JP2021173915A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7520569B2 (ja) * 2020-04-28 2024-07-23 キヤノン株式会社 情報処理装置、及び情報処理方法

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5859964A (en) * 1996-10-25 1999-01-12 Advanced Micro Devices, Inc. System and method for performing real time data acquisition, process modeling and fault detection of wafer fabrication processes
US6477685B1 (en) 1999-09-22 2002-11-05 Texas Instruments Incorporated Method and apparatus for yield and failure analysis in the manufacturing of semiconductors
JP2002149222A (ja) 2000-11-08 2002-05-24 Mitsubishi Electric Corp 製品の生産ラインにおける品質管理方法および品質管理システム
JP4128339B2 (ja) * 2001-03-05 2008-07-30 株式会社日立製作所 試料処理装置用プロセスモニタ及び試料の製造方法
TW200516686A (en) * 2003-11-10 2005-05-16 Renesas Tech Corp Manufacturing method for semiconductor integrated circuit device
JP2005294754A (ja) * 2004-04-05 2005-10-20 Toshiba Corp 電子ビーム描画装置、電子ビーム描画方法、電子ビーム描画プログラム及び直接描画方式を用いた半導体装置の製造方法
US7343583B2 (en) 2004-07-09 2008-03-11 Kla-Tencor Technologies Corporation System and method for searching for patterns of semiconductor wafer features in semiconductor wafer data
JP4715749B2 (ja) * 2004-08-19 2011-07-06 株式会社ニコン アライメント情報表示方法とそのプログラム、アライメント方法、露光方法、デバイス製造方法、表示システム、表示装置
JP2006237052A (ja) * 2005-02-22 2006-09-07 Nikon System:Kk 情報表示方法、情報表示プログラム、情報表示装置及びデバイス製造システム、並びに基板処理装置
JP4720991B2 (ja) * 2005-08-01 2011-07-13 株式会社ニコン 情報表示システム
JP2009170612A (ja) 2008-01-15 2009-07-30 Canon Inc 情報処理装置、情報処理方法、処理システムおよびコンピュータプログラム
EP2453330A1 (de) * 2010-11-13 2012-05-16 ABB Technology AG Intelligente Visualisierung der Überwachung von Prozess- und/oder Anlagegrössen
US10295993B2 (en) * 2011-09-01 2019-05-21 Kla-Tencor Corporation Method and system for detecting and correcting problematic advanced process control parameters
JP5673577B2 (ja) * 2012-02-07 2015-02-18 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体
JP5866446B2 (ja) * 2012-07-03 2016-02-17 シャープ株式会社 グラフ描画装置、グラフ描画方法、工程管理システム、工程管理方法、制御プログラムおよび可読記憶媒体
CN103293878B (zh) 2013-05-31 2015-07-15 上海华力微电子有限公司 光刻机产能监测系统
JP7052280B2 (ja) * 2016-11-29 2022-04-12 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体
JP6808684B2 (ja) 2018-06-14 2021-01-06 キヤノン株式会社 情報処理装置、判定方法、プログラム、リソグラフィシステム、および物品の製造方法
JP7520569B2 (ja) * 2020-04-28 2024-07-23 キヤノン株式会社 情報処理装置、及び情報処理方法

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