JP2011061143A - 基板処理システム - Google Patents
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Abstract
【課題】群管理装置へ接続する基板処理装置間の各種パラメータを一括比較する。
【解決手段】複数台の基板処理装置を群管理装置20によって集中管理する基板処理システムにおいて、群管理装置20は比較元装置A1と比較先装置A2から各種パラメータを通信インタフェースを介して取得し、装置パラメータ一括比較画面40を表示装置25に表示させる。オペレータが一括比較開始ボタン48を選択すると、一括比較処理を開始し、一括比較処理が終了すると、比較結果画面50を表示装置25に表示させる。オペレータは比較結果画面50の相違点有無表示列54によってパラメータ種別毎に相違点の有無を確認し、全パラメータ種別の中で何れのパラメータ種別に相違点があるかを確認する。相違点の詳細を確認する場合、オペレータは詳細確認ボタン57を選択し、画面出力またはCSV形式ファイルへの出力で確認する。
【選択図】図3
【解決手段】複数台の基板処理装置を群管理装置20によって集中管理する基板処理システムにおいて、群管理装置20は比較元装置A1と比較先装置A2から各種パラメータを通信インタフェースを介して取得し、装置パラメータ一括比較画面40を表示装置25に表示させる。オペレータが一括比較開始ボタン48を選択すると、一括比較処理を開始し、一括比較処理が終了すると、比較結果画面50を表示装置25に表示させる。オペレータは比較結果画面50の相違点有無表示列54によってパラメータ種別毎に相違点の有無を確認し、全パラメータ種別の中で何れのパラメータ種別に相違点があるかを確認する。相違点の詳細を確認する場合、オペレータは詳細確認ボタン57を選択し、画面出力またはCSV形式ファイルへの出力で確認する。
【選択図】図3
Description
本発明は、基板処理システムに関する。
例えば、半導体集積回路装置(以下、ICという)や液晶表示装置(以下、LCDという)の製造工場のCIM(computer integrated manufacturing )に利用して有効なものに関する。
例えば、半導体集積回路装置(以下、ICという)や液晶表示装置(以下、LCDという)の製造工場のCIM(computer integrated manufacturing )に利用して有効なものに関する。
ICやLCDの製造工場のCIMで使用されている基板処理システムにおいては、複数台の基板処理装置を群管理装置に接続し、群管理装置によって集中的に管理している。
群管理装置は、次のような多数の装置パラメータを管理している。
(1)装置の構成を定義したパラメータ。
(2)装置のメカニカル系の動作(動作速度、動作位置)を定義したパラメータ。
(3)基板処理条件としての温度、ガス流量、圧力等の設定を定義したパラメータ。
(4)基板処理中に異常が発生した場合のエラー処理を定義したパラメータ。
従来の基板処理システムにおいては、これらのパラメータを一つずつ選択して比較操作を行い、比較結果の確認作業を実施している。したがって、比較対象の全パラメータの比較および確認作業を行うのために、時間を要していた。
そこで、装置パラメータを通信プログラムを使用して基板処理装置から吸い上げ、装置パラメータを比較する機能を群管理装置に設けた基板処理システムが提案されている。例えば、特許文献1参照。
群管理装置は、次のような多数の装置パラメータを管理している。
(1)装置の構成を定義したパラメータ。
(2)装置のメカニカル系の動作(動作速度、動作位置)を定義したパラメータ。
(3)基板処理条件としての温度、ガス流量、圧力等の設定を定義したパラメータ。
(4)基板処理中に異常が発生した場合のエラー処理を定義したパラメータ。
従来の基板処理システムにおいては、これらのパラメータを一つずつ選択して比較操作を行い、比較結果の確認作業を実施している。したがって、比較対象の全パラメータの比較および確認作業を行うのために、時間を要していた。
そこで、装置パラメータを通信プログラムを使用して基板処理装置から吸い上げ、装置パラメータを比較する機能を群管理装置に設けた基板処理システムが提案されている。例えば、特許文献1参照。
ところで、基板処理装置が群管理装置の管理対象として追加される場合には、同一種類の基板処理を実施する基板処理装置相互間の機差(個体差)による基板処理への影響を回避するために、新旧の基板処理装置相互間で各種パラメータを比較し、パラメータの相違(パラメータ設定ミス、設定漏れ等)をチェックする必要がある。
しかしながら、従来の基板処理システムにおいては、基板処理装置と群管理装置との間のパラメータを比較し得るに過ぎない。
しかしながら、従来の基板処理システムにおいては、基板処理装置と群管理装置との間のパラメータを比較し得るに過ぎない。
本発明の目的は、群管理装置へ接続する基板処理装置相互間の各種パラメータを一括して比較することができる基板処理システムを提供することにある。
本願が開示する発明のうち代表的なものは、次の通りである。
基板に処理を施す複数台の基板処理装置と、前記複数台の基板処理装置に接続される群管理装置とを備えている基板処理システムであって、
前記群管理装置は、前記基板処理装置から所定のパラメータファイルを取得して、パラメータ比較を行う対象の基板処理装置から取得したパラメータファイル種別とパラメータファイル名とを表示部にそれぞれ表示し、前記表示部に表示された複数のパラメータファイルを比較するためのボタンが押下されると、比較元のパラメータファイルと比較先のパラメータファイルとを比較して、その比較結果を表示することを特徴とする基板処理システム。
基板に処理を施す複数台の基板処理装置と、前記複数台の基板処理装置に接続される群管理装置とを備えている基板処理システムであって、
前記群管理装置は、前記基板処理装置から所定のパラメータファイルを取得して、パラメータ比較を行う対象の基板処理装置から取得したパラメータファイル種別とパラメータファイル名とを表示部にそれぞれ表示し、前記表示部に表示された複数のパラメータファイルを比較するためのボタンが押下されると、比較元のパラメータファイルと比較先のパラメータファイルとを比較して、その比較結果を表示することを特徴とする基板処理システム。
本発明によれば、群管理装置へ接続する基板処理装置相互間の各種パラメータを一括して比較することができる。
さらに、比較した結果を表示することで、相違点を確認することができる。また、相違点の詳細はファイルへ出力することで、確認することができる。したがって、基板処理装置相互間の各種パラメータの比較を精度良く、かつ、時間をかけずに実施することができるため、群管理装置の管理対象として、追加するのにかかる時間を短縮することができる。その結果、装置の稼動率の向上だけでなく、システムとしての稼動率も向上する。
さらに、比較した結果を表示することで、相違点を確認することができる。また、相違点の詳細はファイルへ出力することで、確認することができる。したがって、基板処理装置相互間の各種パラメータの比較を精度良く、かつ、時間をかけずに実施することができるため、群管理装置の管理対象として、追加するのにかかる時間を短縮することができる。その結果、装置の稼動率の向上だけでなく、システムとしての稼動率も向上する。
以下、本発明の一実施の形態を図面に即して説明する。
本実施形態に係る基板処理システムは、IC製造工場の前工程を制御するものとして構成されており、図1に示されているように、複数の基板処理装置A1〜Anが接続された群管理装置20を備えている。
各基板処理装置A1〜Anはパーソナルコンピュータやパネルコンピュータによって構築された各制御コントローラを備えており、各制御コントローラには基板処理装置A1〜An毎の固有の装置パラメータを保持する記憶領域B1〜Bnが構成されている。
複数の基板処理装置A1〜Anは群管理装置20のネットワーク11に、各SECSインタフェース(半導体製造装置通信規定による通信インタフェース)C1〜Cnをそれぞれ介して接続されている。
各基板処理装置A1〜Anはパーソナルコンピュータやパネルコンピュータによって構築された各制御コントローラを備えており、各制御コントローラには基板処理装置A1〜An毎の固有の装置パラメータを保持する記憶領域B1〜Bnが構成されている。
複数の基板処理装置A1〜Anは群管理装置20のネットワーク11に、各SECSインタフェース(半導体製造装置通信規定による通信インタフェース)C1〜Cnをそれぞれ介して接続されている。
群管理装置20は、CPU22およびメモリ23等を含む制御装置21と、LCD表示装置あるいはCRT表示装置等からなる表示装置25およびキーボードやタッチパネルからなる入力装置26等を含むユーザインタフェース装置(UI装置)24と、を備えている。群管理装置20は通信インタフェースC1〜Cnを介して基板処理装置A1〜Anの生産履歴データ、稼動状態データおよび障害情報等、また、起動時には基板処理装置A1〜Anによって送信された装置パラメータ等を取得する。
群管理装置20には図2に示された実行プログラム群30がインストールされている。実行プログラム群30は、管理プログラム31と、画面表示プログラム32と、装置パラメータ収集プログラム33と、装置通信プログラム34と、装置パラメータ一括比較プログラム35と、を備えている。
装置パラメータ収集プログラム33は装置パラメータを各基板処理装置A1〜Anから装置通信プログラム34によって吸い上げる。
画面表示プログラム32は、図3に示された装置パラメータ一括比較画面(以下、一括比較画面という)40、図4に示された装置パラメータ一括比較結果画面(以下、比較結果画面という)50等、を表示装置25に表示させる。
装置パラメータ収集プログラム33は装置パラメータを各基板処理装置A1〜Anから装置通信プログラム34によって吸い上げる。
画面表示プログラム32は、図3に示された装置パラメータ一括比較画面(以下、一括比較画面という)40、図4に示された装置パラメータ一括比較結果画面(以下、比較結果画面という)50等、を表示装置25に表示させる。
図3に示されているように、画面表示プログラム32は一括比較画面40に比較元パラメータ定義テーブル41Aおよび比較先パラメータ定義テーブル41Bをそれぞれ表示させる。比較元パラメータ定義テーブル41Aおよび比較先パラメータ定義テーブル41Bには、一括比較対象指定列42A、42B、ファイルタイプ列43A、43B、ファイルネーム列44A、44B、がそれぞれ設けられている。
また、画面表示プログラム32は一括比較画面40に、スクロールボタン45、パラメータ定義登録・変更ボタン(登録変更ボタンという)47、一括比較開始ボタン48を、それぞれ表示させる。
また、画面表示プログラム32は一括比較画面40に、スクロールボタン45、パラメータ定義登録・変更ボタン(登録変更ボタンという)47、一括比較開始ボタン48を、それぞれ表示させる。
図4に示されているように、画面表示プログラム32は比較結果画面50に装置パラメータ一括比較結果テーブル(以下、結果テーブルという)51を表示させる。結果テーブル51には比較結果対象指定列52、ファイルタイプ列53、相違点有無表示列54、比較結果列55、がそれぞれ設けられている。
また、画面表示プログラム32は比較結果画面50に比較結果詳細確認ボタン(以下、詳細確認ボタンという)57を、それぞれ表示させる。詳細確認ボタン57は画面表示またはCSV形式ファイルへの出力が可能であり、詳細確認ボタン57には、全項目の比較結果を出力させる全項目出力ボタン58と、相違項目のみを出力させる相違項目出力ボタン59と、が設けられている。
また、画面表示プログラム32は比較結果画面50に比較結果詳細確認ボタン(以下、詳細確認ボタンという)57を、それぞれ表示させる。詳細確認ボタン57は画面表示またはCSV形式ファイルへの出力が可能であり、詳細確認ボタン57には、全項目の比較結果を出力させる全項目出力ボタン58と、相違項目のみを出力させる相違項目出力ボタン59と、が設けられている。
次に、本実施形態に係る基板処理システムにおける装置パラメータ一括比較方法を、基板処理装置A1(以下、比較元装置A1とする)と同一種類の成膜処理を実施する基板処理装置A2(以下、比較先装置A2とする)がIC製造工場に新規に導入される場合、を例にして説明する。
装置パラメータ収集プログラム33は比較元装置A1の装置パラメータファイルおよび比較先装置A2の装置パラメータファイルを装置通信プログラム34によってそれぞれ吸い上げる。
装置パラメータ一括比較を実施する前に、管理プログラム31はパラメータ種別毎に一括比較の対象とするパラメータファイルの登録作業を実施する。
画面表示プログラム32は一括比較画面40を表示装置25に表示させる。オペレータが登録変更ボタン47を選択(例えば、マウスでクリック)すると、装置パラメータ一括比較プログラム35は登録・変更可能な状態に切り替わる。パラメータ種別毎の装置パラメータファイルは、比較元装置A1および比較先装置A2から装置通信プログラム34を使用して吸い上げたファイル一覧から選択して、登録・変更する。したがって、人為的入力ミス等でファイル名を間違って登録するような問題は、発生しない。
装置パラメータ一括比較を実施する前に、管理プログラム31はパラメータ種別毎に一括比較の対象とするパラメータファイルの登録作業を実施する。
画面表示プログラム32は一括比較画面40を表示装置25に表示させる。オペレータが登録変更ボタン47を選択(例えば、マウスでクリック)すると、装置パラメータ一括比較プログラム35は登録・変更可能な状態に切り替わる。パラメータ種別毎の装置パラメータファイルは、比較元装置A1および比較先装置A2から装置通信プログラム34を使用して吸い上げたファイル一覧から選択して、登録・変更する。したがって、人為的入力ミス等でファイル名を間違って登録するような問題は、発生しない。
オペレータが一括比較開始ボタン48を選択すると、一括比較プログラム35は一括比較処理を開始する。
一括比較処理は、全パラメータファイル種別について実施することができる。しかし、必要なパラメータファイル種別に限定して実施することもできる。一括比較処理の対象または非対象の指定は、一括比較対象指定列42A、42Bによって実施する。本実施形態においては、一括比較対象指定列42A、42Bに「*」が表示されたパラメータファイル種別は、一括比較処理の対象であり、「*」が表示されないパラメータファイル種別は、一括比較処理の非対象である。一括比較対象指定列42A、42Bの対応する行を選択(例えば、マウスでクリック)することにより、対象と非対象とが切り替わる。
一括比較処理は、全パラメータファイル種別について実施することができる。しかし、必要なパラメータファイル種別に限定して実施することもできる。一括比較処理の対象または非対象の指定は、一括比較対象指定列42A、42Bによって実施する。本実施形態においては、一括比較対象指定列42A、42Bに「*」が表示されたパラメータファイル種別は、一括比較処理の対象であり、「*」が表示されないパラメータファイル種別は、一括比較処理の非対象である。一括比較対象指定列42A、42Bの対応する行を選択(例えば、マウスでクリック)することにより、対象と非対象とが切り替わる。
一括比較プログラム35が一括比較処理を終了すると、画面表示プログラム32は比較結果画面50を表示装置25に表示させる。
オペレータは、比較結果画面50の相違点有無表示列54によってパラメータ種別毎に相違点の有無を確認することができるとともに、全パラメータ種別の中で何れのパラメータファイル種別に相違点があるかを、一目で確認することができる。
相違点の有無は、相違点有無表示列54によって確認することができる。本実施形態においては、相違点有無表示列54に「*」が表示されたパラメータファイル種別は「相違点有り」であり、「*」が表示されないパラメータファイル種別は「相違点無し」である。
オペレータは、比較結果画面50の相違点有無表示列54によってパラメータ種別毎に相違点の有無を確認することができるとともに、全パラメータ種別の中で何れのパラメータファイル種別に相違点があるかを、一目で確認することができる。
相違点の有無は、相違点有無表示列54によって確認することができる。本実施形態においては、相違点有無表示列54に「*」が表示されたパラメータファイル種別は「相違点有り」であり、「*」が表示されないパラメータファイル種別は「相違点無し」である。
パラメータファイル種別の相違点の詳細を確認する場合においては、オペレータは詳細確認ボタン57を選択する。比較結果の詳細は、画面出力またはCSV形式ファイルへの出力で確認することができる。比較結果の詳細は、全項目出力ボタン58を選択(例えば、マウスでクリック)することにより、全項目の比較結果を出力させることができるし、相違項目出力ボタン59を選択することにより、相違項目のみを出力させることもできる。
図5は、相違項目のみを出力した場合の一例を示している。
図5は、相違項目のみを出力した場合の一例を示している。
前記実施の形態によれば、次の効果が得られる。
(1)群管理装置に接続された複数台の基板処理装置相互間における各種パラメータの相違点の有無を短時間で比較することができる。
(2)基板処理装置に固有のパラメータは基板処理装置相互間で相違することが必然であるので、一括比較が不能であるが、このような相違が必然であるパラメータについては、一括比較パラメータの登録・変更の際に、比較対象から外すことにより、無駄な比較処理を省略することができる。
(3)群管理装置に接続された複数台の基板処理装置相互間における各種パラメータの一括比較処理を自動的に実施することにより、各種パラメータの設定ミスや設定洩れによる実際の基板処理への悪影響を低減することができるので、ロットアウト(全品不良)の発生を防止することができる。
なお、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々に変更が可能であることはいうまでもない。
例えば、装置パラメータ一括比較方法は、基板処理装置と同一種類の成膜処理を実施する基板処理装置がIC製造工場に新規に導入される場合に限らず、群管理装置に接続された複数台の基板処理装置相互間における各種パラメータの相違点の有無する場合等に実施することができる。
群管理装置は基板処理装置と同じフロアに設置する必要はなく、クリーンルーム外(例えば、事務室)に設置することもできる。また、群管理装置は基板処理装置と同じフロアに設置しておき、クリーンルーム外(例えば、事務室)に設置された端末装置(パーソナルコンピュータ等)により遠隔操作するように構成してもよい。
基板処理装置はバッチ式や枚葉式および縦型や横型に限定されることはなく、本発明は単数または複数の基板処理装置によって製造プロセスが実施される基板処理システム全般に適用することができる。
さらに、基板処理装置はCVD処理を実施するものに限らず、酸化や拡散、アニール等の熱処理(thermal treatment )を実施するものであってもよい。
前記実施形態においてはICの製造工場における複数の基板処理装置の群制御について説明したが、本発明はこれに限らず、ガラス基板に処理を施す複数のLCD装置の群制御についても適用することができる。
A1〜An…基板処理装置、B1〜Bn…記憶領域、C1〜Cn…SECSインタフェース、
20…群管理装置、21…制御装置、22…CPU、23…メモリ、24…ユーザインタフェース装置(UI装置)、25……表示装置、26…入力装置、
30…実行プログラム群、31…管理プログラム、32…画面表示プログラム、33…装置パラメータ収集プログラム、34…装置通信プログラム、35…装置パラメータ一括比較プログラム、
40…装置パラメータ一括比較画面(一括比較画面)、41A…比較元パラメータ定義テーブル、41B…比較先パラメータ定義テーブル、42A、42B…一括比較対象指定列、43A、43B…ファイルタイプ列、44A、44B…ファイルネーム列、45…スクロールボタン、47…パラメータ定義登録・変更ボタン(登録変更ボタン)、48…一括比較開始ボタン、
50…装置パラメータ一括比較結果画面(比較結果画面)、51…装置パラメータ一括比較結果テーブル(結果テーブル)、52…比較結果対象指定列、53…ファイルタイプ列、54…相違点有無表示列、55…比較結果列、57…比較結果詳細確認ボタン(詳細確認ボタン)、58…全項目出力ボタン、59…相違項目出力ボタン。
20…群管理装置、21…制御装置、22…CPU、23…メモリ、24…ユーザインタフェース装置(UI装置)、25……表示装置、26…入力装置、
30…実行プログラム群、31…管理プログラム、32…画面表示プログラム、33…装置パラメータ収集プログラム、34…装置通信プログラム、35…装置パラメータ一括比較プログラム、
40…装置パラメータ一括比較画面(一括比較画面)、41A…比較元パラメータ定義テーブル、41B…比較先パラメータ定義テーブル、42A、42B…一括比較対象指定列、43A、43B…ファイルタイプ列、44A、44B…ファイルネーム列、45…スクロールボタン、47…パラメータ定義登録・変更ボタン(登録変更ボタン)、48…一括比較開始ボタン、
50…装置パラメータ一括比較結果画面(比較結果画面)、51…装置パラメータ一括比較結果テーブル(結果テーブル)、52…比較結果対象指定列、53…ファイルタイプ列、54…相違点有無表示列、55…比較結果列、57…比較結果詳細確認ボタン(詳細確認ボタン)、58…全項目出力ボタン、59…相違項目出力ボタン。
Claims (1)
- 基板に処理を施す複数台の基板処理装置と、前記複数台の基板処理装置に接続される群管理装置とを備えている基板処理システムであって、
前記群管理装置は、前記基板処理装置から所定のパラメータファイルを取得して、パラメータ比較を行う対象の基板処理装置から取得したパラメータファイル種別とパラメータファイル名とを表示部にそれぞれ表示し、前記表示部に表示された複数のパラメータファイルを比較するためのボタンが押下されると、比較元のパラメータファイルと比較先のパラメータファイルとを比較して、その比較結果を表示することを特徴とする基板処理システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009211846A JP2011061143A (ja) | 2009-09-14 | 2009-09-14 | 基板処理システム |
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---|---|---|---|
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013115189A (ja) * | 2011-11-28 | 2013-06-10 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理システム |
US10671056B2 (en) | 2017-07-20 | 2020-06-02 | Kokusai Electric Corporation | Substrate processing system |
JP2020109855A (ja) * | 2020-03-06 | 2020-07-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 半導体システム及びデータ編集支援方法 |
-
2009
- 2009-09-14 JP JP2009211846A patent/JP2011061143A/ja active Pending
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US10671056B2 (en) | 2017-07-20 | 2020-06-02 | Kokusai Electric Corporation | Substrate processing system |
US11726456B2 (en) | 2017-07-20 | 2023-08-15 | Kokusai Electric Corporation | Substrate processing system |
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