JP2022032728A - 切削装置 - Google Patents
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- 238000005520 cutting process Methods 0.000 title claims abstract description 183
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 56
- 230000032258 transport Effects 0.000 claims description 37
- 239000002173 cutting fluid Substances 0.000 claims description 29
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 22
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 132
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 22
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000004590 computer program Methods 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
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- Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Dicing (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
Description
本発明の実施形態1に係る切削装置を図面に基づいて説明する。図1は、実施形態1に係る切削装置の構成例を模式的に示す斜視図である。図2は、図1に示された切削装置を模式的に示す平面図である。図3は、図1に示された切削装置のチャックテーブル及び搬送ユニット等を示す斜視図である。図4は、図3に示されたチャックテーブル及び搬送ユニット等を示す側面図である。
実施形態1に係る切削装置1は、ウエーハ200を切削(加工に相当)する加工装置である。図1に示す切削装置1の加工対象のウエーハ200は、シリコン、ガリウムヒ素、SiC(炭化ケイ素)又はサファイア、などを母材とする半導体ウエーハや光デバイスウエーハである。ウエーハ200は、表面201に格子状に複数の図示しないストリートが形成され、複数のストリートによって区画された各領域にデバイスが形成されている。デバイスは、IC(Integrated Circuit)、又はLSI(Large Scale Integration)等の集積回路、CCD(Charge Coupled Device)、又はCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)等のイメージセンサである。実施形態1では、ウエーハ200は、平面形状が四角形状である。なお、図1は、ウエーハ200のストリート及びデバイスを省略している。また、本発明では、切削装置1の加工対象のウエーハ200は、半導体ウエーハや光デバイスウエーハの他に、樹脂により封止されたデバイスを複数有した矩形状のパッケージ基板でも良い。
図1に示された切削装置1は、ウエーハ200をチャックテーブル10で保持しストリートに沿って切削ブレード21で切削加工する切削装置である。実施形態1では、切削装置1は、チャックテーブル10にウエーハ200を直接保持し、ストリートに沿ってウエーハ200をハーフカットする切削装置である。なお、ハーカットとは、切削ブレード21がウエーハ200を貫通することなく、ウエーハ200の厚み方向の所定の位置まで切り込む切削加工をいう。
本発明の実施形態2に係る切削装置を図面に基づいて説明する。図10は、実施形態2に係る切削装置の切削加工終了時のチャックテーブル及びウエーハ等を模式的に示す平面図である。図11は、図10に示されたウエーハを搬送ユニットで保持し、チャックテーブルを加工領域に移動させている状態を模式的に示す平面図である。図12は、図11に示されたチャックテーブルを搬入出領域に向かって移動させながらブローユニットの噴出口から気体を噴出している状態を模式的に示す平面図である。なお、図10、図11及び図12は、実施形態1と同一部分に同一符号を付して説明を省略する。
10 チャックテーブル
11 保持面
20 切削ユニット
21 切削ブレード
40 移動ユニット
50 洗浄ユニット
51 スピンナーテーブル
60 搬送ユニット
91 ブローユニット(エアーカーテン形成ユニット)
96 噴出口
100 制御ユニット
200 ウエーハ
201 表面
202 裏面
300 切削液
400 エアーカーテン
Claims (2)
- ウエーハの裏面側を保持する保持面を有するチャックテーブルと、
該チャックテーブルに保持されたウエーハに切削液を供給しながら切削ブレードでウエーハを切削する切削ユニットと、
該チャックテーブルと該切削ユニットとを相対的に移動させる移動ユニットと、
該切削ユニットで切削されたウエーハを載置するスピンナーテーブルを含んで構成され、該ウエーハを洗浄・乾燥する洗浄ユニットと、
該ウエーハを保持して該チャックテーブルから該スピンナーテーブルへと搬送する搬送ユニットと、
各構成要素を制御する制御ユニットと、を備えた切削装置であって、
該切削ユニットで切削され裏面に切削液が付着したウエーハの裏面を乾燥させるブローユニットを含み、
該ブローユニットは、
上方に向けて気体を噴出する噴出口を有し、
該チャックテーブルに並設されて該移動ユニットによりチャックテーブルとともに移動するように構成され、
該搬送ユニットで保持され該チャックテーブルの上方に位置付けられたウエーハに対して、
該移動ユニットで移動させながら該ブローユニットから気体を噴出させることを特徴とする、切削装置。 - 該ブローユニットは、
複数の噴出口が並列して配設されエアーカーテンを形成するエアーカーテン生成ユニットであることを特徴とする、
請求項1に記載の切削装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020136830A JP7542360B2 (ja) | 2020-08-13 | 2020-08-13 | 切削装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020136830A JP7542360B2 (ja) | 2020-08-13 | 2020-08-13 | 切削装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022032728A true JP2022032728A (ja) | 2022-02-25 |
JP7542360B2 JP7542360B2 (ja) | 2024-08-30 |
Family
ID=80350057
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020136830A Active JP7542360B2 (ja) | 2020-08-13 | 2020-08-13 | 切削装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7542360B2 (ja) |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3903773B2 (ja) | 2001-11-14 | 2007-04-11 | 株式会社東京精密 | 切削装置 |
US7766566B2 (en) | 2005-08-03 | 2010-08-03 | Tokyo Electron Limited | Developing treatment apparatus and developing treatment method |
JP6851831B2 (ja) | 2017-01-12 | 2021-03-31 | 株式会社ディスコ | 加工装置 |
WO2019138881A1 (ja) | 2018-01-09 | 2019-07-18 | 東京エレクトロン株式会社 | 洗浄装置、洗浄方法及びコンピュータ記憶媒体 |
JP7100475B2 (ja) | 2018-03-30 | 2022-07-13 | 株式会社ディスコ | 加工装置 |
-
2020
- 2020-08-13 JP JP2020136830A patent/JP7542360B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7542360B2 (ja) | 2024-08-30 |
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