JP2021159902A - 排ガス浄化触媒装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】触媒コート層に、ゼオライト粒子と、それ以外の粒子とが含まれる、排ガス浄化触媒装置であって、流入する排ガス中に、NOxとともにHCが含まれる場合でも、NOxを効率よく吸着及び放出することができ、NOx及びHC、特にNOxの吸着量が大きい、排ガス浄化触媒装置を提供すること。【解決手段】基材と、前記基材上の触媒コート層とを有する、排ガス浄化触媒装置であって、前記触媒コート層が、ゼオライト粒子と、前記ゼオライト粒子以外の無機酸化物粒子と、触媒貴金属とを含み、前記触媒貴金属は、かつ、前記ゼオライト粒子の平均粒径dZEOと、前記ゼオライト粒子以外の無機酸化物粒子の平均粒径dOXとの比dZEO/dOXが、3.4以下である、排ガス浄化触媒装置。【選択図】図1

Description

本発明は、排ガス浄化触媒装置に関する。
自動車等のエンジンから排出される排ガス中に含まれる、窒素酸化物(NOx)、炭化水素(HC)、一酸化炭素(CO)等を、浄化した後に大気放出するために、例えばコージェライト製のハニカム基材上に、触媒コート層が形成されている、排ガス浄化触媒装置が用いられている。
排ガス浄化触媒装置の触媒コート層に用いられる材料として、ゼオライトが知られている。ゼオライトには、低温ではNOx及びHC、特にNOxを吸着し、これを高温まで保持し、高温ではNOxを放出する機能が期待される。
すなわち、ゼオライトは、例えばエンジンの始動直後等の、排ガスの温度が低く、排ガス浄化触媒が活性化され難く、NOxの触媒浄化が起こり難い低温条件下では、NOxを吸着して保持し、排出ガス中のNOx濃度を低減する。一方、排ガス温度が上昇して、排ガス浄化触媒が活性化され得る高温になると、NOxを放出して、触媒浄化に供する。
ゼオライトは、このような機能によって、排ガスの浄化効率を高めることができる。
しかしながら、触媒コート層を、ゼオライトのみから構成されるものとすると、例えば、ハニカム基材と触媒コート層との密着性が不十分となること、触媒コート層の厚みの均一性が不十分となること、等の不都合が生ずる場合があることが知られている。そのため、触媒コート層に、ゼオライトとともに、ゼオライト以外の無機酸化物を配置した排ガス浄化触媒装置が提案されている。
例えば、特許文献1には、担体上に、HC吸着材層と浄化触媒成分層とがこの順で積層されており、HC吸着材層が、ゼオライトと、金属元素含有アルミナを含む、排ガス浄化用触媒が記載されている。
特開2006−35130号公報
従来技術における排ガス浄化触媒装置では、触媒コート層にゼオライト含む場合でも、NOx及びHC、特にNOxの吸着、保持、及び放出機能が、必ずしも十分に発揮されているわけではない。
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものである。したがって、本発明の目的は、触媒コート層に、ゼオライト粒子と、それ以外の粒子とが含まれる、排ガス浄化触媒装置であって、NOx及びHC、特にNOxを効率よく吸着及び放出することができ、NOxの吸着量が大きい、排ガス浄化触媒装置を提供することである。
本発明は、以下のとおりである。
《態様1》基材と、前記基材上の触媒コート層とを有する、排ガス浄化触媒装置であって、
前記触媒コート層が、ゼオライト粒子と、前記ゼオライト粒子以外の無機酸化物粒子と、触媒貴金属とを含み、かつ、
前記ゼオライト粒子の平均粒径dZEOと、前記ゼオライト粒子以外の無機酸化物粒子の平均粒径dOXとの比dZEO/dOXが、3.4以下である、
排ガス浄化触媒装置。
《態様2》前記比dZEO/dOXが、0.30以上である、態様1に記載の排ガス浄化触媒装置。
《態様3》
前記触媒貴金属が、前記ゼオライト粒子に担持されている、態様1又は2に記載の排ガス浄化触媒装置。
《態様4》前記触媒貴金属が、Pt及びPdから選択される1種又は2種である、態様1〜3のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
《態様5》前記ゼオライト粒子以外の無機酸化物粒子が、アルミナ、シリカ、チタニア、セリア、及びジルコニア、並びにセリア以外の希土類金属酸化物から選択される1種又は2種以上を含む粒子である、態様1〜4のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
《態様6》前記ゼオライト粒子を構成するゼオライトの平均細孔径が、6.0Å以下である、態様1〜5のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
《態様7》前記ゼオライト粒子を構成するゼオライトが、MFI型、BEA型、MOR型、及びFER型から選択される1種又は2種以上を含む、態様1〜6のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
《態様8》前記ゼオライト粒子を構成するゼオライトのシリカ・アルミナ比SARが、25以下である、態様1〜7のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
《態様9》前記ゼオライト粒子の粒径dZEOが、4μm以上30μm以下である、態様1〜8のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
《態様10》前記触媒コート層における、前記ゼオライト粒子の質量MZEOと、前記ゼオライト粒子以外の無機酸化物粒子の質量MOXとの比MZEO/MOXが、0.125以上8.00以下である、態様1〜9のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
《態様11》コールドスタート触媒として用いられる、態様1〜10のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
本発明によると、流入する排ガス中に、NOxとともにHCが含まれる場合でも、NOxを効率よく吸着及び放出することができ、NOx及びHC、特にNOxの吸着量が大きい、排ガス浄化触媒装置が提供される。
図1は、実施例4及び比較例1のサンプル、並びにブランクサンプルの、吸着段階における排出ガス中のNO濃度の継時変化を示すグラフである。
《排ガス浄化触媒装置》
本発明の排ガス浄化触媒装置は、
基材と、前記基材上の触媒コート層とを有する、排ガス浄化触媒装置であって、
前記触媒コート層が、ゼオライト粒子と、前記ゼオライト粒子以外の無機酸化物粒子と、触媒貴金属とを含み、かつ、
前記ゼオライト粒子の平均粒径dZEOと、前記ゼオライト粒子以外の無機酸化物粒子の平均粒径dOXとの比dZEO/dOXが、3.0以下である。
本発明者らは、従来技術における排ガス浄化触媒装置が、触媒コート層に有意量のゼオライト粒子を含む場合でも、NOx及びHC、特にNOxの吸着、保持、及び放出機能が、必ずしも十分に発現されない原因について検討した。
そして、触媒コート層中の排ガス流路が十分に形成されず、ゼオライト粒子と排ガスとの接触効率が悪い場合に、NOxの吸着量が低くなるとの仮説に基づいて、排ガス流路が十分に形成されるような、触媒コート層の構成について検討した。
その結果、排ガス浄化触媒装置の触媒コート層中に、ゼオライト粒子と、ゼオライト粒子以外の無機酸化物粒子とを含ませ、かつ、両者の粒径を調整して、触媒コート層中に十分な排ガス流路を形成することに成功したのである。
すなわち、数学上の球充填理論では、空間に、粒径の異なる2種の粒子を充填する場合、大粒径粒子の粒径dbigと、小粒径粒子の粒径dsmallとの比dbig/dsmallの値が、十分に大きい値であれば、大粒径粒子がどのような配置で充填されていようとも、小粒径粒子は、大粒径粒子の格子間に収納可能である。
しかしながら、比dbig/dsmallが、3.43654未満であると、小粒径粒子を格子間に収納するための、大粒径粒子の充填配置は制限され、大粒径粒子同士の接触点が少なくなる。これにより、触媒コート層中に排ガス流路が形成される。更に、比dbig/dsmallが、2.41423未満であると、小粒径粒子を格子間に収納するためには、大粒径粒子の格子が拡張することを要し、したがって、触媒コート層中の排ガス流路は拡張される。
本発明では、このような観点から、ゼオライト粒子の平均粒径dZEOと、ゼオライト粒子以外の無機酸化物粒子の平均粒径dOXとの比dZEO/dOXは、3.4以下であり、3.2以下、3.0以下、2.8以下、2.6以下、2.4以下、2.2以下、又は2.0以下であってもよい。
上記の考察は、ゼオライト粒子と、ゼオライト粒子以外の無機酸化物粒子との大小関係が逆転した場合にも妥当するから、比dZEO/dOXは、0.30以上、0.40以上、0.50以上、0.60以上、0.70以上、0.80以上、0.90以上、又は1.00以上であってよい。
ゼオライト粒子以外の無機酸化物粒子、例えばアルミナ粒子は、一般に粒径分布が広く、平均粒径よりも小粒径の微小粒子が、有意量存在することが多い。特に、平均粒径が大きいほど、微小粒子の存在割合が多くなる。このような微小粒子によって、触媒コート層における粒子間の空隙が埋められると、触媒コート層中の排ガス流路が不十分となる場合がある。これを回避するために、ゼオライト粒子以外の無機酸化物粒子として、平均粒径が小さいものを使用することが考えられる。
このような観点から、ゼオライト粒子の平均粒径dZEOと、ゼオライト粒子以外の無機酸化物粒子の平均粒径dOXとの比dZEO/dOXは、1.00超、1.05以上、1.10以上、又は1.15以上であってよい。
本明細書における、ゼオライト粒子、及びゼオライト粒子以外の無機酸化物粒子の平均粒径は、レーザ回折/散乱法によって測定されたメジアン径(D50)を意味する。レーザ回折/散乱法によるメジアン径(D50)の測定は、例えば、(株)堀場製作所製のレーザ回折/散乱式粒子径分布(粒度分布)測定装置、型式名「LA960」等を用いて行うことができる。
以下、本発明の排ガス浄化触媒装置を構成する各要素について、順に説明する。
〈ゼオライト粒子〉
本発明におけるゼオライト粒子は、平均細孔径が6.0Å以下であってよい。ゼオライト粒子の平均細孔径が6.0Å以下であることにより、HC共存下でも、NOxの吸着量を大きくすることができる。ゼオライト粒子の平均細孔径が6.0Å以下であると、CHが細孔内部に侵入し難くなり、細孔内部でNOxが優先的に吸着されることによると考えられる。ゼオライト粒子の平均細孔径は、5.8Å以下、5.5Å以下、5.3Å以下、又は5.0Å以下であってよい。
一方、ゼオライト粒子の平均細孔径は、細孔内でNOxを吸着するために、NOxが容易に侵入可能な径を有していることが好ましい。この観点から、ゼオライト粒子の平均細孔径は、例えば、3.5Å以上、3.7Å以上、4.0Å以上、4.2Å以上、又は4.5Å以上であってよい。
ゼオライトの平均細孔径は、JIS Z8831−3:2010に準拠して、ガス吸着法によって測定される。吸着ガスとしては、例えば、アルゴン、水素、窒素等を使用できる。
上記のような平均細孔径を有するゼオライトは、例えば、MFI型、BEA型、MOR型、CHA型、及びFER型から選択される1種又は2種以上を含む、ゼオライトであってよい。
本発明におけるゼオライト粒子を構成するゼオライトのシリカ・アルミナ比SARは、25以下であってよい。ゼオライトのSARが25以下であると、ブレンステッド酸が多い、酸性のゼオライトとなる。触媒貴金属、例えばPdが、このような酸性のゼオライト上に担持されると、高酸化状態となり易く、HCによる被毒が抑制される。その結果、HCとNOxとが共存するガス条件下でも、触媒貴金属上がNOx吸着点として機能できるとの利点が得られる。
この観点から、ゼオライトのSARは、25以下であり、23以下、20以下、18以下、15以下、12以下、10以下、又は8以下であってよい。一方で、ゼオライトのSARが過度に低いと、ゼオライトの比表面積が低下して、NOxの吸着点が減少する不都合を生じる場合がある。これを回避する観点から、ゼオライトのSARは、4以上、5以上、6以上、又は7以上であってよい。
ゼオライト粒子の粒径dZEOが過度に小さいと、触媒コート層中で、ゼオライト粒子間の間隙が狭小となり、ゼオライト粒子と排ガスとの接触が不十分となる場合がある。これを回避する観点から、ゼオライト粒子の粒径は、2μm以上、3μm以上、4μm以上、又は5μm以上であってよい。一方で、ゼオライト粒子の粒径dZEOが過度に大きいと、該ゼオライト粒子を含む触媒コート層が厚くなり、排ガス浄化触媒装置中の排ガスの流通が妨げられる場合がある。これを回避する観点から、ゼオライト粒子の粒径は、30μm以下、25μm以下、20μm以下、15μm以下、12μm以下、10μm以下、又は8μm以下であってよい。
ゼオライト粒子は、NOxの吸着点をできるだけ維持する観点から、表面欠陥が少ないことが好ましい。この観点から、本発明におけるゼオライト粒子は、合成後(結晶成長の後)、ミリング工程を経由していないことが好ましい。
〈ゼオライト粒子以外の無機酸化物粒子〉
本発明における、ゼオライト粒子以外の無機酸化物粒子は、アルミナ、シリカ、チタニア、セリア、及びジルコニア、並びにセリア以外の希土類金属酸化物から選択される1種又は2種以上を含む粒子であってよい。セリア以外の希土類金属酸化物は、イットリウム、ランタン、プラセオジウム、ネオジム等の金属の酸化物であってよい。
ゼオライト粒子以外の無機酸化物粒子の粒径dOXは、ゼオライト粒子の粒径dZEOに応じて、本発明所定の比dZEO/dOXを充足する限りで、任意である。しかしながら、粒子間の間隙を確保し、かつ、触媒コート層が過度に厚くなることを回避する観点から、この粒径dOXは、1μm以上、2μm以上、3μm以上、又は4μm以上であってよい。一方で、ゼオライト粒子の粒径dZEOが過度に大きいと、該ゼオライト粒子を含む触媒コート層が厚くなり、排ガス浄化触媒装置中の排ガスの流通が妨げられる場合がある。これを回避する観点から、ゼオライト粒子の粒径は、50μm以下、40μm以下、30μm以下、20μm以下、15μm以下、10μm以下、又は8μm以下であってよい。
〈ゼオライト粒子と、ゼオライト粒子以外の無機酸化物粒子との質量割合〉
触媒コート層における、ゼオライト粒子の質量MZEOと、ゼオライト粒子以外の無機酸化物粒子の質量MOXとの比MZEO/MOXは、0.125以上、又は1.00以上であってよく、8.00以下、又は3.00以下であってよい。
〈触媒貴金属〉
本発明において、触媒貴金属は、NOx(例えばNO)を吸着する触媒として機能することが予定されている。したがって、本発明における触媒貴金属は、白金族元素から選択されてよく、特に、Pt、Pd、及びRhから選択される1種、2種、又は3種であってよく、特にPdが好ましい。
本発明において、触媒貴金属は、ゼオライト粒子、及びゼオライト粒子以外の無機酸化物粒子から選択される、1種又は2種の粒子に担持されていてよく、特に、ゼオライト粒子に担持されていてよい。本発明の排ガス浄化触媒装置では、触媒貴金属がゼオライト粒子に担持されていることにより、触媒貴金属へのHC被毒が抑制され、HCとNOxとが共存するガス条件下でも、触媒貴金属上に選択的にNOxを吸着できる利点が得られる。
本発明における触媒貴金属の粒径は、任意であるが、例えば、0.1nm以上20nm以下であってよい。
本発明における触媒貴金属の担持量は、ゼオライト粒子の質量を基準として、例えば、0.1質量%以上、0.2質量%以上、0.3質量%以上、0.4質量%以上、又は0.5質量%以上であってよく、5.0質量%以下、4.0質量%以下、3.0質量%以下、2.0質量%以下、又は1.0質量%以下であってよい。
〈触媒コート層の任意成分〉
本発明の排ガス浄化触媒装置における触媒コート層は、上述のとおり、ゼオライト粒子、ゼオライト粒子以外の無機酸化物粒子、及び触媒貴金属を含むが、必要に応じて、これ以外の任意成分を含んでいてよい。
触媒コート層の任意成分としては、例えば、バインダー、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物等が挙げられる。
バインダーは、例えば、アルミナゾル、ジルコニアゾル、シリカゾル、チタニアゾル等であってよい。
アルカリ金属化合物及びアルカリ土類金属化合物は、それぞれ、所望の金属の硫酸塩、硝酸塩、塩化水素酸塩。酸化物等であってよい。
《排ガス浄化触媒装置の製造方法》
本発明の排ガス浄化触媒装置は、上記の構成を有している限り、任意の方法によって製造されてよい。
しかしながら、本発明の排ガス浄化触媒装置は、例えば、以下の工程を含む方法によって製造されてよい:
(1)触媒コート層形成用スラリーを調製すること(工程1)、
(2)基材に、前記触媒コート層形成用スラリーを塗布して、塗膜を形成すること(工程2)、及び
(3)得られた塗膜を焼成して、基材上に触媒コート層を形成すること(工程3)。
工程1は、例えば、以下のステップを含んでよい。
(i)触媒貴金属担持ゼオライト粒子含有スラリーを調製すること(ステップ1)、
(ii)ゼオライト粒子以外の無機酸化物粒子を含有するスラリーを調製すること(ステップ2)、及び
(iii)触媒貴金属担持ゼオライト粒子含有スラリーと、ゼオライト粒子以外の無機酸化物粒子を含有するスラリーとを混合して、触媒コート層形成用スラリーを調製すること(ステップ3)
工程1のステップ1では、触媒貴金属担持ゼオライト粒子含有スラリーを調製する。本ステップは、例えば、溶媒、例えば水中に、所望のゼオライトから成る粒子、及び所望の触媒貴金属の前駆体を投入し、適当な粉砕手段を用いて湿式粉砕し、必要に応じて分級することにより、行われてよい。
触媒貴金属の前駆体は、例えば、所望の触媒貴金属の硫酸塩、硝酸塩、塩酸塩、錯化合物等であってよい。触媒貴金属を、ゼオライト粒子上に均一に分散させるために、触媒貴金属の前駆体は、溶媒に可溶であることが好ましい。
工程1のステップ2では、ゼオライト粒子以外の無機酸化物粒子を含有するスラリーを調製する。本ステップは、例えば、溶媒、例えば水中に、所望の無機酸化物粒子を投入し、適当な粉砕手段を用いて湿式粉砕し、必要に応じて分級することにより、行われてよい。
工程1のステップ1及びステップ2は、順不同で行われてよい。
そして、工程1のステップ3において、触媒貴金属担持ゼオライト粒子含有スラリーと、ゼオライト粒子以外の無機酸化物粒子を含有するスラリーとを、所定の割合で混合して、触媒コート層形成用スラリーを調製する。
工程2では、基材に、触媒コート層形成用スラリーを塗布して、塗膜を形成する。スラリーの塗布は、公知の方法によって、又は公知の方法に当業者による適宜の変更を加えた方法によって、行われてよい。
そして、工程3において、得られた塗膜を焼成して、基材上に触媒コート層を形成することにより、本発明の排ガス浄化触媒装置が得られる。塗布後、焼成前に、必要に応じて、塗膜の乾燥を行ってもよい。
塗膜の乾燥及び焼成は、それぞれ、公知の方法によって、又は公知の方法に当業者による適宜の変更を加えた方法によって、行われてよい。
〈排ガス浄化触媒装置の用途〉
本発明の排ガス浄化触媒装置は、低温ではNOx及びHC、特にNOxを効率よく吸着し、これを高温まで保持し、高温ではNOx及びHC、特にNOxを放出する機能を有する。
したがって、本発明の排ガス浄化触媒装置は、コールドスタート触媒として用いられてよい。
コールドスタート触媒としての本発明の排ガス浄化触媒装置は、例えば、公知の三元触媒と組み合わされた排ガス浄化触媒システムに適用されてよい。この排ガス浄化触媒システムは、排ガス経路の上流側に、本発明の排ガス浄化触媒装置が配置され、下流側に公知の三元触媒が配置された構成であってよい。
《実施例1》
1.Pd/ゼオライト粒子含有スラリーの調製
純水中に、100質量部の市販のMFI型ゼオライト(SAR23、平均細孔径5.5Å)、及び該ゼオライトに対してPd金属換算0.5質量%相当の硝酸パラジウムを投入し、粉砕メディアとしてアルミナ製のボールを充填したボールミルを用いてミリングすることにより、平均粒径(D50粒径)dZEO5.7μmのゼオライト粒子を含む、Pd/ゼオライト粒子含有スラリーを調製した。
2.アルミナ粒子含有スラリーの調製
純水中に、アルミナを投入し、粉砕メディアとしてアルミナ製のボールを充填したボールミルを用いてミリングすることにより、平均粒径(D50粒径)dZEO31.0μmのアルミナ粒子を含む、アルミナ粒子含有スラリーを調製した。
3.触媒コート層形成用スラリーの調製
上記のPd/ゼオライト粒子含有スラリー及びアルミナ粒子含有スラリーを、Pd/ゼオライト:アルミナの質量比が1:4となるように混合して、触媒コート層形成用スラリーを調製した。
4.評価用サンプルの作製
容量0.035Lのコージェライト製ストレート型ハニカム基材テストピースに、触媒コート層形成用スラリーを流し込み、ブロワーを用いて不要のスラリーを吹き払って除去することにより、テストピースの壁面に、触媒コート層形成用スラリーの塗膜を形成した。
得られた塗膜につき、120℃にて2時間乾燥した後、500℃にて2時間焼成して、触媒コート層を形成することにより、評価用サンプルを作製した。この評価用サンプルにおける触媒コート層のコート量は、80g/L(Pd/ゼオライト粒子16g/L、アルミナ粒子64g/L)であり、Pd量は、0.08g/Lであった(Pd/ゼオライト粒子中のPd担持量0.5質量%)。
また、この評価用サンプルの触媒コート層に含まれる、Pd/ゼオライト粒子の粒径dZEOとアルミナ粒子の粒径dAlOとの比dZEO/dAlOは、0.18であった。
5.NO吸着量の評価
上記で得られた評価用サンプルにつき、前処理段階、吸着段階、及び脱離段階から成る3段階処理を、この順に行った。各段階において、それぞれ、表1に示した条件にて、評価用サンプルにモデルガスを供給し、吸着段階における排出ガス中のNO濃度の継時変化を調べた。脱離段階は、100℃キープ180秒間、次いで、20℃/分にて昇温1,350秒(到達温度550℃)の2ステップから成る。
Figure 2021159902
また、触媒コート層が形成されていないハニカム基材をブランクサンプルとして用い、同様の3段階処理を行って、吸着段階における排出ガス中のNO濃度の継時変化を調べた。
そして、ブランクサンプルの排出ガス中のNO濃度と、評価用サンプルの排出ガス中のNO濃度との差分を、吸着段階の所要時間で積分して、得られた値をmg(ミリグラム)単位のNO量に換算することにより、触媒コート層によるNO吸着量を算出した。
なお、表1中、吸着段階におけるC濃度が「600ppm−C」であるとは、C濃度がメタン換算で600ppmであることを示す。したがって、この場合、C分子の濃度は、200ppmである。
実施例1の評価用サンプルにおける、触媒コート層によるNO吸着量は、26.1mgであった。
《実施例2〜4及び比較例1》
2.アルミナ粒子含有スラリーの調製
アルミナ粒子含有スラリーに含まれるアルミナ粒子の平均粒径dAlOを、それぞれ、表2に記載のように調整した他は、実施例1と同様にして、評価用サンプルを作製して、NO吸着量の評価を行った。評価結果は、表2に示す。
また、図1に、実施例4及び比較例1のサンプル、並びにブランクサンプルの、吸着段階における排出ガス中のNO濃度の継時変化のグラフを示す。図1のグラフの横軸「経過時間(秒)」の数値は、前処理段階開始時点からの累積時間を示す。
Figure 2021159902
表2の結果から、Pd/ゼオライト粒子の粒径dZEOとアルミナ粒子の粒径dAlOとの比dZEO/dAlOが3以下である、実施例1〜4のサンプルは、比dZEO/dAlOが3を超える比較例1と比較して、NO吸着量が顕著に多いことが確認された。また、この比dZEO/dAlOが0.3以上である、実施例2〜4のサンプルは、NO吸着量が特に大きいことが分かった。
なお、表2に示されたNO吸着量は、NOとともにCを含有するモデルガスを用いて測定された値であることに留意されたい。

Claims (11)

  1. 基材と、前記基材上の触媒コート層とを有する、排ガス浄化触媒装置であって、
    前記触媒コート層が、ゼオライト粒子と、前記ゼオライト粒子以外の無機酸化物粒子と、触媒貴金属とを含み、かつ、
    前記ゼオライト粒子の平均粒径dZEOと、前記ゼオライト粒子以外の無機酸化物粒子の平均粒径dOXとの比dZEO/dOXが、3.4以下である、
    排ガス浄化触媒装置。
  2. 前記比dZEO/dOXが、0.30以上である、請求項1に記載の排ガス浄化触媒装置。
  3. 前記触媒貴金属が、前記ゼオライト粒子に担持されている、請求項1又は2に記載の排ガス浄化触媒装置。
  4. 前記触媒貴金属が、Pt及びPdから選択される1種又は2種である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
  5. 前記ゼオライト粒子以外の無機酸化物粒子が、アルミナ、シリカ、チタニア、セリア、及びジルコニア、並びにセリア以外の希土類金属酸化物から選択される1種又は2種以上を含む粒子である、請求項1〜4のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
  6. 前記ゼオライト粒子を構成するゼオライトの平均細孔径が、6.0Å以下である、請求項1〜5のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
  7. 前記ゼオライト粒子を構成するゼオライトが、MFI型、BEA型、MOR型、及びFER型から選択される1種又は2種以上を含む、請求項1〜6のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
  8. 前記ゼオライト粒子を構成するゼオライトのシリカ・アルミナ比SARが、25以下である、請求項1〜7のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
  9. 前記ゼオライト粒子の粒径dZEOが、4μm以上30μm以下である、請求項1〜8のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
  10. 前記触媒コート層における、前記ゼオライト粒子の質量MZEOと、前記ゼオライト粒子以外の無機酸化物粒子の質量MOXとの比MZEO/MOXが、0.125以上8.00以下である、請求項1〜9のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
  11. コールドスタート触媒として用いられる、請求項1〜10のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
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