JP2022043180A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2022043180A5 JP2022043180A5 JP2021205627A JP2021205627A JP2022043180A5 JP 2022043180 A5 JP2022043180 A5 JP 2022043180A5 JP 2021205627 A JP2021205627 A JP 2021205627A JP 2021205627 A JP2021205627 A JP 2021205627A JP 2022043180 A5 JP2022043180 A5 JP 2022043180A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrostatic chuck
- base plate
- ceramic body
- objects
- adapter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims 2
- 239000002826 coolant Substances 0.000 claims 1
Claims (4)
- 静電チャックであって、
セラミック本体と、
セラミック本体の底面に固定された複数のアダプタオブジェクト含み、
セラミック本体の底面は平坦であり、
複数のアダプタオブジェクトは、セラミック本体の底面によって規定される円の中心から複数の異なる距離でセラミック本体の底面に分布する複数の開口部を集合的に形成し、
複数のアダプタオブジェクトは複数の開口部を介してベースプレートに取り外し可能に締結するように構成され、
複数のアダプタオブジェクトの少なくとも1つのアダプタオブジェクトはベースプレートによって形成された少なくとも1つの凹部に挿入され、
セラミック本体はベースプレートに取り外し可能に結合するように構成されている静電チャック。 - セラミック本体は、セラミック本体の一部とベースプレートの一部の間にギャップを形成する熱スペーサによりベースプレートから分離され、熱スペーサはセラミック本体がベースプレートに接触することを防止するように構成されている、請求項1に記載の静電チャック。
- 静電チャックを備えた基板支持アセンブリであって、
静電チャックは、静電チャックの底面に固定された1つ以上のオブジェクトを含み、
静電チャックの底面は平坦であり、
1つ以上のオブジェクトは、静電チャックの底面によって規定される円の中心から複数の異なる距離で、静電チャックの底面に分布する複数のフィーチャを集合的に含み、
1つ以上のオブジェクトは、複数のフィーチャの第1のフィーチャを介してベースプレートに取り外し可能に締結されるように構成され、
複数のアダプタオブジェクトの少なくとも1つのアダプタオブジェクトはベースプレートによって形成された少なくとも1つの凹部に挿入され、
静電チャックはベースプレートに取り外し可能に結合するように構成されている基板支持アセンブリ。 - ベースプレートの対応する凹部に配置された冷却プレートを含み、
冷却プレートは、冷却材を受け入れるための複数のチャネルを含む、請求項13に記載の基板支持アセンブリ。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US15/061,734 US10249526B2 (en) | 2016-03-04 | 2016-03-04 | Substrate support assembly for high temperature processes |
US15/061,734 | 2016-03-04 | ||
JP2018546552A JP7026052B2 (ja) | 2016-03-04 | 2017-01-23 | 高温プロセスのための基板支持アセンブリ |
PCT/US2017/014531 WO2017151238A1 (en) | 2016-03-04 | 2017-01-23 | Substrate support assembly for high temperature processes |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018546552A Division JP7026052B2 (ja) | 2016-03-04 | 2017-01-23 | 高温プロセスのための基板支持アセンブリ |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022043180A JP2022043180A (ja) | 2022-03-15 |
JP2022043180A5 true JP2022043180A5 (ja) | 2022-10-24 |
JP7232892B2 JP7232892B2 (ja) | 2023-03-03 |
Family
ID=59722291
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018546552A Active JP7026052B2 (ja) | 2016-03-04 | 2017-01-23 | 高温プロセスのための基板支持アセンブリ |
JP2021205627A Active JP7232892B2 (ja) | 2016-03-04 | 2021-12-19 | 高温プロセスのための基板支持アセンブリ |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018546552A Active JP7026052B2 (ja) | 2016-03-04 | 2017-01-23 | 高温プロセスのための基板支持アセンブリ |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US10249526B2 (ja) |
JP (2) | JP7026052B2 (ja) |
KR (2) | KR102567808B1 (ja) |
CN (2) | CN116741696A (ja) |
TW (2) | TWI755817B (ja) |
WO (1) | WO2017151238A1 (ja) |
Families Citing this family (37)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5621142B2 (ja) * | 2013-04-02 | 2014-11-05 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 半導体プロセス用キャリア |
US10008399B2 (en) | 2015-05-19 | 2018-06-26 | Applied Materials, Inc. | Electrostatic puck assembly with metal bonded backing plate for high temperature processes |
WO2017127163A1 (en) * | 2016-01-22 | 2017-07-27 | Applied Materials, Inc. | Ceramic showerhead with embedded conductive layers |
JP6674800B2 (ja) * | 2016-03-07 | 2020-04-01 | 日本特殊陶業株式会社 | 基板支持装置 |
CN109643685B (zh) * | 2016-08-26 | 2023-04-07 | 日本碍子株式会社 | 晶片载置台 |
CN206573826U (zh) * | 2017-03-23 | 2017-10-20 | 惠科股份有限公司 | 一种顶升装置及配向紫外线照射机 |
US11289355B2 (en) | 2017-06-02 | 2022-03-29 | Lam Research Corporation | Electrostatic chuck for use in semiconductor processing |
US10636630B2 (en) * | 2017-07-27 | 2020-04-28 | Applied Materials, Inc. | Processing chamber and method with thermal control |
US10497667B2 (en) | 2017-09-26 | 2019-12-03 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Apparatus for bond wave propagation control |
US10688750B2 (en) | 2017-10-03 | 2020-06-23 | Applied Materials, Inc. | Bonding structure of E chuck to aluminum base configuration |
CN111670491A (zh) | 2018-01-31 | 2020-09-15 | 朗姆研究公司 | 静电卡盘(esc)基座电压隔离 |
US10490435B2 (en) * | 2018-02-07 | 2019-11-26 | Applied Materials, Inc. | Cooling element for an electrostatic chuck assembly |
US11848177B2 (en) * | 2018-02-23 | 2023-12-19 | Lam Research Corporation | Multi-plate electrostatic chucks with ceramic baseplates |
US11086233B2 (en) * | 2018-03-20 | 2021-08-10 | Lam Research Corporation | Protective coating for electrostatic chucks |
US10847402B2 (en) * | 2018-04-02 | 2020-11-24 | Applied Materials, Inc. | Bond protection around porous plugs |
US11456161B2 (en) | 2018-06-04 | 2022-09-27 | Applied Materials, Inc. | Substrate support pedestal |
TWI688780B (zh) * | 2018-07-05 | 2020-03-21 | 旺矽科技股份有限公司 | 測試機台 |
US10896837B2 (en) * | 2018-10-01 | 2021-01-19 | Lam Research Corporation | Ceramic foam for helium light-up suppression |
EP3883569A1 (en) * | 2018-11-20 | 2021-09-29 | Abbvie Inc. | Methods for treating acute hcv |
WO2020123069A1 (en) * | 2018-12-11 | 2020-06-18 | Applied Materials, Inc. | Cryogenic electrostatic chuck |
CN109637967B (zh) * | 2018-12-19 | 2022-11-25 | 航天恒星科技有限公司 | 一种混合集成电路共晶烧结用石墨夹具 |
US11145532B2 (en) * | 2018-12-21 | 2021-10-12 | Toto Ltd. | Electrostatic chuck |
KR20210117338A (ko) | 2019-02-12 | 2021-09-28 | 램 리써치 코포레이션 | 세라믹 모놀리식 바디를 갖는 정전 척 |
WO2020242661A1 (en) | 2019-05-24 | 2020-12-03 | Applied Materials, Inc. | Substrate support carrier with improved bond layer protection |
KR102188261B1 (ko) | 2019-08-02 | 2020-12-09 | 세미기어, 인코포레이션 | 기판 냉각 장치 및 방법 |
JP7379993B2 (ja) * | 2019-09-20 | 2023-11-15 | 東京エレクトロン株式会社 | エッチング装置及びエッチング方法 |
KR102303593B1 (ko) * | 2019-11-05 | 2021-09-23 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 및 방법 |
CN112908919A (zh) * | 2019-12-04 | 2021-06-04 | 中微半导体设备(上海)股份有限公司 | 静电吸盘装置及包括该静电吸盘装置的等离子体处理装置 |
US11784080B2 (en) | 2020-03-10 | 2023-10-10 | Applied Materials, Inc. | High temperature micro-zone electrostatic chuck |
CN115315798A (zh) * | 2020-03-31 | 2022-11-08 | 应用材料公司 | 高温微区静电吸盘 |
JP7479237B2 (ja) | 2020-08-03 | 2024-05-08 | 新光電気工業株式会社 | 静電チャック用部材及び静電チャック |
EP3982398A1 (en) * | 2020-10-06 | 2022-04-13 | Nederlandse Organisatie voor toegepast- natuurwetenschappelijk Onderzoek TNO | Controlled local heating of substrates |
US20220301913A1 (en) * | 2021-03-18 | 2022-09-22 | Applied Materials, Inc. | Reduced localized force in electrostatic chucking |
US11794296B2 (en) | 2022-02-03 | 2023-10-24 | Applied Materials, Inc. | Electrostatic chuck with porous plug |
JP2023161887A (ja) * | 2022-04-26 | 2023-11-08 | 日本碍子株式会社 | ウエハ載置台 |
US20240055289A1 (en) * | 2022-08-10 | 2024-02-15 | Applied Materials, Inc. | Vacuum seal for electrostatic chuck |
WO2024059276A1 (en) * | 2022-09-16 | 2024-03-21 | Lam Research Corporation | Spring-loaded seal cover band for protecting a substrate support |
Family Cites Families (61)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4305567A (en) * | 1977-08-29 | 1981-12-15 | Rockwell International Corporation | Valve stem seal |
US4273148A (en) * | 1980-04-21 | 1981-06-16 | Litton Industrial Products, Inc. | Stem seal for a fire safe ball valve |
US5421594A (en) | 1991-02-14 | 1995-06-06 | Marine & Petroleum Mfg., Inc. | Gasket |
US5511799A (en) * | 1993-06-07 | 1996-04-30 | Applied Materials, Inc. | Sealing device useful in semiconductor processing apparatus for bridging materials having a thermal expansion differential |
US5535090A (en) | 1994-03-03 | 1996-07-09 | Sherman; Arthur | Electrostatic chuck |
US5595241A (en) * | 1994-10-07 | 1997-01-21 | Sony Corporation | Wafer heating chuck with dual zone backplane heating and segmented clamping member |
JPH09213781A (ja) | 1996-02-01 | 1997-08-15 | Tokyo Electron Ltd | 載置台構造及びそれを用いた処理装置 |
US6219219B1 (en) * | 1998-09-30 | 2001-04-17 | Applied Materials, Inc. | Cathode assembly containing an electrostatic chuck for retaining a wafer in a semiconductor wafer processing system |
JP3159306B2 (ja) | 1998-12-17 | 2001-04-23 | 防衛庁技術研究本部長 | 航走体船種識別装置及びその方法 |
US6310755B1 (en) | 1999-05-07 | 2001-10-30 | Applied Materials, Inc. | Electrostatic chuck having gas cavity and method |
US6490146B2 (en) * | 1999-05-07 | 2002-12-03 | Applied Materials Inc. | Electrostatic chuck bonded to base with a bond layer and method |
KR20010051530A (ko) * | 1999-11-08 | 2001-06-25 | 조셉 제이. 스위니 | 반도체 프로세싱 시스템 내의 온도를 제어하기 위한 장치 |
US6632512B1 (en) * | 1999-11-10 | 2003-10-14 | Ibiden Co., Ltd. | Ceramic substrate |
KR20010111058A (ko) | 2000-06-09 | 2001-12-15 | 조셉 제이. 스위니 | 전체 영역 온도 제어 정전기 척 및 그 제조방법 |
US6503368B1 (en) | 2000-06-29 | 2003-01-07 | Applied Materials Inc. | Substrate support having bonded sections and method |
JP3530481B2 (ja) | 2000-10-31 | 2004-05-24 | ジー・ピー・ダイキョー株式会社 | 樹脂製インテークマニホールド、及びその製造方法 |
JP4548928B2 (ja) * | 2000-10-31 | 2010-09-22 | 京セラ株式会社 | 電極内蔵体及びこれを用いたウエハ支持部材 |
KR20030047341A (ko) * | 2001-12-10 | 2003-06-18 | 삼성전자주식회사 | 이온주입장치의 정전척 |
US6646233B2 (en) * | 2002-03-05 | 2003-11-11 | Hitachi High-Technologies Corporation | Wafer stage for wafer processing apparatus and wafer processing method |
TWI228786B (en) * | 2002-04-16 | 2005-03-01 | Anelva Corp | Electrostatic chucking stage and substrate processing apparatus |
JP4451098B2 (ja) * | 2002-08-22 | 2010-04-14 | 住友大阪セメント株式会社 | サセプタ装置 |
US6838646B2 (en) | 2002-08-22 | 2005-01-04 | Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. | Susceptor device |
US7846254B2 (en) | 2003-05-16 | 2010-12-07 | Applied Materials, Inc. | Heat transfer assembly |
JP4278046B2 (ja) * | 2003-11-10 | 2009-06-10 | モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 | ヒータ機構付き静電チャック |
US7697260B2 (en) * | 2004-03-31 | 2010-04-13 | Applied Materials, Inc. | Detachable electrostatic chuck |
US7712434B2 (en) | 2004-04-30 | 2010-05-11 | Lam Research Corporation | Apparatus including showerhead electrode and heater for plasma processing |
US20060096946A1 (en) | 2004-11-10 | 2006-05-11 | General Electric Company | Encapsulated wafer processing device and process for making thereof |
JP4783213B2 (ja) | 2005-06-09 | 2011-09-28 | 日本碍子株式会社 | 静電チャック |
US20080029032A1 (en) | 2006-08-01 | 2008-02-07 | Sun Jennifer Y | Substrate support with protective layer for plasma resistance |
TWI345285B (en) | 2006-10-06 | 2011-07-11 | Ngk Insulators Ltd | Substrate supporting member |
US7589950B2 (en) * | 2006-10-13 | 2009-09-15 | Applied Materials, Inc. | Detachable electrostatic chuck having sealing assembly |
JP4590393B2 (ja) * | 2006-12-25 | 2010-12-01 | 日本碍子株式会社 | 基板保持体及びその製造方法 |
JP5660753B2 (ja) | 2007-07-13 | 2015-01-28 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | プラズマエッチング用高温カソード |
JP2009164483A (ja) | 2008-01-09 | 2009-07-23 | Panasonic Corp | 半導体装置の製造方法および半導体基板処理装置 |
JP4450106B1 (ja) | 2008-03-11 | 2010-04-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 載置台構造及び処理装置 |
US8161906B2 (en) * | 2008-07-07 | 2012-04-24 | Lam Research Corporation | Clamped showerhead electrode assembly |
US8194384B2 (en) | 2008-07-23 | 2012-06-05 | Tokyo Electron Limited | High temperature electrostatic chuck and method of using |
WO2010019430A2 (en) | 2008-08-12 | 2010-02-18 | Applied Materials, Inc. | Electrostatic chuck assembly |
KR101359070B1 (ko) * | 2009-03-03 | 2014-02-05 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 탑재대 구조, 성막 장치 및 원료 회수 방법 |
JP5482282B2 (ja) * | 2009-03-03 | 2014-05-07 | 東京エレクトロン株式会社 | 載置台構造及び成膜装置 |
WO2011149541A1 (en) | 2010-05-28 | 2011-12-01 | Axcelis Technologies Inc. | Matched coefficient of thermal expansion for an electrostatic chuck |
WO2012019017A2 (en) * | 2010-08-06 | 2012-02-09 | Applied Materials, Inc. | Electrostatic chuck and methods of use thereof |
US9969022B2 (en) | 2010-09-28 | 2018-05-15 | Applied Materials, Inc. | Vacuum process chamber component and methods of making |
US20120100379A1 (en) | 2010-10-20 | 2012-04-26 | Greene, Tweed Of Delaware, Inc. | Fluoroelastomer bonding compositions suitable for high-temperature applications |
CN103843128B (zh) | 2011-09-30 | 2017-11-21 | 应用材料公司 | 静电夹具 |
WO2013049589A1 (en) * | 2011-09-30 | 2013-04-04 | Applied Materials, Inc. | Electrostatic chuck with temperature control |
US20130276980A1 (en) | 2012-04-23 | 2013-10-24 | Dmitry Lubomirsky | Esc with cooling base |
JP5989593B2 (ja) * | 2012-04-27 | 2016-09-07 | 日本碍子株式会社 | 半導体製造装置用部材 |
JP5861563B2 (ja) | 2012-05-31 | 2016-02-16 | 住友電気工業株式会社 | ウエハ加熱用ヒータ |
US9685356B2 (en) | 2012-12-11 | 2017-06-20 | Applied Materials, Inc. | Substrate support assembly having metal bonded protective layer |
JP6080571B2 (ja) | 2013-01-31 | 2017-02-15 | 東京エレクトロン株式会社 | 載置台及びプラズマ処理装置 |
JP6182082B2 (ja) | 2013-03-15 | 2017-08-16 | 日本碍子株式会社 | 緻密質複合材料、その製法及び半導体製造装置用部材 |
JP6182084B2 (ja) | 2013-03-25 | 2017-08-16 | 日本碍子株式会社 | 緻密質複合材料、その製法、接合体及び半導体製造装置用部材 |
JP5633766B2 (ja) | 2013-03-29 | 2014-12-03 | Toto株式会社 | 静電チャック |
FR3003999A1 (fr) * | 2013-03-29 | 2014-10-03 | Semco Engineering | Mandrin electrostatique a dispositif de serrage a effort controle. |
US9666466B2 (en) | 2013-05-07 | 2017-05-30 | Applied Materials, Inc. | Electrostatic chuck having thermally isolated zones with minimal crosstalk |
CN103483611B (zh) * | 2013-10-11 | 2015-08-12 | 苏州柯莱美高分子材料科技有限公司 | 预氧化聚丙烯腈薄膜、隔热石墨薄膜、导热石墨薄膜以及制备方法 |
JP5811513B2 (ja) * | 2014-03-27 | 2015-11-11 | Toto株式会社 | 静電チャック |
US10008404B2 (en) | 2014-10-17 | 2018-06-26 | Applied Materials, Inc. | Electrostatic chuck assembly for high temperature processes |
US10008399B2 (en) | 2015-05-19 | 2018-06-26 | Applied Materials, Inc. | Electrostatic puck assembly with metal bonded backing plate for high temperature processes |
US10957572B2 (en) | 2018-05-02 | 2021-03-23 | Applied Materials, Inc. | Multi-zone gasket for substrate support assembly |
-
2016
- 2016-03-04 US US15/061,734 patent/US10249526B2/en active Active
-
2017
- 2017-01-23 CN CN202310767012.6A patent/CN116741696A/zh active Pending
- 2017-01-23 JP JP2018546552A patent/JP7026052B2/ja active Active
- 2017-01-23 KR KR1020187028583A patent/KR102567808B1/ko active IP Right Grant
- 2017-01-23 WO PCT/US2017/014531 patent/WO2017151238A1/en active Application Filing
- 2017-01-23 CN CN201780014952.0A patent/CN108701642B/zh active Active
- 2017-01-23 KR KR1020237027240A patent/KR20230124097A/ko not_active Application Discontinuation
- 2017-01-24 TW TW109127653A patent/TWI755817B/zh active
- 2017-01-24 TW TW106102581A patent/TWI705520B/zh active
-
2019
- 2019-02-25 US US16/284,728 patent/US11527429B2/en active Active
-
2021
- 2021-12-19 JP JP2021205627A patent/JP7232892B2/ja active Active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2022043180A5 (ja) | ||
US11688590B2 (en) | Electrostatic-chuck heater | |
US7073568B2 (en) | Heat dissipation device | |
TWI681494B (zh) | 具有用於支承基板之單體式承凸的基板保持裝置 | |
US10020241B2 (en) | Heat-dissipating structure and method for manufacturing same | |
CN114600220A (zh) | 结合型聚焦环 | |
JP2021502696A (ja) | 両面処理のためのパターニングされたチャック | |
WO2021120189A1 (zh) | 一种晶圆承载盘及化学气相淀积设备 | |
US9281290B2 (en) | Bond head for thermal compression die bonding | |
KR101682776B1 (ko) | 포켓 교체형 서셉터 | |
CN216144175U (zh) | 一种覆铜陶瓷基板双面烧结治具 | |
JP5981402B2 (ja) | サセプタ | |
JP5605824B2 (ja) | サーマルヘッドおよびプリンタ | |
TW201820959A (zh) | 散熱裝置 | |
TWI314261B (en) | Heat sink assembly | |
JP2016162958A (ja) | サセプタ | |
TW202115932A (zh) | 散熱基板及具有所述散熱基板的發光裝置 | |
JP2020050548A (ja) | 金属−セラミックス接合基板およびその製造方法 | |
US8451305B2 (en) | Head unit, printer, and method of manufacturing head unit | |
JP2013171979A (ja) | 加熱装置 | |
TWI660452B (zh) | 用於乾式蝕刻裝置之基板托盤組 | |
JPH07161886A (ja) | 平板形半導体パッケージの放熱器取付け構造 | |
TWM548702U (zh) | 雙層式複合坩堝 | |
JPS5926597Y2 (ja) | 半導体素子用キヤリアラツク | |
KR101229084B1 (ko) | 방열 시트 및 그 제조방법 |