方向の線をピッチ軸A2とする場合に、前記傾斜制御によるロボットハンド3の姿勢は、少なくともピッチ方向で水平から傾斜している。
これにより、ロボットハンド3の幅方向に対して平面視で角度を有する向きに残液を流して、液切りを行うことができる。
また、本実施形態のロボット100において、前記傾斜制御によるロボットハンド3の姿勢は、ピッチ方向でもロール方向でも水平から傾斜している。
これにより、基板Wに付着する残液が流れる向きを平面視で斜めとすることができる。従って、様々な位置で残液を基板Wから離脱させることができる。
また、本実施形態の基板ウェット処理ロボットシステムは、ロボット100と、廃液回収部7と、を備える。廃液回収部7は、基板Wのウェット処理プロセスで用いられた液体を回収する。廃液回収部7は、傾斜制御によって傾斜する基板Wの最下端部と、上下方向で対応する位置に配置されている。
これにより、基板Wに付着している液体を、廃液回収部7によって良好に回収することができる。
また、本実施形態の基板ウェット処理ロボットシステムにおいて、ロボット制御部9は、液体が付着した基板Wをロボットハンド3により保持した状態で、ロボットハンド3及びロボットアーム2のうち少なくとも何れかを移動させることで、基板Wを廃液回収部7の上方に移動させる。
これにより、基板Wに付着している液体を、廃液回収部7によって良好に回収することができる。
以上に本発明の好適な実施の形態を説明したが、上記の構成は例えば以下のように変更することができる。
ロボット100は、基板Wを直接保持して搬送する代わりに、基板Wを収容するトレイ等を保持して基板Wを間接的に搬送しても良い。
ロボットハンド3のハンド本体部32は、チルト機構4の上板部42と一体的に形成されても良い。
チルト機構4は、基台1と昇降軸11の間に配置されても良いし、昇降軸11と第1アーム21の間に配置されても良いし、第1アーム21と第2アーム22の間に配置されても良い。
本実施形態のロボット100は、液体を基板Wの表面に均一に塗布するために用いることもできる。
ロボット100は、基板Wを傾斜させた状態で、例えば基板Wを上下方向に小さく振るように動作しても良い。この移動は、平行移動であっても良いし、回転移動であっても良いし、平行と回転の組合せであっても良い。これにより、残液の雫を良好に切ることができる。
液体が、基板Wの上面でなく下面に付着し、表面張力によって保持されても良い。この場合でも、基板Wを適宜傾けることにより、基板Wの下面の液体を自重で適宜の方向へ流して、基板Wの最下端部から落下させることができる。
前述の実施形態では、廃液回収部7は、上向きに開放された液受けを有する構成となっている。しかしながら、廃液回収部7は、例えば横向きの吸引チューブとして構成されても良い。この場合、吸引チューブの吸引口は、例えば、傾斜した基板Wの最下端部と水平方向で対応する位置に配置することができる。
基板ウェット処理ロボットシステムにおいて、基板Wを基板保管装置まで搬送する経路の下方において、廃液回収部7が当該経路に沿って設けられている場合、ロボット100は、基板Wを傾斜させた姿勢で搬送することで、基板W上の残液を切ることもできる。
1 基台
11 昇降軸
2 ロボットアーム(アーム部)
21 第1アーム
22 第2アーム
3 ロボットハンド(ハンド部)
31 手首部
32 ハンド本体部
32a 第1指部
32b 第2指部
4 チルト機構
41 下板部
42 上板部
5 高さ調整機構
51,52,53 支持部
56 オネジ
57 メネジ
58 球面軸受
9 ロボット制御部
100 ロボット
11 昇降軸
2 ロボットアーム(アーム部)
21 第1アーム
22 第2アーム
3 ロボットハンド(ハンド部)
31 手首部
32 ハンド本体部
32a 第1指部
32b 第2指部
4 チルト機構
41 下板部
42 上板部
5 高さ調整機構
51,52,53 支持部
56 オネジ
57 メネジ
58 球面軸受
9 ロボット制御部
100 ロボット
Claims (6)
- 基板を搬送するためのロボットであって、
アーム部と、
前記アーム部に設けられ、前記基板を保持して搬送するハンド部と、
前記ハンド部の姿勢を任意の方向に傾けることが可能な姿勢変更機構と、
前記ハンド部の姿勢を制御するロボット制御部と、
を備え、
前記ロボット制御部は、液体が付着した基板を前記ハンド部で保持した状態で、前記ハンド部の幅方向とは異なる方向に前記液体を自重で移動させるために、前記ハンド部の姿勢を傾斜させる傾斜制御を行うことを特徴とするロボット。 - 請求項1に記載のロボットであって、
前記ハンド部を水平姿勢としたときの幅方向中心線をロール軸とし、水平姿勢での前記ハンド部の幅方向の線をピッチ軸とする場合、前記傾斜制御による前記ハンド部の姿勢は、少なくともピッチ方向で水平から傾斜していることを特徴とするロボット。 - 請求項2に記載のロボットであって、
前記傾斜制御による前記ハンド部の姿勢は、ピッチ方向でもロール方向でも水平から傾斜していることを特徴とするロボット。 - 請求項1から3までの何れか一項に記載のロボットと、
基板のウェット処理プロセスで用いられた液体を回収する液体回収部と、
を備え、
前記液体回収部は、傾斜制御によって傾斜する前記基板の最下端部と対応する位置に配置されていることを特徴とする基板ウェット処理ロボットシステム。 - 請求項4に記載の基板ウェット処理ロボットシステムであって、
前記ロボット制御部は、液体が付着した基板を前記ハンド部により保持した状態で、前記ハンド部及び前記アーム部のうち少なくとも何れかを移動させることで、前記基板を前記液体回収部の上方に移動させることを特徴とする基板ウェット処理ロボットシステム。 - アーム部と、
前記アーム部に設けられ、基板を保持するハンド部と、
前記ハンド部の姿勢を任意の方向に傾けることが可能な姿勢変更機構と、
前記ハンド部の姿勢を制御するロボット制御部と、
を備えるロボットを用いる液体回収方法であって、
前記ロボット制御部が、液体が付着した基板を前記ハンド部で保持した状態で、前記ハンド部の幅方向とは異なる方向に前記液体を自重で移動させるために、当該基板を保持する前記ハンド部の姿勢を傾斜させる基板傾斜工程を含むことを特徴とする液体回収方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020148891A JP2022043561A (ja) | 2020-09-04 | 2020-09-04 | ロボット、基板ウェット処理ロボットシステム、及び液体回収方法 |
PCT/JP2021/031632 WO2022050206A1 (ja) | 2020-09-04 | 2021-08-29 | ロボット、基板ウェット処理ロボットシステム、及び液体回収方法 |
TW110132768A TW202216381A (zh) | 2020-09-04 | 2021-09-03 | 機器人、基板濕式處理機器人系統以及液體回收方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020148891A JP2022043561A (ja) | 2020-09-04 | 2020-09-04 | ロボット、基板ウェット処理ロボットシステム、及び液体回収方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022043561A true JP2022043561A (ja) | 2022-03-16 |
Family
ID=80491761
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020148891A Pending JP2022043561A (ja) | 2020-09-04 | 2020-09-04 | ロボット、基板ウェット処理ロボットシステム、及び液体回収方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2022043561A (ja) |
TW (1) | TW202216381A (ja) |
WO (1) | WO2022050206A1 (ja) |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3735193B2 (ja) * | 1997-11-17 | 2006-01-18 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置および基板搬送方法 |
JP4509411B2 (ja) * | 2001-03-26 | 2010-07-21 | 株式会社ディスコ | 搬出入装置 |
JP3837720B2 (ja) * | 2002-09-12 | 2006-10-25 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理方法及び基板処理装置 |
DE112004001210T5 (de) * | 2003-07-04 | 2006-06-08 | Rorze Corp. | Transportvorrichtung und Transportsteuerverfahren für eine dünne Platte |
-
2020
- 2020-09-04 JP JP2020148891A patent/JP2022043561A/ja active Pending
-
2021
- 2021-08-29 WO PCT/JP2021/031632 patent/WO2022050206A1/ja active Application Filing
- 2021-09-03 TW TW110132768A patent/TW202216381A/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2022050206A1 (ja) | 2022-03-10 |
TW202216381A (zh) | 2022-05-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6884109B2 (ja) | 基板搬送ロボットおよびその運転方法 | |
JP7289916B2 (ja) | ロボットハンド、ロボット、ロボットシステム及び搬送方法 | |
JPH11300663A (ja) | 薄型基板搬送装置 | |
JP2005136411A (ja) | 基板の運搬システム及び運搬方法 | |
JP2007221031A (ja) | 搬送装置及び搬送方法 | |
JP5189370B2 (ja) | 基板交換装置及び基板処理装置並びに基板検査装置 | |
US20090196724A1 (en) | Edge contact gripper | |
TW201616259A (zh) | 加工裝置 | |
KR20230018449A (ko) | 웨이퍼 반송 장치 및 웨이퍼 반송 방법 | |
JP7148374B2 (ja) | ウエハ受け渡し装置 | |
WO2022050206A1 (ja) | ロボット、基板ウェット処理ロボットシステム、及び液体回収方法 | |
JP5930519B2 (ja) | 加工装置 | |
JP3638456B2 (ja) | 基板姿勢変更装置 | |
JP3957419B2 (ja) | 基板処理装置 | |
TWI795900B (zh) | 機器人以及工件運送方法 | |
JPH1074816A (ja) | ウェファ搬送装置 | |
KR102252736B1 (ko) | 반도체 제조 설비용 이송 장치 | |
JP5151276B2 (ja) | 搬送システム | |
JP7219106B2 (ja) | 基板搬送システムおよび基板搬送システムの制御方法 | |
JP2003243477A (ja) | 無人搬送車 | |
JP2003037145A (ja) | ウエハ搬送装置 | |
KR102385265B1 (ko) | 물품 반송 장치 및 오버 헤드 트랜스퍼 장치 | |
JP2009274868A (ja) | 移載装置 | |
KR20230035084A (ko) | 로봇 | |
JP2024008689A (ja) | 物品搬送車 |