JP2021115803A - 光学積層体、及び表示装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】光学積層体を貼合するための粘着剤層の表面の貼付されている離型フィルムを剥離するときに、かかる離型フィルムとは反対側の表面に設けられている表面保護フィルムの剥がれが抑制された光学積層体を提供する。【解決手段】偏光積層体と、前記偏光積層体の第１表面に積層された第１粘着剤層と、前記第１粘着剤層の前記偏光積層体側とは反対側の表面に積層された第１基材フィルムと、前記偏光積層体の第２表面に積層された第２粘着剤層と、前記第２粘着剤層の前記偏光積層体側とは反対側の表面に積層された第２基材フィルムと、を有し、下記式（１ａ）の関係を満たす、光学積層体。（Ａ／Ｂ）×Ｃ≧８００ （１ａ）【選択図】図１

Description

本発明は、光学積層体、及び表示装置の製造方法に関する。

特開２０１０−１８８５５０号公報（特許文献１）には、第１面に第１粘着剤層を介して第１基材フィルムが設けられるとともに、第２面に第２粘着剤層を介して第２基材フィルムが設けられている光学フィルムを巻き回したロールが開示されている。かかる光学フィルムは、所定形状に切断された後、第１基材フィルムが剥離されて露出された第１粘着剤層を介して表示基板に貼り合わせられる。

特開２０１０−１８８５５０号公報

特許文献１においては、ロールに巻き取られた状態で、基材フィルムと光学フィルムとの間に生じる浮きを抑制するために、界面の接着力の大小関係を調整することが記載されている。

本発明は、光学積層体を貼合するための粘着剤層の表面の貼付されている離型フィルムを剥離するときに、かかる離型フィルムとは反対側の表面に設けられている表面保護フィルムの剥がれが抑制された光学積層体、及び当該光学積層体を用いた表示装置の製造方法を提供することを目的とする。

本発明は、以下に示す光学積層体及び表示装置の製造方法を提供する。
〔１〕 偏光積層体と、前記偏光積層体の第１表面に積層された第１粘着剤層と、前記第１粘着剤層の前記偏光積層体側とは反対側の表面に積層された第１基材フィルムと、前記偏光積層体の第２表面に積層された第２粘着剤層と、前記第２粘着剤層の前記偏光積層体側とは反対側の表面に積層された第２基材フィルムと、を有し、
下記式（１ａ）の関係を満たす、光学積層体。
（Ａ／Ｂ）×Ｃ≧８００ （１ａ）
［式（１ａ）において、
Ａは、前記偏光積層体と前記第２粘着剤層との間での１８０°剥離力をＡ１［ｇｆ／２５ｍｍ］とし、前記第２基材フィルムと前記第２粘着剤層との合計の厚みをＡ２［μｍ］としたときに、Ａ１／Ａ２で算出される値であり、
Ｂは、前記第１粘着剤層と前記第１基材フィルムとの間での１８０°剥離力をＢ１［ｇｆ／２５ｍｍ］とし、前記第１基材フィルムの厚みをＢ２［μｍ］としたときに、Ｂ１／Ｂ２で算出される値であり、
Ｃは、前記第１粘着剤層、前記偏光積層体、前記第２粘着剤層及び前記第２基材フィルムがこの順で積層されてなる評価積層体のスティッフネス［ガーレー単位］とする。］
〔２〕 下記式（２ａ）の関係をさらに満たす、〔１〕に記載の光学積層体。
（Ａ／Ｂ）×Ｃ≦１００００ （２ａ）
〔３〕 前記Ａは下記式（３ａ）の関係を満たす、〔１〕又は〔２〕に記載の光学積層体。
０．１≦Ａ≦１ （３ａ）
〔４〕 前記Ｂは下記式（４ａ）の関係を満たす、〔１〕〜〔３〕のいずれか１項に記載の光学積層体。
０．０８≦Ｂ≦０．８ （４ａ）
〔５〕 前記Ｃは下記式（５ａ）の関係を満たす、〔１〕〜〔４〕のいずれか１項に記載の光学積層体。
２００≦Ｃ≦３０００ （５ａ）
〔６〕 〔１〕〜〔５〕のいずれか１項に記載の光学積層体から前記第１基材フィルムを剥離して前記第１粘着剤層の表面を露出させる第１基材フィルム剥離工程と、
前記第１粘着剤層の露出した前記表面を表示素子に貼合する貼合工程と、有する表示装置の製造方法。

本発明によれば、光学積層体を貼合するための粘着剤層の表面の貼付されている離型フィルムを剥離するときに、かかる離型フィルムとは反対側の表面に設けられている表面保護フィルムの剥がれが抑制された光学積層体、及び当該光学積層体を用いた表示装置の製造方法を提供できる。

本発明の光学積層体の一例を示す概略断面図である。

以下、図面を参照しつつ本発明の実施形態を説明するが、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。以下の全ての図面においては、各構成要素を理解し易くするために縮尺を適宜調整して示しており、図面に示される各構成要素の縮尺と実際の構成要素の縮尺とは必ずしも一致しない。

［表示装置］
図１は、光学積層体１００から第１基材フィルム２２を剥離した光学積層体１００’を表示素子２００に貼合して表示装置３００を作製する際の態様を示した概略断面図である。

＜光学積層体＞
光学積層体１００は、偏光積層体１０を有し、偏光積層体１０の第１表面に積層された第１粘着剤層２１と、第１粘着剤層２１の偏光積層体１０側とは反対側の表面に積層された第１基材フィルム２２と、偏光積層体１０の第２表面に積層された第２粘着剤層３１、第２粘着剤層３１の偏光積層体１０側とは反対側の表面に積層された第２基材フィルム３２と、を有する。

光学積層体１００において、第１粘着剤層２１の表面が表示素子２００との貼合面となる。第１基材フィルム２２は、第１粘着剤層２１の偏光積層体１０側とは反対側の表面に積層された離型フィルム（セパレータ）である。離型フィルムは、光学積層体１００が表示素子２００に貼合される際に光学積層体１００から剥離される。光学積層体１００から第１基材フィルム２２が剥離した後の積層体を光学積層体１００’とする。

第２基材フィルム３２は、第２粘着剤層３１を介して偏光積層体１０の第２表面に積層され、第２粘着剤層３１と合わせて表面保護フィルム３０として機能する。第２基材フィルム３２上には、通常、予め第２粘着剤層３１が設けられて表面保護フィルム３０を構成しており、かかる表面保護フィルム３０における第２粘着剤層３１の表面が偏光積層体１０に貼合されて光学積層体１００が構成されている。表面保護フィルム３０は、通常、光学積層体１００が表示素子２００に貼合された後に光学積層体１００’から剥離される。

偏光積層体１０は、偏光板を少なくとも含み、さらに、前面板、タッチセンサパネル等を含んでいてもよい。偏光板は、偏光フィルムを少なくとも含み、そのほかに、保護フィルム、位相差フィルム、輝度向上フィルム、貼合層等を含んでいてもよい。

光学積層体１００の厚みは、光学積層体に求められる機能及び光学積層体の用途等に応じて異なるため特に限定されないが、例えば２０μｍ以上２０００μｍ以下であり、好ましくは５０μｍ以上１０００μｍ以下であり、より好ましく１００μｍ以上５００μｍ以下である。

光学積層体１００の平面視形状は、例えば方形形状であってよく、好ましくは長辺と短辺とを有する方形形状であり、より好ましくは長方形である。光学積層体１００の面方向の形状が長方形である場合、長辺の長さは、例えば１０ｍｍ以上１４００ｍｍ以下であってよく、好ましくは５０ｍｍ以上６００ｍｍ以下である。短辺の長さは、例えば５ｍｍ以上８００ｍｍ以下であり、好ましくは３０ｍｍ以上５００ｍｍ以下であり、より好ましくは５０ｍｍ以上３００ｍｍ以下である。光学積層体１００を構成する各層は、角部がＲ加工されたり、端部が切り欠き加工されたり、穴あき加工されたりしていてもよい。

光学積層体１００は、表示装置３００に用いることができる。表示装置３００の製造方法は、光学積層体１００から第１基材フィルム２２を剥離して第１粘着剤層２１の表面を露出させる工程と、第１粘着剤層２１の露出した表面を表示素子２００に貼合する工程と、を有する。

表示装置３００は特に限定されず、例えば有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）表示装置、無機エレクトロルミネッセンス（無機ＥＬ）表示装置、液晶表示装置、電界発光表示装置等が挙げられる。光学積層体１００は、屈曲が可能な表示装置に好適である。光学積層体１００が、有機ＥＬ表示装置に用いられる場合、光学積層体１００中の偏光積層体１０は円偏光板であることが好ましく、光学積層体１００から第１基材フィルム２２を剥離した後にこれを有機ＥＬ表示素子の視認側表面に貼合することにより反射光を抑制することができる。光学積層体１００が、液晶表示装置に用いられる場合、光学積層体１００中の偏光積層体１０は直線偏光板又は円偏光板であることが好ましく、光学積層体１００から第１基材フィルム２２を剥離した後にこれを液晶表示素子の両面にそれぞれ貼合することにより画像光を形成することができる。

光学積層体１００は、下記式（１ａ）の関係を満たし、好ましくは下記式（１ｂ）の関係を満たす。
（Ａ／Ｂ）×Ｃ≧８００ （１ａ）
（Ａ／Ｂ）×Ｃ≧８２０ （１ｂ）

式（１ａ）及び式（１ｂ）における各値は以下の通りである。
Ａは、偏光積層体１０と第２粘着剤層３１との間での１８０°剥離力をＡ１［ｇｆ／２５ｍｍ］とし、第２基材フィルム３２と第２粘着剤層３１との合計の厚みをＡ２［μｍ］としたときに、Ａ１／Ａ２で算出される値である。
Ｂは、第１粘着剤層２１と第１基材フィルム２２との間での１８０°剥離力をＢ１［ｇｆ／２５ｍｍ］とし、第１基材フィルム２２の厚みをＢ２［μｍ］としたときに、Ｂ１／Ｂ２で算出される値である。
Ｃは、第１粘着剤層２１、偏光積層体１０、第２粘着剤層３１及び第２基材フィルム３２がこの順で積層されてなる評価積層体のスティッフネス［ガーレー単位］である。なお、１ｍＮ＝９．８０７×１０^−３ ガーレー単位である。
各値は、後述の実施例の欄に記載の方法に従って測定される。

光学積層体１００を用いて表示装置を製造する方法は、光学積層体１００から第１基材フィルム２２を剥離して第１粘着剤層２１の表面を露出させる第１基材フィルム剥離工程を有する。第１基材フィルム剥離工程は、例えば、光学積層体１００を表面保護フィルム３０が積層されている表面側から吸着して保持し、第１基材フィルム２２の表面にテープを貼付してかかるテープを介して第１基材フィルム２２を引き起こして第１基材フィルム２２のみを剥離する操作を含む。第１基材フィルム剥離工程は、第１基材フィルム２２の剥離を目的としているものの、表面保護フィルム３０の剥がれが生じる場合があった。表面保護フィルム３０の剥がれが生じると第１基材フィルム剥離工程を継続することが難しくなる。

第１基材フィルム剥離工程において、表面保護フィルム３０の剥がれが生じることを抑制するためには、表面保護フィルム３０と偏光積層体１０との接着力を高めて剥離力を上げる方法が考えられるが、表面保護フィルム３０の接着力を上げると、後の工程において表面保護フィルム３０をきれいに剥がすことが難しくなったり、剥離後の偏光積層体１０の表面に傷等の不具合が生じることがある。

本発明者らは鋭意検討した結果、光学積層体１００が上記式（１ａ）の関係を満たすことにより、第１基材フィルム剥離工程における表面保護フィルム３０の剥がれを抑制できることを見出した。

光学積層体１００は、好ましくは下記式（２ａ）の関係を満たし、さらに好ましくは下記式（２ｂ）の関係を満たす。
（Ａ／Ｂ）×Ｃ≦１００００ （２ａ）
（Ａ／Ｂ）×Ｃ≦２０００ （２ｂ）

光学積層体１００が上記式（２ａ）の関係を満たすことにより、第１基材フィルム剥離工程と光学積層体１００’を表示素子２００に貼合する貼合工程の後の、表面保護フィルム３０を剥離する表面保護フィルム剥離工程において表面保護フィルム３０を簡単にきれいに剥がすことができ、また、第１基材フィルム剥離工程前に第１基材フィルム２２の剥がれが生じることを抑制することができる。

上記式（１ａ）中における上記Ａは、表面保護フィルム剥離工程において表面保護フィルム３０を簡単にきれいに剥がすことができる観点から、好ましくは下記式（３ａ）の関係を満たし、さらに好ましくは下記（３ｂ）の関係を満たす。Ａの値は、第２基材フィルム３２の材料、第２粘着剤層３１の材料、第２粘着剤層３１と偏光積層体１０との貼合面の表面処理の内、少なくとも１つを調整してＡ１の値を調整することにより、又は第２基材フィルム３２と第２粘着剤層の合計の厚みＡ２を調整することにより、調整することができる。貼合面の表面処理としては、例えばコロナ処理、プラズマ処理、ケン化処理が挙げられる。
０．１≦Ａ≦１ （３ａ）
０．１５≦Ａ≦０．６ （３ｂ）

上記式（１ａ）中における上記Ｂは、第１基材フィルム剥離工程において第１基材フィルム２２を簡単にきれいに剥がすことができる観点から、好ましくは下記式（４ａ）の関係を満たし、さらに好ましくは下記（４ｂ）の関係を満たす。Ｂの値は、第１基材フィルム２２の材料、第１粘着剤層２１の材料、第１粘着剤層２１と第１基材フィルム２２との貼合面の表面処理の内、少なくとも１つを調整してＢ１の値を調整することにより、又は第１基材フィルム２２の厚みＢ２を調整することにより、調整することができる。貼合面の表面処理としては、例えばコロナ処理、プラズマ処理、ケン化処理が挙げられる。
０．０８≦Ｂ≦０．８ （４ａ）
０．１≦Ｂ≦０．４ （４ｂ）

上記式（１ａ）中における上記Ｃは、第１基材フィルム剥離工程前に第１基材フィルム２２の剥がれが生じることを抑制することができる観点及び光学積層体１００’又は偏光積層体１０に屈曲性を付与し得る観点から、好ましくは下記式（５ａ）の関係を満たし、さらに好ましくは下記式（５ｂ）の関係を満たす。光学積層体１００’又は偏光積層体１０が屈曲性を有することにより、屈曲性を有する表示装置を構成することが可能になる。Ｃの値は、第２基材フィルム３２の材料、偏光積層体１０の積層構造、並びにかかる積層構造において用いる各層の材料及び厚みを調整することにより調整することができる。
２００≦Ｃ≦３０００ （５ａ）
３００≦Ｃ≦２０００ （５ｂ）

偏光積層体１０と第２粘着剤層３１との間における１８０°剥離力Ａ１は、１０ｇｆ／２５ｍｍ以上であることが好ましく、１４ｇｆ／２５ｍｍ以上であることがより好ましく、２０ｇｆ／２５ｍｍ以上であってもよい。１８０°剥離力Ａ１は、５０ｇｆ／２５ｍｍ以下であることが好ましく、４０ｇｆ／２５ｍｍ以下であってもよく、３０ｇｆ／２５ｍｍ以下であってもよい。

第１粘着剤層２１と第１基材フィルム２２との間における１８０°剥離力Ｂ１は、１ｇｆ／２５ｍｍ以上であることが好ましく、５ｇｆ／２５ｍｍ以上であることがより好ましく、６ｇｆ／２５ｍｍ以上であってもよい。１８０°剥離力Ｂ１は、２０ｇｆ／２５ｍｍ以下であることが好ましく、１５ｇｆ／２５ｍｍ以下であってもよく、１０ｇｆ／２５ｍｍ以下であってもよい。

偏光積層体１０と第２粘着剤層３１との間における１８０°剥離力Ａ１は、第１粘着剤層２１と第１基材フィルム２２との間における１８０°剥離力Ｂ１よりも大きいことが好ましい。

＜第１粘着剤層２１＞
第１粘着剤層２１は、光学積層体１００中では偏光積層体１０の第１表面に積層され、偏光積層体１０と表示素子との貼合層として機能する。第１粘着剤層２１は、１層からなるものであってもよく、２層以上からなるものであってもよいが、好ましくは１層からなるものである。第１粘着剤層２１は、（メタ）アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、ウレタン系樹脂、エステル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリビニルエーテル系樹脂を主成分とする粘着剤組成物から構成することができる。中でも、透明性、耐候性、耐熱性等に優れる（メタ）アクリル系樹脂をベースポリマーとする粘着剤組成物が好適である。粘着剤組成物は、活性エネルギー線硬化型又は熱硬化型であってもよい。

粘着剤組成物に用いられる（メタ）アクリル系樹脂（ベースポリマー）としては、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル等の（メタ）アクリル酸エステルの１種又は２種以上をモノマーとする重合体又は共重合体が好適に用いられる。ベースポリマーには、極性モノマーを共重合させることが好ましい。極性モノマーとしては、（メタ）アクリル酸化合物、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル化合物、（メタ）アクリル酸ヒドロキシエチル化合物、（メタ）アクリルアミド化合物、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート化合物、グリシジル（メタ）アクリレート化合物等の、カルボキシル基、水酸基、アミド基、アミノ基、エポキシ基等を有するモノマーを挙げることができる。

粘着剤組成物は、上記ベースポリマーのみを含むものであってもよいが、通常は架橋剤をさらに含有する。架橋剤としては、２価以上の金属イオンであって、カルボキシル基との間でカルボン酸金属塩を形成する金属イオン、カルボキシル基との間でアミド結合を形成するポリアミン化合物、カルボキシル基との間でエステル結合を形成するポリエポキシ化合物又はポリオール、カルボキシル基との間でアミド結合を形成するポリイソシアネート化合物が例示される。中でも、ポリイソシアネート化合物が好ましい。

活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物は、紫外線や電子線のような活性エネルギー線の照射を受けて硬化する性質を有しており、活性エネルギー線照射前においても粘着性を有してフィルム等の被着体に密着させることができ、活性エネルギー線の照射によって硬化して密着力の調整ができる性質を有する。活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物は、紫外線硬化型であることが好ましい。活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物は、ベースポリマー、架橋剤に加えて、活性エネルギー線重合性化合物をさらに含有する。必要に応じて、光重合開始剤、光増感剤等を含有させてもよい。

粘着剤組成物は、光散乱性を付与するための微粒子、ビーズ（樹脂ビーズ、ガラスビーズ等）、ガラス繊維、ベースポリマー以外の樹脂、粘着性付与剤、充填剤（金属粉やその他の無機粉末等）、酸化防止剤、紫外線吸収剤、染料、顔料、着色剤、消泡剤、腐食防止剤、光重合開始剤等の添加剤を含むことができる。

第１粘着剤層２１は、上記粘着剤組成物の有機溶剤希釈液を基材フィルム又は偏光積層体１０の第１表面上に塗布し、乾燥させることにより形成することができる。基材フィルムは、熱可塑性樹脂フィルムであることが一般的であり、その典型的な例として、離型処理が施されたセパレートフィルムを挙げることができる。セパレートフィルムは、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリアレート等の樹脂からなるフィルムの粘着剤層が形成される面に、シリコーン処理等の離型処理が施されたものであることができる。

例えば、セパレートフィルムを第１基材フィルム２２として、この離型処理面に粘着剤組成物を直接塗布して粘着剤層を形成して第１粘着剤層２１とし、このセパレートフィルム付粘着剤層を偏光積層体１０の第１表面に積層してもよい。
偏光積層体１０の第１表面に粘着剤組成物を直接塗布して粘着剤層を形成して第１粘着剤層２１とし、第１粘着剤層２１の外面にセパレートフィルムを第１基材フィルム２２として積層してもよい。
粘着剤層を偏光積層体１０の第１表面に設ける際には、偏光積層体１０の貼合面及び／又は粘着剤層の貼合面に表面活性化処理、例えばプラズマ処理、コロナ処理等を施すことが好ましく、コロナ処理を施すことがより好ましい。
また、第２セパレートフィルム上に粘着剤組成物を塗布して第１粘着剤層２１を形成し、形成された粘着剤層上にセパレートフィルム（第１基材フィルム２２）を積層した粘着剤シートを準備し、この粘着剤シートから第２セパレートフィルムを剥離した後のセパレートフィルム付粘着剤層を偏光積層体１０に積層してもよい。第２セパレートフィルムは、セパレートフィルム（第１基材フィルム２２）よりも第１粘着剤層２１との密着力が弱く、剥離し易いものが用いられる。

第１粘着剤層２１の厚みは、特に限定されないが、例えば１μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましく、３μｍ以上５０μｍ以下であることがより好ましく、２０μｍ以上であってもよい。

＜第１基材フィルム２２＞
第１基材フィルム２２は、第１粘着剤層２１の偏光積層体１０側とは反対側の表面に積層された離型フィルム（セパレータ）である。第１基材フィルム２２の第１粘着剤層２１に接する表面は、離型処理が施されていることが好ましい。

第１基材フィルム２２は、熱可塑性樹脂フィルムであることが好ましい。熱可塑性樹脂フィルムとしては、例えば環状ポリオレフィン系樹脂フィルム；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース等の樹脂からなる酢酸セルロース系樹脂フィルム；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート等の樹脂からなるポリエステル系樹脂フィルム；ポリカーボネート系樹脂フィルム；（メタ）アクリル系樹脂フィルム；ポリプロピレン系樹脂フィルム等が挙げられる。第１基材フィルム２２はポリエステル系樹脂フィルムであることが好ましく、ポリエチレンテレフタレートフィルムであることがより好ましい。

第１基材フィルム２２の厚みＢ２は、１５μｍ以上であることが好ましく、２０μｍ以上であることがより好ましく、２５μｍ以上であることがより好ましい。第１基材フィルム２２の厚みＢ２は、８０μｍ以下であることが好ましく、６０μｍ以下であることがより好ましい。

＜表面保護フィルム３０＞
表面保護フィルム３０は、第２基材フィルム３２とその上に積層される第２粘着剤層３１とで構成される。表面保護フィルム３０は、偏光積層体１０の第２表面を保護する機能を有し、例えば、光学積層体１００’が表示素子２００に貼合された後に、偏光積層体１０から剥離される。

第２基材フィルム３２を構成する樹脂については、第１基材フィルム２２に関する上述の説明が適用される。

第２粘着剤層３１を構成する粘着剤組成物については、第１粘着剤層２１を構成する粘着剤組成物に関する上述の説明が適用される。第２粘着剤層３１の厚みは、特に限定されないが、例えば１μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましく、３μｍ以上５０μｍ以下であることがより好ましく、２０μｍ以上であってもよい。表面保護フィルム３０は市販品を用いることもできる。

第２基材フィルム３２と第２粘着剤層３１の合計の厚みＡ２は、３０μｍ以上であることが好ましく、４０μｍ以上であることがより好ましく、５０μｍ以上であってもよい。第２基材フィルム３２と第２粘着剤層３１の合計の厚みＡ２は、２００μｍ以下であることが好ましく、１５０μｍ以下であることがより好ましい。

＜偏光積層体１０＞
（偏光板）
偏光積層体１０は、偏光板を少なくとも含む。偏光板は、直線偏光子層を少なくとも含む。偏光板は、例えば円偏光板であり、円偏光板は位相差層を少なくとも含む。円偏光板は、表示装置中で反射された外光を吸収することができるため、光学積層体に反射防止機能を付与することができる。

偏光板の厚みは、通常５μｍ以上であり、２０μｍ以上であってもよく、２５μｍ以上であってもよく、３０μｍ以上であってもよい。また、偏光板の厚みは、８０μｍ以下であることが好ましく、６０μｍ以下であることがより好ましい。

（直線偏光子層）
直線偏光子層は、自然光等の非偏光な光線からなる一方向の直線偏光を選択的に透過させる機能を有する。直線偏光子層は、二色性色素を吸着させた延伸フィルム又は延伸層、重合性液晶化合物の硬化物及び二色性色素を含み、二色性色素が重合性液晶化合物の硬化物中に分散し、配向している液晶層等を偏光子層として備えることができる。色素を異方性のある媒質中に分散して配向させると、ある方向からは着色して見え、それと垂直な方向からはほとんど無色に見えることがある。このような現象を示す色素を二色性色素という。液晶層を偏光子層として用いた直線偏光子層は、二色性色素を吸着させた延伸フィルム又は延伸層に比べて、屈曲方向に制限がないため好ましい。

（二色性色素を吸着させた延伸フィルム又は延伸層である偏光子層）
二色性色素を吸着させた延伸フィルムである偏光子層は、通常、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを一軸延伸する工程、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムをヨウ素等の二色性色素で染色することにより、その二色性色素を吸着させる工程、二色性色素が吸着されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液で処理する工程、及びホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程を経て製造することができる。

偏光子層の厚みは、通常３０μｍ以下であり、好ましくは１８μｍ以下、より好ましくは１５μｍ以下である。偏光子層の厚みを薄くすることは、円偏光板の薄膜化に有利である。偏光子層の厚みは、通常１μｍ以上であり、例えば５μｍ以上であってよい。

ポリビニルアルコール系樹脂は、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化することによって得られる。ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルのほか、酢酸ビニルとそれに共重合可能な他の単量体との共重合体が用いられる。酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体としては、例えば不飽和カルボン酸系化合物、オレフィン系化合物、ビニルエーテル系化合物、不飽和スルホン系化合物、アンモニウム基を有する（メタ）アクリルアミド系化合物が挙げられる。

ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は、通常８５モル％以上１００モル％以下程度であり、好ましくは９８モル％以上である。ポリビニルアルコール系樹脂は変性されていてもよく、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマール、ポリビニルアセタール等も使用することができる。ポリビニルアルコール系樹脂の重合度は、通常１０００以上１００００以下であり、好ましくは１５００以上５０００以下である。

二色性色素を吸着させた延伸層である偏光子層は、通常、上記ポリビニルアルコール系樹脂を含む塗布液を基材フィルム上に塗布する工程、得られた積層フィルムを一軸延伸する工程、一軸延伸された積層フィルムのポリビニルアルコール系樹脂層を二色性色素で染色することにより、その二色性色素を吸着させて偏光子層とする工程、二色性色素が吸着されたフィルムをホウ酸水溶液で処理する工程、及びホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程を経て製造することができる。偏光子層を形成するために用いる基材フィルムは、偏光子層の保護層として用いてもよい。必要に応じて、基材フィルムを偏光子層から剥離除去してもよい。基材フィルムの材料及び厚みは、後述する熱可塑性樹脂フィルムの材料及び厚みと同様であってよい。

二色性色素を吸着させた延伸フィルム又は延伸層である偏光子層は、そのまま直線偏光子層として用いてよく、その片面又は両面に保護層を形成して直線偏光子層として用いてもよい。保護層としては、後述する熱可塑性樹脂フィルムを用いることができる。得られる直線偏光子層の厚みは、好ましくは２μｍ以上４０μｍ以下である。

熱可塑性樹脂フィルムは、例えば環状ポリオレフィン系樹脂フィルム；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース等の樹脂からなる酢酸セルロース系樹脂フィルム；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート等の樹脂からなるポリエステル系樹脂フィルム；ポリカーボネート系樹脂フィルム；（メタ）アクリル系樹脂フィルム；ポリプロピレン系樹脂フィルム等、当分野において公知のフィルムを挙げることができる。偏光子層と保護層とは、後述する貼合層を介して積層することができる。

熱可塑性樹脂フィルムの厚みは、薄型化の観点から、通常１００μｍ以下であり、好ましくは８０μｍ以下であり、より好ましくは６０μｍ以下であり、さらに好ましくは４０μｍ以下であり、なおさらに好ましくは３０μｍ以下であり、また、通常５μｍ以上であり、好ましくは１０μｍ以上である。

熱可塑性樹脂フィルム上にハードコート層が形成されていてもよい。ハードコート層は、熱可塑性樹脂フィルムの一方の面に形成されていてもよいし、両面に形成されていてもよい。ハードコート層を設けることにより、硬度及びスクラッチ性を向上させた熱可塑性樹脂フィルムとすることができる。ハードコート層は、上述の樹脂フィルムに形成されるハードコート層と同様にして形成することができる。

（液晶層である偏光子層）
液晶層を形成するために用いる重合性液晶化合物は、重合性反応基を有し、かつ、液晶性を示す化合物である。重合性反応基は、重合反応に関与する基であり、光重合性反応基であることが好ましい。光重合性反応基は、光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸等によって重合反応に関与し得る基をいう。光重合性官能基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。重合性液晶化合物の種類は特に限定されず、棒状液晶化合物、円盤状液晶化合物、及びこれらの混合物を用いることができる。重合性液晶化合物の液晶性は、液晶性はサーモトロピック性液晶でもリオトロピック性液晶でもよく、相秩序構造としてはネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。

液晶層である偏光子層に用いられる二色性色素としては、３００〜７００ｎｍの範囲に吸収極大波長（λＭＡＸ）を有するものが好ましい。このような二色性色素としては、例えば、アクリジン色素、オキサジン色素、シアニン色素、ナフタレン色素、アゾ色素、及びアントラキノン色素等が挙げられるが、中でもアゾ色素が好ましい。アゾ色素としては、モノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素、テトラキスアゾ色素、及びスチルベンアゾ色素等が挙げられ、好ましくはビスアゾ色素、及びトリスアゾ色素である。二色性色素は単独でも、２種以上を組み合わせてもよいが、３種以上を組み合わせることが好ましい。特に、３種以上のアゾ化合物を組み合わせることがより好ましい。二色性色素の一部が反応性基を有していてもよく、また液晶性を有していてもよい。

液晶層である偏光子層は、例えば基材フィルム上に形成した配向膜上に、重合性液晶化合物及び二色性色素を含む偏光子層形成用組成物を塗布し、重合性液晶化合物を重合して硬化させることによって形成することができる。基材フィルム上に、偏光子層形成用組成物を塗布して塗膜を形成し、この塗膜を基材フィルムとともに延伸することによって、偏光子層を形成してもよい。偏光子層を形成するために用いる基材フィルムは、偏光子層の保護層として用いてもよい。基材フィルムの材料及び厚みは、上述した熱可塑性樹脂フィルムの材料及び厚みと同様であってよい。

重合性液晶化合物及び二色性色素を含む偏光子層形成用組成物、及びこの組成物を用いた偏光子層の製造方法としては、特開２０１３−３７３５３号公報、特開２０１３−３３２４９号公報、特開２０１７−８３８４３号公報等に記載のものを例示することができる。偏光子層形成用組成物は、重合性液晶化合物及び二色性色素に加えて、溶媒、重合開始剤、架橋剤、レベリング剤、酸化防止剤、可塑剤、増感剤などの添加剤をさらに含んでいてもよい。これらの成分は、それぞれ、１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

偏光子層形成用組成物が含有していてもよい重合開始剤は、重合性液晶化合物の重合反応を開始し得る化合物であり、より低温条件下で、重合反応を開始できる点で、光重合性開始剤が好ましい。具体的には、光の作用により活性ラジカル又は酸を発生できる光重合開始剤が挙げられ、中でも、光の作用によりラジカルを発生する光重合開始剤が好ましい。重合開始剤の含有量は、重合性液晶化合物の総量１００重量部に対して、好ましくは１質量部以上１０質量部以下であり、より好ましくは３質量部以上８質量部以下である。この範囲内であると、重合性基の反応が十分に進行し、かつ、液晶化合物の配向状態を安定化させやすい。

液晶層である偏光子層の厚みは、通常１０μｍ以下であり、好ましくは０．５μｍ以上８μｍ以下であり、より好ましくは１μｍ以上５μｍ以下である。

液晶層である偏光子層は基材フィルムを剥離除去せずに直線偏光子層として用いてもよく、基材フィルムを偏光子層から剥離除去して直線偏光子層としてもよい。液晶層である偏光子層は、その片面又は両面に保護層を形成して直線偏光子層として用いてもよい。保護層としては、上述する熱可塑性樹脂フィルムを用いることができる。

液晶層である偏光子層は、その片面又は両面にオーバーコート層を有していてもよい。オーバーコート層は、偏光子層の保護等を目的として設けることができる。オーバーコート層は、例えば偏光子層上にオーバーコート層を形成するための材料（組成物）を塗布することによって形成することができる。オーバーコート層を構成する材料としては、例えば光硬化性樹脂、水溶性ポリマー等が挙げられる。オーバーコート層を構成する材料としては、（メタ）アクリル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂等を用いることができる。

（位相差層）
円偏光板において、位相差層は、１層であってもよく２層以上であってもよい。位相差層は、その表面を保護するオーバーコート層、位相差層を支持する基材フィルム等を有していてもよい。位相差層は、λ／４層を含み、さらにλ／２層又はポジティブＣ層の少なくともいずれかを含んでいてもよい。位相差層がλ／２層を含む場合、直線偏光子層側から順にλ／２層及びλ／４層を積層する。位相差層がポジティブＣ層を含む場合、直線偏光子層側から順にλ／４層及びポジティブＣ層を積層してもよく、直線偏光子層側から順にポジティブＣ層及びλ／４層を積層してもよい。位相差層の厚みは、例えば０．１μｍ以上１０μｍ以下であり、好ましくは０．５μｍ以上８μｍ以下であり、より好ましくは１μｍ以上６μｍ以下である。

位相差層は、保護層の材料として例示した樹脂フィルムから形成してもよいし、重合性液晶化合物が硬化した層から形成してもよい。位相差層は、さらに配向膜を含んでもよい。位相差層は、λ／４層と、λ／２層及びポジティブＣ層とを貼合するための貼合層を有していてもよい。

位相差層は、重合性液晶化合物を硬化してなる層から形成する場合、重合性液晶化合物を含む組成物を、基材フィルムに塗布し硬化させることにより形成することができる。基材フィルムと塗布層との間に配向層を形成してもよい。基材フィルムの材料及び厚みは、上記熱可塑性樹脂フィルムの材料及び厚みと同じであってよい。位相差層は、重合性液晶化合物を硬化してなる層から形成する場合、配向層及び基材フィルムを有する形態で光学積層体に組み込まれてもよい。位相差層は、貼合層を介して直線偏光子層と貼合することができる。

（貼合層）
貼合層は、粘着剤組成物又は接着剤組成物から構成される層である。貼合層の材料となる粘着剤組成物は、第１粘着剤層２１を構成する粘着剤組成物に関する上述の説明が適用される。

貼合層の材料となる接着剤組成物としては、例えば水系接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤等のうち１種又は２種以上を組み合わせて形成することができる。水系接着剤としては、例えばポリビニルアルコール系樹脂水溶液、水系二液型ウレタン系エマルジョン接着剤等を挙げることができる。活性エネルギー線硬化型接着剤は、紫外線等の活性エネルギー線を照射することによって硬化する接着剤であり、例えば重合性化合物及び光重合性開始剤を含む接着剤、光反応性樹脂を含む接着剤、バインダー樹脂及び光反応性架橋剤を含む接着剤等を挙げることができる。上記重合性化合物としては、光硬化性エポキシ系モノマー、光硬化性アクリル系モノマー、光硬化性ウレタン系モノマー等の光重合性モノマー、及びこれらモノマーに由来するオリゴマー等を挙げることができる。上記光重合開始剤としては、紫外線等の活性エネルギー線を照射して中性ラジカル、アニオンラジカル、カチオンラジカルといった活性種を発生する物質を含む化合物を挙げることができる。

貼合層の厚みは、例えば１μｍ以上であってよく、好ましくは１μｍ以上２５μｍ以下、より好ましくは２μｍ以上１５μｍ以下、さらに好ましくは２．５μｍ以上５μｍ以下である。

（前面板）
偏光積層体１０は前面板を含むものであっても含まないものであってもよい。前面板は、光を透過可能な板状体であれば、材料及び厚みは限定されることはなく、また１層のみから構成されてよく、２層以上から構成されてもよい。前面板１０としては、樹脂製の板状体（例えば樹脂板、樹脂シート、樹脂フィルム等）、ガラス製の板状体（例えばガラス板、ガラスフィルム等）が挙げられる。前面板１０は、表示装置の最表面を構成することができる。

前面板の厚みは、例えば３０μｍ以上５００μｍ以下であってよく、好ましくは４０μｍ以上２００μｍ以下であり、より好ましくは５０μｍ以上１００μｍ以下である。

前面板が樹脂製の板状体である場合、樹脂製の板状体は、光を透過可能なものであれば限定されることはない。樹脂フィルム等の樹脂製の板状体を構成する樹脂としては、例えばトリアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレート、エチレン−酢酸ビニル共重合体、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ポリエステル、ポリスチレン、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリ（メタ）アクリル、ポリイミド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポリメチルメタアクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリアミドイミドなどの高分子で形成されたフィルムが挙げられる。これらの高分子は、単独で又は２種以上混合して用いることができる。樹脂フィルムは、強度及び透明性向上の観点から好ましくはポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミドなどの高分子で形成される。

前面板は、樹脂フィルム又は樹脂フィルムにハードコート層を備えた樹脂フィルムが好ましい。ハードコート層は、樹脂フィルムの一方の面に形成されていてもよいし、両面に形成されていてもよい。ハードコート層を設けることにより、硬度及びスクラッチ性を向上させた樹脂フィルムとすることができる。ハードコート層は、例えば紫外線硬化型樹脂の硬化層である。紫外線硬化型樹脂としては、例えばアクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、エポキシ系樹脂等が挙げられる。ハードコート層は、強度を向上させるために、添加剤を含んでいてもよい。添加剤は限定されることはなく、無機系微粒子、有機系微粒子、又はこれらの混合物が挙げられる。樹脂フィルムの両面にハードコート層を有する場合、各ハードコート層の組成や厚みは、互いに同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。

前面板がガラス板である場合、ガラス板は、ディスプレイ用強化ガラスが好ましく用いられる。ガラス板の厚みは、例えば５０μｍ以上１０００μｍ以下であってよい。ガラス板を用いることにより、優れた機械的強度及び表面硬度を有する前面板を構成することができる。

光学積層体１００が表示装置に用いられる場合、前面板は、表示装置の前面（画面）を保護する機能（ウィンドウフィルムとしての機能）を有するのみではなく、タッチセンサとしての機能、ブルーライトカット機能、視野角調整機能等を有するものであってもよい。

（タッチセンサパネル）
偏光積層体１０は、タッチセンサパネルをさらに備えていてもよい。タッチセンサパネルを備える偏光積層体１０として、例えば前面板と円偏光板とタッチセンサとをこの順に有する偏光積層体が挙げられる。タッチセンサパネルは、タッチされた位置を検出可能なセンサ（すなわちタッチセンサ）を有するパネルであれば、限定されない。タッチセンサの検出方式は限定されることはなく、抵抗膜方式、静電容量結合方式、光センサ方式、超音波方式、電磁誘導結合方式、表面弾性波方式等のタッチセンサパネルが例示される。低コストであることから、抵抗膜方式、静電容量結合方式のタッチセンサパネルが好適に用いられる。

抵抗膜方式のタッチセンサの一例として、互いに対向配置された一対の基板と、それら一対の基板の間に挟持された絶縁性スペーサーと、各基板の内側の前面に抵抗膜として設けられた透明導電膜と、タッチ位置検知回路とにより構成されている部材が挙げられる。抵抗膜方式のタッチセンサを設けた画像表示装置においては、前面板の表面がタッチされると、対向する抵抗膜が短絡して、抵抗膜に電流が流れる。タッチ位置検知回路が、このときの電圧の変化を検知し、タッチされた位置が検出される。

静電容量結合方式のタッチセンサの一例としては、基板と、基板の全面に設けられた位置検出用透明電極と、タッチ位置検知回路とにより構成されている部材が挙げられる。静電容量結合方式のタッチセンサを設けた画像表示装置においては、前面板の表面がタッチされると、タッチされた点で人体の静電容量を介して透明電極が接地される。タッチ位置検知回路が、透明電極の接地を検知し、タッチされた位置が検出される。

タッチセンサパネルの厚みは、例えば５μｍ以上２０００μｍ以下であってよく、好ましくは５μｍ以上１００μｍ以下、さらに好ましくは５μｍ以上５０μｍ以下である。

タッチセンサパネルは、基材フィルム上にタッチセンサのパターンが形成された部材であってよい。基材フィルムの例示は、上述の熱可塑性樹脂フィルムの説明における例示と同じであってよい。タッチセンサパターンの厚みは、例えば１μｍ以上２０μｍ以下であってよい。

［光学積層体の製造方法］
光学積層体１００は、各層を貼合する工程を含む方法によって製造することができる。偏光積層体１０を先に構成した後に、その第１表面及び第２表面に粘着剤層を設ける工程を経て製造してもよいし、偏光積層体の第１表面を形成する表面を有する前駆体に予め粘着剤層を設ける工程、又は偏光積層体の第２表面を形成する表面を有する前駆体に予め粘着剤層を設ける工程を有し、前駆体を積層する工程を経て偏光積層体１０を有する光学積層体１００を製造してもよい。

［表示装置の用途］
本発明に係る表示装置は、スマートフォン、タブレット等のモバイル機器、テレビ、デジタルフォトフレーム、電子看板、測定器や計器類、事務用機器、医療機器、電算機器等として用いることができる。

以下、実施例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

［偏光積層体の構成要素の準備］
（液晶層である偏光子層を有する液晶型偏光板）
厚さ２５μｍのＴＡＣフィルムの片面に配向膜組成物を塗布し、乾燥及び偏光露光をして配向膜を形成した。配向膜上に、液晶重合性化合物と染料とを含む液晶組成物を塗布し、乾燥した。紫外線照射による硬化を行って液晶層である偏光子層を形成し、液晶型偏光板を得た。

（延伸層である偏光子層を有する延伸型偏光板）
ＰＶＡフィルムを１軸延伸しながらヨウ素を含有した溶液に浸漬して染色した後、ホウ酸を含有した溶液に浸漬して架橋させて乾燥することで偏光子層を得た。偏光子層の片面に厚さ１３μｍのＣＯＰからなる透明フィルムを接着剤で貼り付けて延伸型偏光板を得た。

（１／４波長板）
ＰＥＴフィルムの片面に配向膜組成物を塗布し、乾燥及び偏光露光をして配向膜を形成した。配向膜上に、重合性液晶化合物を含む液晶組成物を塗布し、乾燥した。紫外線照射による硬化を行って位相差層（１／４波長層）を形成し、ＰＥＴフィルム付１／４波長板を得た。配向膜及び位相差層（１／４波長層）からなる積層体を１／４波長板とした。

（１／２波長板）
ＰＥＴフィルムの片面に配向膜組成物を塗布し、乾燥及び偏光露光をして配向膜を形成した。配向膜上に、重合性液晶化合物を含む液晶組成物を塗布し、乾燥した。紫外線照射による硬化を行って位相差層（１／２波長層）を形成し、ＰＥＴフィルム付１／２波長板を得た。配向膜及び位相差層（１／２波長層）からなる積層体を１／２波長板とした。

（ポシティブＣ層）
ＰＥＴフィルムの片面に垂直配向膜組成物を塗布し、乾燥及び露光をして配向膜を形成した。配向膜上に、重合性液晶化合物を含む液晶組成物を塗布し、乾燥した。紫外線照射による硬化を行って位相差層（ポジティブＣ層）を形成し、ＰＥＴフィルム付ポジティブＣ層を得た。配向膜及び位相差層からなる積層体についてもポジティブＣ層とした。

（反射防止用液晶型偏光板）
液晶型偏光板のＴＡＣフィルム側でない表面に粘着剤を用いてＰＥＴフィルム付１／４波長板を貼合した後、ＰＥＴフィルムを剥離した。さらに１／４波長板の表面に粘着剤を用いてＰＥＴフィルム付ポジティブＣ位相差層を貼合した後、ＰＥＴフィルムを剥離した。ポジティブＣ層の表面に粘着剤組成物を塗布して粘着剤層（第１粘着剤層）を形成し、粘着剤層付き反射防止用液晶型偏光板（円偏光板）を得た。

（反射防止用延伸型偏光板）
延伸型偏光板のＣＯＰフィルム側でない表面に粘着剤層を用いてＰＥＴフィルム付１／２波長板を貼合した後、ＰＥＴフィルムを剥離した。さらに１／２波長板の表面に粘着剤を用いてＰＥＴフィルム付１/４波長板を貼合した後、ＰＥＴフィルムを剥離した。１／４波長板の表面に粘着剤組成物を塗布して粘着剤層（第１粘着剤層）を形成し、粘着剤層付き反射防止用延伸型偏光板（円偏光板）を得た。

［実施例１］
粘着剤層付き反射防止用液晶型偏光板のＴＡＣ表面に表面保護フィルムＡ（アクリル系粘着剤層（第２粘着剤層）付ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、藤森工業株式会社、AY-4212)を貼合し、粘着剤層面には離型フィルムＦ(離型処理された厚さ５０μｍＰＥＴ)を貼合して実施例１の光学積層体を作製した。

＜各パラメータの測定＞
（１８０°剥離力Ａ１及び表面保護フィルムの厚みＡ２の測定）
実施例１の光学積層体の全体構成から２．５ｃｍ幅で測定用サンプルを裁断した。裁断した光学積層体から離型フィルムを剥離除去して、粘着剤層（第１粘着剤層）の表面をガラスに貼合した。ガラスを引張力測定装置（株式会社島津製作所製「AG-1S」）に固定した。表面保護フィルムＡを一部剥離して引張力測定装置のジグに固定した。２５℃環境において、３．０ｍ／ｍｉｎの速度で剥離角度が１８０°となるようにして表面保護フィルムＡを剥離し、剥離力Ａ１［ｇｆ／２５ｍｍ］を測定した。剥離した表面保護フィルムＡは接触式膜厚測定装置（株式会社ニコン製「ＭＳ−５Ｃ」）を用いて厚みＡ２［μｍ］を測定した。表１に、１８０°剥離力Ａ１、表面保護フィルムの厚みＡ２、及びＡ１／Ａ２より算出されるパラメータＡの各値を示す。

（１８０°剥離力Ｂ１及び離型フィルムの厚みＢ２の測定）
実施例１の光学積層体の全体構成から２．５ｃｍ幅で測定用サンプルを裁断した。裁断した光学積層体から表面保護フィルムＡを除去して、表面保護フィルムＡがあった面をガラスに貼合した。ガラスを引張力測定装置（株式会社島津製作所製「AG-1S」）に固定し、離型フィルムＦ（第１基材フィルム）を一部剥離して引張力測定装置のジグに固定した。２５℃環境において、３．０ｍ／ｍｉｎの速度で剥離角度が１８０°となるようにして離型フィルムＦを剥離し、剥離力Ｂ１［ｇｆ／２５ｍｍ］を測定した。剥離した離型フィルムＦも同様に接触式膜厚測定装置（株式会社ニコン製「ＭＳ−５Ｃ」）を用いて厚みＢ２［μｍ］を測定した。表１に、１８０°剥離力Ｂ１、離型フィルムの厚みＢ２、及びＢ１／Ｂ２より算出されるパラメータＢの各値を示す。

（スティッフネスＣの測定）
実施例１の光学積層体の全体構成から２．５４ｃｍ幅、長さ８．８９ｃｍの大きさの測定用サンプルを裁断した。かかる測定用サンプルから離型フィルムＦを除去してこれを評価積層体とし、評価積層体スティッフネスＣ［ガーレー単位］をスティフネス測定器(Gurley社 Bending Stiffness Tester）を用いて測定した。表１に、スティッフネスＣ、及び（Ａ／Ｂ）×Ｃの算出値を示す。

［実施例２］
表面保護フィルムＡに代えて、表面保護フィルムＢ(アクリル系粘着剤層（第２粘着剤層）付ＰＥＴフィルム、藤森工業株式会社、AY-638)を使用したこと以外は、実施例１と同様にして実施例２の光学積層体を作製し、各パラメータを測定した。

［実施例３］
表面保護フィルムＡに代えて、表面保護フィルムＣ(アクリル系粘着剤層（第２粘着剤層）付ＰＥＴフィルム、藤森工業株式会社、AY(75)-638)を使用したこと以外は、実施例１と同様にして実施例３の光学積層体を作製し、各パラメータを測定した。

［実施例４］
表面保護フィルムＡに代えて、表面保護フィルムＤ(厚み１２５μｍのＰＥＴ（第２基材フィルム）に粘着剤組成物を塗布して厚み１５μｍのアクリル系粘着剤層（第２粘着剤層）を形成したもの)を使用したこと以外は、実施例１と同様にして実施例４の光学積層体を作製し、各パラメータを測定した。

［実施例５］
離型フィルムＦに代えて、離型処理された厚さ３８μｍのＰＥＴである離型フィルムＧを使用したこと以外は、実施例１と同様にして実施例５の光学積層体を作製し、各パラメータを測定した。

［実施例６］
粘着剤層付き反射防止用液晶型偏光板に代えて、粘着剤層付き反射防止用延伸型偏光板を使用したこと以外は、実施例３と同様にして実施例６の光学積層体を作製し、各パラメータを測定した。

［比較例１］
表面保護フィルムＡに代えて、表面保護フィルムＥ(アクリル系粘着剤層（第２粘着剤層）付ＰＥＴフィルム、藤森工業株式会社、AY(75)-4212)を使用したこと以外は、実施例１と同様にして比較例１の光学積層体を作製し、各パラメータを測定した。

［比較例２］
粘着剤層付き反射防止用液晶型偏光板に代えて、粘着剤層付き反射防止用延伸型偏光板を使用したこと以外は、実施例５と同様にして比較例２の光学積層体を作製し、各パラメータを測定した。

［剥離評価］
各実施例及び比較例で作られた光学積層体を、吸着ステージに表面保護フィルムが接触するように載せて吸引することで固定した。剥離テープを離型フィルム（第１基材フィルム）の角部分に貼り付け、光学積層体表面から、剥離角度が９０°になるように持ち上げた。離型フィルムが粘着剤層（第１粘着剤層）面から分離された場合を正常剥離と判定し、表面保護フィルムが偏光積層体表面から剥離された場合を剥離不良（逆剥離）と判定した。結果を表１に示す。

１００、１００’ 光学積層体、１０ 偏光積層体、２１ 第１粘着剤層、２２ 第１基材フィルム、３０ 表面保護フィルム、３１ 第２粘着剤層、３２ 第２基材フィルム、２００ 表示素子、３００ 表示装置。

Claims (6)

1. 偏光積層体と、前記偏光積層体の第１表面に積層された第１粘着剤層と、前記第１粘着剤層の前記偏光積層体側とは反対側の表面に積層された第１基材フィルムと、前記偏光積層体の第２表面に積層された第２粘着剤層と、前記第２粘着剤層の前記偏光積層体側とは反対側の表面に積層された第２基材フィルムと、を有し、
   下記式（１ａ）の関係を満たす、光学積層体。
   （Ａ／Ｂ）×Ｃ≧８００ （１ａ）
   ［式（１ａ）において、
   Ａは、前記偏光積層体と前記第２粘着剤層との間での１８０°剥離力をＡ１［ｇｆ／２５ｍｍ］とし、前記第２基材フィルムと前記第２粘着剤層との合計の厚みをＡ２［μｍ］としたときに、Ａ１／Ａ２で算出される値であり、
   Ｂは、前記第１粘着剤層と前記第１基材フィルムとの間での１８０°剥離力をＢ１［ｇｆ／２５ｍｍ］とし、前記第１基材フィルムの厚みをＢ２［μｍ］としたときに、Ｂ１／Ｂ２で算出される値であり、
   Ｃは、前記第１粘着剤層、前記偏光積層体、前記第２粘着剤層及び前記第２基材フィルムがこの順で積層されてなる評価積層体のスティッフネス［ガーレー単位］とする。］
2. 下記式（２ａ）の関係をさらに満たす、請求項１に記載の光学積層体。
   （Ａ／Ｂ）×Ｃ≦１００００ （２ａ）
3. 前記Ａは下記式（３ａ）の関係を満たす、請求項１又は２に記載の光学積層体。
   ０．１≦Ａ≦１ （３ａ）
4. 前記Ｂは下記式（４ａ）の関係を満たす、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学積層体。
   ０．０８≦Ｂ≦０．８ （４ａ）
5. 前記Ｃは下記式（５ａ）の関係を満たす、請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学積層体。
   ２００≦Ｃ≦３０００ （５ａ）
6. 請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学積層体から前記第１基材フィルムを剥離して前記第１粘着剤層の表面を露出させる第１基材フィルム剥離工程と、
   前記第１粘着剤層の露出した前記表面を表示素子に貼合する貼合工程と、有する表示装置の製造方法。

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