JP2021503482A5 - - Google Patents
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Claims (20)
- 式Ｒ３Ｓｎ３（Ｏ２ＣＲ’）３＋ｘ（Ｌ）２−ｘ（ＯＨ）２（μ３−Ｏ）（ここで、０≦ｘ≦２；Ｌは式ＯＲａ又はＳＲａを有する配位子であり、ＲａはＨ又は１〜２０個の炭素原子を有する有機基である；Ｒ＝１〜３１個の炭素原子を有する分枝状アルキル又はシクロアルキル；Ｒ’＝Ｈ又は１〜２０個の炭素原子を有するアルキル）によって表される分子クラスターを含む組成物。
- 前記組成物が結晶性である、請求項１に記載の組成物。
- ｘ＝２である、請求項２に記載の組成物。
- Ｒが分枝状アルキル基、シクロアルキル基又はこれらの混合物を含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の組成物。
- Ｒがメチル、エチル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｓ−ブチル若しくはｔ−ブチル基、ｔ−アミル、ネオペンチル又はこれらの組合せである、請求項１〜３のいずれか一項に記載の組成物。
- Ｒ’がＨ、１〜１０個の炭素原子を有するアルキル基、又はこれらの組合せを含み、ＬがＯＨである、請求項１〜５のいずれか一項に記載の組成物。
- 請求項１〜６のいずれか一項に記載の組成物を合成するための方法であって、
有機溶媒中で、アルキルスズトリアルキルアセチリドと、カルボン酸及び水とを反応させることを含む方法。 - 有機溶媒と、式Ｒ３Ｓｎ３（Ｏ２ＣＲ’）５−ｘ（Ｌ）２＋ｘ（μ３−Ｏ）（ここで、０≦ｘ≦２；Ｒ＝１〜３１個の炭素原子を有する分枝状アルキル又はシクロアルキル；Ｒ’＝Ｈ又は１〜２０個の炭素原子を有するアルキル、及びＬは式−ＯＲ”を有する配位子であり、Ｒ”はＨ、有機基又はこれらの組合せである）を有する溶媒和有機金属クラスターとを含む溶液。
- 前記有機溶媒がアルコール、エーテル、エステル又はこれらの混合物を含む、請求項８に記載の溶液。
- 前記有機溶媒がさらに約５ｖ／ｖ％〜約２５ｖ／ｖ％のカルボン酸を含む、請求項９に記載の溶液。
- スズの量を基準として約１．９ｍＭ〜約９．４ｍＭのクラスター濃度を有する、請求項８〜１０のいずれか一項に記載の溶液。
- Ｒがメチル、エチル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｓ−ブチル若しくはｔ−ブチル基、ｔ−アミル、ネオペンチル又はこれらの組合せを含む、請求項８〜１１のいずれか一項に記載の溶液。
- Ｒ’がＨ、１〜１０個の炭素原子を有するアルキル基、又はこれらの組合せを含み、ＬがＯＨである、請求項８〜１２のいずれか一項に記載の溶液。
- Ｒ”が−Ｒ０ＯＨＲ１、１〜１０個の炭素原子を有するアルキル基又はこれらの組合せを含む、請求項８〜１３のいずれか一項に記載の溶液。
- 構造物をパターン化するための方法であって、
放射線感受性コーティングを有する基板をパターン化放射線に暴露して、潜像を有する暴露コーティングを形成するステップであって、前記放射線感受性コーティングが、式Ｒ３Ｓｎ３（Ｏ２ＣＲ’）３＋ｘ（Ｌ）２−ｘ（ＯＨ）２（μ３−Ｏ）（ここで、０≦ｘ≦２；Ｒ＝１〜３１個の炭素原子を有する分枝状アルキル又はシクロアルキル、Ｒ’＝Ｈ又は１〜２０個の炭素原子を有するアルキル、及びＬは式−ＯＲ”を有する配位子であり、Ｒ”は有機基である）によって表される分子クラスターを含む溶液の堆積によって形成された、ステップと
前記暴露コーティングを適切な現像剤で現像して、パターン化コーティングを形成する、ステップと
を含む方法 - 前記放射線がＥＵＶ放射線である、請求項１５に記載の方法。
- Ｒがメチル、エチル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｓ−ブチル若しくはｔ−ブチル基、ｔ−アミル、ネオペンチル又はこれらの組合せを含む、請求項１５又は１６に記載の方法。
- Ｒ’がＨ、１〜１０個の炭素原子を有するアルキル基、又はこれらの組合せを含み、ＬがＯＨである、請求項１５〜１７のいずれか一項に記載の方法。
- Ｒ”が−Ｒ０ＯＨＲ１、１〜１０個の炭素原子を有するアルキル基又はこれらの組合せを含む、請求項１５〜１８のいずれか一項に記載の方法。
- 前記現像剤が、ネガ型パターンを形成するための有機溶媒を含む、請求項１５〜１９のいずれか一項に記載の方法。
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