JP2021141611A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2021141611A JP2021141611A JP2021097119A JP2021097119A JP2021141611A JP 2021141611 A JP2021141611 A JP 2021141611A JP 2021097119 A JP2021097119 A JP 2021097119A JP 2021097119 A JP2021097119 A JP 2021097119A JP 2021141611 A JP2021141611 A JP 2021141611A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transistor
- circuit
- voltage
- film
- signal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 217
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 14
- 239000010408 film Substances 0.000 description 201
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 51
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 45
- 230000006870 function Effects 0.000 description 44
- 238000000034 method Methods 0.000 description 39
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 35
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 33
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 32
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 27
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 18
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 18
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 17
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 15
- 238000002003 electron diffraction Methods 0.000 description 14
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 10
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 10
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 9
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 9
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 8
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 description 8
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 238000002524 electron diffraction data Methods 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000003917 TEM image Methods 0.000 description 6
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 6
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 description 6
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 5
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 5
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000002230 thermal chemical vapour deposition Methods 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- 229910018137 Al-Zn Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910018573 Al—Zn Inorganic materials 0.000 description 4
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 208000005156 Dehydration Diseases 0.000 description 4
- 206010021143 Hypoxia Diseases 0.000 description 4
- 101150117115 V gene Proteins 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910007541 Zn O Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 4
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 4
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 4
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 4
- 239000013081 microcrystal Substances 0.000 description 4
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 4
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 3
- AXAZMDOAUQTMOW-UHFFFAOYSA-N dimethylzinc Chemical compound C[Zn]C AXAZMDOAUQTMOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000001151 other effect Effects 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 3
- 238000012916 structural analysis Methods 0.000 description 3
- XCZXGTMEAKBVPV-UHFFFAOYSA-N trimethylgallium Chemical compound C[Ga](C)C XCZXGTMEAKBVPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 3
- 229910018120 Al-Ga-Zn Inorganic materials 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910020868 Sn-Ga-Zn Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910020994 Sn-Zn Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910009069 Sn—Zn Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910021419 crystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 2
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012905 input function Methods 0.000 description 2
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 239000002159 nanocrystal Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000006213 oxygenation reaction Methods 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- IBEFSUTVZWZJEL-UHFFFAOYSA-N trimethylindium Chemical compound C[In](C)C IBEFSUTVZWZJEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052765 Lutetium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000577 Silicon-germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020833 Sn-Al-Zn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020944 Sn-Mg Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910009369 Zn Mg Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910007573 Zn-Mg Inorganic materials 0.000 description 1
- LEVVHYCKPQWKOP-UHFFFAOYSA-N [Si].[Ge] Chemical compound [Si].[Ge] LEVVHYCKPQWKOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 229920005994 diacetyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- HQWPLXHWEZZGKY-UHFFFAOYSA-N diethylzinc Chemical compound CC[Zn]CC HQWPLXHWEZZGKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- KBQHZAAAGSGFKK-UHFFFAOYSA-N dysprosium atom Chemical compound [Dy] KBQHZAAAGSGFKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N erbium Chemical compound [Er] UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N europium atom Chemical compound [Eu] OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N gadolinium atom Chemical compound [Gd] UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 hydrogen ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005224 laser annealing Methods 0.000 description 1
- OHSVLFRHMCKCQY-UHFFFAOYSA-N lutetium atom Chemical compound [Lu] OHSVLFRHMCKCQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 238000002488 metal-organic chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 230000009993 protective function Effects 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N samarium atom Chemical compound [Sm] KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N selanylidenegallium;selenium Chemical compound [Se].[Se]=[Ga].[Se]=[Ga] VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004098 selected area electron diffraction Methods 0.000 description 1
- SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N selenium;zinc Chemical compound [Se]=[Zn] SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N tellanylidenegermanium Chemical compound [Te]=[Ge] JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N terbium atom Chemical compound [Tb] GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRNOGLGSGLTDKL-UHFFFAOYSA-N thulium atom Chemical compound [Tm] FRNOGLGSGLTDKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- RGGPNXQUMRMPRA-UHFFFAOYSA-N triethylgallium Chemical compound CC[Ga](CC)CC RGGPNXQUMRMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 description 1
- NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N ytterbium Chemical compound [Yb] NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/12—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
- H01L27/1214—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
- H01L27/1222—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs with a particular composition, shape or crystalline structure of the active layer
- H01L27/1225—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs with a particular composition, shape or crystalline structure of the active layer with semiconductor materials not belonging to the group IV of the periodic table, e.g. InGaZnO
-
- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09G—ARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
- G09G3/00—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes
- G09G3/20—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters
- G09G3/22—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters using controlled light sources
- G09G3/30—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters using controlled light sources using electroluminescent panels
- G09G3/32—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters using controlled light sources using electroluminescent panels semiconductive, e.g. using light-emitting diodes [LED]
- G09G3/3208—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters using controlled light sources using electroluminescent panels semiconductive, e.g. using light-emitting diodes [LED] organic, e.g. using organic light-emitting diodes [OLED]
- G09G3/3275—Details of drivers for data electrodes
- G09G3/3291—Details of drivers for data electrodes in which the data driver supplies a variable data voltage for setting the current through, or the voltage across, the light-emitting elements
-
- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09G—ARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
- G09G3/00—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes
- G09G3/20—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters
- G09G3/34—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters by control of light from an independent source
- G09G3/36—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters by control of light from an independent source using liquid crystals
- G09G3/3611—Control of matrices with row and column drivers
- G09G3/3685—Details of drivers for data electrodes
- G09G3/3688—Details of drivers for data electrodes suitable for active matrices only
-
- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09G—ARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
- G09G2300/00—Aspects of the constitution of display devices
- G09G2300/08—Active matrix structure, i.e. with use of active elements, inclusive of non-linear two terminal elements, in the pixels together with light emitting or modulating elements
- G09G2300/0809—Several active elements per pixel in active matrix panels
- G09G2300/0833—Several active elements per pixel in active matrix panels forming a linear amplifier or follower
- G09G2300/0838—Several active elements per pixel in active matrix panels forming a linear amplifier or follower with level shifting
-
- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09G—ARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
- G09G2300/00—Aspects of the constitution of display devices
- G09G2300/08—Active matrix structure, i.e. with use of active elements, inclusive of non-linear two terminal elements, in the pixels together with light emitting or modulating elements
- G09G2300/0809—Several active elements per pixel in active matrix panels
- G09G2300/0871—Several active elements per pixel in active matrix panels with level shifting
-
- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09G—ARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
- G09G2310/00—Command of the display device
- G09G2310/02—Addressing, scanning or driving the display screen or processing steps related thereto
- G09G2310/0264—Details of driving circuits
- G09G2310/027—Details of drivers for data electrodes, the drivers handling digital grey scale data, e.g. use of D/A converters
-
- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09G—ARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
- G09G2310/00—Command of the display device
- G09G2310/02—Addressing, scanning or driving the display screen or processing steps related thereto
- G09G2310/0264—Details of driving circuits
- G09G2310/0289—Details of voltage level shifters arranged for use in a driving circuit
-
- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09G—ARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
- G09G2310/00—Command of the display device
- G09G2310/02—Addressing, scanning or driving the display screen or processing steps related thereto
- G09G2310/0264—Details of driving circuits
- G09G2310/0291—Details of output amplifiers or buffers arranged for use in a driving circuit
-
- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09G—ARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
- G09G2330/00—Aspects of power supply; Aspects of display protection and defect management
- G09G2330/04—Display protection
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Thin Film Transistor (AREA)
- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Analogue/Digital Conversion (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Liquid Crystal Display Device Control (AREA)
- Control Of Indicators Other Than Cathode Ray Tubes (AREA)
- Control Of El Displays (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
Description
術分野は、物、方法、または、製造方法に関するものである。または、本発明の一態様は
、プロセス、マシン、マニュファクチャ、または、組成物(コンポジション・オブ・マタ
ー)に関するものである。そのため、より具体的に本明細書で開示する本発明の一態様の
技術分野としては、半導体装置、表示装置、発光装置、蓄電装置、記憶装置、それらの駆
動方法、または、それらの製造方法、を一例として挙げることができる。
められている。そのため、表示装置の駆動回路、特にソースドライバには、IC(Int
egrated Circuit;以下ドライバICともいう)が採用されている(例え
ば、特許文献1を参照)。
ルシフタ、アナログ信号を扱うデジタル−アナログ変換回路(DACともいう)、及びア
ナログバッファ等の階調電圧生成部に大別される。
を構成するトランジスタは、微細加工され、低電圧での動作が行われる。一方で、アナロ
グ信号を扱う階調電圧生成回路では、表示部を駆動するための電圧を扱うために、デジタ
ル信号を扱うデータ保持部と比べて高電圧での動作が行われる。
圧での動作を行う。そのため、アナログ信号を扱う回路部のトランジスタには、高電圧に
耐えられることが求められる。高耐圧化するためにアナログ信号を扱う回路部では、デジ
タル信号を扱う回路部に比べて、トランジスタサイズを大きくして設計している。
の大面積化を招いてしまう。表示装置は小型化が求められており、ドライバICにおいて
も回路面積を小面積化することが求められている。
装置等を提供することを課題の一とする。または、本発明の一態様は、高耐圧化された回
路とすることができる、新規な構成の半導体装置等を提供することを課題の一とする。ま
たは、本発明の一態様は、新規な半導体装置等を提供することを課題の一とする。
他の課題の存在を妨げるものではない。なお他の課題は、以下の記載で述べる、本項目で
言及していない課題である。本項目で言及していない課題は、当業者であれば明細書又は
図面等の記載から導き出せるものであり、これらの記載から適宜抽出することができる。
なお、本発明の一態様は、上記列挙した記載、及び/又は他の課題のうち、少なくとも一
つの課題を解決するものである。
あって、第1の回路は、第1の信号が入力され、第1の信号が取り得る第1の電圧を第2
の電圧に昇圧することができる機能を有し、第2の回路は、第1の信号を、第2の信号に
変換することができる機能を有し、第3の回路は、第2の信号が入力され、出力する第1
の電流量を第2の電流量に変換することができる機能を有し、第2の回路は、複数の配線
を有し、複数の配線は、異なる電圧を伝えることができる機能を有し、第2の回路は、複
数の配線のそれぞれに電気的に接続された、第1のトランジスタを有し、第1のトランジ
スタは、スイッチとして動作することができる機能を有し、第1のトランジスタは、半導
体層が酸化物半導体を有する半導体装置である。
あって、第1の回路は、第1の信号が入力され、第1の信号が取り得る第1の電圧を第2
の電圧に昇圧することができる機能を有し、第2の回路は、第1の信号を、第2の信号に
変換することができる機能を有し、第3の回路は、第2の信号が入力され、出力する第1
の電流量を第2の電流量に変換することができる機能を有し、第2の回路は、複数の配線
を有し、複数の配線は、第1の電圧を伝えることができる第1の配線を有し、複数の配線
は、第1の電圧より大きい第2の電圧を伝えることができる第2の配線を有し、第2の回
路は、第1のトランジスタを有し、第1のトランジスタは、スイッチとして動作させるこ
とができる機能を有し、第2の回路は、第2のトランジスタを有し、第2のトランジスタ
は、スイッチとして動作させることができる機能を有し、第1のトランジスタは、半導体
層が酸化物半導体を有し、第2のトランジスタは、半導体層がシリコンを有する半導体装
置である。
チャネル領域とは、互いに重なる領域を有する半導体装置が好ましい。
、を有し、第3のトランジスタは、第1の電圧を与える配線に電気的に接続され、第4の
トランジスタは、第2の電圧を与える配線に電気的に接続され、第3のトランジスタは、
半導体層がシリコンを有し、第4のトランジスタは、半導体層が酸化物半導体を有する半
導体装置が好ましい。
面に記載されている。
提供することができる。そのため、半導体装置を小型化することができる。または、本発
明の一態様は、高耐圧化された回路とすることができる、新規な構成の半導体装置等を提
供することができる。そのため、信頼性に優れた半導体装置とすることができる。または
、本発明の一態様は、新規な半導体装置等を提供することができる。
他の効果の存在を妨げるものではない。なお他の効果は、以下の記載で述べる、本項目で
言及していない効果である。本項目で言及していない効果は、当業者であれば明細書又は
図面等の記載から導き出せるものであり、これらの記載から適宜抽出することができる。
なお、本発明の一態様は、上記列挙した効果、及び/又は他の効果のうち、少なくとも一
つの効果を有するものである。従って本発明の一態様は、場合によっては、上記列挙した
効果を有さない場合もある。
る態様で実施することが可能であり、趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及
び詳細を様々に変更し得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、本発明は、
以下の実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。
合がある。よって、必ずしもそのスケールに限定されない。なお図面は、理想的な例を模
式的に示したものであり、図面に示す形状又は値などに限定されない。例えば、ノイズに
よる信号、電圧、若しくは電流のばらつき、又は、タイミングのずれによる信号、電圧、
若しくは電流のばらつきなどを含むことが可能である。
なくとも三つの端子を有する素子である。そして、ドレイン(ドレイン端子、ドレイン領
域又はドレイン電極)とソース(ソース端子、ソース領域又はソース電極)の間にチャネ
ル領域を有しており、ドレインとチャネル領域とソースとを介して電流を流すことができ
るものである。
、いずれがソース又はドレインであるかを限定することが困難である。そこで、ソースと
して機能する部分、及びドレインとして機能する部分を、ソース又はドレインと呼ばず、
ソースとドレインとの一方を第1電極と表記し、ソースとドレインとの他方を第2電極と
表記する場合がある。
を避けるために付したものであり、数的に限定するものではないことを付記する。
るものの他、電気的に接続されているものを含むものとする。ここで、AとBとが電気的
に接続されているとは、AとBとの間で、何らかの電気的作用を有する対象物が存在する
とき、AとBとの電気信号の授受を可能とするものをいう。
さず)、Xと電気的に接続され、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)が、Z
2を介して(又は介さず)、Yと電気的に接続されている場合や、トランジスタのソース
(又は第1の端子など)が、Z1の一部と直接的に接続され、Z1の別の一部がXと直接
的に接続され、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)が、Z2の一部と直接的
に接続され、Z2の別の一部がYと直接的に接続されている場合では、以下のように表現
することが出来る。
の端子など)とは、互いに電気的に接続されており、X、トランジスタのソース(又は第
1の端子など)、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)、Yの順序で電気的に
接続されている。」と表現することができる。または、「トランジスタのソース(又は第
1の端子など)は、Xと電気的に接続され、トランジスタのドレイン(又は第2の端子な
ど)はYと電気的に接続され、X、トランジスタのソース(又は第1の端子など)、トラ
ンジスタのドレイン(又は第2の端子など)、Yは、この順序で電気的に接続されている
」と表現することができる。または、「Xは、トランジスタのソース(又は第1の端子な
ど)とドレイン(又は第2の端子など)とを介して、Yと電気的に接続され、X、トラン
ジスタのソース(又は第1の端子など)、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など
)、Yは、この接続順序で設けられている」と表現することができる。これらの例と同様
な表現方法を用いて、回路構成における接続の順序について規定することにより、トラン
ジスタのソース(又は第1の端子など)と、ドレイン(又は第2の端子など)とを、区別
して、技術的範囲を決定することができる。なお、これらの表現方法は、一例であり、こ
れらの表現方法に限定されない。ここで、X、Y、Z1、Z2は、対象物(例えば、装置
、素子、回路、配線、電極、端子、導電膜、層、など)であるとする。
係を、図面を参照して説明するために、便宜上用いている。また、構成同士の位置関係は
、各構成を描写する方向に応じて適宜変化するものである。従って、明細書で説明した語
句に限定されず、状況に応じて適切に言い換えることができる。
ものであり、異なる回路ブロックで別々の機能を実現するよう示していても、実際の回路
ブロックにおいては同じ回路ブロック内で別々の機能を実現しうるように設けられている
場合もある。また図面における各回路ブロックの機能は、説明のため機能を特定するもの
であり、一つの回路ブロックとして示していても、実際の回路ブロックにおいては一つの
回路ブロックで行う処理を、複数の回路ブロックで行うよう設けられている場合もある。
本実施の形態では、ドライバICとしての機能を有する半導体装置の回路ブロック図、及
び回路図の例について説明する。
指す。よって、トランジスタ等の半導体素子で構成されるドライバIC、あるいはドライ
バICを有する表示装置などは、半導体装置である。
ンプAMPを有する。
をサンプリングして保持するためのデータ保持部と、該データ信号を基に表示部の階調電
圧を生成するための階調電圧生成部とに大別することができる。上述したレベルシフタL
S、パストランジスタロジックPTL、及びアンプAMPは、データ信号を基に表示部の
階調電圧を生成するための階調電圧生成部に相当する回路である。
図1では図示を省略している。レベルシフタLSには、データ保持部で保持したデジタル
のデータ信号が入力される。このデータ信号は、デジタル信号を扱う回路部を高速で動作
させているために、低電圧の信号として入力される。
て出力できる機能を有する回路である。レベルシフタLSより出力される信号が与えられ
る回路が表示部を駆動するための電圧を扱うために、レベルシフタLSは、入力されるデ
ジタルのデータ信号を高電圧の信号に昇圧して出力する回路である。レベルシフタLSは
、昇圧回路、あるいは単に回路という場合がある。
図1では、デジタル信号の画像データとして、データ信号DATA[0]乃至DATA[
k−1](kは2以上の自然数)を示している。
1では、複数のレベルシフタとして、レベルシフタLS[0]乃至LS[k−1]を有す
る構成を例示している。例えば、1段目のレベルシフタLS[0]は、入力されるデータ
信号DATA[0]を昇圧し、DATA[0]_LSの信号として出力する。2段目以降
のレベルシフタLS[1]乃至LS[k−1]等についても同様の説明をすることができ
る。
1/VSSの電圧振幅の信号として説明を行う。またレベルシフタLSから出力されるデ
ータ信号DATA[0]_LS乃至DATA[k−1]_LSは、V2/VSSの電圧振
幅(V2>V1)に昇圧された信号として説明を行う。
を表している。また、V2/VSSは、高電源電位V2と低電源電位VSSとの間で電圧
振幅をとることを表している。なお低電源電位VSSは、グラウンド電位GNDとしても
よい。
をアナログの信号に変換する機能を有する回路である。パストランジスタロジックPTL
に入力されるデータ信号はデジタルの信号であり、該デジタルのデータ信号をアナログの
信号に変換する。パストランジスタロジックPTLは、D/A(デジタル/アナログ)変
換回路、あるいは単に回路という場合がある。
[0]_LS乃至DATA[k−1]_LSによって導通状態が制御されるトランジスタ
11を有する。トランジスタ11は、スイッチとしての機能を有するトランジスタである
。
デジタルからアナログに変換されるデータ信号の電圧は、表示部の階調電圧に相当する電
圧となる。表示部の各画素が有する表示素子によって電圧の大きさは異なるもののアナロ
グのデータ信号の電圧(V2/VSS)は、ドライバICのデータ保持部を駆動するため
のデジタルのデータ信号の電圧(V1/VSS)と比べて大きくする必要がある。そのた
め、アナログのデータ信号の電圧を生成するためのスイッチを動作させるのに必要な電圧
は、レベルシフタLSにおいて、ドライバICのデータ保持部を駆動するための電圧(V
1/VSS)よりも大きい電圧(V2/VSS)に変換される。
A[0]_LS乃至DATA[k−1]_LSの他、複数の電圧V[0]乃至V[j−1
]が与えられる。データ信号DATA[0]_LS乃至DATA[k−1]_LSは、ト
ランジスタ11のゲートに与えられる。複数の電圧V[0]乃至V[j−1]は、トラン
ジスタ11のソース及びドレインの一方に与えられる。トランジスタ11の導通状態に従
って、パストランジスタロジックPTLは、複数の電圧V[0]乃至V[j−1]に応じ
たアナログ信号である出力信号PTL_OUTを出力することができる。
じにして、出力する電流量を大きくする(増幅する)ことができる機能を有する回路であ
る。言い換えればアンプAMPは、出力する電流量を大きくして信号を出力する機能を有
する回路である。アンプAMPは、出力信号PTL_OUTが入力されるボルテージフォ
ロワVFを有する。アンプAMPは、増幅回路、あるいは単に回路という場合がある。
ンプAMPは出力信号PTL_OUTの第1の電流量を、第2の電流量としたアナログ信
号のデータ信号Vdataとして出力する。アンプAMPで出力されるデータ信号Vda
taは、デジタルの信号のデータ信号DATA[0]乃至DATA[k−1]を基に、ア
ナログの信号に変換された信号である。
で入力されるデータ信号DATA[0]乃至DATA[k−1]が、アナログの信号で出
力されるデータ信号Vdataに変換されて表示部の画素に出力される。画素が有する表
示素子は、ドライバICの駆動電圧よりも高い電圧が必要であり、ドライバICの出力側
では入力側に比べて高い電圧によるトランジスタの導通状態の制御を行い、所望の電圧の
信号を得ることになる。例えば、ドライバICの入力側では高速でトランジスタの制御を
行うため2乃至3V程度の低電圧で制御するが、ドライバICの出力側では5V乃至10
V程度の高電圧で制御する必要がある。
ル形成領域となる半導体層にシリコンを用いるトランジスタ(以下、Siトランジスタ)
を、高電圧に対する耐性が高いトランジスタとすることを特徴とする。具体的に図1の構
成では、ドライバIC内で高電圧に対する耐性が必要なトランジスタであるパストランジ
スタロジックPTLが有するトランジスタを、チャネル形成領域となる半導体層に酸化物
半導体を用いるトランジスタ(以下、OSトランジスタという)とする。
AMPを有し、各回路内においてOSトランジスタを耐圧が必要となる箇所に選択的に配
置することで、L長の大きいSiトランジスタを配置する場合に比べ、小面積化された回
路面積を有する半導体装置とすることができる。またOSトランジスタは、Siトランジ
スタよりも大きいバンドギャップの半導体を有するトランジスタである。そのため、ドラ
イバICにおけるトランジスタの高耐圧化を、トランジスタサイズを大きくすることなく
達成することができる。そのため、信頼性に優れた半導体装置とすることができる。
対の不純物領域間において、キャリアが最短距離で移動する方向の長さを意味する。また
、W長とはチャネル幅のことであり、チャネル長方向に対して垂直の方向の幅を意味する
。
るトランジスタに用いる場合、高電圧に対する耐性を確保するために、チャネル長を大き
くして回路設計を行う必要がある。チャネル長の大きいSiトランジスタ数が増加するこ
とは、結果として回路面積が増大することにつながる。
る場合、チャネル長を大きくして回路設計を行うことなく高電圧に対する耐性を確保する
ことができる。OSトランジスタのチャネル形成領域となる半導体層は、一例としてIn
−Ga−Zn系酸化物を挙げることができる。In−Ga−Zn系酸化物は、シリコンよ
りも1乃至2eV程度バンドギャップが大きい。そのためOSトランジスタに高電圧が印
加されてもアバランシェブレークダウンが起こりにくく、高電圧に対する耐性が高い。そ
のためOSトランジスタは絶縁破壊を起こしにくく、OSトランジスタを有する半導体装
置ではトランジスタの不良を少なくすることができる。
[k−1]_LSが与えられる、パストランジスタロジックPTLのトランジスタ11を
OSトランジスタとする構成について示している。該構成とすることで、高電圧に対する
耐性を高くするためにチャネル長を大きくして回路設計を行うSiトランジスタを採用す
る場合と比べて、回路面積を縮小することができる。そのため、半導体装置の小型化を図
ることができる。
とOSトランジスタとのVD−ID特性図について示す。図20では、Siトランジスタ
とOSトランジスタとについて同じ条件での高電圧に対する耐性を比較するために、共に
チャネル長を0.9μmとし、チャネル幅を10μmとし、酸化シリコンを用いたゲート
絶縁膜の膜厚を20nmとしている。なおゲート電圧は、2Vとしている。
ランシェブレークダウンが起こるのに対して、OSトランジスタでは、ドレイン電圧の増
加に対して26V程度までアバランシェブレークダウンが起きずに定電流を流すことがで
きるのがわかる。
について示す。また図21(B)では、ゲート電圧を変化させた際の、Siトランジスタ
のVD−ID特性図について示す。図21(A)、(B)では、SiトランジスタとOS
トランジスタとについて同じ条件での高電圧に対する耐性を比較するために、共にチャネ
ル長を0.9μmとし、チャネル幅を10μmとし、酸化シリコンを用いたゲート絶縁膜
の膜厚を20nmとしている。なおゲート電圧は、図21(A)のOSトランジスタでは
0.1V、2.06V、4.02V、5.98V、7.94Vと変化させ、図21(B)
のSiトランジスタでは0.1V、1.28V、2.46V、3.64V、4.82Vと
変化させている。
V程度でアバランシェブレークダウンが起こるのに対して、図21(A)に示すようにO
Sトランジスタでは、ドレイン電圧の増加に対して9V程度ではアバランシェブレークダ
ウンが起きずに定電流を流すことができるのがわかる。
と比べて高電圧に対する耐性が高い。そのためOSトランジスタは絶縁破壊を起こしにく
く、OSトランジスタを有する半導体装置ではトランジスタの不良を少なくすることがで
きる。
スタロジックPTLのさらなる回路面積の小型化に好適である。またOSトランジスタ同
士を積層して設けることもでき、パストランジスタロジックPTLのさらなる回路面積の
小型化に好適である。
号を併せて図示している。また図面において示す回路図では、Siトランジスタであるこ
とを示すために、Siの符号を併せて図示している。
タとすることができる。
実質的に真性にすることでオフ電流を低くすることができる。ここで、実質的に真性とは
、酸化物半導体中のキャリア密度が、1×1017/cm3未満であること、好ましくは
1×1015/cm3未満であること、さらに好ましくは1×1013/cm3未満であ
ることを指す。酸化物半導体において、水素、窒素、炭素、シリコン、および主成分以外
の金属元素は不純物となる。例えば、水素および窒素はドナー準位の形成に寄与し、キャ
リア密度を増大させてしまう。
いため、しきい値電圧がマイナスとなる電気特性になることが少ない。また、当該酸化物
半導体を用いたトランジスタは、酸化物半導体のキャリアトラップが少ないため、電気特
性の変動が小さく、信頼性の高いトランジスタとなる。また、当該酸化物半導体を用いた
トランジスタは、オフ電流を非常に低くすることが可能となる。
mあたりの規格化されたオフ電流が1×10−18A以下、好ましくは1×10−21A
以下、更に好ましくは1×10−24A以下、又は85℃にて1×10−15A以下、好
ましくは1×10−18A以下、更に好ましくは1×10−21A以下とすることができ
る。
電流をいう。nチャネル型トランジスタの閾値電圧が、例えば、0V乃至2V程度であれ
ば、ゲートとソースの間に印加される電圧が負の電圧の場合に、ソースとドレインとの間
を流れる電流をオフ電流ということができる。
ンジスタをパストランジスタロジックPTLが有するトランジスタに適用することで、非
導通状態とした際にトランジスタを流れるわずかに流れる電流を極めて小さい量にするこ
とができる。そのため、電流の消費が抑制され、半導体装置の低消費電力化を図ることが
できる。
ストランジスタロジックPTLを構成するトランジスタの全てに適用する構成について示
したが、パストランジスタロジックPTLを構成するトランジスタの一部でもよい。
いる構成について、図2に一例を示す。
と、DATA[0]乃至DATA[k−1]を上位ビット、DATA[k]乃至DATA
[2(k−1)]を下位ビットとする。そして図2に示す構成では、上位ビットに基づく
電圧を与えるパストランジスタロジックPTL内のトランジスタをSiトランジスタとし
、下位ビットに基づく電圧を与えるトランジスタをOSトランジスタとする。
下位ビットに基づく電圧を与えるトランジスタに比べて、高い電圧が与えられるトランジ
スタである。なおパストランジスタロジックPTLに与える複数の電圧として図2では、
電圧V[0]乃至V[2(j−1)]を示しており、V[0]<V[2(j−1)]であ
る。
TA[k−1]_LSを与えるトランジスタ12を、pチャネル型のSiトランジスタで
構成する。そして、データ信号の下位ビットに相当するDATA[k]乃至DATA[2
(k−1)]を昇圧して得られる、DATA[k]_LS乃至DATA[2(k−1)]
_LSを与えるトランジスタ11を、OSトランジスタで構成する。なお上位ビットとし
て与えるDATA[0]_LS乃至DATA[k−1]_LSは、pチャネル型のSiト
ランジスタであるトランジスタ12に与えられる信号のため、デジタルの信号の論理を反
転させて与えればよい。
ートとソースの間に印加する電圧(以下Vgs)を大きくすることができる。そのため、
レベルシフタLSで昇圧する電圧(V2/VSS)を電圧V[0]乃至V[2(j−1)
]よりも大きくすることなく、トランジスタの導通状態を制御することができる。その結
果、サイズの小さいトランジスタをパストランジスタロジックPTLに用いても耐圧性が
確保されるため、回路面積の縮小を図ることができる。
とで、OSトランジスタとSiトランジスタを近い配置で積層して設けることができるた
め、さらなる回路面積の小型化するのに好適である。またOSトランジスタ同士を積層し
て設けることもでき、さらなる回路面積の小型化するのに好適である。
ンジスタを、バックゲート(第2のゲートともいう)を有するトランジスタ11BGとし
てもよい。
ンジスタ11BGとすることで同じ回路面積であっても、半導体層に電界が印加される面
積を増やすことができる。そのため、パストランジスタロジックPTLをより小さい回路
面積でトランジスタを設計しても流す電流量を低下させることなく動作させることができ
る。
できる。
示す。レベルシフタLSは、トランジスタ21乃至30を有する。インバータとして機能
するトランジスタ21、22、並びにトランジスタ23、24では、電圧V1/VSSが
与えられ、バッファとして機能するトランジスタ25乃至30では、電圧V2/VSSが
与えられる。
である。
5乃至30における、電圧V2/VSSを与える配線間のトランジスタのいずれか一以上
に設ければよい。例えば図4に示す例では、トランジスタ27、30をOSトランジスタ
とし、その他のトランジスタについてはSiトランジスタとしている。
おいても、L長の大きいSiトランジスタを配置する場合に比べ、小面積化された回路面
積を有する半導体装置とすることができる。またOSトランジスタが非導通状態時におい
て電流の消費が抑制され、半導体装置の低消費電力化を図ることができる。
る。
ボルテージフォロワVFは、トランジスタ31乃至46、容量素子47、48、トランジ
スタ49及び50を有する。ボルテージフォロワVFは、トランジスタ31乃至34で構
成される差動入力部、トランジスタ35乃至46、容量素子47、48で構成される増幅
部、トランジスタ49及び50で構成されるバッファ部に大別することができる。
VFには、パストランジスタロジックPTLに与える電圧V2/VSSとは異なる電圧を
与える構成でもよい。例えばボルテージフォロワVFには、電圧V2よりも大きい電圧V
3とした電圧V3/VSSを与える構成としてもよい。またボルテージフォロワVFでは
、バイアス電圧VB1乃至VB6が与えられる。
41、43乃至46、50にOSトランジスタを適用し、その他のトランジスタについて
はSiトランジスタとしている。
VFにおいても、L長の大きいSiトランジスタを配置する場合に比べ、小面積化された
回路面積を有する半導体装置とすることができる。またOSトランジスタが非導通状態時
において電流の消費が抑制され、半導体装置の低消費電力化を図ることができる。
化してしまう。ボルテージフォロワVFが出力する出力電圧は、表示部の階調電圧を出力
する電圧であり、人間の目が階調のずれに対して敏感であるために出力電圧は極力変化し
ないことが好ましい。Siトランジスタは、OSトランジスタに比べて、不純物元素の添
加等の手段により閾値電圧の制御がしやすい。そのため、図5でOSトランジスタとした
トランジスタの中でもSiトランジスタの方がよい箇所もあり得る。
ランジスタを適用することが好ましい。例えば図6に示すように、トランジスタ31、3
2、33、39、41、43、45、50をOSトランジスタとし、それ以外をSiトラ
ンジスタとする。該構成とすることでボルテージフォロワVFより出力される出力電圧は
、閾値電圧のずれの影響が低減され、所望の電圧値の出力電圧を得ることができる。
[j−1]は、抵抗素子を直列に接続した電圧生成回路で生成すればよい。
生成するための複数の抵抗素子51を有する回路の一例である。図7に示す電圧生成回路
V−geneでは、電圧V2/VSSを与える配線間に抵抗素子51を直列に設ける。複
数の電圧V[0]乃至V[j−1]は、抵抗素子51で電圧V2/VSSを分圧して得ら
れる電圧である。
ックPTLの回路構成例を示している。図7に示すパストランジスタロジックPTLの回
路構成とすることで、データ信号の数より少ない数の、複数の電圧値を生成することがで
きる。そのため、パストランジスタロジックPTLのトランジスタ数を削減することがで
きる。
置すると、トランジスタの閾値電圧分低下した電圧が出力されることになる。そのため、
複数の電圧V[0]乃至V[j−1]が供給されるトランジスタのうち、閾値電圧の低下
の影響の大きい側の配線に接続されるトランジスタをpチャネル型トランジスタとし、閾
値電圧の低下の影響の小さい側の配線に接続されるトランジスタをnチャネル型のOSト
ランジスタとする構成にする。該構成とすることで、回路面積の縮小、高耐圧化を図ると
ともに、出力電圧に対する閾値電圧の影響をほとんどなくすことができる。
データ信号とでOSトランジスタとSiトランジスタを分けて設ける図8の構成としても
よい。
gsを大きくすることができる。そのため、レベルシフタLSで昇圧する電圧(V2/V
SS)を電圧V[0]乃至V[2(j−1)]よりも大きくすることなく、トランジスタ
の導通状態を制御することができる。その結果、サイズの小さいトランジスタをパストラ
ンジスタロジックPTLに用いても耐圧性が確保されるため、回路面積の縮小を図ること
ができる。
とで、OSトランジスタとSiトランジスタを近い配置で積層して設けることができるた
め、さらなる回路面積の小型化するのに好適である。またOSトランジスタ同士を積層し
て設けることもでき、さらなる回路面積の小型化するのに好適である。
ロジックPTL、及びアンプAMPを含み、各回路内においてOSトランジスタを耐圧が
必要となる箇所に選択的に配置することで、L長の大きいSiトランジスタを配置する場
合に比べ、小面積化された回路面積を有する半導体装置とすることができる。またOSト
ランジスタは、Siトランジスタよりも大きいバンドギャップの半導体を有するトランジ
スタである。そのため、ドライバにおけるトランジスタの高耐圧化を図ることができる。
そのため、信頼性に優れた半導体装置とすることができる。
本実施の形態では、上記実施の形態で説明した、レベルシフタLS、パストランジスタロ
ジックPTL、及びアンプAMPを含む表示装置の回路ブロック図について説明する。図
9には、ソースドライバ、ゲートドライバ、表示部の回路ブロック図を示している。
、及び表示部102を有する。また図9では、表示部102中に画素103を示している
。
ことができる。具体的にソースドライバ100は、シフトレジスタSR、データラッチD
−Latch、レベルシフタLS、パストランジスタロジックPTL、電圧生成回路V−
gene、及びアンプAMPを有する。ソースドライバ100は、ソース線SL[0]乃
至SL[n−1](nは2以上の自然数)にアナログ信号のデータ信号を出力する機能を
有する。
入力される。シフトレジスタSRはサンプリングパルスを生成し、データラッチD−La
tchに出力する。
タであるデータ信号DATA[0]乃至DATA[k−1]が入力される。データラッチ
D−Latchでは、データ信号DATA[0]乃至DATA[k−1]がサンプリング
パルスに従ってラッチされる。データラッチD−Latchは、ラッチしたデータ信号D
ATA[0]乃至DATA[k−1]をレベルシフタLSに出力する。
は、入力されるDATA[0]乃至DATA[k−1]の信号を、昇圧されたDATA[
0]_LS乃至DATA[k−1]_LSの信号にして出力する。
ストランジスタロジックPTLは、昇圧されたDATA[0]_LS乃至DATA[k−
1]_LSの信号に従ってトランジスタの導通状態を制御し、電圧生成回路V−gene
で生成される複数の電圧V[0]乃至V[j−1]に応じたアナログ信号である出力信号
PTL_OUTを出力する。
される出力信号PTL_OUTの出力する電流量を大きくしたデータ信号Vdataとし
て出力する。
]に出力されるアナログ信号となる。
ドライバ101は、ゲートスタートパルス、ゲートクロック等が入力され、パルス信号を
出力する。ゲートドライバ101を構成する回路は、ソースドライバ100と同様にIC
化してもよいし、表示部102の画素103が有するトランジスタと同じトランジスタを
用いてもよい。
)に走査信号を出力する。なお、ゲートドライバ101を複数設け、複数のゲートドライ
バ101により、ゲート線GL[0]乃至GL[m−1]を分割して制御してもよい。
SL[n−1]が概略直交するように設けられている。ゲート線とソース線の交差部には
、画素103が設けられる。なお表示部102における画素103の配置は、カラー表示
であれば、RGB(赤緑青)の各色に対応した画素が順に設けられる。なお、RGBの画
素の配列は、ストライプ配列、モザイク配列、デルタ配列等適宜用いることができる。ま
たRGBに限らず、白あるいは黄といった色を追加してカラー表示を行う構成としてもよ
い。
111、容量素子112、及び液晶素子113を有する。
素子としての機能を有する。トランジスタ111は、ゲート線GLを介して、そのゲート
から入力される走査信号により導通状態が制御される。
。共通電極と画素電極間に形成される電界の作用により液晶層の液晶材料の配向が変化さ
れる。
121、トランジスタ122、及びEL素子123を有する。なお図10(B)では、ゲ
ート線GL及びソース線SLに加えて、電源線VLを図示している。電源線VLは、EL
素子123に電流を供給するための配線である。
スイッチング素子としての機能を有する。トランジスタ121は、ゲート線GLを介して
、そのゲートから入力される走査信号によりオン、オフが制御される。
との間に流れる電流を制御する機能を有する。
素子123は、発光層を流れる電流量に従って輝度を制御することができる。
LS、パストランジスタロジックPTL、及びアンプAMPを含む回路ブロック図である
。そのため、上記実施の形態と同様に、ソースドライバにおける回路面積を小面積化する
ことができる。そのため、表示装置を小型化することができる。または、本発明の一態様
は、ソースドライバにおけるトランジスタの高耐圧化を図ることができる。そのため、信
頼性に優れた表示装置とすることができる。
本実施の形態では、上記実施の形態で説明したオフ電流の低いトランジスタの半導体層に
用いることのできる酸化物半導体層について説明する。
もインジウム(In)又は亜鉛(Zn)を含むことが好ましい。特にIn及びZnを含む
ことが好ましい。また、それらに加えて、酸素を強く結びつけるスタビライザーを有する
ことが好ましい。スタビライザーとしては、ガリウム(Ga)、スズ(Sn)、ジルコニ
ウム(Zr)、ハフニウム(Hf)及びアルミニウム(Al)の少なくともいずれかを有
すればよい。
Ce)、プラセオジム(Pr)、ネオジム(Nd)、サマリウム(Sm)、ユウロピウム
(Eu)、ガドリニウム(Gd)、テルビウム(Tb)、ジスプロシウム(Dy)、ホル
ミウム(Ho)、エルビウム(Er)、ツリウム(Tm)、イッテルビウム(Yb)、ル
テチウム(Lu)のいずれか一種又は複数種を有してもよい。
ム、酸化スズ、酸化亜鉛、In−Zn系酸化物、Sn−Zn系酸化物、Al−Zn系酸化
物、Zn−Mg系酸化物、Sn−Mg系酸化物、In−Mg系酸化物、In−Ga系酸化
物、In−Ga−Zn系酸化物(IGZOとも表記する)、In−Al−Zn系酸化物、
In−Sn−Zn系酸化物、Sn−Ga−Zn系酸化物、Al−Ga−Zn系酸化物、S
n−Al−Zn系酸化物、In−Hf−Zn系酸化物、In−Zr−Zn系酸化物、In
−Ti−Zn系酸化物、In−Sc−Zn系酸化物、In−Y−Zn系酸化物、In−L
a−Zn系酸化物、In−Ce−Zn系酸化物、In−Pr−Zn系酸化物、In−Nd
−Zn系酸化物、In−Sm−Zn系酸化物、In−Eu−Zn系酸化物、In−Gd−
Zn系酸化物、In−Tb−Zn系酸化物、In−Dy−Zn系酸化物、In−Ho−Z
n系酸化物、In−Er−Zn系酸化物、In−Tm−Zn系酸化物、In−Yb−Zn
系酸化物、In−Lu−Zn系酸化物、In−Sn−Ga−Zn系酸化物、In−Hf−
Ga−Zn系酸化物、In−Al−Ga−Zn系酸化物、In−Sn−Al−Zn系酸化
物、In−Sn−Hf−Zn系酸化物、In−Hf−Al−Zn系酸化物等がある。
n:Ga:Zn=2:1:3の原子数比のIn−Ga−Zn系酸化物やその組成の近傍の
酸化物を用いるとよい。
ることによって、水素の一部がドナーとなり、キャリアである電子を生じてしまう。これ
により、トランジスタの閾値電圧がマイナス方向にシフトしてしまう。そのため、酸化物
半導体膜の形成後において、脱水化処理(脱水素化処理)を行い酸化物半導体膜から、水
素、又は水分を除去して不純物が極力含まれないように高純度化することが好ましい。
酸素が減少してしまうことがある。よって、酸化物半導体膜への脱水化処理(脱水素化処
理)によって増加した酸素欠損を補填するため酸素を酸化物半導体膜に加える処理を行う
ことが好ましい。本明細書等において、酸化物半導体膜に酸素を供給する場合を、加酸素
化処理、と記す場合がある。または酸化物半導体膜に含まれる酸素を化学量論的組成より
も多くする場合を過酸素化処理と記す場合がある。
除去され、加酸素化処理により酸素欠損を補填することによって、i型(真性)化又はi
型に限りなく近く実質的にi型(真性)である酸化物半導体膜とすることができる。なお
、実質的に真性とは、酸化物半導体膜中にドナーに由来するキャリアが極めて少なく(ゼ
ロに近く)、キャリア密度が1×1017/cm3以下、1×1016/cm3以下、1
×1015/cm3以下、1×1014/cm3以下、1×1013/cm3以下である
ことをいう。
は、極めて優れたオフ電流特性を実現できる。例えば、酸化物半導体膜を用いたトランジ
スタがオフ状態のときのドレイン電流を、室温(25℃程度)にて1×10−18A以下
、好ましくは1×10−21A以下、更に好ましくは1×10−24A以下、又は85℃
にて1×10−15A以下、好ましくは1×10−18A以下、更に好ましくは1×10
−21A以下とすることができる。なお、トランジスタがオフ状態とは、nチャネル型の
トランジスタの場合、ゲート電圧が閾値電圧よりも十分小さい状態をいう。具体的には、
ゲート電圧が閾値電圧よりも1V以上、2V以上又は3V以上小さければ、トランジスタ
はオフ状態となる。
。)、多結晶構造の酸化物半導体(以下、多結晶酸化物半導体という。)、微結晶構造の
酸化物半導体(以下、微結晶酸化物半導体という。)、及び非晶質構造の酸化物半導体(
以下、非晶質酸化物半導体という。)の一以上で構成されてもよい。また、酸化物半導体
膜は、CAAC−OS膜で構成されていてもよい。また、酸化物半導体膜は、非晶質酸化
物半導体及び結晶粒を有する酸化物半導体で構成されていてもよい。以下に、代表例とし
て、CAAC−OS及び微結晶酸化物半導体について説明する。
ron Microscope)によって観察すると、明確な結晶部同士の境界、即ち結
晶粒界(グレインバウンダリーともいう。)を確認することができない。そのため、CA
AC−OS膜は、結晶粒界に起因する電子移動度の低下が起こりにくいといえる。
)すると、結晶部において、金属原子が層状に配列していることを確認できる。金属原子
の各層は、CAAC−OS膜の膜を形成する面(被形成面ともいう。)または上面の凹凸
を反映した形状であり、CAAC−OS膜の被形成面または上面と平行に配列する。
M観察)すると、結晶部において、金属原子が三角形状または六角形状に配列しているこ
とを確認できる。しかしながら、異なる結晶部間で、金属原子の配列に規則性は見られな
い。
1(a)をさらに拡大した断面TEM像であり、理解を容易にするために原子配列を強調
表示している。
m)の局所的なフーリエ変換像である。図11(c)より、各領域においてc軸配向性が
確認できる。また、A−O間とO−A’間とでは、c軸の向きが異なるため、異なるグレ
インであることが示唆される。また、A−O間では、c軸の角度が14.3°、16.6
°、26.4°のように少しずつ連続的に変化していることがわかる。同様に、O−A’
間では、c軸の角度が−18.3°、−17.6°、−15.9°と少しずつ連続的に変
化していることがわかる。
測される。例えば、CAAC−OS膜の上面に対し、例えば1nm以上30nm以下の電
子線を用いる電子回折(ナノビーム電子回折ともいう。)を行うと、スポットが観測され
る(図12(A)参照。)。
いることがわかる。
内に収まる大きさである。従って、CAAC−OS膜に含まれる結晶部は、一辺が10n
m未満、5nm未満または3nm未満の立方体内に収まる大きさの場合も含まれる。ただ
し、CAAC−OS膜に含まれる複数の結晶部が連結することで、一つの大きな結晶領域
を形成する場合がある。例えば、平面TEM像において、2500nm2以上、5μm2
以上または1000μm2以上となる結晶領域が観察される場合がある。
置を用いて構造解析を行うと、例えばInGaZnO4の結晶を有するCAAC−OS膜
のout−of−plane法による解析では、回折角(2θ)が31°近傍にピークが
現れる場合がある。このピークは、InGaZnO4の結晶の(009)面に帰属される
ことから、CAAC−OS膜の結晶がc軸配向性を有し、c軸が被形成面または上面に概
略垂直な方向を向いていることが確認できる。
ane法による解析では、2θが56°近傍にピークが現れる場合がある。このピークは
、InGaZnO4の結晶の(110)面に帰属される。InGaZnO4の単結晶酸化
物半導体膜であれば、2θを56°近傍に固定し、試料面の法線ベクトルを軸(φ軸)と
して試料を回転させながら分析(φスキャン)を行うと、(110)面と等価な結晶面に
帰属されるピークが6本観察される。これに対し、CAAC−OS膜の場合は、2θを5
6°近傍に固定してφスキャンした場合でも、明瞭なピークが現れない。
規則であるが、c軸配向性を有し、かつc軸が被形成面または上面の法線ベクトルに平行
な方向を向いていることがわかる。従って、前述の断面TEM観察で確認された層状に配
列した金属原子の各層は、結晶のab面に平行な面である。
った際に形成される。上述したように、結晶のc軸は、CAAC−OS膜の被形成面また
は上面の法線ベクトルに平行な方向に配向する。従って、例えば、CAAC−OS膜の形
状をエッチングなどによって変化させた場合、結晶のc軸がCAAC−OS膜の被形成面
または上面の法線ベクトルと平行にならないこともある。
例えば、CAAC−OS膜の結晶部が、CAAC−OS膜の上面近傍からの結晶成長によ
って形成される場合、上面近傍の領域は、被形成面近傍の領域よりもc軸配向した結晶部
の割合が高くなることがある。また、不純物の添加されたCAAC−OS膜は、不純物が
添加された領域が変質し、部分的にc軸配向した結晶部の割合の異なる領域が形成される
こともある。
による解析では、2θが31°近傍のピークの他に、2θが36°近傍にもピークが現れ
る場合がある。2θが36°近傍のピークは、CAAC−OS膜中の一部に、c軸配向性
を有さない結晶が含まれることを示している。CAAC−OS膜は、2θが31°近傍に
ピークを示し、2θが36°近傍にピークを示さないことが好ましい。
シリコン、遷移金属元素などの酸化物半導体膜の主成分以外の元素である。特に、シリコ
ンなどの、酸化物半導体膜を構成する金属元素よりも酸素との結合力の強い元素は、酸化
物半導体膜から酸素を奪うことで酸化物半導体膜の原子配列を乱し、結晶性を低下させる
要因となる。また、鉄やニッケルなどの重金属、アルゴン、二酸化炭素などは、原子半径
(または分子半径)が大きいため、酸化物半導体膜内部に含まれると、酸化物半導体膜の
原子配列を乱し、結晶性を低下させる要因となる。なお、酸化物半導体膜に含まれる不純
物は、キャリアトラップやキャリア発生源となる場合がある。
半導体膜中の酸素欠損は、キャリアトラップとなることや、水素を捕獲することによって
キャリア発生源となることがある。
実質的に高純度真性と呼ぶ。高純度真性または実質的に高純度真性である酸化物半導体膜
は、キャリア発生源が少ないため、キャリア密度を低くすることができる。従って、当該
酸化物半導体膜を用いたトランジスタは、しきい値電圧がマイナスとなる電気特性(ノー
マリーオンともいう。)になることが少ない。また、高純度真性または実質的に高純度真
性である酸化物半導体膜は、キャリアトラップが少ない。そのため、当該酸化物半導体膜
を用いたトランジスタは、電気特性の変動が小さく、信頼性の高いトランジスタとなる。
なお、酸化物半導体膜のキャリアトラップに捕獲された電荷は、放出するまでに要する時
間が長く、あたかも固定電荷のように振る舞うことがある。そのため、不純物濃度が高く
、欠陥準位密度が高い酸化物半導体膜を用いたトランジスタは、電気特性が不安定となる
場合がある。
の変動が小さい。
ない場合がある。微結晶酸化物半導体膜に含まれる結晶部は、1nm以上100nm以下
、または1nm以上10nm以下の大きさであることが多い。特に、1nm以上10nm
以下、または1nm以上3nm以下の微結晶であるナノ結晶(nc:nanocryst
al)を有する酸化物半導体膜を、nc−OS(nanocrystalline Ox
ide Semiconductor)膜と呼ぶ。また、nc−OS膜は、例えば、TE
Mによる観察像では、結晶粒界を明確に確認できない場合がある。
3nm以下の領域)において原子配列に周期性を有する。また、nc−OS膜は、異なる
結晶部間で結晶方位に規則性が見られない。そのため、膜全体で配向性が見られない。従
って、nc−OS膜は、分析方法によっては、非晶質酸化物半導体膜と区別が付かない場
合がある。例えば、nc−OS膜に対し、結晶部よりも大きい径のX線を用いるXRD装
置を用いて構造解析を行うと、out−of−plane法による解析では、結晶面を示
すピークが検出されない。また、nc−OS膜に対し、結晶部よりも大きいプローブ径(
例えば50nm以上)の電子線を用いる電子回折(制限視野電子回折ともいう。)を行う
と、ハローパターンのような回折パターンが観測される。一方、nc−OS膜に対し、結
晶部の大きさと近いか結晶部より小さいプローブ径の電子線を用いるナノビーム電子回折
を行うと、スポットが観測される。また、nc−OS膜に対しナノビーム電子回折を行う
と、円を描くように(リング状に)輝度の高い領域が観測される場合がある。また、nc
−OS膜に対しナノビーム電子回折を行うと、リング状の領域内に複数のスポットが観測
される場合がある(図12(B)参照。)。
ため、nc−OS膜は、非晶質酸化物半導体膜よりも欠陥準位密度が低くなる。ただし、
nc−OS膜は、異なる結晶部間で結晶方位に規則性が見られない。そのため、nc−O
S膜は、CAAC−OS膜と比べて欠陥準位密度が高くなる。
AC−OS膜のうち、二種以上を有する積層膜であってもよい。
が可能となる場合がある。
試料室74と、試料室74の下の光学系76と、光学系76の下の観察室80と、観察室
80に設置されたカメラ78と、観察室80の下のフィルム室82と、を有する透過電子
回折測定装置を示す。カメラ78は、観察室80内部に向けて設置される。なお、フィル
ム室82を有さなくても構わない。
透過電子回折測定装置内部では、電子銃室70に設置された電子銃から放出された電子が
、光学系72を介して試料室74に配置された物質88に照射される。物質88を通過し
た電子は、光学系76を介して観察室80内部に設置された蛍光板92に入射する。蛍光
板92では、入射した電子の強度に応じたパターンが現れることで透過電子回折パターン
を測定することができる。
することが可能である。カメラ78のレンズの中央、および蛍光板92の中央を通る直線
と、蛍光板92の上面と、の為す角度は、例えば、15°以上80°以下、30°以上7
5°以下、または45°以上70°以下とする。該角度が小さいほど、カメラ78で撮影
される透過電子回折パターンは歪みが大きくなる。ただし、あらかじめ該角度がわかって
いれば、得られた透過電子回折パターンの歪みを補正することも可能である。なお、カメ
ラ78をフィルム室82に設置しても構わない場合がある。例えば、カメラ78をフィル
ム室82に、電子84の入射方向と対向するように設置してもよい。この場合、蛍光板9
2の裏面から歪みの少ない透過電子回折パターンを撮影することができる。
は、物質88を通過する電子を透過するような構造をしている。ホルダは、例えば、物質
88をX軸、Y軸、Z軸などに移動させる機能を有していてもよい。ホルダの移動機能は
、例えば、1nm以上10nm以下、5nm以上50nm以下、10nm以上100nm
以下、50nm以上500nm以下、100nm以上1μm以下などの範囲で移動させる
精度を有すればよい。これらの範囲は、物質88の構造によって最適な範囲を設定すれば
よい。
方法について説明する。
変化させる(スキャンする)ことで、物質の構造が変化していく様子を確認することがで
きる。このとき、物質88がCAAC−OS膜であれば、図12(A)に示したような回
折パターンが観測される。または、物質88がnc−OS膜であれば、図12(B)に示
したような回折パターンが観測される。
同様の回折パターンが観測される場合がある。したがって、CAAC−OS膜の良否は、
一定の範囲におけるCAAC−OS膜の回折パターンが観測される領域の割合(CAAC
化率ともいう。)で表すことができる場合がある。例えば、良質なCAAC−OS膜であ
れば、CAAC化率は、50%以上、好ましくは80%以上、さらに好ましくは90%以
上、より好ましくは95%以上となる。なお、CAAC−OS膜と異なる回折パターンが
観測される領域の割合を非CAAC化率と表記する。
における450℃加熱処理後のCAAC−OS膜を有する各試料の上面に対し、スキャン
しながら透過電子回折パターンを取得した。ここでは、5nm/秒の速度で60秒間スキ
ャンしながら回折パターンを観測し、観測された回折パターンを0.5秒ごとに静止画に
変換することで、CAAC化率を導出した。なお、電子線としては、プローブ径が1nm
のナノビームを用いた。なお、同様の測定は6試料に対して行った。そしてCAAC化率
の算出には、6試料における平均値を用いた。
AC化率は75.7%(非CAAC化率は24.3%)であった。また、450℃加熱処
理後のCAAC−OS膜のCAAC化率は85.3%(非CAAC化率は14.7%)で
あった。成膜直後と比べて、450℃加熱処理後のCAAC化率が高いことがわかる。即
ち、高い温度(例えば400℃以上)における加熱処理によって、非CAAC化率が低く
なる(CAAC化率が高くなる)ことがわかる。また、500℃未満の加熱処理において
も高いCAAC化率を有するCAAC−OS膜が得られることがわかる。
パターンであった。また、測定領域において非晶質酸化物半導体膜は、確認することがで
きなかった。したがって、加熱処理によって、nc−OS膜と同様の構造を有する領域が
、隣接する領域の構造の影響を受けて再配列し、CAAC化していることが示唆される。
S膜の平面TEM像である。図13(B)と図13(C)とを比較することにより、45
0℃加熱処理後のCAAC−OS膜は、膜質がより均質であることがわかる。即ち、高い
温度における加熱処理によって、CAAC−OS膜の膜質が向上することがわかる。
なる場合がある。
と適宜組み合わせて用いることができる。
本実施の形態では、開示する発明の一態様に係る半導体装置に用いられるトランジスタの
断面構造の一例について、図面を参照して説明する。
図14では、図2で図示したトランジスタ11、及びトランジスタ12を、例示している
。
物半導体を半導体層に用いたトランジスタ11が、トランジスタ12上に形成されている
場合を例示している。トランジスタ12は、非晶質、微結晶、多結晶又は単結晶である、
シリコン又はゲルマニウムなどの薄膜の半導体を半導体層に用いていても良い。
成長法若しくはスパッタリング法で作製された非晶質シリコン、非晶質シリコンをレーザ
ーアニールなどの処理により結晶化させた多結晶シリコン、単結晶シリコンウェハに水素
イオン等を注入して表層部を剥離した単結晶シリコンなどを用いることができる。
ている。図14の構成とすることで、トランジスタ11のチャネル形成領域と、トランジ
スタ12のチャネル形成領域と、を互いに重ねて設けることができる。そのため該構成と
して半導体装置では、レイアウト面積の縮小を図ることができる。なお図14の断面構造
では、トランジスタ11のL長をトランジスタ12のL長よりも小さくしている。OSト
ランジスタでは高耐圧性に優れており、該構成としてもトランジスタの高耐圧化、高信頼
性に優れた半導体装置とすることができる。
ム基板、シリコンゲルマニウム基板、化合物半導体基板(GaAs基板、InP基板、G
aN基板、SiC基板、GaP基板、GaInAsP基板、ZnSe基板等)等を用いる
ことができる。図14では、p型の導電性を有する単結晶シリコン基板を用いた場合を例
示している。
的に分離されている。素子分離用絶縁膜801の形成には、選択酸化法(LOCOS(L
ocal Oxidation of Silicon)法)又はトレンチ分離法等を用
いることができる。
ン領域として機能する不純物領域802及び不純物領域803と、ゲート電極804と、
半導体基板800とゲート電極804の間に設けられたゲート絶縁膜805とを有する。
ゲート電極804は、ゲート絶縁膜805を間に挟んで、不純物領域802と不純物領域
803の間に形成されるチャネル形成領域と重なる。
成されている。そして、上記開口部には、不純物領域802、不純物領域803にそれぞ
れ接する配線810、配線811が形成されている。
811は、絶縁膜809上に形成された配線817に接続されている。
膜830上の、ソース電極又はドレイン電極として機能する導電膜832及び導電膜83
3と、半導体膜830、導電膜832及び導電膜833上のゲート絶縁膜831と、ゲー
ト絶縁膜831上に位置し、導電膜832と導電膜833の間において半導体膜830と
重なっているゲート電極834と、を有する。
複数の酸化物半導体で構成されていても良い。例えば半導体膜830が、3層に積層され
て構成されている場合のトランジスタ11の構成例を、図15(A)に示す。
30と、半導体膜830と電気的に接続されている導電膜832、及び導電膜833と、
ゲート絶縁膜831と、ゲート絶縁膜831上に半導体膜830と重畳するように設けら
れたゲート電極834と、を有する。
化物半導体層830cが、絶縁膜820側から順に積層されている。
bを構成する金属元素の少なくとも1つを、その構成要素に含み、伝導帯下端のエネルギ
ーが酸化物半導体層830bよりも0.05eV以上、0.07eV以上、0.1eV以
上又は0.15eV以上、かつ2eV以下、1eV以下、0.5eV以下又は0.4eV
以下、真空準位に近い酸化物膜である。さらに、酸化物半導体層830bは、少なくとも
インジウムを含むと、キャリア移動度が高くなるため好ましい。
33の上層でゲート絶縁膜831と重畳させて設ける構成としてもよい。
する場合に比べ、小面積化された回路面積を有する半導体装置とすることができる。トラ
ンジスタの高耐圧化を、トランジスタサイズを大きくすることなく達成することができる
。そのため、信頼性に優れた半導体装置とすることができる。
トランジスタのW長をSiトランジスタのW長よりも大きく設計すればよい。
上記実施の形態で開示された、導電膜や半導体膜はスパッタ法により形成することができ
るが、他の方法、例えば、熱CVD法により形成してもよい。熱CVD法の例としてMO
CVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposit
ion)法やALD(Atomic Layer Deposition)法を使っても
良い。
されることが無いという利点を有する。
たは減圧下とし、基板近傍または基板上で反応させて基板上に堆積させることで成膜を行
ってもよい。
次にチャンバーに導入され、そのガス導入の順序を繰り返すことで成膜を行ってもよい。
例えば、それぞれのスイッチングバルブ(高速バルブとも呼ぶ)を切り替えて2種類以上
の原料ガスを順番にチャンバーに供給し、複数種の原料ガスが混ざらないように第1の原
料ガスと同時またはその後に不活性ガス(アルゴン、或いは窒素など)などを導入し、第
2の原料ガスを導入する。なお、同時に不活性ガスを導入する場合には、不活性ガスはキ
ャリアガスとなり、また、第2の原料ガスの導入時にも同時に不活性ガスを導入してもよ
い。また、不活性ガスを導入する代わりに真空排気によって第1の原料ガスを排出した後
、第2の原料ガスを導入してもよい。第1の原料ガスが基板の表面に吸着して第1の層を
成膜し、後から導入される第2の原料ガスと反応して、第2の層が第1の層上に積層され
て薄膜が形成される。このガス導入順序を制御しつつ所望の厚さになるまで複数回繰り返
すことで、段差被覆性に優れた薄膜を形成することができる。薄膜の厚さは、ガス導入順
序を繰り返す回数によって調節することができるため、精密な膜厚調節が可能であり、微
細なFETを作製する場合に適している。
導電膜や半導体膜を形成することができ、例えば、In−Ga−Zn−O膜を成膜する場
合には、トリメチルインジウム、トリメチルガリウム、及びジメチル亜鉛を用いる。なお
、トリメチルインジウムの化学式は、In(CH3)3である。また、トリメチルガリウ
ムの化学式は、Ga(CH3)3である。また、ジメチル亜鉛の化学式は、Zn(CH3
)2である。また、これらの組み合わせに限定されず、トリメチルガリウムに代えてトリ
エチルガリウム(化学式Ga(C2H5)3)を用いることもでき、ジメチル亜鉛に代え
てジエチル亜鉛(化学式Zn(C2H5)2)を用いることもできる。
スとB2H6ガスを順次繰り返し導入して初期タングステン膜を形成し、その後、WF6
ガスとH2ガスを同時に導入してタングステン膜を形成する。なお、B2H6ガスに代え
てSiH4ガスを用いてもよい。
膜を成膜する場合には、In(CH3)3ガスとO3ガスを順次繰り返し導入してIn−
O層を形成し、その後、Ga(CH3)3ガスとO3ガスを同時に導入してGaO層を形
成し、更にその後Zn(CH3)2とO3ガスを同時に導入してZnO層を形成する。な
お、これらの層の順番はこの例に限らない。また、これらのガスを混ぜてIn−Ga−O
層やIn−Zn−O層、Ga−Zn−O層などの混合化合物層を形成しても良い。なお、
O3ガスに変えてAr等の不活性ガスでバブリングして得られたH2Oガスを用いても良
いが、Hを含まないO3ガスを用いる方が好ましい。また、In(CH3)3ガスにかえ
て、In(C2H5)3ガスを用いても良い。また、Ga(CH3)3ガスにかえて、G
a(C2H5)3ガスを用いても良い。また、Zn(CH3)2ガスを用いても良い。
ことができる。
本実施の形態では、上述の実施の形態で説明した半導体装置を用いた応用例として、電子
部品に適用する例、該電子部品を表示モジュールに適用する例、該表示モジュールの応用
例、及び電子機器への応用例について、図16乃至図19を用いて説明する。
まず図16(A)では上述の実施の形態で説明した半導体装置を電子部品に適用する例に
ついて説明する。なお電子部品は、半導体パッケージ、又はIC用パッケージともいう。
この電子部品は、端子取り出し方向や、端子の形状に応じて、複数の規格や名称が存在す
る。そこで、本実施の形態では、その一例について説明することにする。
て工程(後工程)を経て、プリント基板に脱着可能な部品が複数合わさることで完成する
。
体的には、前工程で得られる素子基板が完成(ステップS1)した後、基板の裏面を研削
する(ステップS2)。この段階で基板を薄膜化することで、前工程での基板の反り等を
低減し、部品としての小型化を図るためである。
分離したチップを個々にピックアップしてインターポーザ上に搭載し接合する、ダイボン
ディング工程を行う(ステップS3)。このダイボンディング工程におけるチップとイン
ターポーザとの接着は、樹脂による接着や、テープによる接着等、適宜製品に応じて適し
た方法を選択する。
接続する、ワイヤーボンディングを行う(ステップS4)。金属の細線には、銀線や金線
を用いることができる。また、ワイヤーボンディングは、ボールボンディングや、ウェッ
ジボンディングを用いることができる。
される(ステップS5)。モールド工程を行うことで電子部品の内部が樹脂で充填され、
機械的な外力による内蔵される回路部やワイヤーに対するダメージを低減することができ
、また水分や埃による特性の劣化を低減することができる。
的な検査工程(ステップS7)を経て電子部品が完成する(ステップS8)。
ができる。そのため、小型化、信頼性に優れた電子部品を実現することができる。
品700は、インターポーザ702の表面に半導体装置701が設けられる。半導体装置
701は、ワイヤー705を介してインターポーザ702表面の配線に接続され、インタ
ーポーザ裏面に設けられたバンプ端子706と電気的に接続される。インターポーザ70
2上の半導体装置701は、エポキシ樹脂704が充填され、パッケージ703によって
封止される。
d Circuit)、あるいは表示パネル上に実装される。
次いで、半導体装置をソースドライバICに適用した際の、図16(B)に示す電子部品
の表示パネルへの実装例について、図17(A)、(B)を用いて説明する。
イバ712A、712Bが設けられ、ソースドライバ712として基板713上にソース
ドライバIC714が実装される例を示している。
713上に実装される。
れる。
ドライバ712A、712Bが設けられ、ソースドライバ712としてFPC715上に
ソースドライバIC714が実装される例を示している。
1を大きく設けることができ、狭額縁化を達成することができる。
次いで図17(A)、(B)の表示パネルを用いた表示モジュールの応用例について、図
18を用いて説明を行う。
間に、FPC8003に接続されたタッチパネル8004、FPC8005に接続された
表示パネル8006、バックライトユニット8007、フレーム8009、プリント基板
8010、バッテリー8011を有する。なお、バックライトユニット8007、バッテ
リー8011、タッチパネル8004などは、設けられない場合もある。
に用いることができる。
006のサイズに合わせて、形状や寸法を適宜変更することができる。
006に重畳して用いることができる。また、表示パネル8006の対向基板(封止基板
)に、タッチパネル機能を持たせるようにすることも可能である。または、表示パネル8
006の各画素内に光センサを設け、光学式のタッチパネルとすることも可能である。ま
たは、表示パネル8006の各画素内にタッチセンサ用電極を設け、静電容量方式のタッ
チパネルとすることも可能である。
ユニット8007の端部に設け、光拡散板を用いる構成としてもよい。
により発生する電磁波を遮断するための電磁シールドとしての機能を有する。またフレー
ム8009は、放熱板としての機能を有していてもよい。
処理回路を有する。電源回路に電力を供給する電源としては、外部の商用電源であっても
良いし、別途設けたバッテリー8011による電源であってもよい。バッテリー8011
は、商用電源を用いる場合には、省略可能である。
加して設けてもよい。
次いで、コンピュータ、携帯情報端末(携帯電話、携帯型ゲーム機、音響再生装置なども
含む)、電子ペーパー、テレビジョン装置(テレビ、又はテレビジョン受信機ともいう)
、デジタルビデオカメラなどの電子機器の表示パネルに、上述の電子部品を適用した場合
について説明する。
3a、第2の表示部903bなどによって構成されている。筐体901と筐体902の少
なくとも一部には、先の実施の形態に示す半導体装置を有する電子部品が設けられている
。そのため、小型化、信頼性に優れた携帯型の情報端末が実現される。
9(A)の左図のように、第1の表示部903aに表示される選択ボタン904により「
タッチ入力」を行うか、「キーボード入力」を行うかを選択できる。選択ボタンは様々な
大きさで表示できるため、幅広い世代の人が使いやすさを実感できる。ここで、例えば「
キーボード入力」を選択した場合、図19(A)の右図のように第1の表示部903aに
はキーボード905が表示される。これにより、従来の情報端末と同様に、キー入力によ
る素早い文字入力などが可能となる。
示部903a及び第2の表示部903bのうち、一方を取り外すことができる。第2の表
示部903bもタッチ入力機能を有するパネルとし、持ち運びの際、さらなる軽量化を図
ることができ、一方の手で筐体902を持ち、他方の手で操作することができるため便利
である。
)を表示する機能、カレンダー、日付又は時刻などを表示部に表示する機能、表示部に表
示した情報を操作又は編集する機能、様々なソフトウェア(プログラム)によって処理を
制御する機能、等を有することができる。また、筐体の裏面や側面に、外部接続用端子(
イヤホン端子、USB端子など)、記録媒体挿入部などを備える構成としてもよい。
よい。無線により、電子書籍サーバから、所望の書籍データなどを購入し、ダウンロード
する構成とすることも可能である。
電話として用いてもよい。
912の2つの筐体で構成されている。筐体911及び筐体912には、それぞれ表示部
913及び表示部914が設けられている。筐体911と筐体912は、軸部915によ
り接続されており、該軸部915を軸として開閉動作を行うことができる。また、筐体9
11は、電源916、操作キー917、スピーカー918などを備えている。筐体911
、筐体912の少なくとも一には、半導体装置を有する電子部品が設けられている。その
ため、小型化、信頼性に優れた電子書籍端末が実現される。
などで構成されている。テレビジョン装置の操作は、筐体921が備えるスイッチや、リ
モコン操作機924により行うことができる。筐体921及びリモコン操作機924には
、先の実施の形態に示す半導体装置を有する電子部品が搭載されている。そのため、小型
化、信頼性に優れたテレビジョン装置が実現される。
932と、マイク933と、操作ボタン934等が設けられている。本体930内には、
先の実施の形態に示す半導体装置を有する電子部品が設けられている。そのため小型化、
信頼性に優れたスマートフォンが実現される。
3などによって構成されている。本体941内には、先の実施の形態に示す半導体装置を
有する電子部品が設けられている。そのため、小型化、信頼性に優れたデジタルカメラが
実現される。
する電子部品が搭載されている。このため、小型化、信頼性に優れた電子機器が実現され
る。
V2 高電源電位
V3 電圧
VB1 バイアス電圧
VB5 バイアス電圧
11 トランジスタ
11BG トランジスタ
12 トランジスタ
21 トランジスタ
22 トランジスタ
23 トランジスタ
24 トランジスタ
25 トランジスタ
27 トランジスタ
30 トランジスタ
31 トランジスタ
33 トランジスタ
34 トランジスタ
35 トランジスタ
39 トランジスタ
41 トランジスタ
43 トランジスタ
44 トランジスタ
46 トランジスタ
47 容量素子
48 容量素子
49 トランジスタ
51 抵抗素子
70 電子銃室
72 光学系
74 試料室
76 光学系
78 カメラ
80 観察室
82 フィルム室
84 電子
88 物質
92 蛍光板
100 ソースドライバ
101 ゲートドライバ
102 表示部
103 画素
103A 画素
103B 画素
111 トランジスタ
112 容量素子
113 液晶素子
121 トランジスタ
122 トランジスタ
123 EL素子
800 半導体基板
801 素子分離用絶縁膜
802 不純物領域
803 不純物領域
804 ゲート電極
805 ゲート絶縁膜
809 絶縁膜
810 配線
811 配線
816 配線
817 配線
820 絶縁膜
830 半導体膜
830a 酸化物半導体層
830b 酸化物半導体層
830c 酸化物半導体層
831 ゲート絶縁膜
832 導電膜
833 導電膜
834 ゲート電極
841 絶縁膜
700 電子部品
701 半導体装置
702 インターポーザ
703 パッケージ
704 エポキシ樹脂
705 ワイヤー
706 バンプ端子
711 表示部
712 ソースドライバ
712A ゲートドライバ
712B ゲートドライバ
713 基板
714 ソースドライバIC
715 FPC
716 外部回路基板
901 筐体
902 筐体
903a 表示部
903b 表示部
904 選択ボタン
905 キーボード
910 電子書籍端末
911 筐体
912 筐体
913 表示部
914 表示部
915 軸部
916 電源
917 操作キー
918 スピーカー
921 筐体
922 表示部
923 スタンド
924 リモコン操作機
930 本体
931 表示部
932 スピーカー
933 マイク
934 操作ボタン
941 本体
942 表示部
943 操作スイッチ
8000 表示モジュール
8001 上部カバー
8002 下部カバー
8003 FPC
8004 タッチパネル
8005 FPC
8006 表示パネル
8007 バックライトユニット
8008 光源
8009 フレーム
8010 プリント基板
8011 バッテリー
Claims (4)
- 第1の回路と、第2の回路と、第3の回路と、を有する半導体装置であって、
前記第1の回路は、第1の信号が入力され、前記第1の信号が取り得る第1の電圧を第2の電圧に昇圧することができる機能を有し、
前記第2の回路は、前記第1の信号を、第2の信号に変換することができる機能を有し、
前記第3の回路は、前記第2の信号が入力され、出力する第1の電流量を第2の電流量に変換することができる機能を有し、
前記第2の回路は、複数の配線を有し、
前記複数の配線は、異なる電圧を伝えることができる機能を有し、
前記第2の回路は、前記複数の配線のそれぞれに電気的に接続された、第1のトランジスタを有し、
前記第1のトランジスタは、スイッチとして動作することができる機能を有し、
前記第1のトランジスタは、半導体層が酸化物半導体を有することを特徴とする半導体装置。 - 第1の回路と、第2の回路と、第3の回路と、を有する半導体装置であって、
前記第1の回路は、第1の信号が入力され、前記第1の信号が取り得る第1の電圧を第2の電圧に昇圧することができる機能を有し、
前記第2の回路は、前記第1の信号を、第2の信号に変換することができる機能を有し、
前記第3の回路は、前記第2の信号が入力され、出力する第1の電流量を第2の電流量に変換することができる機能を有し、
前記第2の回路は、複数の配線を有し、
前記複数の配線は、第3の電圧を伝えることができる第1の配線を有し、
前記複数の配線は、前記第3の電圧より大きい第4の電圧を伝えることができる第2の配線を有し、
前記第2の回路は、前記第1の配線に電気的に接続された第1のトランジスタを有し、
前記第1のトランジスタは、スイッチとして動作させることができる機能を有し、前記第2の回路は、
前記第2の配線に電気的に接続された第2のトランジスタを有し、
前記第2のトランジスタは、スイッチとして動作させることができる機能を有し、
前記第1のトランジスタは、半導体層が酸化物半導体を有し、
前記第2のトランジスタは、半導体層がシリコンを有することを特徴とする半導体装置。 - 請求項2において、
前記第1のトランジスタのチャネル領域と、前記第2のトランジスタのチャネル領域とは、互いに重なる領域を有することを特徴とする半導体装置。 - 請求項1乃至3のいずれか一において、
前記第1の回路は、第3のトランジスタと、第4のトランジスタと、を有し、
前記第3のトランジスタは、第1の電圧を与える配線に電気的に接続され、
前記第4のトランジスタは、第2の電圧を与える配線に電気的に接続され、
前記第3のトランジスタは、半導体層がシリコンを有し、
前記第4のトランジスタは、半導体層が酸化物半導体を有することを特徴とする半導体装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014044471 | 2014-03-07 | ||
JP2014044471 | 2014-03-07 | ||
JP2019149749A JP6898399B2 (ja) | 2014-03-07 | 2019-08-19 | 半導体装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019149749A Division JP6898399B2 (ja) | 2014-03-07 | 2019-08-19 | 半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021141611A true JP2021141611A (ja) | 2021-09-16 |
JP7235419B2 JP7235419B2 (ja) | 2023-03-08 |
Family
ID=54018161
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015039762A Expired - Fee Related JP6574579B2 (ja) | 2014-03-07 | 2015-03-02 | 半導体装置及び電子機器 |
JP2019149749A Active JP6898399B2 (ja) | 2014-03-07 | 2019-08-19 | 半導体装置 |
JP2021097119A Active JP7235419B2 (ja) | 2014-03-07 | 2021-06-10 | 半導体装置 |
Family Applications Before (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015039762A Expired - Fee Related JP6574579B2 (ja) | 2014-03-07 | 2015-03-02 | 半導体装置及び電子機器 |
JP2019149749A Active JP6898399B2 (ja) | 2014-03-07 | 2019-08-19 | 半導体装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US9711536B2 (ja) |
JP (3) | JP6574579B2 (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9711536B2 (en) * | 2014-03-07 | 2017-07-18 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device, electronic component, and electronic device |
WO2016034988A1 (en) | 2014-09-05 | 2016-03-10 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device, electronic component, and electronic device |
JP6441168B2 (ja) * | 2015-05-29 | 2018-12-19 | 株式会社ジャパンディスプレイ | センサ付き表示装置 |
JP6830765B2 (ja) | 2015-06-08 | 2021-02-17 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
US9780779B2 (en) | 2015-08-07 | 2017-10-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device, electronic component, and electronic device |
US10410571B2 (en) | 2016-08-03 | 2019-09-10 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and electronic device |
TWI721041B (zh) * | 2016-08-17 | 2021-03-11 | 日商半導體能源研究所股份有限公司 | 驅動電路、顯示裝置及電子裝置 |
US10942409B2 (en) | 2016-09-01 | 2021-03-09 | Sharp Kabushiki Kaisha | Active-matrix substrate and display device |
US10319743B2 (en) | 2016-12-16 | 2019-06-11 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device, display system, and electronic device |
US11488263B1 (en) * | 2018-01-31 | 2022-11-01 | Block, Inc. | Social network for merchants |
JP7313138B2 (ja) * | 2018-12-06 | 2023-07-24 | キヤノン株式会社 | 表示装置および電気装置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006081138A (ja) * | 2004-09-06 | 2006-03-23 | Samsung Electro Mech Co Ltd | 駆動集積回路におけるスルーレートの可能なバッファ |
JP2006229784A (ja) * | 2005-02-18 | 2006-08-31 | Sharp Corp | ディジタルアナログコンバータ |
JP2010020292A (ja) * | 2008-06-09 | 2010-01-28 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 液晶表示装置、および液晶表示装置を具備した電子機器 |
JP2011227479A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-11-10 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体表示装置 |
JP6574579B2 (ja) * | 2014-03-07 | 2019-09-11 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置及び電子機器 |
Family Cites Families (108)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60198861A (ja) | 1984-03-23 | 1985-10-08 | Fujitsu Ltd | 薄膜トランジスタ |
JPH0244256B2 (ja) | 1987-01-28 | 1990-10-03 | Kagaku Gijutsucho Mukizaishitsu Kenkyushocho | Ingazn2o5deshimesarerurotsuhoshokeinosojokozoojusurukagobutsuoyobisonoseizoho |
JPS63210023A (ja) | 1987-02-24 | 1988-08-31 | Natl Inst For Res In Inorg Mater | InGaZn↓4O↓7で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法 |
JPH0244258B2 (ja) | 1987-02-24 | 1990-10-03 | Kagaku Gijutsucho Mukizaishitsu Kenkyushocho | Ingazn3o6deshimesarerurotsuhoshokeinosojokozoojusurukagobutsuoyobisonoseizoho |
JPH0244260B2 (ja) | 1987-02-24 | 1990-10-03 | Kagaku Gijutsucho Mukizaishitsu Kenkyushocho | Ingazn5o8deshimesarerurotsuhoshokeinosojokozoojusurukagobutsuoyobisonoseizoho |
JPH0244262B2 (ja) | 1987-02-27 | 1990-10-03 | Kagaku Gijutsucho Mukizaishitsu Kenkyushocho | Ingazn6o9deshimesarerurotsuhoshokeinosojokozoojusurukagobutsuoyobisonoseizoho |
JPH0244263B2 (ja) | 1987-04-22 | 1990-10-03 | Kagaku Gijutsucho Mukizaishitsu Kenkyushocho | Ingazn7o10deshimesarerurotsuhoshokeinosojokozoojusurukagobutsuoyobisonoseizoho |
JPH05251705A (ja) | 1992-03-04 | 1993-09-28 | Fuji Xerox Co Ltd | 薄膜トランジスタ |
JP3479375B2 (ja) | 1995-03-27 | 2003-12-15 | 科学技術振興事業団 | 亜酸化銅等の金属酸化物半導体による薄膜トランジスタとpn接合を形成した金属酸化物半導体装置およびそれらの製造方法 |
DE69635107D1 (de) | 1995-08-03 | 2005-09-29 | Koninkl Philips Electronics Nv | Halbleiteranordnung mit einem transparenten schaltungselement |
JP3625598B2 (ja) | 1995-12-30 | 2005-03-02 | 三星電子株式会社 | 液晶表示装置の製造方法 |
JP4170454B2 (ja) | 1998-07-24 | 2008-10-22 | Hoya株式会社 | 透明導電性酸化物薄膜を有する物品及びその製造方法 |
JP2000150861A (ja) | 1998-11-16 | 2000-05-30 | Tdk Corp | 酸化物薄膜 |
JP3276930B2 (ja) | 1998-11-17 | 2002-04-22 | 科学技術振興事業団 | トランジスタ及び半導体装置 |
TW460731B (en) | 1999-09-03 | 2001-10-21 | Ind Tech Res Inst | Electrode structure and production method of wide viewing angle LCD |
JP3594125B2 (ja) * | 2000-07-25 | 2004-11-24 | シャープ株式会社 | Da変換器およびそれを用いた液晶駆動装置 |
JP4089858B2 (ja) | 2000-09-01 | 2008-05-28 | 国立大学法人東北大学 | 半導体デバイス |
JP4415467B2 (ja) * | 2000-09-06 | 2010-02-17 | 株式会社日立製作所 | 画像表示装置 |
KR20020038482A (ko) | 2000-11-15 | 2002-05-23 | 모리시타 요이찌 | 박막 트랜지스터 어레이, 그 제조방법 및 그것을 이용한표시패널 |
JP3997731B2 (ja) | 2001-03-19 | 2007-10-24 | 富士ゼロックス株式会社 | 基材上に結晶性半導体薄膜を形成する方法 |
JP2002289859A (ja) | 2001-03-23 | 2002-10-04 | Minolta Co Ltd | 薄膜トランジスタ |
JP4090716B2 (ja) | 2001-09-10 | 2008-05-28 | 雅司 川崎 | 薄膜トランジスタおよびマトリクス表示装置 |
JP3925839B2 (ja) | 2001-09-10 | 2007-06-06 | シャープ株式会社 | 半導体記憶装置およびその試験方法 |
US7061014B2 (en) | 2001-11-05 | 2006-06-13 | Japan Science And Technology Agency | Natural-superlattice homologous single crystal thin film, method for preparation thereof, and device using said single crystal thin film |
JP4164562B2 (ja) | 2002-09-11 | 2008-10-15 | 独立行政法人科学技術振興機構 | ホモロガス薄膜を活性層として用いる透明薄膜電界効果型トランジスタ |
JP4083486B2 (ja) | 2002-02-21 | 2008-04-30 | 独立行政法人科学技術振興機構 | LnCuO(S,Se,Te)単結晶薄膜の製造方法 |
CN1445821A (zh) | 2002-03-15 | 2003-10-01 | 三洋电机株式会社 | ZnO膜和ZnO半导体层的形成方法、半导体元件及其制造方法 |
JP3933591B2 (ja) | 2002-03-26 | 2007-06-20 | 淳二 城戸 | 有機エレクトロルミネッセント素子 |
US7339187B2 (en) | 2002-05-21 | 2008-03-04 | State Of Oregon Acting By And Through The Oregon State Board Of Higher Education On Behalf Of Oregon State University | Transistor structures |
JP2004022625A (ja) | 2002-06-13 | 2004-01-22 | Murata Mfg Co Ltd | 半導体デバイス及び該半導体デバイスの製造方法 |
US7105868B2 (en) | 2002-06-24 | 2006-09-12 | Cermet, Inc. | High-electron mobility transistor with zinc oxide |
US7067843B2 (en) | 2002-10-11 | 2006-06-27 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Transparent oxide semiconductor thin film transistors |
JP4337337B2 (ja) * | 2002-12-10 | 2009-09-30 | セイコーエプソン株式会社 | 電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器 |
JP4166105B2 (ja) | 2003-03-06 | 2008-10-15 | シャープ株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2004273732A (ja) | 2003-03-07 | 2004-09-30 | Sharp Corp | アクティブマトリクス基板およびその製造方法 |
JP4108633B2 (ja) | 2003-06-20 | 2008-06-25 | シャープ株式会社 | 薄膜トランジスタおよびその製造方法ならびに電子デバイス |
US7262463B2 (en) | 2003-07-25 | 2007-08-28 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Transistor including a deposited channel region having a doped portion |
US7145174B2 (en) | 2004-03-12 | 2006-12-05 | Hewlett-Packard Development Company, Lp. | Semiconductor device |
US7297977B2 (en) | 2004-03-12 | 2007-11-20 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Semiconductor device |
EP1737044B1 (en) | 2004-03-12 | 2014-12-10 | Japan Science and Technology Agency | Amorphous oxide and thin film transistor |
US7282782B2 (en) | 2004-03-12 | 2007-10-16 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Combined binary oxide semiconductor device |
US7211825B2 (en) | 2004-06-14 | 2007-05-01 | Yi-Chi Shih | Indium oxide-based thin film transistors and circuits |
JP2006100760A (ja) | 2004-09-02 | 2006-04-13 | Casio Comput Co Ltd | 薄膜トランジスタおよびその製造方法 |
US7285501B2 (en) | 2004-09-17 | 2007-10-23 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Method of forming a solution processed device |
US7298084B2 (en) | 2004-11-02 | 2007-11-20 | 3M Innovative Properties Company | Methods and displays utilizing integrated zinc oxide row and column drivers in conjunction with organic light emitting diodes |
US7863611B2 (en) | 2004-11-10 | 2011-01-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Integrated circuits utilizing amorphous oxides |
AU2005302962B2 (en) | 2004-11-10 | 2009-05-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Amorphous oxide and field effect transistor |
US7829444B2 (en) | 2004-11-10 | 2010-11-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Field effect transistor manufacturing method |
US7453065B2 (en) | 2004-11-10 | 2008-11-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Sensor and image pickup device |
US7872259B2 (en) | 2004-11-10 | 2011-01-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Light-emitting device |
US7791072B2 (en) | 2004-11-10 | 2010-09-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Display |
CA2585071A1 (en) | 2004-11-10 | 2006-05-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Field effect transistor employing an amorphous oxide |
US7579224B2 (en) | 2005-01-21 | 2009-08-25 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for manufacturing a thin film semiconductor device |
TWI445178B (zh) | 2005-01-28 | 2014-07-11 | Semiconductor Energy Lab | 半導體裝置,電子裝置,和半導體裝置的製造方法 |
TWI505473B (zh) | 2005-01-28 | 2015-10-21 | Semiconductor Energy Lab | 半導體裝置,電子裝置,和半導體裝置的製造方法 |
US7858451B2 (en) | 2005-02-03 | 2010-12-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Electronic device, semiconductor device and manufacturing method thereof |
US7948171B2 (en) | 2005-02-18 | 2011-05-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device |
US20060197092A1 (en) | 2005-03-03 | 2006-09-07 | Randy Hoffman | System and method for forming conductive material on a substrate |
US8681077B2 (en) | 2005-03-18 | 2014-03-25 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device, and display device, driving method and electronic apparatus thereof |
WO2006105077A2 (en) | 2005-03-28 | 2006-10-05 | Massachusetts Institute Of Technology | Low voltage thin film transistor with high-k dielectric material |
US7645478B2 (en) | 2005-03-31 | 2010-01-12 | 3M Innovative Properties Company | Methods of making displays |
US8300031B2 (en) | 2005-04-20 | 2012-10-30 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device comprising transistor having gate and drain connected through a current-voltage conversion element |
JP2006344849A (ja) | 2005-06-10 | 2006-12-21 | Casio Comput Co Ltd | 薄膜トランジスタ |
US7402506B2 (en) | 2005-06-16 | 2008-07-22 | Eastman Kodak Company | Methods of making thin film transistors comprising zinc-oxide-based semiconductor materials and transistors made thereby |
US7691666B2 (en) | 2005-06-16 | 2010-04-06 | Eastman Kodak Company | Methods of making thin film transistors comprising zinc-oxide-based semiconductor materials and transistors made thereby |
US7507618B2 (en) | 2005-06-27 | 2009-03-24 | 3M Innovative Properties Company | Method for making electronic devices using metal oxide nanoparticles |
KR100711890B1 (ko) | 2005-07-28 | 2007-04-25 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기 발광표시장치 및 그의 제조방법 |
JP2007059128A (ja) | 2005-08-23 | 2007-03-08 | Canon Inc | 有機el表示装置およびその製造方法 |
JP5116225B2 (ja) | 2005-09-06 | 2013-01-09 | キヤノン株式会社 | 酸化物半導体デバイスの製造方法 |
JP2007073705A (ja) | 2005-09-06 | 2007-03-22 | Canon Inc | 酸化物半導体チャネル薄膜トランジスタおよびその製造方法 |
JP4850457B2 (ja) | 2005-09-06 | 2012-01-11 | キヤノン株式会社 | 薄膜トランジスタ及び薄膜ダイオード |
JP4280736B2 (ja) | 2005-09-06 | 2009-06-17 | キヤノン株式会社 | 半導体素子 |
EP1998375A3 (en) | 2005-09-29 | 2012-01-18 | Semiconductor Energy Laboratory Co, Ltd. | Semiconductor device having oxide semiconductor layer and manufacturing method |
JP5037808B2 (ja) | 2005-10-20 | 2012-10-03 | キヤノン株式会社 | アモルファス酸化物を用いた電界効果型トランジスタ、及び該トランジスタを用いた表示装置 |
KR101117948B1 (ko) | 2005-11-15 | 2012-02-15 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 액정 디스플레이 장치 제조 방법 |
TWI292281B (en) | 2005-12-29 | 2008-01-01 | Ind Tech Res Inst | Pixel structure of active organic light emitting diode and method of fabricating the same |
US7867636B2 (en) | 2006-01-11 | 2011-01-11 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Transparent conductive film and method for manufacturing the same |
JP4977478B2 (ja) | 2006-01-21 | 2012-07-18 | 三星電子株式会社 | ZnOフィルム及びこれを用いたTFTの製造方法 |
US7576394B2 (en) | 2006-02-02 | 2009-08-18 | Kochi Industrial Promotion Center | Thin film transistor including low resistance conductive thin films and manufacturing method thereof |
US7977169B2 (en) | 2006-02-15 | 2011-07-12 | Kochi Industrial Promotion Center | Semiconductor device including active layer made of zinc oxide with controlled orientations and manufacturing method thereof |
KR20070101595A (ko) | 2006-04-11 | 2007-10-17 | 삼성전자주식회사 | ZnO TFT |
JP4915841B2 (ja) | 2006-04-20 | 2012-04-11 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 階調電圧発生回路、ドライバic、及び液晶表示装置 |
US20070252928A1 (en) | 2006-04-28 | 2007-11-01 | Toppan Printing Co., Ltd. | Structure, transmission type liquid crystal display, reflection type display and manufacturing method thereof |
JP5028033B2 (ja) | 2006-06-13 | 2012-09-19 | キヤノン株式会社 | 酸化物半導体膜のドライエッチング方法 |
JP4999400B2 (ja) | 2006-08-09 | 2012-08-15 | キヤノン株式会社 | 酸化物半導体膜のドライエッチング方法 |
JP4609797B2 (ja) | 2006-08-09 | 2011-01-12 | Nec液晶テクノロジー株式会社 | 薄膜デバイス及びその製造方法 |
JP4332545B2 (ja) | 2006-09-15 | 2009-09-16 | キヤノン株式会社 | 電界効果型トランジスタ及びその製造方法 |
JP5164357B2 (ja) | 2006-09-27 | 2013-03-21 | キヤノン株式会社 | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 |
JP4274219B2 (ja) | 2006-09-27 | 2009-06-03 | セイコーエプソン株式会社 | 電子デバイス、有機エレクトロルミネッセンス装置、有機薄膜半導体装置 |
US7622371B2 (en) | 2006-10-10 | 2009-11-24 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Fused nanocrystal thin film semiconductor and method |
US7772021B2 (en) | 2006-11-29 | 2010-08-10 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Flat panel displays comprising a thin-film transistor having a semiconductive oxide in its channel and methods of fabricating the same for use in flat panel displays |
JP2008140684A (ja) | 2006-12-04 | 2008-06-19 | Toppan Printing Co Ltd | カラーelディスプレイおよびその製造方法 |
KR101303578B1 (ko) | 2007-01-05 | 2013-09-09 | 삼성전자주식회사 | 박막 식각 방법 |
US8207063B2 (en) | 2007-01-26 | 2012-06-26 | Eastman Kodak Company | Process for atomic layer deposition |
KR100851215B1 (ko) | 2007-03-14 | 2008-08-07 | 삼성에스디아이 주식회사 | 박막 트랜지스터 및 이를 이용한 유기 전계 발광표시장치 |
US7795613B2 (en) | 2007-04-17 | 2010-09-14 | Toppan Printing Co., Ltd. | Structure with transistor |
KR101325053B1 (ko) | 2007-04-18 | 2013-11-05 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 트랜지스터 기판 및 이의 제조 방법 |
KR20080094300A (ko) | 2007-04-19 | 2008-10-23 | 삼성전자주식회사 | 박막 트랜지스터 및 그 제조 방법과 박막 트랜지스터를포함하는 평판 디스플레이 |
KR101334181B1 (ko) | 2007-04-20 | 2013-11-28 | 삼성전자주식회사 | 선택적으로 결정화된 채널층을 갖는 박막 트랜지스터 및 그제조 방법 |
US8274078B2 (en) | 2007-04-25 | 2012-09-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Metal oxynitride semiconductor containing zinc |
KR101345376B1 (ko) | 2007-05-29 | 2013-12-24 | 삼성전자주식회사 | ZnO 계 박막 트랜지스터 및 그 제조방법 |
US8202365B2 (en) | 2007-12-17 | 2012-06-19 | Fujifilm Corporation | Process for producing oriented inorganic crystalline film, and semiconductor device using the oriented inorganic crystalline film |
JP4623179B2 (ja) | 2008-09-18 | 2011-02-02 | ソニー株式会社 | 薄膜トランジスタおよびその製造方法 |
JP5451280B2 (ja) | 2008-10-09 | 2014-03-26 | キヤノン株式会社 | ウルツ鉱型結晶成長用基板およびその製造方法ならびに半導体装置 |
JP5270497B2 (ja) * | 2009-09-02 | 2013-08-21 | シャープ株式会社 | 半導体装置およびその電力供給方法 |
US8941958B2 (en) * | 2011-04-22 | 2015-01-27 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
US9935622B2 (en) * | 2011-04-28 | 2018-04-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Comparator and semiconductor device including comparator |
JP6139187B2 (ja) * | 2012-03-29 | 2017-05-31 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
-
2015
- 2015-02-27 US US14/633,220 patent/US9711536B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2015-03-02 JP JP2015039762A patent/JP6574579B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2017
- 2017-06-13 US US15/621,432 patent/US9935129B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2019
- 2019-08-19 JP JP2019149749A patent/JP6898399B2/ja active Active
-
2021
- 2021-06-10 JP JP2021097119A patent/JP7235419B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006081138A (ja) * | 2004-09-06 | 2006-03-23 | Samsung Electro Mech Co Ltd | 駆動集積回路におけるスルーレートの可能なバッファ |
JP2006229784A (ja) * | 2005-02-18 | 2006-08-31 | Sharp Corp | ディジタルアナログコンバータ |
JP2010020292A (ja) * | 2008-06-09 | 2010-01-28 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 液晶表示装置、および液晶表示装置を具備した電子機器 |
JP2011227479A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-11-10 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体表示装置 |
JP6574579B2 (ja) * | 2014-03-07 | 2019-09-11 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置及び電子機器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2020014214A (ja) | 2020-01-23 |
US20170278876A1 (en) | 2017-09-28 |
JP6574579B2 (ja) | 2019-09-11 |
JP7235419B2 (ja) | 2023-03-08 |
JP6898399B2 (ja) | 2021-07-07 |
JP2015181227A (ja) | 2015-10-15 |
US9935129B2 (en) | 2018-04-03 |
US20150255492A1 (en) | 2015-09-10 |
US9711536B2 (en) | 2017-07-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6898399B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP6533397B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP2021090079A (ja) | 半導体装置 | |
JP6793220B2 (ja) | 半導体装置 | |
TWI649857B (zh) | 半導體裝置、電子構件以及電子裝置 | |
JP6560508B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP6426437B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP2016105343A (ja) | 半導体装置、及び電子機器 | |
US9666725B2 (en) | Semiconductor device, electronic component, and electronic device | |
JP6392603B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP6473626B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP6961060B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP6793222B2 (ja) | 電子機器 | |
JP2015144031A (ja) | 半導体装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210709 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20220525 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220607 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20220805 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20221004 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230131 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230223 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7235419 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |