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  1. 静電チャックであって、
    セラミック本体と、
    セラミック本体の底面に固定された複数のアダプタオブジェクト含み、
    セラミック本体の底面は平坦であり、
    複数のアダプタオブジェクトは、セラミック本体の底面によって規定される円の中心から複数の異なる距離でセラミック本体の底面に分布する複数の開口部を集合的に形成し、
    複数のアダプタオブジェクトは複数の開口部を介してベースプレートに取り外し可能に締結するように構成され、
    複数のアダプタオブジェクトの少なくとも1つのアダプタオブジェクトはベースプレートによって形成された少なくとも1つの凹部に挿入され、
    セラミック本体はベースプレートに取り外し可能に結合するように構成されている静電チャック。
  2. セラミック本体は、セラミック本体の一部とベースプレートの一部の間にギャップを形成する熱スペーサによりベースプレートから分離され、熱スペーサはセラミック本体がベースプレートに接触することを防止するように構成されている、請求項1に記載の静電チャック。
  3. 静電チャックを備えた基板支持アセンブリであって、
    静電チャックは、静電チャックの底面に固定された1つ以上のオブジェクトを含み、
    静電チャックの底面は平坦であり、
    1つ以上のオブジェクトは、静電チャックの底面によって規定される円の中心から複数の異なる距離で、静電チャックの底面に分布する複数のフィーチャを集合的に含み、
    1つ以上のオブジェクトは、複数のフィーチャの第1のフィーチャを介してベースプレートに取り外し可能に締結されるように構成され、
    複数のアダプタオブジェクトの少なくとも1つのアダプタオブジェクトはベースプレートによって形成された少なくとも1つの凹部に挿入され、
    静電チャックはベースプレートに取り外し可能に結合するように構成されている基板支持アセンブリ。
  4. ベースプレートの対応する凹部に配置された冷却プレートを含み、
    冷却プレートは、冷却材を受け入れるための複数のチャネルを含む、請求項13に記載の基板支持アセンブリ。
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Families Citing this family (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5621142B2 (ja) * 2013-04-02 2014-11-05 独立行政法人産業技術総合研究所 半導体プロセス用キャリア
US10008399B2 (en) 2015-05-19 2018-06-26 Applied Materials, Inc. Electrostatic puck assembly with metal bonded backing plate for high temperature processes
WO2017127163A1 (en) * 2016-01-22 2017-07-27 Applied Materials, Inc. Ceramic showerhead with embedded conductive layers
JP6674800B2 (ja) * 2016-03-07 2020-04-01 日本特殊陶業株式会社 基板支持装置
CN109643685B (zh) * 2016-08-26 2023-04-07 日本碍子株式会社 晶片载置台
CN206573826U (zh) * 2017-03-23 2017-10-20 惠科股份有限公司 一种顶升装置及配向紫外线照射机
US11289355B2 (en) 2017-06-02 2022-03-29 Lam Research Corporation Electrostatic chuck for use in semiconductor processing
US10636630B2 (en) * 2017-07-27 2020-04-28 Applied Materials, Inc. Processing chamber and method with thermal control
US10497667B2 (en) 2017-09-26 2019-12-03 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Apparatus for bond wave propagation control
US10688750B2 (en) 2017-10-03 2020-06-23 Applied Materials, Inc. Bonding structure of E chuck to aluminum base configuration
CN111670491A (zh) 2018-01-31 2020-09-15 朗姆研究公司 静电卡盘(esc)基座电压隔离
US10490435B2 (en) * 2018-02-07 2019-11-26 Applied Materials, Inc. Cooling element for an electrostatic chuck assembly
US11848177B2 (en) * 2018-02-23 2023-12-19 Lam Research Corporation Multi-plate electrostatic chucks with ceramic baseplates
US11086233B2 (en) * 2018-03-20 2021-08-10 Lam Research Corporation Protective coating for electrostatic chucks
US10847402B2 (en) * 2018-04-02 2020-11-24 Applied Materials, Inc. Bond protection around porous plugs
US11456161B2 (en) 2018-06-04 2022-09-27 Applied Materials, Inc. Substrate support pedestal
TWI688780B (zh) * 2018-07-05 2020-03-21 旺矽科技股份有限公司 測試機台
US10896837B2 (en) * 2018-10-01 2021-01-19 Lam Research Corporation Ceramic foam for helium light-up suppression
EP3883569A1 (en) * 2018-11-20 2021-09-29 Abbvie Inc. Methods for treating acute hcv
WO2020123069A1 (en) * 2018-12-11 2020-06-18 Applied Materials, Inc. Cryogenic electrostatic chuck
CN109637967B (zh) * 2018-12-19 2022-11-25 航天恒星科技有限公司 一种混合集成电路共晶烧结用石墨夹具
US11145532B2 (en) * 2018-12-21 2021-10-12 Toto Ltd. Electrostatic chuck
KR20210117338A (ko) 2019-02-12 2021-09-28 램 리써치 코포레이션 세라믹 모놀리식 바디를 갖는 정전 척
WO2020242661A1 (en) 2019-05-24 2020-12-03 Applied Materials, Inc. Substrate support carrier with improved bond layer protection
KR102188261B1 (ko) 2019-08-02 2020-12-09 세미기어, 인코포레이션 기판 냉각 장치 및 방법
JP7379993B2 (ja) * 2019-09-20 2023-11-15 東京エレクトロン株式会社 エッチング装置及びエッチング方法
KR102303593B1 (ko) * 2019-11-05 2021-09-23 세메스 주식회사 기판 처리 장치 및 방법
CN112908919A (zh) * 2019-12-04 2021-06-04 中微半导体设备(上海)股份有限公司 静电吸盘装置及包括该静电吸盘装置的等离子体处理装置
US11784080B2 (en) 2020-03-10 2023-10-10 Applied Materials, Inc. High temperature micro-zone electrostatic chuck
CN115315798A (zh) * 2020-03-31 2022-11-08 应用材料公司 高温微区静电吸盘
JP7479237B2 (ja) 2020-08-03 2024-05-08 新光電気工業株式会社 静電チャック用部材及び静電チャック
EP3982398A1 (en) * 2020-10-06 2022-04-13 Nederlandse Organisatie voor toegepast- natuurwetenschappelijk Onderzoek TNO Controlled local heating of substrates
US20220301913A1 (en) * 2021-03-18 2022-09-22 Applied Materials, Inc. Reduced localized force in electrostatic chucking
US11794296B2 (en) 2022-02-03 2023-10-24 Applied Materials, Inc. Electrostatic chuck with porous plug
JP2023161887A (ja) * 2022-04-26 2023-11-08 日本碍子株式会社 ウエハ載置台
US20240055289A1 (en) * 2022-08-10 2024-02-15 Applied Materials, Inc. Vacuum seal for electrostatic chuck
WO2024059276A1 (en) * 2022-09-16 2024-03-21 Lam Research Corporation Spring-loaded seal cover band for protecting a substrate support

Family Cites Families (61)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4305567A (en) * 1977-08-29 1981-12-15 Rockwell International Corporation Valve stem seal
US4273148A (en) * 1980-04-21 1981-06-16 Litton Industrial Products, Inc. Stem seal for a fire safe ball valve
US5421594A (en) 1991-02-14 1995-06-06 Marine & Petroleum Mfg., Inc. Gasket
US5511799A (en) * 1993-06-07 1996-04-30 Applied Materials, Inc. Sealing device useful in semiconductor processing apparatus for bridging materials having a thermal expansion differential
US5535090A (en) 1994-03-03 1996-07-09 Sherman; Arthur Electrostatic chuck
US5595241A (en) * 1994-10-07 1997-01-21 Sony Corporation Wafer heating chuck with dual zone backplane heating and segmented clamping member
JPH09213781A (ja) 1996-02-01 1997-08-15 Tokyo Electron Ltd 載置台構造及びそれを用いた処理装置
US6219219B1 (en) * 1998-09-30 2001-04-17 Applied Materials, Inc. Cathode assembly containing an electrostatic chuck for retaining a wafer in a semiconductor wafer processing system
JP3159306B2 (ja) 1998-12-17 2001-04-23 防衛庁技術研究本部長 航走体船種識別装置及びその方法
US6310755B1 (en) 1999-05-07 2001-10-30 Applied Materials, Inc. Electrostatic chuck having gas cavity and method
US6490146B2 (en) * 1999-05-07 2002-12-03 Applied Materials Inc. Electrostatic chuck bonded to base with a bond layer and method
KR20010051530A (ko) * 1999-11-08 2001-06-25 조셉 제이. 스위니 반도체 프로세싱 시스템 내의 온도를 제어하기 위한 장치
US6632512B1 (en) * 1999-11-10 2003-10-14 Ibiden Co., Ltd. Ceramic substrate
KR20010111058A (ko) 2000-06-09 2001-12-15 조셉 제이. 스위니 전체 영역 온도 제어 정전기 척 및 그 제조방법
US6503368B1 (en) 2000-06-29 2003-01-07 Applied Materials Inc. Substrate support having bonded sections and method
JP3530481B2 (ja) 2000-10-31 2004-05-24 ジー・ピー・ダイキョー株式会社 樹脂製インテークマニホールド、及びその製造方法
JP4548928B2 (ja) * 2000-10-31 2010-09-22 京セラ株式会社 電極内蔵体及びこれを用いたウエハ支持部材
KR20030047341A (ko) * 2001-12-10 2003-06-18 삼성전자주식회사 이온주입장치의 정전척
US6646233B2 (en) * 2002-03-05 2003-11-11 Hitachi High-Technologies Corporation Wafer stage for wafer processing apparatus and wafer processing method
TWI228786B (en) * 2002-04-16 2005-03-01 Anelva Corp Electrostatic chucking stage and substrate processing apparatus
JP4451098B2 (ja) * 2002-08-22 2010-04-14 住友大阪セメント株式会社 サセプタ装置
US6838646B2 (en) 2002-08-22 2005-01-04 Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. Susceptor device
US7846254B2 (en) 2003-05-16 2010-12-07 Applied Materials, Inc. Heat transfer assembly
JP4278046B2 (ja) * 2003-11-10 2009-06-10 モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 ヒータ機構付き静電チャック
US7697260B2 (en) * 2004-03-31 2010-04-13 Applied Materials, Inc. Detachable electrostatic chuck
US7712434B2 (en) 2004-04-30 2010-05-11 Lam Research Corporation Apparatus including showerhead electrode and heater for plasma processing
US20060096946A1 (en) 2004-11-10 2006-05-11 General Electric Company Encapsulated wafer processing device and process for making thereof
JP4783213B2 (ja) 2005-06-09 2011-09-28 日本碍子株式会社 静電チャック
US20080029032A1 (en) 2006-08-01 2008-02-07 Sun Jennifer Y Substrate support with protective layer for plasma resistance
TWI345285B (en) 2006-10-06 2011-07-11 Ngk Insulators Ltd Substrate supporting member
US7589950B2 (en) * 2006-10-13 2009-09-15 Applied Materials, Inc. Detachable electrostatic chuck having sealing assembly
JP4590393B2 (ja) * 2006-12-25 2010-12-01 日本碍子株式会社 基板保持体及びその製造方法
JP5660753B2 (ja) 2007-07-13 2015-01-28 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated プラズマエッチング用高温カソード
JP2009164483A (ja) 2008-01-09 2009-07-23 Panasonic Corp 半導体装置の製造方法および半導体基板処理装置
JP4450106B1 (ja) 2008-03-11 2010-04-14 東京エレクトロン株式会社 載置台構造及び処理装置
US8161906B2 (en) * 2008-07-07 2012-04-24 Lam Research Corporation Clamped showerhead electrode assembly
US8194384B2 (en) 2008-07-23 2012-06-05 Tokyo Electron Limited High temperature electrostatic chuck and method of using
WO2010019430A2 (en) 2008-08-12 2010-02-18 Applied Materials, Inc. Electrostatic chuck assembly
KR101359070B1 (ko) * 2009-03-03 2014-02-05 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 탑재대 구조, 성막 장치 및 원료 회수 방법
JP5482282B2 (ja) * 2009-03-03 2014-05-07 東京エレクトロン株式会社 載置台構造及び成膜装置
WO2011149541A1 (en) 2010-05-28 2011-12-01 Axcelis Technologies Inc. Matched coefficient of thermal expansion for an electrostatic chuck
WO2012019017A2 (en) * 2010-08-06 2012-02-09 Applied Materials, Inc. Electrostatic chuck and methods of use thereof
US9969022B2 (en) 2010-09-28 2018-05-15 Applied Materials, Inc. Vacuum process chamber component and methods of making
US20120100379A1 (en) 2010-10-20 2012-04-26 Greene, Tweed Of Delaware, Inc. Fluoroelastomer bonding compositions suitable for high-temperature applications
CN103843128B (zh) 2011-09-30 2017-11-21 应用材料公司 静电夹具
WO2013049589A1 (en) * 2011-09-30 2013-04-04 Applied Materials, Inc. Electrostatic chuck with temperature control
US20130276980A1 (en) 2012-04-23 2013-10-24 Dmitry Lubomirsky Esc with cooling base
JP5989593B2 (ja) * 2012-04-27 2016-09-07 日本碍子株式会社 半導体製造装置用部材
JP5861563B2 (ja) 2012-05-31 2016-02-16 住友電気工業株式会社 ウエハ加熱用ヒータ
US9685356B2 (en) 2012-12-11 2017-06-20 Applied Materials, Inc. Substrate support assembly having metal bonded protective layer
JP6080571B2 (ja) 2013-01-31 2017-02-15 東京エレクトロン株式会社 載置台及びプラズマ処理装置
JP6182082B2 (ja) 2013-03-15 2017-08-16 日本碍子株式会社 緻密質複合材料、その製法及び半導体製造装置用部材
JP6182084B2 (ja) 2013-03-25 2017-08-16 日本碍子株式会社 緻密質複合材料、その製法、接合体及び半導体製造装置用部材
JP5633766B2 (ja) 2013-03-29 2014-12-03 Toto株式会社 静電チャック
FR3003999A1 (fr) * 2013-03-29 2014-10-03 Semco Engineering Mandrin electrostatique a dispositif de serrage a effort controle.
US9666466B2 (en) 2013-05-07 2017-05-30 Applied Materials, Inc. Electrostatic chuck having thermally isolated zones with minimal crosstalk
CN103483611B (zh) * 2013-10-11 2015-08-12 苏州柯莱美高分子材料科技有限公司 预氧化聚丙烯腈薄膜、隔热石墨薄膜、导热石墨薄膜以及制备方法
JP5811513B2 (ja) * 2014-03-27 2015-11-11 Toto株式会社 静電チャック
US10008404B2 (en) 2014-10-17 2018-06-26 Applied Materials, Inc. Electrostatic chuck assembly for high temperature processes
US10008399B2 (en) 2015-05-19 2018-06-26 Applied Materials, Inc. Electrostatic puck assembly with metal bonded backing plate for high temperature processes
US10957572B2 (en) 2018-05-02 2021-03-23 Applied Materials, Inc. Multi-zone gasket for substrate support assembly

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