JP5673169B2 - ４級アンモニウム塩及びそれを用いたシクロプロパン化合物の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、４級アンモニウム塩及びそれを用いたシクロプロパン化合物の製造方法に関し、より具体的には、不斉触媒として有用な光学活性な４級アンモニウム塩及び光学活性な４級アンモニウム塩を不斉触媒として用いた光学活性シクロプロパン化合物の製造方法に関する。

（１Ｒ，２Ｓ）−１−（Ｎ−フェニルメチレン）アミノ−２−ビニルシクロプロパンカルボン酸エステル等のシクロプロパン化合物は、抗Ｃ型肝炎薬等の医薬品の製造中間体として有用であることが知られている（例えば、非特許文献１参照。）

シクロプロパン化合物の製造方法として、例えば、非特許文献１には、Ｎ−フェニルメチレングリシンエステルと（Ｅ）−１，４−ジブロモ−２−ブテンとを、Ｎ−ベンジルシンコニジン化合物及び水酸化ナトリウムの存在下で反応させ、（１Ｒ，２Ｓ）−１−（Ｎ−フェニルメチレン）アミノ−２−ビニルシクロプロパンカルボン酸エステルを得る方法が記載されている。かかる方法では、Ｎ−フェニルメチレングリシンエステル１モルに対して、０．０３モルのＮ−ベンジルシンコニジン化合物が不斉触媒として用いられ、さらに水酸化ナトリウムの存在下で反応が行われている。

Ｏｒｇａｎｉｃ Ｐｒｏｃｅｓｓ Ｒｅｓｅａｒｃｈ ＆ Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ ２０１０年，第１４巻，第６９２〜７００頁。

上記方法において不斉触媒として用いられているＮ−ベンジルシンコニジン化合物は、塩基性条件下での安定性が必ずしも十分に満足できるものではない。このため、水酸化ナトリウム存在下での反応にＮ−ベンジルシンコニジン化合物を用いると、反応中にＮ−ベンジルシンコニジン化合物が分解していく場合がある。この場合、必要量を超えるＮ−ベンジルシンコニジン化合物を用いなければならないという問題があった。
そこで、塩基性条件下での安定性に優れた新たな触媒の開発が求められていた。

このような状況のもと、本発明者らは鋭意検討し、下式（５）で示される４級アンモニウム塩が、触媒として用いられ、且つ塩基性条件下での安定性に優れることを見出し、本発明に至った。

即ち本発明は、以下の通りである。
〔１〕 式（５）

（式中、Ｒ^１は、炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ^２は、炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｒ^３は、フェニル基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキル基；又は炭素数１〜１０のアルキル基及びトリフルオロメチル基からなる群より選ばれる基を有していてもよいフェニル基を表し、Ｒ^４は、炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ^５は、炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｃ^＊は、不斉炭素原子を表し、Ｘ⁻は、ハロゲン化物イオンを表す。）
で示される４級アンモニウム塩。
〔２〕 式（５）で示される４級アンモニウム塩が光学活性である前記〔１〕記載の４級アンモニウム塩。
〔３〕 式（５）におけるＲ^１及びＲ^４が共にメチル基である前記〔１〕又は〔２〕記載の４級アンモニウム塩。
〔４〕 式（５）におけるＲ^２及びＲ^５が共にメチル基である前記〔１〕〜〔３〕のいずれか記載の４級アンモニウム塩。
〔５〕 式（５）におけるＲ^３がエチル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、２−フェニルエチル基又はｐ−トリル基である前記〔１〕〜〔４〕のいずれか記載の４級アンモニウム塩。
〔６〕 式（５）

（式中、Ｒ^１は、炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ^２は、炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｒ^３は、フェニル基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキル基；又は炭素数１〜１０のアルキル基及びトリフルオロメチル基からなる群より選ばれる基を有していてもよいフェニル基を表し、Ｒ^４は、炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ^５は、炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｃ^＊は、不斉炭素原子を表し、Ｘ⁻は、ハロゲン化物イオンを表す。）
で示される４級アンモニウム塩及び塩基の存在下、式（１）

（式中、Ａｒ^１は、置換基を有していてもよいフェニル基又は置換基を有していてもよいナフチル基を表し、Ｒは、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数２〜１２のアルケニル基を表す。）
で示される化合物と、
式（２）

（式中、Ｙ^１及びＹ^２はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルカンスルホニルオキシ基、炭素数１〜６のペルフルオロアルカンスルホニルオキシ基又はベンゼンスルホニルオキシ基を表す。ここで、該ベンゼンスルホニルオキシ基に含まれる水素原子はそれぞれ独立に、炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン原子及びニトロ基からなる群から選ばれる基で置換されていてもよい。）
で示される化合物と
を反応させる工程を含む
式（３）

（式中、Ａｒ^１及びＲは上記と同義である。Ｃ^＊１及びＣ^＊２は不斉炭素原子を表し、Ｃ^＊１がＲ配置である場合はＣ^＊２はＳ配置であり、Ｃ^＊１がＳ配置である場合はＣ^＊２はＲ配置である。）
で示されるシクロプロパン化合物の製造方法。
〔７〕 式（５）で示される４級アンモニウム塩及び式（３）で示されるシクロプロパン化合物が共に光学活性である前記〔６〕記載の製造方法。

本発明によれば、塩基性条件下での安定性に優れた新たな触媒を提供することができる。

式（５）におけるＲ^１は、炭素数１〜４のアルキル基を表す。炭素数１〜４のアルキル基としては、例えば、炭素数１〜４の直鎖状のアルキル基が挙げられ、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基及びブチル基が挙げられる。
Ｒ^１は、好ましくは、メチル基である。

式（５）におけるＲ^２は、炭素数１〜１０のアルキル基を表す。炭素数１〜１０のアルキル基としては、例えば、炭素数１〜１０の直鎖状又は分岐状のアルキル基が挙げられ、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、イソヘキシル基、ヘプチル基、イソヘプチル基、オクチル基、ノニル基及びデシル基が挙げられる。
Ｒ^２は、好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基又はイソブチル基であり、より好ましくは、メチル基である。

式（５）におけるＲ^３は、フェニル基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキル基；又は炭素数１〜１０のアルキル基及びトリフルオロメチル基からなる群より選ばれる基を有していてもよいフェニル基を表す。
フェニル基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、２−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ベンジル基及び２−フェニルエチル基が挙げられる。
炭素数１〜１０のアルキル基及びトリフルオロメチル基からなる群より選ばれる基を有していてもよいフェニル基としては、例えば、フェニル基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、２，３−ジメチルフェニル基、２，４−ジメチルフェニル基、２，５−ジメチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、３，４−ジメチルフェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、２−エチルフェニル基、３−エチルフェニル基、４−エチルフェニル基、２−トリフルオロメチルフェニル基、４−トリフルオロメチルフェニル基、３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基及び２−メチル−３−トリフルオロメチルフェニル基が挙げられる。
Ｒ^３は、好ましくは、フェニル基を有していてもよい炭素数２〜８のアルキル基または炭素数１〜１０のアルキル基を有するフェニル基であり、より好ましくは、２−フェニルエチル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基又はオクチル基であり、さらに好ましくは、２−フェニルエチル基である。

式（５）におけるＲ^４は、炭素数１〜４のアルキル基を表す。炭素数１〜４のアルキル基としては、例えば、炭素数１〜４の直鎖状のアルキル基が挙げられ、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基及びブチル基が挙げられる。
Ｒ^４は、好ましくは、メチル基である。

式（５）におけるＲ^５は、炭素数１〜１０のアルキル基を表す。炭素数１〜１０のアルキル基としては、例えば、炭素数１〜１０の直鎖状又は分岐状のアルキル基が挙げられ、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、イソヘキシル基、ヘプチル基、イソヘプチル基、オクチル基、ノニル基及びデシル基が挙げられる。
Ｒ^５は、好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基又はイソブチル基であり、より好ましくは、メチル基である。

式（５）におけるＸ⁻はハロゲン化物イオンを表す。ハロゲン化物イオンとしては、例えば、塩化物イオン、臭化物イオン及びヨウ化物イオンが挙げられる。
Ｘ⁻は、好ましくは、塩化物イオン又は臭化物イオンであり、より好ましくは、臭化物イオンである。

式（５）で示される４級アンモニウム塩（以下、化合物（５）と記すことがある。）としては、具体的には、例えば、以下の式（5-1）〜（5-12）で示される４級アンモニウム塩、並びにこれらの鏡像異性体が挙げられる。

化合物（５）は、好ましくは、式（5-1）で示される４級アンモニウム塩、式（5-5）で示される４級アンモニウム塩、式（5-6）で示される４級アンモニウム塩、式（5-7）で示される４級アンモニウム塩、式（5-8）で示される４級アンモニウム塩、式（5-9）で示される４級アンモニウム塩、式（5-10）で示される４級アンモニウム塩、式（5-11）で示される４級アンモニウム塩、式（5-12）で示される塩又はこれらの鏡像異性体であり、より好ましくは、式（5-5）で示される４級アンモニウム塩、式（5-8）で示される４級アンモニウム塩、式（5-9）で示される４級アンモニウム塩、式（5-10）で示される４級アンモニウム塩、式（5-11）で示される４級アンモニウム塩、式（5-12）で示される４級アンモニウム塩又はこれらの鏡像異性体であり、さらに好ましくは、式（5-5）で示される４級アンモニウム塩又はその鏡像異性体である。

化合物（５）は、式（６）

（式中、Ｒ^５は上記と同義であり、Ｘは。ハロゲン原子を表す。）
で示される化合物（以下、化合物（６）と記すことがある。）と式（７）

（式中、Ｒ^３、Ｒ^４及びＣ^＊は上記と同義である。）
で示される化合物（以下、化合物（７）と記すことがある。）とを反応させる工程により製造される。以下、かかる工程を本アンモニウム塩化反応と記すことがある。

式（６）におけるＸはハロゲン原子を表し、ハロゲン原子としては、例えば、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
Ｘは、好ましくは、塩素原子又は臭素原子であり、より好ましくは、臭素原子である。

化合物（６）は、例えば、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，第４４巻，２００３年，第５６２９−５６３２頁に記載の方法により製造される。

化合物（７）は、例えば、以下に例示される方法により製造される。
まず、式（７−１）

（式中、Ｒ^３は上記と同義である。）
で示される化合物（以下、化合物（７−１−１）と記すことがある。）と、式（７−１−２）

（式中、Ｒ^４は上記と同義であり、Ｒ^６は、例えば、メチル基、エチル基、ベンジル基等の炭化水素基を表す。）
で示される化合物（以下、化合物（７−１−２）と記すことがある。）又はその酸付加塩とを、トリエチルアミン等の第３アミンの存在下又は非存在下で反応させ、得られた式（７−２）

（式中、Ｒ^３、Ｒ^４及びＣ^＊は上記と同義である。）
で示される化合物（以下、化合物（７−２）と記すことがある。）に含まれるアミノ基（−ＮＨ_２）を保護し、得られた式（７−３）

（式中、Ｒ^３、Ｒ^４及びＣ^＊は上記と同義であり、Ｐ^１は、例えば、ベンジル基、２，４−ジメトキシベンジル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基等の保護基を表す。）
で示される化合物（以下、化合物（７−３）と記すことがある。）と、水素化ナトリウム等の塩基と、アルキル化剤（当該アルキル化剤は、Ｒ^１で表される炭素数１〜４のアルキル基及びＲ^２で表される炭素数１〜１０のアルキル基を化合物（７−３）に導入しうるアルキル化剤であり、具体的には、例えば、ヨードメタン、ヨードエタン、１−ヨードブタン及びジメチル硫酸が挙げられる。）と反応させ、得られた式（７−４）

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｐ^１及びＣ^＊は上記と同義である。）
で示される化合物（以下、化合物（７−４）と記すことがある。）に含まれるアミノ基を脱保護することにより、化合物（７）を得ることができる。

本アンモニウム塩化反応は、好ましくは、塩基の存在下で行われる。かかる塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム及び水酸化セシウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸カリウム及び炭酸ナトリウム等のアルカリ金属炭酸化合物、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムなどのアルカリ金属炭酸水素化合物、並びにトリエチルアミン及びジイソプロピルエチルアミン等の第３アミンが挙げられる。
塩基は、好ましくは、アルカリ金属炭酸化合物またはアルカリ金属炭酸水素化合物であり、より好ましくは、炭酸水素ナトリウムである。

本アンモニウム塩化反応は、好ましくは、溶媒の存在下で行われる。溶媒としては、例えば、脂肪族炭化水素溶媒、芳香族溶媒、エーテル溶媒、アルコール溶媒、ニトリル溶媒、ケトン溶媒、塩素化脂肪族炭化水素溶媒及び非プロトン性極性溶媒が挙げられる。これら溶媒は単独で用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。

脂肪族炭化水素溶媒としては例えば、ペンタン、ヘキサン、イソヘキサン、ヘプタン、イソヘプタン、オクタン、イソオクタン、ノナン、イソノナン、デカン、イソデカン、ウンデカン、ドデカン、シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ｔ−ブチルシクロヘキサン及び石油エーテルが挙げられ、

芳香族溶媒としては例えば、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、ｔ−ブチルベンゼン、キシレン、メシチレン、モノクロロベンゼン、モノフルオロベンゼン、α，α，α−トリフルオロメチルベンゼン、１，２−ジクロロベンゼン、１，３−ジクロロベンゼン、１，２，３−トリクロロベンゼン及び１，２，４−トリクロロベンゼンが挙げられ、

エーテル溶媒としては例えば、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジペンチルエーテル、ジヘキシルエーテル、ジヘプチルエーテル、ジオクチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、アニソール及びジフェニルエーテルが挙げられ、

アルコール溶媒としては例えば、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、ｎ−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、１−ペンタノール、２−ペンタノール、イソペンチルアルコール、１−ヘキサノール、２−ヘキサノール、イソヘキシルアルコール、１−ヘプタノール、２−ヘプタノール、３−ヘプタノール、イソペプチルアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノイソブチルエーテル、エチレングリコールモノｔ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソブチルエーテル及びジエチレングリコールモノｔ−ブチルエーテルが挙げられ、

ニトリル溶媒としては例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル及びベンゾニトリルが挙げられ、
ケトン溶媒としては例えば、アセトン、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトンが挙げられ、
塩素化脂肪族炭化水素溶媒としては例えば、ジクロロメタン、クロロホルム及び１，２−ジクロロエタンが挙げられ、

非プロトン性極性溶媒としては例えば、ジメチルスルホキシド、スルホラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピオンアミド、Ｎ−メチルピロリドン、γ−ブチロラクトン、炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン及び１，３−ジメチル−３，４，５，６−テトラヒドロ−２（１Ｈ）−ピリジノン
が挙げられる。

本アンモニウム塩化反応における溶媒は、好ましくはニトリル溶媒又はケトン溶媒であり、より好ましくはケトン溶媒である。

本アンモニウム塩化反応は、例えば、次の方法により行われる。
（ｉ）化合物（７）と溶媒との混合物に、化合物（６）及び塩基を添加し、得られた混合物を後述する反応温度に調節することにより、化合物（６）と化合物（７）とを反応させる方法；
（ii）化合物（６）と溶媒との混合物に、化合物（７）及び塩基を添加し、得られた混合物を後述する反応温度に調節することにより、化合物（６）と化合物（７）とを反応させる方法；
（iii）化合物（７）と溶媒との混合物を後述する反応温度に調節し、そこへ化合物（６）及び塩基を添加することにより、化合物（６）と化合物（７）とを反応させる方法；
（iv）化合物（６）と溶媒との混合物を後述する反応温度に調節し、そこへ化合物（７）及び塩基を添加することにより、化合物（６）と化合物（７）とを反応させる方法；
（ｖ）溶媒及び塩基を後述する反応温度に調節し、そこへ化合物（６）及び化合物（７）を添加することにより、化合物（６）と化合物（７）とを反応させる方法。

本アンモニウム塩化反応における化合物（７）の使用量は、化合物（６）１モルに対して、例えば０．８〜４モルの範囲であり、好ましくは１〜２モルの範囲であり、より好ましくは１．０〜１．５モルの範囲である。化合物（７）の使用量が０．８モル未満である場合は化合物（５）の収率が低下する傾向にある。
本アンモニウム塩化反応における塩基の使用量は、化合物（６）１モルに対して、例えば０．５〜２モルの範囲であり、好ましくは０．８〜１．５モルの範囲であり、より好ましくは１．０〜１．３モルの範囲である。塩基の使用量が０．８モル未満である場合は化合物（５）の収率が低下する傾向にある。
本アンモニウム塩化反応を溶媒の存在下で行う場合には、溶媒の使用量は、化合物（６）１ｇに対して、例えば１〜５０ｍＬの範囲であり、好ましくは２〜２０ｍＬの範囲である。
本アンモニウム塩化反応における反応温度は、例えば４０℃〜１００℃の範囲から選択から選択される温度であり、好ましくは４５℃〜８０℃の範囲から選択される温度である。反応温度が４５℃未満である場合は本アンモニウム塩化反応の速度が遅くなる傾向にあり、反応温度が１００℃を超える場合は化合物（５）の収率が低下する傾向にある。

本アンモニウム塩化反応終了後、得られた化合物（５）は、単離してもよいし、単離しなくてもよい。化合物（５）は、本アンモニウム塩化反応終了後の反応混合物を、必要に応じて、例えば、中和、抽出洗浄、水洗等の後処理に付した後、例えば冷却晶析、濃縮晶析等の晶析処理に付し、析出物を回収することにより、単離することができる。単離した化合物（５）を、例えば再結晶により精製することで、化合物（５）の化学純度を向上させることができ、化合物（５）が光学活性である場合、光学純度を向上させることもできる。化合物（５）が光学活性である場合、その光学純度は限定されないが、例えば９０％e.e.（以下、e.e.は鏡像体過剰率を表す。）以上であり、好ましくは９５％e.e.以上であり、さらに好ましくは９８％e.e.以上である。

かくして得られる化合物（５）は、触媒として用いることができる。化合物（５）が光学活性である場合、かかる化合物（５）は不斉触媒として用いることができる。また、化合物（５）は、例えば、Ｎ−ベンジルシンコニジン化合物等と比較して、塩基性条件下での安定性に優れている。このため、化合物（５）は、塩基存在下での反応に触媒として用いられた場合であっても、かかる反応中の分解が抑制され、Ｎ−ベンジルシンコニジン化合物を用いた場合と比較して、使用量を削減することができる。
以下、化合物（５）を触媒として用いた光学活性シクロプロパン化合物の製造方法を詳細に説明する。

化合物（５）及び塩基の存在下、式（１）で示される化合物（以下、化合物（１）と記すことがある。）と、式（２）で示される化合物（以下、化合物（２）と記すことがある。）とを反応させる工程を行うことにより、式（３）で示されるシクロプロパン化合物（以下、化合物（３）と記すことがある。）を製造することができる。かかる工程を、本触媒反応と記すことがある。

式（１）におけるＡｒ^１は、置換基を有していてもよいフェニル基又は置換基を有していてもよいナフチル基を表す。ここで、ナフチル基は、１−ナフチル基及び２−ナフチル基のいずれであってもよい。フェニル基及びナフチル基が有していてもよい置換基としては、例えば、下記群Ｐ１から選ばれる置換基が挙げられる。

＜群Ｐ１＞
炭素数１〜１２のアルキル基、
炭素数１〜１２のアルコキシ基、
ハロゲン原子、
ニトロ基、
シアノ基
及び
トリフルオロメチル基。

群Ｐ１において、
炭素数１〜１２のアルキル基としては例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基及びドデシル基等の炭素数１〜１２の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、並びにシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基及びシクロオクチル基等の炭素数３〜１２の環状のアルキル基が挙げられ、
炭素数１〜１２のアルコキシ基としては例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｔ−ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基及びオクチルオキシ基等の炭素数１〜１２の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルコキシ基、並びにシクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基及びシクロオクチルオキシ基等の炭素数３〜１２の環状のアルキルオキシ基が挙げられ、
ハロゲン原子としては例えば、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子が挙げられる。

Ａｒ^１としては、具体的には、例えば、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、２−メチルフェニル基、２−メトキシフェニル基、２−フルオロフェニル基、２−クロロフェニル基、２−ブロモフェニル基、２−ニトロフェニル基、２−シアノフェニル基、２−（トリフルオロメチル）フェニル基、３−メチルフェニル基、３−メトキシフェニル基、３−フルオロフェニル基、３−クロロフェニル基、３−ブロモフェニル基、３−ニトロフェニル基、３−シアノフェニル基、３−（トリフルオロメチル）フェニル基、４−メチルフェニル基、４−メトキシフェニル基、４−フルオロフェニル基、４−クロロフェニル基、４−ブロモフェニル基、４−ニトロフェニル基、４−シアノフェニル基、４−（トリフルオロメチル）フェニル基、２，３−ジクロロフェニル基、２，４−ジクロロフェニル基、３，４−ジクロロフェニル基及び３，４，５−トリクロロフェニル基が挙げられる。

Ａｒ^１は、好ましくは置換基を有していてもよいフェニル基であり、より好ましくはハロゲン原子を有していてもよいフェニル基であり、さらに好ましくはフェニル基又は４−クロロフェニル基である。

式（１）におけるＲは、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数２〜１２のアルケニル基を表す。炭素数１〜１２のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基及びドデシル基等の炭素数１〜１２の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、並びにシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基及びシクロオクチル基等の炭素数３〜１２の環状のアルキル基が挙げられる。Ｒで表される炭素数２〜１２のアルケニル基としては、例えば、エテニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基及び３−メチル−２−ブテニル基等の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルケニル基、並びに１−シクロヘキセニル基等の環状のアルケニル基が挙げられる。

Ｒは、好ましくは炭素数１〜１２のアルキル基であり、より好ましくはエチル基又はｔ−ブチル基であり、さらに好ましくはエチル基である。

化合物（１）としては、例えば、Ｎ−フェニルメチレングリシン エチルエステル、Ｎ−ナフタレン−１−イルメチレングリシン エチルエステル、Ｎ−ナフタレン−２−イルメチレングリシン エチルエステル、Ｎ−（４−メチルフェニル）メチレングリシン エチルエステル、Ｎ−（４−メトキシフェニル）メチレングリシン エチルエステル、Ｎ−（４−フルオロフェニル）メチレングリシン エチルエステル、Ｎ−（４−クロロフェニル）メチレングリシン エチルエステル、Ｎ−[４−（トリフルオロメチル）フェニル]メチレングリシン エチルエステル、Ｎ−（３−クロロフェニル）メチレングリシン エチルエステル、Ｎ−（４−クロロフェニル）メチレングリシン エチルエステル、Ｎ−フェニルメチレングリシン ｔ−ブチルエステル、Ｎ−（４−クロロフェニル）メチレングリシン ｔ−ブチルエステル、Ｎ−フェニルメチレングリシン メチルエステル及びＮ−（４−クロロフェニル）メチレングリシン メチルエステルが挙げられる。
化合物（１）は、好ましくは、Ｎ−フェニルメチレングリシン エチルエステル、Ｎ−ナフタレン−１−イルメチレングリシン エチルエステル又はＮ−（４−クロロフェニル）メチレングリシン エチルエステルである。

化合物（１）は、例えば、グリシン エチルエステル塩酸塩等のグリシンエステルを原料として、非特許文献１に記載される方法等により製造できる。また、Ｎ−フェニルメチレングリシン エチルエステル等の市販品を用いることもできる。

式（２）におけるＹ^１及びＹ^２は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルカンスルホニルオキシ基、炭素数１〜６のペルフルオロアルカンスルホニルオキシ基又はベンゼンスルホニルオキシ基を表す。ハロゲン原子としては例えば、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられ、
炭素数１〜６のアルカンスルホニルオキシ基としては例えば、メタンスルホニルオキシ基、エタンスルホニルオキシ基、プロパンスルホニルオキシ基、ブタンスルホニルオキシ基、ペンタンスルホニルオキシ基及びヘキサンスルホニルオキシ基が挙げられ、
炭素数１〜６のペルフルオロアルカンスルホニルオキシ基としては例えば、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、ペンタフルオロエタンスルホニルオキシ基、ペルフルオロプロパンスルホニルオキシ基及びペルフルオロヘキサンスルホニルオキシ基が挙げられる。
ここで、ベンゼンスルホニルオキシ基に含まれる水素原子はそれぞれ独立に、炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン原子及びニトロ基からなる群から選ばれる基で置換されていてもよい。炭素数１〜６のアルキル基としては例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基及びｔ−ブチルが挙げられ、ハロゲン原子としては例えば、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子が挙げられる。かかる置換基を有するベンゼンスルホニルオキシ基としては例えば、４−メチルベンゼンスルホニルオキシ基、２−ニトロベンゼンスルホニルオキシ基、３−ニトロベンゼンスルホニルオキシ基、４−ニトロベンゼンスルホニルオキシ基、２，４−ジニトロベンゼンスルホニルオキシ基、４−フルオロベンゼンスルホニルオキシ基及びペンタフルオロベンゼンスルホニルオキシ基が挙げられる。
Ｙ^１及びＹ^２はそれぞれ独立に、好ましくは塩素原子、臭素原子又はメタンスルホニルオキシ基であり、より好ましくは臭素原子である。

化合物（２）としては例えば、（Ｅ）−１，４−ジブロモ−２−ブテン、（Ｅ）−１，４−ジクロロ−２−ブテン、（Ｅ）−１，４−ジメタンスルホニルオキシ−２−ブテン及び（Ｅ）−１−ブロモ−４−クロロ−２−ブテンが挙げられる。化合物（２）は、好ましくは（Ｅ）−１，４−ジブロモ−２−ブテン又は（Ｅ）−１，４−ジクロロ−２−ブテンであり、より好ましくは（Ｅ）−１，４−ジブロモ−２−ブテンである。
化合物（２）は公知の方法により製造することができ、また、市販品を用いることもできる。

式（３）におけるＡｒ^１及びＲは、式（１）におけるＡｒ^１及びＲと同義である。

化合物（３）は、−Ｎ＝ＣＨ−Ａｒ^１で示されるアリールメチリデンアミノ基と−ＣＨ＝ＣＨ_２で示されるエテニル基とを、シクロプロパン環平面に対して互いに異なる面側に有する化合物である。

化合物（３）には、その光学異性体として、アリールメチリデンアミノ基とエテニル基とを、シクロプロパン環平面に対して同じ面側に有する式（３ｃ）

（式中、Ａｒ^１及びＲは、上記と同義である。）及び式（３ｄ）

（式中、Ａｒ^１及びＲは、上記と同義である。）
で示される異性体が存在する。以下これら異性体を総称して、ジアステレオマー（３ｃ−ｄ）と記すことがある。

化合物（３）としては例えば、（１Ｓ，２Ｒ）−１−（Ｎ−フェニルメチレン）アミノ−２−ビニルシクロプロパンカルボン酸エチルエステル、（１Ｓ，２Ｒ）−１−［Ｎ−（４−クロロフェニル）メチレン］アミノ−２−ビニルシクロプロパンカルボン酸エチルエステル、（１Ｓ，２Ｒ）−１−（Ｎ−フェニルメチレン）アミノ−２−ビニルシクロプロパンカルボン酸ｔ−ブチルエステル、（１Ｓ，２Ｒ）−１−［Ｎ−（４−クロロフェニル）メチレン］アミノ−２−ビニルシクロプロパンカルボン酸ｔ−ブチルエステル、（１Ｓ，２Ｒ）−１−（Ｎ−フェニルメチレン）アミノ−２−ビニルシクロプロパンカルボン酸メチルエステル、（１Ｓ，２Ｒ）−１−［Ｎ−（４−クロロフェニル）メチレン］アミノ−２−ビニルシクロプロパンカルボン酸メチルエステル、（１Ｓ，２Ｒ）−１−（Ｎ−ナフタレン−１−イルメチレン）アミノ−２−ビニルシクロプロパンカルボン酸エチルエステル、（１Ｒ，２Ｓ）−１−（Ｎ−フェニルメチレン）アミノ−２−ビニルシクロプロパンカルボン酸エチルエステル、（１Ｒ，２Ｓ）−１−［Ｎ−（４−クロロフェニル）メチレン］アミノ−２−ビニルシクロプロパンカルボン酸エチルエステル、（１Ｒ，２Ｓ）−１−（Ｎ−フェニルメチレン）アミノ−２−ビニルシクロプロパンカルボン酸ｔ−ブチルエステル、（１Ｒ，２Ｓ）−１−［Ｎ−（４−クロロフェニル）メチレン］アミノ−２−ビニルシクロプロパンカルボン酸ｔ−ブチルエステル、（１Ｒ，２Ｓ）−１−（Ｎ−フェニルメチレン）アミノ−２−ビニルシクロプロパンカルボン酸メチルエステル、（１Ｒ，２Ｓ）−１−［Ｎ−（４−クロロフェニル）メチレン］アミノ−２−ビニルシクロプロパンカルボン酸メチルエステル及び（１Ｒ，２Ｓ）−１−（Ｎ−ナフタレン−１−イルメチレン）アミノ−２−ビニルシクロプロパンカルボン酸エチルエステルが挙げられる。

本触媒反応に用いる塩基としては例えば、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム及び水酸化セシウム等のアルカリ金属水酸化物、
炭酸カリウム及び炭酸ナトリウム等のアルカリ金属炭酸化合物、
並びに
トリエチルアミン及びジイソプロピルエチルアミン等の第３アミン
が挙げられる。
塩基は、好ましくはアルカリ金属水酸化物であり、より好ましくは水酸化カリウムである。

本触媒反応は、溶媒の存在下で行われることが好ましい。溶媒としては例えば、脂肪族炭化水素溶媒、芳香族溶媒、エーテル溶媒、アルコール溶媒、ニトリル溶媒、エステル溶媒、塩素化脂肪族炭化水素溶媒、非プロトン性極性溶媒及び水が挙げられる。これら溶媒は単独で用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。

脂肪族炭化水素溶媒としては例えば、ペンタン、ヘキサン、イソヘキサン、ヘプタン、イソヘプタン、オクタン、イソオクタン、ノナン、イソノナン、デカン、イソデカン、ウンデカン、ドデカン、シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ｔ−ブチルシクロヘキサン及び石油エーテルが挙げられ、
芳香族溶媒としては例えば、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、ｔ−ブチルベンゼン、キシレン、メシチレン、モノクロロベンゼン、モノフルオロベンゼン、α，α，α−トリフルオロメチルベンゼン、１，２−ジクロロベンゼン、１，３−ジクロロベンゼン、１，２，３−トリクロロベンゼン及び１，２，４−トリクロロベンゼンが挙げられ、
エーテル溶媒としては例えば、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジペンチルエーテル、ジヘキシルエーテル、ジヘプチルエーテル、ジオクチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、アニソール及びジフェニルエーテルが挙げられ、

アルコール溶媒としては例えば、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、ｎ−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、１−ペンタノール、２−ペンタノール、イソペンチルアルコール、１−ヘキサノール、２−ヘキサノール、イソヘキシルアルコール、１−ヘプタノール、２−ヘプタノール、３−ヘプタノール、イソペプチルアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノイソブチルエーテル、エチレングリコールモノｔ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソブチルエーテル及びジエチレングリコールモノｔ−ブチルエーテルが挙げられ、

ニトリル溶媒としては例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル及びベンゾニトリルが挙げられ、
エステル溶媒としては例えば、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ｔ−ブチル、酢酸アミル及び酢酸イソアミルが挙げられ、
塩素化脂肪族炭化水素溶媒としては例えば、ジクロロメタン、クロロホルム及び１，２−ジクロロエタンが挙げられ、
非プロトン性極性溶媒としては例えば、ジメチルスルホキシド、スルホラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピオンアミド、Ｎ−メチルピロリドン、γ−ブチロラクトン、炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン及び１，３−ジメチル−３，４，５，６−テトラヒドロ−２（１Ｈ）−ピリジノン
が挙げられる。

本触媒反応に用いる溶媒は、水と、水以外の溶媒とを混合して用いることが好ましく、水と、芳香族溶媒又はエーテル溶媒とを混合して用いることがより好ましく、水と、トルエン又はｔ−ブチルメチルエーテルとを混合して用いることがさらに好ましい。

本触媒反応において、化合物（２）の使用量は、化合物（１）１モルに対して、好ましくは０．８〜２０モルの範囲であり、より好ましくは０．９〜５モルの範囲である。

本触反応において、化合物（５）の使用量は限定されないが、化合物（１）１モルに対して、好ましくは０．００００１〜０．２モルの範囲であり、より好ましくは０．０００５〜０．０１モルの範囲である。

本触媒反応において、塩基の使用量は、化合物（１）１モルに対して、好ましくは２〜３０モルの範囲であり、より好ましくは４〜１５モルの範囲である。

本触媒反応が溶媒の存在下で行われる場合、溶媒の使用量は限定されず、化合物（１）１ｇに対して、好ましくは１〜１００mＬの範囲であり、より好ましくは３〜３０mＬの範囲である。

本触媒反応の反応温度は、好ましくは−３０〜７０℃の範囲、より好ましくは−１０〜４０℃の範囲から選択される。

本触媒反応の反応時間は、化合物（５）の使用量や反応温度等により調節することができるが、好ましくは１〜１２０時間の範囲である。

本触媒反応の進行度合いは、例えば、ガスクロマトグラフィーや液体クロマトグラフィー等の分析手段により確認することができる。

本触媒反応における反応試剤の混合方法は規定されず、例えば、化合物（１）を必要に応じて溶媒と混合し、そこへ化合物（２）及び化合物（５）を添加した後、得られる混合物を反応温度に調整し、反応温度に調整した混合物に塩基を添加する方法が挙げられる。

光学苛性な化合物（５）を用いた場合、本触媒反応の終了後、得られる化合物（３）は光学活性であり、その光学純度は、例えば６０％e.e.程度〜９５％e.e.程度の範囲である。

化合物（３）がジアステレオマー（３ｃ−ｄ）との混合物として得られる場合には、化合物（３）の精製を容易にする点において、ジアステレオマー（３ｃ−ｄ）を式（８）

（式中、Ａｒ^１及びＲは、上記と同義である。）で示される７員環化合物（以下、化合物（８）と記すことがある。）へと変換することが好ましい。ジアステレオマー（３ｃ−ｄ）から７員環化合物（７）への変換は、上述した本反応の条件において行うことができる（非特許文献１参照。）が、ジアステレオマー（３ｃ−ｄ）が化合物（８）へ変換されていない場合や化合物（８）への変換が不十分な場合には、例えば５０℃程度〜８０℃程度に加熱することにより、ジアステレオマー（３ｃ−ｄ）を化合物（８）へ変換することができる。加熱時間は、好ましくは１分程度〜１０時間程度である。

ジアステレオマー（３ｃ−ｄ）から化合物（８）への変換後、化合物（３）と化合物（８）との比は、例えば化合物（３）：化合物（８）＝８：１程度〜４０：１程度の範囲である。

得られた化合物（３）は、単離してもよいし、単離しなくてもよい。単離する場合には、本触媒反応終了後の反応混合物を、例えば、中和、抽出洗浄、水洗、濃縮等の後処理に付し、必要に応じて、活性炭処理、シリカ処理、アルミナ処理等の吸着処理、再結晶、蒸留、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等の精製処理に付せばよい。

かくして得られる化合物（３）をイミン加水分解することで、式（４）

（式中、Ｒ、Ｃ^＊１及びＣ^＊２は、上記と同義である。）
で示される化合物（以下、化合物（４）と記すことがある。）が得られる。ここで、イミン加水分解は、化合物（３）に含まれるアリールメチリデンアミノ基をアミノ基へと変換することを意味する。

イミン加水分解は、化合物（３）に含まれるエステル部位が加水分解されない方法であれば限定されず、好ましくは、化合物（３）と酸とを混合することにより行われる。

イミン加水分解用いられる酸としては例えば、
塩酸、硫酸、りん酸、硝酸及び過塩素酸等の無機酸が挙げられる。
酸は、単独であってもよいし、後述する溶媒との混合物であってもよい。
酸は、好ましくは無機酸であり、より好ましくは塩酸である。酸として塩酸を用いる場合、水と混合する等によりその濃度を適宜調節して用いればよい。

イミン加水分解において、好ましくは、酸と混合後に得られる混合物が、ｐＨ０〜ｐＨ４の範囲となるように、酸の使用量を調節する。かかる範囲へｐＨを調節するためには、酸が塩酸である場合、化合物（３）１モルに対して、例えば０．８〜１．５モルの酸を用いればよい。

イミン加水分解は、好ましくは溶媒の存在下に行われる。イミン加水分解に用いられる溶媒としては例えば、上述の本不斉触媒反応に用いられる溶媒と同様のものが挙げられる。
溶媒は単独であってもよいし、２種以上の混合物であってもよい。
溶媒は、好ましくは水、芳香族溶媒又はエーテル溶媒である。
溶媒の使用量は、化合物（３）１ｇに対して、好ましくは１〜１００mＬの範囲であり、より好ましくは３〜３０mＬの範囲である。

イミン加水分解を行う温度は、例えば０〜８０℃の範囲、好ましくは５〜６０℃の範囲、より好ましくは１０〜４０℃の範囲から選択される。

イミン加水分解を行う時間は、用いる酸の種類・濃度やイミン加水分解を行う温度により調節できるが、好ましくは１分〜２０時間の範囲であり、より好ましくは１０分〜１０時間の範囲である。

イミン加水分解における混合方法は限定されないが、例えば、化合物（３）と溶媒とを混合し、得られる混合物に酸を添加する方法が挙げられる。

光学活性な化合物（３）をイミン加水分解した場合、イミン加水分解終了後、得られる化合物（４）の光学純度は、イミン加水分解に付した化合物（３）の光学純度と同程度であり、例えば６０％e.e.程度〜９５％e.e.程度の範囲である。

得られる化合物（４）は、単離してもよいし、単離しなくてもよい。単離する場合には、イミン加水分解により得られる反応混合物を、例えば、中和、抽出洗浄、水洗、濃縮等の後処理に付し、必要に応じて、活性炭処理、シリカ処理、アルミナ処理等の吸着処理、蒸留、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等の精製処理に付せばよい。

化合物（４）としては例えば、（１Ｓ，２Ｒ）−１−アミノ−２−ビニルシクロプロパンカルボン酸エチルエステル、（１Ｓ，２Ｒ）−１−アミノ−２−ビニルシクロプロパンカルボン酸ｔ−ブチルエステル、（１Ｓ，２Ｒ）−１−アミノ−２−ビニルシクロプロパンカルボン酸ｔ−ブチルエステル、（１Ｓ，２Ｒ）−１−アミノ−２−ビニルシクロプロパンカルボン酸メチルエステル、（１Ｒ，２Ｓ）−１−アミノ−２−ビニルシクロプロパンカルボン酸エチルエステル、（１Ｒ，２Ｓ）−１−アミノ−２−ビニルシクロプロパンカルボン酸ｔ−ブチルエステル及び（１Ｒ，２Ｓ）−１−アミノ−２−ビニルシクロプロパンカルボン酸メチルエステルが挙げられる。

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。

化合物（７−２）：（Ｓ）−２−アミノ−１，１−ジｐ−トリル−１−プロパノールの製造
ｐ−トリルマグネシウムブロミド（１．０ｍｏｌ／Ｌ−テトラヒドロフラン溶液）３５ｍＬ（３５．０ｍｍｏｌ）を５℃に冷却し、そこに（Ｓ）−アラニンベンジルエステル−トルエン溶液７．６６ｇ（（Ｓ）−アラニンベンジルエステル純分１．７９ｇ，１０．０ｍｍｏｌ）とトルエン３５ｍＬとの混合液を１．５時間かけて滴下した。滴下終了後、得られた混合物を５℃で３０分間攪拌し、さらに、室温に昇温して２時間攪拌した。反応終了後、反応混合物を氷冷し、そこに２ｍｏｌ／Ｌ塩酸水１７．５ｍＬ（ＨＣｌ３５．０ｍｍｏｌ）を滴下した。攪拌を停止して分液を行い、得られた有機層を２０％食塩水２０ｍＬで２回洗浄した。洗浄した有機層を硫酸マグネシウムで脱水した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行い、（Ｓ）−２−アミノ−１，１−ジｐ−トリル−１−プロパノール１．６１ｇ（６．３２ｍｍｏｌ）を得た。収率６３％。

化合物（７−３）：（Ｓ）−２−（ベンジルアミノ）−１，１−ジｐ−トリル−１−プロパノールの製造
上記で得た（Ｓ）−２−アミノ−１，１−ジｐ−トリル−１−プロパノール１．６０ｇ（６．２５ｍｍｏｌ）とトルエン１０ｍＬとを混合し、その混合物に室温でベンズアルデヒド０．６６ｇ（６．２５ｍｍｏｌ）と硫酸マグネシウム１．６０ｇとを加えて２時間攪拌した。得られた混合物をろ過して硫酸マグネシウムを取り除き、ろ液を濃縮してイミン体を得た。
得られたイミン体０．８７ｇ（２．５ｍｍｏｌ）を分取し、分取したイミン体とアセトニトリル１０ｍＬとを混合し、その混合物に室温で水素化ホウ素ナトリウム０．１９ｇ（５．０ｍｍｏｌ）を加えた。その混合物に５重量％重曹水を滴下し、トルエン１０ｍＬと酢酸エチル１０ｍＬとを流入した。得られた混合物に１ｍｏｌ／Ｌ塩酸水を加えてその水層のｐＨを８〜９に調整した後、攪拌を停止して分液し、得られた有機層を２０重量％食塩水５ｍＬで洗浄した。それぞれ得られた水層を混合し、酢酸エチル１０ｍＬで抽出した。先に得られた有機層と、酢酸エチルでの抽出によって得られた有機層とを混合し、硫酸ナトリウムで脱水した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行い、（Ｓ）−２−（ベンジルアミノ）−１，１−ジｐ−トリル−１−プロパノール０．８４ｇ（２．４４ｍｍｏｌ）を得た。収率９７％。

化合物（７−４）：（Ｓ）−Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチル−１−メトキシ−１，１−ジｐ−トリル−２−プロピルアミンの製造
上記で得た（Ｓ）−２−（ベンジルアミノ）−１，１−ジｐ−トリル−１−プロパノール０．８４ｇ（２．４ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン１０ｍＬとを混合し、氷冷した。そこへ、ヨードメタン１．０４ｇ（７．３２ｍｍｏｌ）と、水素化ナトリウム０．２２ｇ（含量６０％、６．１ｍｍｏｌ）とを加えた。得られた混合物を室温まで昇温して２時間ほど攪拌した後、ジメチルホルムアミド５ｍＬを流入してさらに1３時間攪拌した。得られた混合物にトルエン１０ｍＬを流入し、氷冷後、水１０ｍＬを滴下した。攪拌を停止して分液し、水層をトルエン１０ｍＬで抽出した。それぞれ得られた有機層を混合した後、２０重量％食塩水５ｍＬで洗浄し、硫酸ナトリウムで脱水した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより（Ｓ）−Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチル−１−メトキシ−１，１−ジｐ−トリル−２−プロピルアミンを得た。収率８１％。

化合物（７）：（Ｓ）−Ｎ−メチル−１−メトキシ−１，１−ジｐ−トリル−２−プロピルアミンの製造
オートクレーブ容器に上記で得た（Ｓ）−Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチル−１−メトキシ−１，１−ジｐ−トリル−２−プロピルアミン０．８３ｇ（２．２ｍｍｏｌ）とエタノール１０ｍＬとを流入し、その溶液に１０％パラジウム炭素０．８０ｇ（川研ファインケミカル製、ＮＸ型、５０％ｗｅｔ）を室温で添加した。このオートクレーブ容器内を０．２ＭＰａの窒素圧で３回窒素置換した後、この容器内を０．４ＭＰａの水素圧で３回水素置換し、０．５ＭＰａの水素圧条件下、得られた混合物を４０℃で２時間攪拌した。反応後、０．２ＭＰａの窒素圧で容器内を３回窒素置換した後、常圧に戻し、得られた反応混合物をろ過してパラジウム炭素を取り除いた。得られたろ液を濃縮して、（Ｓ）−Ｎ−メチル−１−メトキシ−１，１−ジトリル−２−プロピルアミン０．６２ｇを得た。収率１００％として次反応を行った。

＜実施例１＞
化合物（５）：（Ｓ）−２，１０−ジｔ−ブチル−３，９−ジメトキシ−６−メチル−６−（１−メチル−２−メトキシ−２，２−ジｐ−トリルエチル）−４，８−ビス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）−６，７−ジヒドロ−５Ｈ−ジベンゾ［ｃ，ｅ］−アゼピニウムブロミドの製造
上記で得た（Ｓ）−Ｎ−メチル−１−メトキシ−１，１−ジｐ−トリル−２−プロピルアミン０．６２ｇ（２．２ｍｍｏｌ）とアセトン１０ｍＬとを混合し、得られた混合物に、５，５’−ジｔ−ブチル−４，４’−ジメトキシ−２，２’−ビスジブロモメチル−３，３’−（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）−ビフェニル１．７３ｇ（１．８５ｍｍｏｌ）と炭酸水素ナトリウム０．１７ｇ（２．０１ｍｍｏｌ）とを添加した。得られた混合物を５７℃のオイルバスで加熱し、２８時間反応させた。反応終了後、オイルバス温度を５０℃に冷却し、シクロヘキサン１０ｍＬを流入し、水５ｍＬで２回洗浄した。得られた有機層を濃縮した後、残渣にシクロヘキサンを添加し、得られた混合物を５０℃のオイルバスで加熱しながら攪拌するとスラリーとなった。このスラリーを室温まで冷却し、ろ過により結晶粉末を取り出し、減圧乾燥して（Ｓ）−２，１０−ジｔ−ブチル−３，９−ジメトキシ−６−メチル−６−（１−メチル−２−メトキシ−２，２−ジｐ−トリルエチル）−４，８−ビス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）−６，７−ジヒドロ−５Ｈ−ジベンゾ［ｃ，ｅ］−アゼピニウムブロミド１．３４ｇ（１．１８ｍｍｏｌ）を得た。収率６４％。

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）δｐｐｍ： ８．２０（１Ｈ，ｓ），８．１５（１Ｈ，ｓ），８．１０（１Ｈ，ｓ），８．０６（１Ｈ，ｓ），７．９０（１Ｈ，ｓ），７．７４（１Ｈ，ｓ），７．６１（１Ｈ，ｓ），７．５４（１Ｈ，ｓ），７．１４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），６．９１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），６．８５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），６．７３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），５．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．１Ｈｚ），４．６２−４．５０（１Ｈ，ｍ），４．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．７Ｈｚ），４．０２−３．９０（２Ｈ，ｍ），３．１２（３Ｈ，ｓ），３．０１（３Ｈ，ｓ），２．５８（３Ｈ，ｓ），２．３５（３Ｈ，ｓ），２．２９（３Ｈ，ｓ），２．２３（３Ｈ，ｓ），１．５７（９Ｈ，ｓ），１．４９（９Ｈ，ｓ），０．５８（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）．

＜実施例２〜６＞
（Ｓ）−２−アミノ−１，１−ジｐ−トリル−１−プロパノールの製造におけるトリルマグネシウムブロミドを、以下の表１に示す有機マグネシウムハライドに変更し、以下の表１に示す化合物（５）を製造した。

実施例２で得た化合物（５）：（Ｓ）−２，１０−ジｔ−ブチル−３，９−ジメトキシ−６−メチル−６−（１−メチル−２−メトキシ−２−エチルブチル）−４，８−ビス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）−６，７−ジヒドロ−５Ｈ−ジベンゾ［ｃ，ｅ］−アゼピニウムブロミド
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）δｐｐｍ： ８．３５（１Ｈ，ｓ），８．１９（１Ｈ，ｓ），８．０１（１Ｈ，ｓ），８．００（１Ｈ，ｓ），７．８４（１Ｈ，ｓ），７．７１（１Ｈ，ｓ），７．６３（１Ｈ，ｓ），７．５７（１Ｈ，ｓ），５．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．１Ｈｚ），４．４２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．７Ｈｚ），３．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．１Ｈｚ），３．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．７Ｈｚ），３．２４（３Ｈ，ｓ），３．０３（３Ｈ，ｓ），３．０２−２．９５（１Ｈ，ｍ），２．９０（３Ｈ，ｓ），２．８３（３Ｈ，ｓ），１．８０−１．２０（３Ｈ，ｍ），１．５７（９Ｈ，ｓ），１．４９（９Ｈ，ｓ），１．０２−０．９０（１Ｈ，ｍ），０．７７−０．６８（５Ｈ，ｍ），０．５７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）．

実施例３で得た化合物（５）：（Ｓ）−２，１０−ジｔ−ブチル−３，９−ジメトキシ−６−メチル−６−（１−メチル−２−メトキシ−２−ブチルヘキシル）−４，８−ビス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）−６，７−ジヒドロ−５Ｈ−ジベンゾ［ｃ，ｅ］−アゼピニウムブロミド
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）δｐｐｍ： ８．３４（１Ｈ，ｓ），８．１８（１Ｈ，ｓ），８．０１（１Ｈ，ｓ），７．９９（１Ｈ，ｓ），７．８２（１Ｈ，ｓ），７．７０（１Ｈ，ｓ），７．６２（１Ｈ，ｓ），７．５７（１Ｈ，ｓ），５．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．１Ｈｚ），４．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ），３．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．１Ｈｚ），３．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ），３．１９（３Ｈ，ｓ），３．０４（３Ｈ，ｓ），３．０９−２．９９（１Ｈ，ｍ），２．８７（３Ｈ，ｓ），２．７６（３Ｈ，ｓ），１．６０−０．７７（１２Ｈ，ｍ），１．５３（９Ｈ，ｓ），１．５０（９Ｈ，ｓ），０．８３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），０．７８−０．６６（５Ｈ，ｍ）．

実施例４で得た化合物（５）：（Ｓ）−２，１０−ジｔ−ブチル−３，９−ジメトキシ−６−メチル−６−（１−メチル−２−メトキシ−２−ヘキシルオクチル）−４，８−ビス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）−６，７−ジヒドロ−５Ｈ−ジベンゾ［ｃ，ｅ］−アゼピニウムブロミド
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）δｐｐｍ： ８．３６（１Ｈ，ｓ），８．１７（１Ｈ，ｓ），８．０２（１Ｈ，ｓ），７．９８（１Ｈ，ｓ），７．８１（１Ｈ，ｓ），７．７０（１Ｈ，ｓ），７．６２（１Ｈ，ｓ），７．５７（１Ｈ，ｓ），５．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．１Ｈｚ），４．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ），３．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．１Ｈｚ），３．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ），３．１９（３Ｈ，ｓ），３．０５（３Ｈ，ｓ），３．０８−２．９８（１Ｈ，ｍ），２．８５（３Ｈ，ｓ），２．７４（３Ｈ，ｓ），１．５２（９Ｈ，ｓ），１．４９（９Ｈ，ｓ），１．４０−０．６６（２０Ｈ，ｍ），０．８７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），０．８６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），０．７２（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）．

実施例５で得た化合物（５）：（Ｓ）−２，１０−ジｔ−ブチル−３，９−ジメトキシ−６−メチル−６−（１−メチル−２−メトキシ−２−オクチルデカニル）−４，８−ビス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）−６，７−ジヒドロ−５Ｈ−ジベンゾ［ｃ，ｅ］−アゼピニウムブロミド
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）δｐｐｍ： ８．３６（１Ｈ，ｓ），８．１６（１Ｈ，ｓ），８．０１（１Ｈ，ｓ），７．９７（１Ｈ，ｓ），７．８０（１Ｈ，ｓ），７．７０（１Ｈ，ｓ），７．６２（１Ｈ，ｓ），７．５７（１Ｈ，ｓ），５．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．１Ｈｚ），４．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ），３．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．１Ｈｚ），３．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ），３．１９（３Ｈ，ｓ），３．０５（３Ｈ，ｓ），３．０８−３．００（１Ｈ，ｍ），２．８５（３Ｈ，ｓ），２．７４（３Ｈ，ｓ），１．５２（９Ｈ，ｓ），１．４９（９Ｈ，ｓ），１．４０−０．６５（２８Ｈ，ｍ），０．９０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），０．８８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），０．７２（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）．

実施例６で得た化合物（５）：（Ｓ）−２，１０−ジｔ−ブチル−３，９−ジメトキシ−６−メチル−６−［４−フェニル−１−メチル−２−メトキシ−２−（２−フェニルエチル）ブチル］−４，８−ビス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）−６，７−ジヒドロ−５Ｈ−ジベンゾ［ｃ，ｅ］−アゼピニウムブロミド
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）δｐｐｍ： ８．３９（１Ｈ，ｓ），８．１１（１Ｈ，ｓ），７．９９（１Ｈ，ｓ），７．８４（１Ｈ，ｓ），７．６２（１Ｈ，ｓ），７．６０（１Ｈ，ｓ），７．５９（１Ｈ，ｓ），７．４９（１Ｈ，ｓ），７．４０−７．２２（６Ｈ，ｍ），７．０６−７．００（２Ｈ，ｍ），６．８３−６．７５（２Ｈ，ｍ），５．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．１Ｈｚ），４．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．７Ｈｚ），３．９６−８３（２Ｈ，ｍ），３．２５−３．１２（１Ｈ，ｍ），３．１１（３Ｈ，ｓ），３．０３（３Ｈ，ｓ），２．９７（３Ｈ，ｓ），２．９２（３Ｈ，ｓ），２．５８−２．２４（４Ｈ，ｍ），１．８０−１．１０（４Ｈ，ｍ），１．５２（９Ｈ，ｓ），１．５０（９Ｈ，ｓ），０．９０（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）．

化合物（１）：（Ｅ）−Ｎ−フェニルメチレングリシン エチルエステルの製造
グリシンエチルエステル塩酸塩１３．８ｇ（９８．９ｍｍｏｌ）とトルエン５０ｇとを混合し、そこにジメチルスルホシキド１０ｇを室温で流入した。得られた混合物にベンズアルデヒド１０．０ｇ（９４．２ｍｍｏｌ）を流入した。得られた混合物を１２℃に調整し、２５％水酸化ナトリウム水溶液１６．５ｇ（水酸化ナトリウム１０４ｍｍｏｌ）を３時間かけて滴下した。滴下終了後、得られた混合物を１１℃〜１３℃の温度範囲で２０時間攪拌した。反応終了後、反応混合物を５℃まで冷却し、そこへ水１１．４ｍＬを滴下した。その後、攪拌を停止して分液を行い、得られた有機層を２０重量％食塩水１９ｇで洗浄した。得られた有機層を硫酸マグネシウムで脱水処理した後、溶媒を減圧留去して（Ｅ）−Ｎ−フェニルメチレングリシン エチルエステルのトルエン溶液４３．６ｇ（（Ｅ）−Ｎ−フェニルメチレングリシン エチルエステル純分１６．５ｇ）を得た。収率９２％。

＜実施例７＞
化合物（３）：（１Ｒ，２Ｓ）−１−（Ｎ−フェニルメチレン）アミノ−２−ビニルシクロプロパンカルボン酸エチルエステルの製造
（Ｅ）−Ｎ−フェニルメチレングリシン エチルエステルのトルエン溶液２．６０ｇ（（Ｅ）−Ｎ−フェニルメチレングリシン エチルエステル純分：０．９８ｇ、５．１４ｍｍｏｌ）とトルエン１０ｍＬとを混合し、そこに（Ｅ）−１，４−ジブロモ−２−ブテン１．００ｇ（４．６８ｍｍｏｌ）と実施例１で得られた（Ｓ）−２，１０−ジｔ−ブチル−３，９−ジメトキシ−６−メチル−６−（１−メチル−２−メトキシ−２，２−ジｐ−トリルエチル）−４，８−ビス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）−６，７−ジヒドロ−５Ｈ−ジベンゾ［ｃ，ｅ］−アゼピニウムブロミド０．０２７ｇ（０．０２３ｍｍｏｌ）とを室温で加えた。得られた混合物を０℃に冷却し、そこに５０％水酸化カリウム水溶液５．２５ｇ（水酸化カリウム４６．８ｍｍｏｌ）を滴下し、０℃で攪拌することで（Ｅ）−Ｎ−フェニルメチレングリシン エチルエステルと（Ｅ）−１，４−ジブロモ−２−ブテンとを反応させた。反応時間２０時間であった。反応終了後、得られた混合物に水３ｍＬを加え、攪拌を停止して分液し、得られた有機層を２０％食塩水３ｍＬで洗浄した。分液後、表題の（１Ｒ，２Ｓ）−１−（Ｎ−フェニルメチレン）アミノ−２−ビニルシクロプロパンカルボン酸エチルエステルを含む有機層を得た。

得られた有機層に含まれる（１Ｒ，２Ｓ）−１−（Ｎ−フェニルメチレン）アミノ−２−ビニルシクロプロパンカルボン酸エチルエステルを、下記の高速液体クロマトグラフィー分析条件により分析し、（１Ｒ，２Ｓ）−１−（Ｎ−フェニルメチレン）アミノ−２−ビニルシクロプロパンカルボン酸エチルエステルと化合物（８）であるエチル ７−フェニル−６，７−ジヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボキシレートとの比を算出した。（１Ｒ，２Ｓ）−１−（Ｎ−フェニルメチレン）アミノ−２−ビニルシクロプロパンカルボン酸エチルエステル：エチル ７−フェニル−６，７−ジヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボキシレート＝１０：１。
（１Ｒ，２Ｓ）−１−（Ｎ−フェニルメチレン）アミノ−２−ビニルシクロプロパンカルボン酸エチルエステルのジアステレオマーは検出されなかった。

＜高速液体クロマトグラフィー分析条件＞
カラム：ＹＭＣ Ｐａｃｋ ＯＤＳ−Ａ−３０２（４．６×１５０ｍｍ，５μｍ）
移動相：Ａ＝４０ｍＭＫＨ_２ＰＯ_４水（ｐＨ３．５−Ｈ_３ＰＯ_４）、
Ｂ＝メタノール
Ａ／Ｂ＝１０％（０ｍｉｎ）→１０％（５ｍｉｎ）→７０％（２５ｍｉｎ）
→７０％（４５ｍｉｎ）
流量：１．０ｍＬ／分
検出器：波長２２０ｎｍ
保持時間：１１．７分 （（１Ｒ，２Ｓ）−１−（Ｎ−フェニルメチレン）アミノ−２
−ビニルシクロプロパンカルボン酸エチルエステル）
３１．２分 （エチル ７−フェニル−６，７−ジヒドロ−１Ｈ−アゼピン
−２−カルボキシレート）

＜収率・光学純度の決定＞
続いて、得られた有機層に１Ｍ−塩酸水４．７ｍＬを加えて、室温で２時間攪拌し加水分解反応を行い、反応終了後、分液して得られた有機層に水３ｍＬを加え抽出を行った。得られた水層を合一し、（１Ｒ，２Ｓ）−１−アミノ−２−ビニルシクロプロパンカルボン酸エチルエステル塩酸塩を水溶液として７．９３ｇ得た。得られた水溶液を上記の分析条件で定量分析を行い、収率を算出した。収率５９％。また、光学純度は下記の光学純度分析条件により分析し、光学純度を求めた。光学純度８１％e.e.。

＜光学純度分析条件＞
カラム：ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ（ダイセル化学工業登録商標）ＡＤ−ＲＨ
（４．６×１５０ｍｍ，５μｍ）
移動相：Ａ＝２０ｍＭリン酸水素二カリウム水溶液（リン酸でｐＨ８．０に調製）、
Ｂ＝アセトニトリル
Ａ／Ｂ＝８０／２０
流量：０．５ｍＬ／分
検出器：波長２１５ｎｍ
保持時間：（１Ｒ，２Ｓ）体＝１４．７分、（１Ｓ，２Ｒ）体＝１６．２分

＜実施例８〜１２＞
（Ｓ）−２，１０−ジｔ−ブチル−３，９−ジメトキシ−６−メチル−６−（１−メチル−２−メトキシ−２，２−ジｐ−トリルエチル）−４，８−ビス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）−６，７−ジヒドロ−５Ｈ−ジベンゾ［ｃ，ｅ］−アゼピニウムブロミドの代わりに、実施例２〜６で得られた化合物（５）を用いた以外は実施例７の方法に従い、（１Ｒ，２Ｓ）−１−（Ｎ−フェニルメチレン）アミノ−２−ビニルシクロプロパンカルボン酸エチルエステルを得た。化合物（５）の使用量は、（Ｅ）−１，４−ジブロモ−２−ブテン１モルに対して、０．００５モルであった。結果を表２に示す。

（１Ｒ，２Ｓ）−１−（Ｎ−フェニルメチレン）アミノ−２−ビニルシクロプロパンカルボン酸エステル等のシクロプロパン化合物は、抗Ｃ型肝炎薬等の医薬品の製造中間体として有用である。
本発明は、（１Ｒ，２Ｓ）−１−（Ｎ−フェニルメチレン）アミノ−２−ビニルシクロプロパンカルボン酸エステル等のシクロプロパン化合物の製造方法及びその製造方法に用いられる化合物（５）を提供することから、産業上利用することができる。

Claims (7)

1. 式（５）
   

   

   （式中、Ｒ^１は、炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ^２は、炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｒ^３は、フェニル基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキル基；又は炭素数１〜１０のアルキル基及びトリフルオロメチル基からなる群より選ばれる基を有していてもよいフェニル基を表し、Ｒ^４は、炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ^５は、炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｃ^＊は、不斉炭素原子を表し、Ｘ⁻は、ハロゲン化物イオンを表す。）
   で示される４級アンモニウム塩。
2. 式（５）で示される４級アンモニウム塩が光学活性である請求項１記載の４級アンモニウム塩。
3. 式（５）におけるＲ^１及びＲ^４が共にメチル基である請求項１又は２記載の４級アンモニウム塩。
4. 式（５）におけるＲ^２及びＲ^５が共にメチル基である請求項１〜３のいずれか記載の４級アンモニウム塩。
5. 式（５）におけるＲ^３がエチル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、２−フェニルエチル基又はｐ−トリル基である請求項１〜４のいずれか記載の４級アンモニウム塩。
6. 式（５）
   

   

   （式中、Ｒ^１は、炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ^２は、炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｒ^３は、フェニル基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキル基；又は炭素数１〜１０のアルキル基及びトリフルオロメチル基からなる群より選ばれる基を有していてもよいフェニル基を表し、Ｒ^４は、炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ^５は、炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｃ^＊は、不斉炭素原子を表し、Ｘ⁻は、ハロゲン化物イオンを表す。）
   で示される４級アンモニウム塩及び塩基の存在下、式（１）
   

   

   （式中、Ａｒ^１は、置換基を有していてもよいフェニル基又は置換基を有していてもよいナフチル基を表し、Ｒは、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数２〜１２のアルケニル基を表す。）
   で示される化合物と、
   式（２）
   

   

   （式中、Ｙ^１及びＹ^２はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルカンスルホニルオキシ基、炭素数１〜６のペルフルオロアルカンスルホニルオキシ基又はベンゼンスルホニルオキシ基を表す。ここで、該ベンゼンスルホニルオキシ基に含まれる水素原子はそれぞれ独立に、炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン原子及びニトロ基からなる群から選ばれる基で置換されていてもよい。）
   で示される化合物と
   を反応させる工程を含む
   式（３）
   

   

   （式中、Ａｒ^１及びＲは上記と同義である。Ｃ^＊１及びＣ^＊２は不斉炭素原子を表し、Ｃ^＊１がＲ配置である場合はＣ^＊２はＳ配置であり、Ｃ^＊１がＳ配置である場合はＣ^＊２はＲ配置である。）
   で示されるシクロプロパン化合物の製造方法。
7. 式（５）で示される４級アンモニウム塩及び式（３）で示されるシクロプロパン化合物が共に光学活性である請求項６記載の製造方法。