JP2021506774A - 抗蠕虫性4−アミノ−キノリン−3−カルボキサミド誘導体を調製する方法 - Google Patents
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Abstract
Description
で表されるキノリン化合物を調製するための新規調製方法に関する。
で表されるキノリン化合物を調製するための、新規で改善された調製方法、及び、該新規調製方法の中間体化合物に関する。
R1は、XがC−OH若しくはC−NR3R3’である場合には存在せず、又は、XがC=Oである場合には水素原子であり;
R2は、水素又はC1−C3−アルキルの意味を有し;
R3及びR3’は、独立して、水素又はC1−C3−アルキルの意味を有するか;又は、
R3及びR3’は、それらが結合している窒素と一緒に、モルホリニル環を形成し;
R4は、水素又はハロゲンの意味を有し;
Qは、1〜5の置換基Z1〜Z5で置換されているフェニルの意味を有し;ここで、
Z1〜Z5は、独立して、水素、ハロゲン、C1−C4−アルキル、及び、1−5個のハロゲン原子を有するC1−C4−ハロゲノアルキルから選択されることができ;そして、
Aは、
ここで、調製方法において、式(II)における基Q、NR3R3’及びNH−Aは、式(I)における基R2、X及びYの、段階B−a、段階B−b、段階B−c及び段階B−d(ここで、これらの段階は任意の順序で実施することが可能であるが、但し、段階B−dは段階B−cの前に実施することはない)による反応によって得られる:
ここで、XはC=Oであり且つR1は水素であるか、又は、XはC−OHであり且つR1は存在せず、そして、式(a−I−a)及び式(a−I−b):
該プロセス段階B−aは、塩化チオニル(SOCl2)を用いて実施する;
Gは、一般式
(Q)nB(OH)3−n
〔式中、n=0、1、2又は3〕
で表されるホウ素化合物を表し;
又は、
Gは、一般式
(Q)4B−M+
〔式中、M=リチウム、ナトリウム又はカリウム〕
で表されるホウ素化合物を表し;
又は、
Gは、一般式
QBF3 −M+
〔式中、M=リチウム、ナトリウム又はカリウム〕
で表されるホウ素化合物を表し;
又は、
Gは、一般式
そしてここで、反応段階B−a〜反応段階B−dにおいて、残りの置換基は、それぞれのプロセス段階に対応する意味を有する。このことは、プロセス段階B−a、プロセス段階B−b、プロセス段階B−c及びプロセス段階B−dのそれぞれの順序に応じて、特に、上記で定義されているそれぞれの出発化合物の置換基Y、X、T又はR2が、それぞれの先行する反応段階に起因する意味を有することを意味する。
そしてここで、プロセス段階Aは、P2O5を、1当量を超えるP2O5の絶対量で、及び、メタンスルホン酸(MSA)に対して15〜25重量%の量で使用して実施する。
プロセス段階A:
本発明の第2の態様の先行するプロセス段階Aでは、アニリンを、P2O5及びメタンスルホン酸(MSA)の存在下で、ジエチル2−(R2−オキシメチレン)プロパンジオエート化合物と縮合させる。驚くべきことに、当該反応の化学選択性がP2O5の絶対量に及びMSAに対する量に依存するということが分かった。
本発明の調製方法のプロセス段階B−aでは、不安定なクロロ中間体を脱ヒドロキシ塩素化から単離する必要がなく、短縮された脱ヒドロキシアミノ化をワンポット反応で実施する。これは、驚くべきことに、化学量論的量の塩化チオニル(SOCl2)を用いて達成することができた。
本発明の調製方法のプロセス段階B−bでは、適切なホウ素化合物Gとパラジウム触媒を使用して、スズキカップリングを実施する。
(Q)nB(OH)3−n
〔式中、n=0、1、2又は3〕
で表されるホウ素化合物を表し;
又は、
Gは、一般式
(Q)4B−M+
〔式中、M=リチウム、ナトリウム又はカリウム〕
で表されるホウ素化合物を表し;
又は、
Gは、一般式
QBF3 −M+
〔式中、M=リチウム、ナトリウム又はカリウム〕
で表されるホウ素化合物を表し;
又は、
Gは、一般式
本発明の調製方法のプロセス段階B−cでは、基[−(C=O)−O−C1−C3−アルキル]の鹸化を実施する。
本発明の調製方法のプロセス段階B−dでは、上記で定義されている基Aのさらなるカップリングを行う。
本発明による調製方法で得られた生成物は、例えば、洗浄段階、精製段階、再結晶段階及び乾燥段階を包含する、当業者に一般に知られているさらなる処理段階に付すことができる。
本発明に関連して、用語「置換された」は、指定されている原子又は基における1以上の水素原子が指定されている基から選択されるものによって置き換えられていることを意味するが、但し、既存の環境下では指定されている原子の通常の原子価を超えるものではない。置換基及び/又は可変要素の組み合わせも許容される。
例えば:
「C1−C4」は、C1、C2、C3、C4、C1−C4、C1−C3、C1−C2、C2−C4、C2−C3及びC3−C4を包含し;
「C1−C3」は、C1、C2、C3、C1−C3、C1−C2及びC2−C3を包含する。
第3の態様によれば、本発明は、上記で記載されている式(II)で表される化合物を調製するための調製方法に関し、ここで、当該プロセス段階は、本明細書中で定義されている特定の意味を有する置換基を用いて以下の順序で実施する:
段階B−a:
XはC=Oであり且つR1は水素であるか、又は、XはC−OHであり且つR1は存在せず、そして、式(a−I−c)及び式(a−I−d):
該プロセス段階B−dは、カップリング剤としてDMT−MMを用いて実施する。
Qは、1〜5の置換基Z1〜Z5で置換されていてもよいフェニルであり;ここで、
Z1〜Z5は、独立して、水素、ハロゲン、C1−C4−アルキル及び1−5個のハロゲン原子を有するC1−C4−ハロゲノアルキルから選択され;続いて、
段階B−c:
DMT−MMをカップリング剤として使用する。
R4は、水素及びフッ素から選択され;
Z1、Z3及びZ5は、水素であり;
Z2及びZ4は、塩素であり;そして、
Aは、基
好ましくは、段階B−aにおいて、化学量論量の塩化チオニルを使用する;
好ましくは、段階B−aにおいて、pHを8〜10に調節する。
好ましくは、段階B−bにおいて、パラジウム触媒Pd(acac)2は、≧0.3mol%の量で使用し;
好ましくは、段階B−bにおいて、残留パラジウムの量は、≦200ppmまで低減させ;
さらに好ましくは、段階B−bにおいて、残留パラジウムの量は、≦100ppmまで低減させ;
好ましくは、段階B−bにおいて、引き続きアセチルシステイン抽出段階及び/又は再結晶化段階を実施する。
好ましくは、段階B−cにおいて、出発化合物として使用するエステル化合物のパラジウム含有量は、≦200ppmである;
さらに好ましくは、段階B−cにおいて、出発化合物として使用するエステル化合物のパラジウム含有量は、≦100ppmである;
好ましくは、段階B−cにおいて、該エステル化合物の鹸化は、NaOHを使用して実施する;
好ましくは、段階B−cにおいて、該鹸化生成物は、塩として移動及び単離され;
さらに好ましくは、該鹸化生成物は、HCl塩として移動及び単離される。
好ましくは、段階B−dにおいて、出発化合物は、HClの形態で使用する;
好ましくは、段階B−dにおいて、カップリング剤DMT−MMは、NMMとCDMTからインサイチュで生成させる。
好ましくは、段階Aにおいて、調製された中間体環化前駆物質は、次の反応において、不活性溶媒中で稀釈して使用する;
さらに好ましくは、該中間体環化前駆物質は、トルエン中で稀釈して使用する;
好ましくは、段階Aにおいて、五酸化リンの総量は、2以上の部分に分けてバッチ式で添加する;
さらに好ましくは、五酸化リンの総量は、最大で8までの部分に分けてバッチ式で添加する。
で表される中間体化合物を調製する方法に関し、ここで、該調製方法は本明細書中のいずれかで定義されているプロセス段階B−bを実施し、その後、得られた化合物を単離し、そして、場合により精製することによる。その中で、単離は、特に固体形態での回収を意味する。
で表される中間体化合物を調製する方法に関し、ここで、該調製方法は本明細書中のいずれかで定義されているプロセス段階B−cを実施し、その後、得られた化合物を単離し、そして、場合により精製することによる。その中で、単離は、特に固体形態(好ましくは、鉱酸塩として、好ましくは、HCl塩として)での回収を意味する。
本出願中に記載されている本発明のさまざまな態様について下記実施例によって例証するが、それら実施例は、決して本発明を限定するものではない。
実験の部分においてその合成について記載されていない全ての試薬は、市販されているか又は既知化合物であるか又は当業者が既知の方法によって既知化合物から形成させることができる。
実施例1の目標化合物は、式(IV’)で表される化合物であり、これは、2−ブロモアニリン及びプロセス段階Aで開始して、その後、この特定の順序でプロセス段階B−a、プロセス段階B−b、プロセス段階B−c及びプロセス段階B−dが続く5段階で調製される:
第1段階において、2−ブロモアニリンをジエチル2−(エトキシメチレン)プロパンジオエート(DEMP)と縮合させて、8−ブロモ−4−オキソ−1H−キノリン−3−カルボン酸エチルを収率90%(純度96w%)で生成させる。
8−ブロモ−4−オキソ−1H−キノリン−3−カルボン酸エチルを、塩化チオニルを用いた脱ヒドロキシ塩素化、及び、それに続く第2段階でのジメチルアミンを用いたアミド化に付して、8−ブロモ−4−(ジメチルアミノ)キノリン−3−カルボン酸エチルを93%の収率(純度96w%)で、短縮された方法で生成させる。
次いで、8−ブロモ−4−(ジメチルアミノ)キノリン−3−カルボン酸エチルを、スズキ反応において、3,5−ジクロロフェニルボロン酸とカップリングさせて、8−(3,5−ジクロロフェニル)−4−(ジメチルアミノ)キノリン−3−カルボン酸エチルを生成させる:
最後に、8−(3,5−ジクロロフェニル)−4−(ジメチルアミノ)キノリン−3−カルボン酸塩酸塩を、CDMT及びNMMを利用し、(S)−クロマンアミン・HClを用いて、90%の収率(純度 >99w%)でアミド化する。
実施例2の目標化合物は、式(V’)で表される化合物であり、これは、プロセス段階Aにおいて2−ブロモ−3−フルオロ−アニリンで開始して、実施例1に記載されている方法と同じ方法で調製する。
Claims (15)
- 式(I)で表される化合物から式(II)で表される化合物を調製する方法:
〔ここで、
Yは、ハロゲン又はQの意味を有し;
Xは、C=O、C−OH又はC−NR3R3’の意味を有し;
は、芳香族環系を表すか、又は、XがC=Oである場合にはその環系内の有効な二重結合を表し;
R1は、XがC−OH若しくはC−NR3R3’である場合には存在せず、又は、XがC=Oである場合には水素原子であり;
R2は、水素又はC1−C3−アルキルの意味を有し;
R3及びR3’は、独立して、水素又はC1−C3−アルキルの意味を有し;又は、
R3及びR3’は、それらが結合している窒素と一緒に、モルホリニル環を形成し;
R4は、水素又はハロゲンの意味を有し;
Qは、1〜5の置換基Z1〜Z5で置換されているフェニルの意味を有し;ここで、
Z1〜Z5は、独立して、水素、ハロゲン、C1−C4−アルキル及び1−5個のハロゲン原子を有するC1−C4−ハロゲノアルキルから選択されることができ;そして、
Aは、
から選択される基である〕
であって、
ここで、該調製方法において、式(II)における基Q、NR3R3’及びNH−Aは、式(I)における基R2、X及びYの、段階B−a、段階B−b、段階B−c及び段階B−d(ここで、これらの段階は任意の順序で実施することが可能であるが、但し、段階B−dは段階B−cの前に実施することはない)による反応によって得られる、前記調製方法:
段階B−a:
ここで、Tは、基−O−R2又は−NH−Aを表し、ここで、R2は水素又はC1−C3−アルキルであり;そして、ここで、
XはC=Oであり且つR1は水素であるか、又は、XはC−OHであり且つR1は存在せず、そして、式(a−I−a)及び式(a−I−b):
に対応し;そしてここで、
該プロセス段階B−aは、塩化チオニル(SOCl2)を用いて実施する;
段階B−b:
ここで、Yは、ハロゲンであり、Tは、基−O−R2、−OH又は−NH−Aを表し、そして、Gは、スズキ反応を実施するのに適しているホウ素化合物を表し、そして、Gは、以下のように定義される意味を有し:
Gは、一般式
(Q)nB(OH)3−n
〔式中、n=、1、2又は3〕
で表されるホウ素化合物を表し;
又は、
Gは、一般式
(Q)4B−M+
〔式中、M=リチウム、ナトリウム又はカリウム〕
で表されるホウ素化合物を表し;
又は、
Gは、一般式
QBF3 −M+
〔式中、M=リチウム、ナトリウム又はカリウム〕
で表されるホウ素化合物を表し;
又は、
Gは、一般式
で表されるホウ素化合物を表す;
段階B−c:
ここで、R2は、C1−C3−アルキルであり;ここで、塩基は、任意のアルカリ金属水酸化物及びアルカリ土類金属水酸化物、並びに、任意のアルカリ金属炭酸塩及びアルカリ土類金属炭酸塩に対応し、酸は、任意の鉱酸に対応する;
段階B−d:
ここで、該プロセス段階B−dは、カップリング剤としてDMT−MMを使用して実施され;
そしてここで、反応段階B−a〜反応段階B−dにおいて、残りの置換基は、それぞれのプロセス段階に対応する意味を有する。 - 前記プロセス段階を以下の順序で実施する、請求項1又は2に記載の調製方法:
段階B−a:
ここで、R2は、C1−C3−アルキルであり、そして、R3、R3’及びR4は、請求項1又は2で定義される意味を有し;そして、ここで、
XはC=Oであり且つR1は水素であるか、又は、XはC−OHであり且つR1は存在せず、そして、式(a−I−c)及び式(a−I−d):
に対応し;そしてここで、
該プロセス段階B−aは、塩化チオニル(SOCl2)を用いて実施し;続いて、
段階B−b:
ここで、Gは、スズキ反応を実施するのに適しているホウ素化合物を表し、そしてGは、請求項1又は2で定義される意味を有し;続いて、
段階B−c:
ここで、R2は、C1−C3−アルキルであり;ここで、塩基は、任意のアルカリ金属水酸化物及びアルカリ土類金属水酸化物、並びに、任意のアルカリ金属炭酸塩及びアルカリ土類金属炭酸塩に対応し、酸は、任意の鉱酸に対応し;続いて、
段階B−d:
ここで、Aは、請求項1又は2で定義される意味を有し;そして、ここで、
該プロセス段階B−dは、カップリング剤としてDMT−MMを使用して実施される。 - 以下の式で表される、請求項3に記載の調製方法:
段階B−a:
ここで、該プロセス段階B−aは、塩化チオニル(SOCl2)を用いて実施され;続いて、
段階B−b:
ここで、Gは、スズキ反応を実施するのに適しているホウ素化合物を表し、そして請求項1又は2で定義される意味を有し;そして、
Qは、1〜5の置換基Z1〜Z5で置換されていてもよいフェニルであり;ここで、
Z1〜Z5は、独立して、水素、ハロゲン、C1−C4−アルキル及び1−5個のハロゲン原子を有するC1−C4−ハロゲノアルキルから選択され;続いて、
段階B−c:
ここで、塩基は、任意のアルカリ金属水酸化物及びアルカリ土類金属水酸化物、並びに、任意のアルカリ金属炭酸塩及びアルカリ土類金属炭酸塩に対応し、酸は、任意の鉱酸に対応し;続いて、
段階B−d:
ここで、Aは、請求項1で定義される基から選択され;そして、ここで、
該プロセス段階B−dは、カップリング剤としてDMT−MMを使用して実施される。 - 1以上のプロセス段階B−a、プロセス段階B−b、プロセス段階B−c及びプロセス段階B−dが、以下のプロセス条件のうちの1以上によってさらに特徴付けられる、請求項1〜6のいずれか1項に記載の調製方法:
・ 段階B−aにおいて、化学量論量の塩化チオニルが使用される;
・ 段階B−aにおいて、塩化チオニルの量は、1.15〜2.30当量であり、好ましくは、1.15〜1.50当量であり、さらに好ましくは、1.15〜1.30当量である;
・ 段階B−aにおいて、pHを8〜10に調節する;
・ 段階B−aにおいて、溶媒は、トルエン、クロロベンゼン又はキシレンからなる群から選択されるものが使用され、好ましくは、トルエンが使用される;
・ 段階B−aにおいて、触媒は、DMF、DEF、DBF又はDIFからなる群から選択され、好ましくは、DEF、DBF又はDIFが、さらに好ましくはDIFが使用される;
・ 段階B−aにおいて、触媒は、0.8〜5.0mol%、好ましくは、0.8〜3.0mol%、さらに好ましくは、0.8〜1.5mol%の量で使用される;
・ 段階B−aにおいて、該アミン化合物は、ジメチルアミンである;
・ 段階B−aにおいて、該アミン化合物は、≧1.35当量、好ましくは、1.35〜2.70当量、さらに好ましくは、1.35〜1.50当量の量で添加される;
・ 段階B−bにおいて、該パラジウム触媒は、≧0.3mol%、好ましくは、0.3〜0.6mol%の量で使用される;
・ 段階B−bにおいて、残留パラジウムの量を、≦200ppmまで、好ましくは、≦100ppmまで低減させる;
・ 段階B−bにおいて、該パラジウム触媒は、ホスフィン配位子Lと組み合わされていないか又は組み合わされた、Pd(OAc)2、Pd(acac)2及びPdCl2(L)2からなる群から選択され、好ましくは、該パラジウム触媒は、ホスフィン配位子Lと組み合わされたPd(acac)2である;
・ 段階B−bにおいて、該ホスフィン配位子Lは、存在する場合には、単座ホスフィン配位子P(Ar)n(アルキル)3−n[ここで、n=0、1、2又は3]、例えば、好ましくは、PPh3、P(o−トリル)3、P(o−アニシル)3、P(p−アニシル)3、P(nBu)3、P(tertBu)3、P(アダマンチル)2Ph、PPh2(tertBu)又はPPh(tertBu)2であり、さらに好ましくは、P(tertBu)3、PPh2(tertBu)又はPPh(tertBu)2であり、一層さらに好ましくは、P(tertBu)3である;
・ 段階B−cにおいて、該エステル化合物のパラジウム含有量は、≦200ppm、好ましくは、≦100ppmである;
・ 段階B−cにおいて、該エステル化合物の鹸化は、NaOHを用いて実施される;
・ 段階B−cにおいて、得られた生成物のHCl塩を調製する;
・ 段階B−dにおいて、出発化合物は、HCl塩の形態で使用される;
・ 段階B−dにおいて、トルエン又はクロロベンゼンからなる群から選択される溶媒が使用され、好ましくは、トルエンが使用される;
・ 段階B−dにおいて、カップリング剤DMT−MMは、単離されたDMT−MM化合物として使用されるか、又は、NMM及びCDMTからインサイチュで生成ささる;
・ 段階B−dにおいて、該出発化合物は、1.05〜1.4当量、好ましくは、1.1〜1.3当量、さらに好ましくは、1.1〜1.2当量の量で使用される;
・ 段階B−dにおいて、5.0〜15.0当量、好ましくは、5.0〜10.0当量、さらに好ましくは、5.0〜7.5当量の量のNMMが使用される;
・ 段階B−dにおいて、1.25〜2.00当量、好ましくは、1.25〜1.80当量、さらに好ましくは、1.25〜1.35当量の量のCDMTが使用される;
・ 段階Aにおいて、調製された中間体環化前駆物質は、次の反応において、不活性溶媒の中で稀釈して使用され、好ましくは、トルエン、クロロベンゼン又はキシレンの中で、さらに好ましくは、トルエン中で稀釈して使用される;
・ 段階Aにおいて、1.5〜3.5当量の、好ましくは、2.0〜3.0当量の、さらに好ましくは、約2.5当量の絶対量のP2O5が使用される;
・ 段階Aにおいて、MSAの量に対するP2O5の量は、7.0〜23.0重量%であり、好ましくは、15.0〜23.0重量%であり、さらに好ましくは、約23.0重量%である;
・ 段階Aにおいて、五酸化リンの総量は、2以上の部分に分けてバッチ式で添加される。 - 請求項1において式(d−II)で定義される中間体化合物を調製する方法であって、請求項1〜7のいずれかで定義されるプロセス段階B−dを実施し(但し、段階B−dは、最終プロセス段階としては実施しない)、その後、得られた化合物を単離し、そして、場合により精製することによる、前記調製方法。
- 先行する請求項の式(a−I−1)、式(a−II)、式(a−II−1)、式(a−III)、式(a−IV)、式(a−V)、式(a−VI)、式(b−II)、式(b−II−1)、式(b−III)、式(b−IV)、式(b−V)、式(c−II)、式(c−II−1)、式(c−III)、式(c−IV)、式(c−V)及び式(d−II)のいずれかで表される中間体化合物。
- 式(II)、式(III)、式(IV)若しくは式(V)で表される化合物又はそれらのそれぞれのエナンチオマー形態を調製するための、請求項13に記載される中間体化合物又は請求項9〜12に記載される調製方法で得られ得る中間体化合物の使用。
- 先行する請求項で定義される式(b−II)、式(b−II−1)、式(b−III)、式(b−IV)、式(b−V)、式(c−II)、式(c−II−1)、式(c−III)、式(c−IV)、式(c−V)及び式(d−II)で表される中間体化合物を調製するための、請求項13の又は請求項9に記載される調製方法で得られ得る、式(a−I−1)、式(a−II)、式(a−II−1)、式(a−IV)、式(a−V)及び式(a−VI)で表される中間体化合物の使用;
又は、
先行する請求項で定義される式(a−I−1)、式(a−II)、式(a−II−1)、式(a−IV)、式(a−V)、式(a−VI)、式(c−II)、式(c−II−1)、式(c−III)、式(c−IV)、式(c−V)及び式(d−II)で表される中間体化合物を調製するための、請求項13の又は請求項10に記載される調製方法で得られ得る、式(b−II)、式(b−II−1)、式(b−III)、式(b−IV)及び式(b−V)で表される中間体化合物の使用;
又は、
先行する請求項で定義される式(a−I−1)、式(a−II)、式(a−II−1)、式(a−IV)、式(a−V)、式(a−VI)、式(b−II)、式(b−II−1)、式(b−III)、式(b−IV)、式(b−V)及び式(d−II)で表される中間体化合物を調製するための、請求項13の又は請求項11に記載される調製方法で得られ得る、式(c−II)、式(c−II−1)、式(c−III)、式(c−IV)及び式(c−V)で表される中間体化合物の使用;
又は、
先行する請求項で定義される式(a−I−1)、式(a−II)、式(a−II−1)、式(a−IV)、式(a−V)、式(a−VI)、式(b−II)、式(b−II−1)、式(b−III)、式(b−IV)、式(b−V)、式(c−II)、式(c−II−1)、式(c−III)、式(c−IV)及び式(c−V)で表される中間体化合物を調製するための、請求項13の又は請求項12に記載される調製方法で得られ得る、式(d−II)で表される中間体化合物の使用;
又は、
先行する請求項で定義される式(a−IV)、式(b−II)、式(b−II−1)、式(b−III)、式(b−IV)、式(b−V)、式(c−II)、式(c−II−1)、式(c−III)、式(c−IV)、式(c−V)及び式(d−II)で表される中間体化合物を調製するための、請求項13の又は請求項2に記載される調製方法で得られ得る、式(a−III)で表される中間体化合物の使用。
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