TW202128419A - 光學積層體及顯示裝置的製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種光學積層體，於剝離貼附於用以貼合光學積層體的黏著劑層的表面的脫模膜時，可抑制設置於與該脫模膜為相反側的表面的表面保護膜的剝離。一種光學積層體，具有：偏光積層體；第一黏著劑層，積層於所述偏光積層體的第一表面；第一基材膜，積層於所述第一黏著劑層的與所述偏光積層體側為相反側的表面；第二黏著劑層，積層於所述偏光積層體的第二表面；以及第二基材膜，積層於所述第二黏著劑層的與所述偏光積層體側為相反側的表面，滿足下述式（1a）的關係。 （A/B）×C≧800   （1a）

Description

光學積層體及顯示裝置的製造方法
本發明是有關於一種光學積層體及顯示裝置的製造方法。
於日本專利特開2010-188550號公報（專利文獻1）中揭示了一種輥，所述輥是將於第一面經由第一黏著劑層設置第一基材膜且於第二面經由第二黏著劑層設置第二基材膜的光學膜捲繞而成。該光學膜於被切斷成規定形狀後，經由剝離了第一基材膜而露出的第一黏著劑層貼合於顯示基板。 [現有技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2010-188550號公報
[發明所欲解決之課題] 專利文獻1中記載了為了抑制於捲繞於輥的狀態下於基材膜與光學膜之間產生的浮起而調整界面的接著力的大小關係。
本發明的目的在於提供一種光學積層體及使用該光學積層體的顯示裝置的製造方法，所述光學積層體於剝離貼附於用以貼合光學積層體的黏著劑層的表面的脫模膜時，可抑制設置於與該脫模膜為相反側的表面的表面保護膜的剝離。 [解決課題之手段]
本發明提供以下所示的光學積層體及顯示裝置的製造方法。 〔1〕一種光學積層體，具有：偏光積層體；第一黏著劑層，積層於所述偏光積層體的第一表面；第一基材膜，積層於所述第一黏著劑層的與所述偏光積層體側為相反側的表面；第二黏著劑層，積層於所述偏光積層體的第二表面；以及第二基材膜，積層於所述第二黏著劑層的與所述偏光積層體側為相反側的表面， 滿足下述式（1a）的關係： （A/B）×C≧800   （1a） [式（1a）中， A是於將所述偏光積層體與所述第二黏著劑層之間的180°剝離力設為A1[gf/25 mm]、將所述第二基材膜與所述第二黏著劑層的合計厚度設為A2[μm]時，利用A1/A2算出的值， B是於將所述第一黏著劑層與所述第一基材膜之間的180°剝離力設為B1[gf/25 mm]、將所述第一基材膜的厚度設為B2[μm]時，利用B1/B2算出的值， C設為將所述第一黏著劑層、所述偏光積層體、所述第二黏著劑層及所述第二基材膜依次積層而成的評價積層體的剛性[格利（Gurley）單位]]。 〔2〕如〔1〕所述的光學積層體，進一步滿足下述式（2a）的關係： （A/B）×C≦10000   （2a）。 〔3〕如〔1〕或〔2〕所述的光學積層體，其中所述A滿足下述式（3a）的關係： 0.1≦A≦1   （3a）。 〔4〕如〔1〕～〔3〕中任一項所述的光學積層體，其中所述B滿足下述式（4a）的關係： 0.08≦B≦0.8   （4a）。 〔5〕如〔1〕～〔4〕中任一項所述的光學積層體，其中所述C滿足下述式（5a）的關係： 200≦C≦3000   （5a）。 〔6〕一種顯示裝置的製造方法，包括： 第一基材膜剝離步驟，自如〔1〕～〔5〕中任一項所述的光學積層體剝離所述第一基材膜，使所述第一黏著劑層的表面露出；以及 貼合步驟，將所述第一黏著劑層的露出的所述表面貼合於顯示元件。 [發明的效果]
根據本發明，可提供一種光學積層體及使用該光學積層體的顯示裝置的製造方法，所述光學積層體於剝離貼附於用以貼合光學積層體的黏著劑層的表面的脫模膜時，可抑制設置於與該脫模膜為相反側的表面的表面保護膜的剝離。
以下，參照圖式說明本發明的實施方式，但本發明並不限定於以下的實施方式。於以下的所有圖式中，為了使各構成要素容易理解而適當調整比例尺來表示，圖式中所示的各構成要素的比例尺與實際的構成要素的比例尺未必一致。
[顯示裝置] 圖1是表示將自光學積層體100剝離了第一基材膜22的光學積層體100'貼合於顯示元件200而製作顯示裝置300時的形態的概略剖面圖。
＜光學積層體＞ 光學積層體100具有：偏光積層體10；第一黏著劑層21，積層於偏光積層體10的第一表面；第一基材膜22，積層於第一黏著劑層21的與偏光積層體10側為相反側的表面；第二黏著劑層31，積層於偏光積層體10的第二表面；以及第二基材膜32，積層於第二黏著劑層31的與偏光積層體10側為相反側的表面。
於光學積層體100中，第一黏著劑層21的表面成為與顯示元件200的貼合面。第一基材膜22是積層於第一黏著劑層21的與偏光積層體10側為相反側的表面的脫模膜（隔膜（separator））。於光學積層體100貼合於顯示元件200時，自光學積層體100剝離脫模膜。將自光學積層體100剝離第一基材膜22後的積層體設為光學積層體100'。
第二基材膜32經由第二黏著劑層31積層於偏光積層體10的第二表面，與第二黏著劑層31一起作為表面保護膜30發揮功能。於第二基材膜32上通常預先設置第二黏著劑層31而構成表面保護膜30，將該表面保護膜30中的第二黏著劑層31的表面貼合於偏光積層體10而構成光學積層體100。表面保護膜30通常於將光學積層體100貼合於顯示元件200後自光學積層體100'剝離。
偏光積層體10至少包括偏光板，亦可進而包括前面板、觸控感測器面板等。偏光板至少包括偏光膜，除此之外，亦可包括保護膜、相位差膜、亮度提高膜、貼合層等。
光學積層體100的厚度根據對光學積層體所要求的功能及光學積層體的用途等而不同，因此並無特別限定，例如為20 μm以上且2000 μm以下，較佳為30 μm以上且1000 μm以下，更佳為50 μm以上且500 μm以下，亦可為100 μm以上。
光學積層體100的俯視形狀例如可為方形形狀，較佳為具有長邊與短邊的方形形狀，更佳為長方形。於光學積層體100的面方向的形狀為長方形的情況下，長邊的長度例如可為10 mm以上且1400 mm以下，較佳為50 mm以上且600 mm以下。短邊的長度例如為5 mm以上且800 mm以下，較佳為30 mm以上且500 mm以下，更佳為50 mm以上且300 mm以下。對於構成光學積層體100的各層，可對角部進行R加工，或者對端部進行切口加工，或者進行穿孔加工。
光學積層體100可用於顯示裝置300。顯示裝置300的製造方法包括：自光學積層體100剝離第一基材膜22，使第一黏著劑層21的表面露出的步驟；以及將第一黏著劑層21的露出的表面貼合於顯示元件200的步驟。
顯示裝置300並無特別限定，例如可列舉：有機電致發光（有機EL（electroluminescence））顯示裝置、無機電致發光（無機EL）顯示裝置、液晶顯示裝置、電場發光顯示裝置等。光學積層體100適於能夠彎曲的顯示裝置。於光學積層體100用於有機EL顯示裝置的情況下，光學積層體100中的偏光積層體10較佳為圓偏光板，藉由於自光學積層體100剝離第一基材膜22後將其貼合於有機EL顯示元件的可見側表面，可抑制反射光。於光學積層體100用於液晶顯示裝置的情況下，光學積層體100中的偏光積層體10較佳為直線偏光板或圓偏光板，藉由自光學積層體100剝離第一基材膜22後將其分別貼合於液晶顯示元件的兩面，可形成圖像光。
光學積層體100滿足下述式（1a）的關係，較佳為滿足下述式（1b）的關係。 （A/B）×C≧800   （1a） （A/B）×C≧820   （1b）
式（1a）及式（1b）中的各值如下所述。 A是於將偏光積層體10與第二黏著劑層31之間的180°剝離力設為A1[gf/25 mm]、將第二基材膜32與第二黏著劑層31的合計厚度設為A2[μm]時，利用A1/A2算出的值。 B是於將第一黏著劑層21與第一基材膜22之間的180°剝離力設為B1[gf/25 mm]、將第一基材膜22的厚度設為B2[μm]時，利用B1/B2算出的值。 C是將第一黏著劑層21、偏光積層體10、第二黏著劑層31及第二基材膜32依次積層而成的評價積層體的剛性[格利單位]。再者，1 mN=9.807×10-3 格利單位。 各值是按照後述的實施例欄中記載的方法而測定。
使用光學積層體100製造顯示裝置的方法包括第一基材膜剝離步驟：自光學積層體100剝離第一基材膜22，使第一黏著劑層21的表面露出。第一基材膜剝離步驟例如包括如下操作：自積層有表面保護膜30的表面側吸附並保持光學積層體100，於第一基材膜22的表面貼附膠帶，經由該膠帶拉起第一基材膜22，而僅剝離第一基材膜22。第一基材膜剝離步驟以第一基材膜22的剝離為目的，但有時會產生表面保護膜30的剝離。若表面保護膜30產生剝離，則難以繼續第一基材膜剝離步驟。
於第一基材膜剝離步驟中，為了抑制表面保護膜30產生剝離，考慮到提高表面保護膜30與偏光積層體10的接著力來提高剝離力的方法，但若提高表面保護膜30的接著力，則有時於後面的步驟中難以乾淨地剝離表面保護膜30，或者於剝離後的偏光積層體10的表面產生傷痕等不良情況。
本發明者等人進行了努力研究，結果發現藉由光學積層體100滿足所述式（1a）的關係，可抑制第一基材膜剝離步驟中的表面保護膜30的剝離。
光學積層體100較佳為滿足下述式（2a）的關係，進而佳為滿足下述式（2b）的關係。 （A/B）×C≦10000   （2a） （A/B）×C≦2000   （2b）
藉由光學積層體100滿足所述式（2a）的關係，於第一基材膜剝離步驟及將光學積層體100'貼合於顯示元件200的貼合步驟後的剝離表面保護膜30的表面保護膜剝離步驟中，可簡單且乾淨地剝離表面保護膜30，另外，可抑制於第一基材膜剝離步驟前產生第一基材膜22的剝離。
就於表面保護膜剝離步驟中可簡單且乾淨地剝離表面保護膜30的觀點而言，所述式（1a）中的所述A較佳為滿足下述式（3a）的關係，進而佳為滿足下述式（3b）的關係。A的值可藉由調整第二基材膜32的材料、第二黏著劑層31的材料、第二黏著劑層31與偏光積層體10的貼合面的表面處理中的至少一個並調整A1的值，或者藉由調整第二基材膜32與第二黏著劑層的合計厚度A2來加以調整。作為貼合面的表面處理，例如可列舉電暈處理、電漿處理、皂化處理。 0.1≦A≦1   （3a） 0.15≦A≦0.6   （3b）
就於第一基材膜剝離步驟中可簡單且乾淨地剝離第一基材膜22的觀點而言，所述式（1a）中的所述B較佳為滿足下述式（4a）的關係，進而佳為滿足下述式（4b）的關係。B的值可藉由調整第一基材膜22的材料、第一黏著劑層21的材料、第一黏著劑層21與第一基材膜22的貼合面的表面處理中的至少一個並調整B1的值，或者藉由調整第一基材膜22的厚度B2來加以調整。作為貼合面的表面處理，例如可列舉電暈處理、電漿處理、皂化處理。 0.08≦B≦0.8   （4a） 0.1≦B≦0.4   （4b）
就可抑制於第一基材膜剝離步驟前第一基材膜22產生剝離的觀點以及可對光學積層體100'或偏光積層體10賦予彎曲性的觀點而言，所述式（1a）中的所述C較佳為滿足下述式（5a）的關係，進而佳為滿足下述式（5b）的關係。藉由光學積層體100'或偏光積層體10具有彎曲性，可構成具有彎曲性的顯示裝置。C的值可藉由調整第二基材膜32的材料、偏光積層體10的積層結構、以及該積層結構中使用的各層的材料及厚度來加以調整。 200≦C≦3000   （5a） 300≦C≦2000   （5b）
偏光積層體10與第二黏著劑層31之間的180°剝離力A1較佳為10 gf/25 mm以上，更佳為14 gf/25 mm以上，亦可為20 gf/25 mm以上。180°剝離力A1較佳為50 gf/25 mm以下，可為40 gf/25 mm以下，亦可為30 gf/25 mm以下。
第一黏著劑層21與第一基材膜22之間的180°剝離力B1較佳為1 gf/25 mm以上，更佳為5 gf/25 mm以上，亦可為6 gf/25 mm以上。180°剝離力B1較佳為20 gf/25 mm以下，亦可為15 gf/25 mm以下，亦可為10 gf/25 mm以下。
偏光積層體10與第二黏著劑層31之間的180°剝離力A1較佳為大於第一黏著劑層21與第一基材膜22之間的180°剝離力B1。
＜第一黏著劑層21＞ 第一黏著劑層21於光學積層體100中積層於偏光積層體10的第一表面，作為偏光積層體10與顯示元件的貼合層發揮功能。第一黏著劑層21可包含一層，亦可包含兩層以上，較佳為包含一層。第一黏著劑層21可包含以(甲基)丙烯酸系樹脂、橡膠系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、酯系樹脂、矽酮系樹脂、聚乙烯醚系樹脂為主成分的黏著劑組成物。其中，較佳為以透明性、耐候性、耐熱性等優異的(甲基)丙烯酸系樹脂為基礎聚合物的黏著劑組成物。黏著劑組成物可為活性能量線硬化型或熱硬化型。
作為黏著劑組成物中可使用的(甲基)丙烯酸系樹脂（基礎聚合物），可較佳地使用將(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等(甲基)丙烯酸酯的一種或兩種以上作為單體的聚合物或共聚物。較佳為使極性單體與基礎聚合物共聚。作為極性單體，可列舉(甲基)丙烯酸化合物、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯化合物、(甲基)丙烯酸羥基乙酯化合物、(甲基)丙烯醯胺化合物、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯化合物、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯化合物等具有羧基、羥基、醯胺基、胺基、環氧基等的單體。
黏著劑組成物可僅含有所述基礎聚合物，但通常進而含有交聯劑。作為交聯劑，可例示：與羧基之間形成羧酸金屬鹽的二價以上的金屬離子；與羧基之間形成醯胺鍵的多胺化合物；與羧基之間形成酯鍵的聚環氧化合物或多元醇；與羧基之間形成醯胺鍵的聚異氰酸酯化合物。其中，較佳為聚異氰酸酯化合物。
活性能量線硬化型黏著劑組成物具有受到紫外線或電子束之類的活性能量線的照射而硬化的性質，且具有如下性質：即使在活性能量線照射前亦有黏著性而可與膜等被黏物密接，且可藉由活性能量線的照射而硬化，從而調整密接力。活性能量線硬化型黏著劑組成物較佳為紫外線硬化型。活性能量線硬化型黏著劑組成物除了基礎聚合物、交聯劑以外，進而含有活性能量線聚合性化合物。根據需要，亦可含有光聚合起始劑、光增感劑等。
黏著劑組成物可含有用於賦予光散射性的微粒子、珠（樹脂珠、玻璃珠等）、玻璃纖維、基礎聚合物以外的樹脂、黏著性賦予劑、填充劑（金屬粉或其他無機粉末等）、抗氧化劑、紫外線吸收劑、染料、顏料、著色劑、消泡劑、防腐蝕劑、光聚合起始劑等添加劑。
第一黏著劑層21可藉由將所述黏著劑組成物的有機溶劑稀釋液塗佈於基材膜或偏光積層體10的第一表面上並使其乾燥而形成。基材膜一般而言為熱塑性樹脂膜，作為其典型的例子，可列舉實施了脫模處理的分離膜。分離膜例如可為於包含聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚碳酸酯、聚芳酯等樹脂的膜的形成有黏著劑層的面實施了矽酮處理等脫模處理者。
例如，可將分離膜作為第一基材膜22，於該脫模處理面直接塗佈黏著劑組成物而形成黏著劑層來製成第一黏著劑層21，將該帶分離膜的黏著劑層積層於偏光積層體10的第一表面。 亦可於偏光積層體10的第一表面直接塗佈黏著劑組成物而形成黏著劑層來製成第一黏著劑層21，於第一黏著劑層21的外表面積層分離膜作為第一基材膜22。 於在偏光積層體10的第一表面設置黏著劑層時，較佳為對偏光積層體10的貼合面及/或黏著劑層的貼合面實施表面活性化處理，例如電漿處理、電暈處理等，更佳為實施電暈處理。 另外，亦可準備於第二分離膜上塗佈黏著劑組成物而形成第一黏著劑層21且於所形成的黏著劑層上積層有分離膜（第一基材膜22）的黏著劑片，將自該黏著劑片剝離第二分離膜後的帶分離膜的黏著劑層積層於偏光積層體10。第二分離膜可使用與第一黏著劑層21的密接力比分離膜（第一基材膜22）弱而容易剝離的膜。
第一黏著劑層21的厚度並無特別限定，例如較佳為1 μm以上且100 μm以下，更佳為3 μm以上且50 μm以下，亦可為20 μm以上。
＜第一基材膜22＞ 第一基材膜22是積層於第一黏著劑層21的與偏光積層體10側為相反側的表面的脫模膜（隔膜）。第一基材膜22的與第一黏著劑層21接觸的表面較佳為實施脫模處理。
第一基材膜22較佳為熱塑性樹脂膜。作為熱塑性樹脂膜，例如可列舉：環狀聚烯烴系樹脂膜；包含三乙醯纖維素、二乙醯纖維素等樹脂的乙酸纖維素系樹脂膜；包含聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯等樹脂的聚酯系樹脂膜；聚碳酸酯系樹脂膜；(甲基)丙烯酸系樹脂膜；聚丙烯系樹脂膜等。第一基材膜22較佳為聚酯系樹脂膜，更佳為聚對苯二甲酸乙二酯膜。
第一基材膜22的厚度B2較佳為15 μm以上，更佳為20 μm以上，進而佳為25 μm以上。第一基材膜22的厚度B2較佳為80 μm以下，更佳為60 μm以下。
＜表面保護膜30＞ 表面保護膜30包含第二基材膜32及積層於該第二基材膜32上的第二黏著劑層31。表面保護膜30具有保護偏光積層體10的第二表面的功能，例如於光學積層體100'被貼合於顯示元件200後，自偏光積層體10剝離。
關於構成第二基材膜32的樹脂，可適用關於第一基材膜22的所述說明。
關於構成第二黏著劑層31的黏著劑組成物，可適用關於構成第一黏著劑層21的黏著劑組成物的所述說明。第二黏著劑層31的厚度並無特別限定，例如較佳為1 μm以上且100 μm以下，更佳為3 μm以上且50 μm以下，亦可為20 μm以上。表面保護膜30亦可使用市售品。
第二基材膜32與第二黏著劑層31的合計厚度A2較佳為30 μm以上，更佳為40 μm以上，亦可為50 μm以上。第二基材膜32與第二黏著劑層31的合計厚度A2較佳為200 μm以下，更佳為150 μm以下。
＜偏光積層體10＞ （偏光板） 偏光積層體10至少包括偏光板。偏光板至少包括直線偏光片層。偏光板例如為圓偏光板，圓偏光板至少包括相位差層。圓偏光板可吸收顯示裝置中被反射的外部光，因此可對光學積層體賦予防反射功能。
偏光板的厚度通常為5 μm以上，可為20 μm以上，亦可為25 μm以上，亦可為30 μm以上。另外，偏光板的厚度較佳為80 μm以下，更佳為60 μm以下。
（直線偏光片層） 直線偏光片層具有自自然光等非偏光的光線選擇性地透過某一個方向上的直線偏光的功能。直線偏光片層可包括吸附有二色性色素的延伸膜或延伸層、液晶層等作為偏光片層，所述液晶層包含聚合性液晶化合物的硬化物及二色性色素且二色性色素在聚合性液晶化合物的硬化物中分散並配向。若將色素分散於具有各向異性的介質中使其配向，則有時自某個方向看起來著色，自與其垂直的方向看起來幾乎無色。將顯示此種現象的色素稱為二色性色素。與吸附有二色性色素的延伸膜或延伸層相比，將液晶層用作偏光片層的直線偏光片層於彎曲方向上並無限制，因此較佳。
（作為吸附有二色性色素的延伸膜或延伸層的偏光片層） 作為吸附有二色性色素的延伸膜的偏光片層通常可經過如下步驟來製造：將聚乙烯醇系樹脂膜單軸延伸的步驟；藉由利用碘等二色性色素對聚乙烯醇系樹脂膜進行染色來吸附該二色性色素的步驟；利用硼酸水溶液對吸附有二色性色素的聚乙烯醇系樹脂膜進行處理的步驟；以及於利用硼酸水溶液進行處理後進行水洗的步驟。
偏光片層的厚度通常為30 μm以下，較佳為18 μm以下，更佳為15 μm以下。減薄偏光片層的厚度有利於圓偏光板的薄膜化。偏光片層的厚度通常為1 μm以上，例如可為5 μm以上。
聚乙烯醇系樹脂可藉由將聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化而獲得。作為聚乙酸乙烯酯系樹脂，除了作為乙酸乙烯酯的均聚物的聚乙酸乙烯酯以外，還可使用乙酸乙烯酯和能夠與其共聚的其他單量體的共聚物。作為能夠與乙酸乙烯酯共聚的其他單量體，例如可列舉不飽和羧酸系化合物、烯烴系化合物、乙烯基醚系化合物、不飽和磺酸系化合物、具有銨基的(甲基)丙烯醯胺系化合物。
聚乙烯醇系樹脂的皂化度通常為85莫耳%以上且100莫耳%以下左右，較佳為98莫耳%以上。聚乙烯醇系樹脂可經改質，亦可使用經醛類改質的聚乙烯縮甲醛、聚乙烯縮醛等。聚乙烯醇系樹脂的聚合度通常為1000以上且10000以下，較佳為1500以上且5000以下。
作為吸附有二色性色素的延伸層的偏光片層通常可經過如下步驟來製造：將含有所述聚乙烯醇系樹脂的塗佈液塗佈於基材膜上的步驟；將所得的積層膜單軸延伸的步驟；藉由利用二色性色素對經單軸延伸的積層膜的聚乙烯醇系樹脂層進行染色來吸附該二色性色素而製成偏光片層的步驟；利用硼酸水溶液對吸附有二色性色素的膜進行處理的步驟；以及於利用硼酸水溶液進行處理後進行水洗的步驟。用於形成偏光片層的基材膜可用作偏光片層的保護層。根據需要，可自偏光片層剝離去除基材膜。基材膜的材料及厚度可與後述的熱塑性樹脂膜的材料及厚度相同。
作為吸附有二色性色素的延伸膜或延伸層的偏光片層可直接用作直線偏光片層，亦可於其一面或兩面形成保護層來用作直線偏光片層。作為保護層，可使用後述的熱塑性樹脂膜。所獲得的直線偏光片層的厚度較佳為2 μm以上且40 μm以下。
熱塑性樹脂膜例如可列舉：環狀聚烯烴系樹脂膜；包含三乙醯纖維素、二乙醯纖維素等樹脂的乙酸纖維素系樹脂膜；包含聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯等樹脂的聚酯系樹脂膜；聚碳酸酯系樹脂膜；(甲基)丙烯酸系樹脂膜；聚丙烯系樹脂膜等本領域公知的膜。偏光片層與保護層可經由後述的貼合層而積層。
就薄型化的觀點而言，熱塑性樹脂膜的厚度通常為100 μm以下，較佳為80 μm以下，更佳為60 μm以下，進而佳為40 μm以下，進一步較佳為30 μm以下，另外通常為5 μm以上，較佳為10 μm以上。
可於熱塑性樹脂膜上形成硬塗層。硬塗層可形成於熱塑性樹脂膜的一個面，亦可形成於兩面。藉由設置硬塗層，可製成提高了硬度及耐劃痕性的熱塑性樹脂膜。硬塗層可與形成於所述樹脂膜的硬塗層同樣地形成。
（作為液晶層的偏光片層） 用於形成液晶層的聚合性液晶化合物為具有聚合性反應基且顯示出液晶性的化合物。聚合性反應基是參與聚合反應的基，較佳為光聚合性反應基。光聚合性反應基是指藉由自光聚合起始劑產生的活性自由基或酸等而能夠參與聚合反應的基。作為光聚合性官能基，可列舉乙烯基、乙烯基氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯醯基氧基、甲基丙烯醯基氧基、氧雜環丙烷基、氧雜環丁烷基等。其中，較佳為丙烯醯基氧基、甲基丙烯醯基氧基、乙烯基氧基、氧雜環丙烷基及氧雜環丁烷基，更佳為丙烯醯基氧基。聚合性液晶化合物的種類並無特別限定，可使用棒狀液晶化合物、圓盤狀液晶化合物及該些的混合物。聚合性液晶化合物的液晶性可為熱致（thermotropic）性液晶亦可為溶致（lyotropic）性液晶，作為相秩序結構，可為向列液晶亦可為層列液晶。
關於作為液晶層的偏光片層中可使用的二色性色素，較佳為於300 nm～700 nm的範圍內具有最大吸收波長（λMAX）。作為此種二色性色素，例如可列舉吖啶色素、噁嗪色素、花青色素、萘色素、偶氮色素及蒽醌色素等，其中較佳為偶氮色素。作為偶氮色素，可列舉單偶氮色素、雙偶氮色素、三偶氮色素、四偶氮色素及二苯乙烯偶氮色素等，較佳為雙偶氮色素及三偶氮色素。二色性色素可為單獨，亦可組合兩種以上，較佳為組合三種以上。尤其更佳為組合三種以上的偶氮化合物。二色性色素的一部分可具有反應性基，另外亦可具有液晶性。
作為液晶層的偏光片層例如可藉由於形成於基材膜上的配向膜上塗佈包含聚合性液晶化合物及二色性色素的偏光片層形成用組成物，使聚合性液晶化合物聚合並使其硬化而形成。亦可藉由於基材膜上塗佈偏光片層形成用組成物形成塗膜，並將該塗膜與基材膜一起延伸，來形成偏光片層。用於形成偏光片層的基材膜亦可用作偏光片層的保護層。基材膜的材料及厚度可與所述熱塑性樹脂膜的材料及厚度相同。
作為包含聚合性液晶化合物及二色性色素的偏光片層形成用組成物、以及使用了該組成物的偏光片層的製造方法，可例示日本專利特開2013-37353號公報、日本專利特開2013-33249號公報、日本專利特開2017-83843號公報等中記載者。偏光片層形成用組成物除了聚合性液晶化合物及二色性色素以外，亦可進而含有溶媒、聚合起始劑、交聯劑、調平劑、抗氧化劑、增塑劑、增感劑等添加劑。該些成分可分別僅使用一種，亦可組合兩種以上使用。
偏光片層形成用組成物可含有的聚合起始劑是可引發聚合性液晶化合物的聚合反應的化合物，就可於更低的溫度條件下引發聚合反應的方面而言，較佳為光聚合起始劑。具體而言，可列舉藉由光的作用而可產生活性自由基或酸的光聚合起始劑，其中，較佳為藉由光的作用而產生自由基的光聚合起始劑。相對於聚合性液晶化合物的總量100質量份，聚合起始劑的含量較佳為1質量份以上且10質量份以下，更佳為3質量份以上且8質量份以下。於為該範圍內時，聚合性基的反應充分進行，且容易使液晶化合物的配向狀態穩定化。
作為液晶層的偏光片層的厚度通常為10 μm以下，較佳為0.5 μm以上且8 μm以下，更佳為1 μm以上且5 μm以下。
作為液晶層的偏光片層可不剝離去除基材膜而作為直線偏光片層使用，亦可將基材膜自偏光片層剝離去除而作為直線偏光片層使用。作為液晶層的偏光片層亦可於其一面或兩面形成保護層而作為直線偏光片層使用。作為保護層，可使用所述熱塑性樹脂膜。
關於作為液晶層的偏光片層，可於其一面或兩面具有外塗層。外塗層可為了保護偏光片層等而設置。外塗層例如可藉由於偏光片層上塗佈用於形成外塗層的材料（組成物）而形成。作為構成外塗層的材料，例如可列舉光硬化性樹脂、水溶性聚合物等。作為構成外塗層的材料，可使用(甲基)丙烯酸系樹脂、聚乙烯醇系樹脂等。
（相位差層） 圓偏光板中，相位差層可為一層，亦可為兩層以上。相位差層可具有保護其表面的外塗層、支撐相位差層的基材膜等。相位差層包括λ/4層，進而可包括λ/2層或正（positive）C層中的至少任一者。於相位差層包括λ/2層的情況下，自直線偏光片層側起依次積層λ/2層及λ/4層。於相位差層包括正C層的情況下，可自直線偏光片層側起依次積層λ/4層及正C層，亦可自直線偏光片層側起依次積層正C層及λ/4層。相位差層的厚度例如為0.1 μm以上且10 μm以下，較佳為0.5 μm以上且8 μm以下，更佳為1 μm以上且6 μm以下。
相位差層可由作為保護層的材料例示的樹脂膜形成，亦可由聚合性液晶化合物硬化而成的層形成。相位差層可進而包含配向膜。相位差層亦可具有用於貼合λ/4層、與λ/2層及正C層的貼合層。
於相位差層由聚合性液晶化合物硬化而成的層形成的情況下，可藉由將含有聚合性液晶化合物的組成物塗佈於基材膜並使其硬化而形成。亦可於基材膜與塗佈層之間形成配向層。基材膜的材料及厚度可與所述熱塑性樹脂膜的材料及厚度相同。於相位差層由聚合性液晶化合物硬化而成的層形成的情況下，亦可以具有配向層及基材膜的形態組裝於光學積層體中。相位差層可經由貼合層與直線偏光片層貼合。
（貼合層） 貼合層是由黏著劑組成物或接著劑組成物構成的層。作為貼合層的材料的黏著劑組成物可適用關於構成第一黏著劑層21的黏著劑組成物的所述說明。
關於作為貼合層的材料的接著劑組成物，例如可將水系接著劑、活性能量線硬化型接著劑等中的一種或兩種以上組合而形成。作為水系接著劑，例如可列舉聚乙烯醇系樹脂水溶液、水系二液型胺基甲酸酯系乳液接著劑等。活性能量線硬化型接著劑是藉由照射紫外線等活性能量線而硬化的接著劑，例如可列舉含有聚合性化合物及光聚合起始劑的接著劑、含有光反應性樹脂的接著劑、含有黏合劑樹脂及光反應性交聯劑的接著劑等。作為所述聚合性化合物，可列舉光硬化性環氧系單體、光硬化性丙烯酸系單體、光硬化性胺基甲酸酯系單體等光聚合性單體、以及源自該些單體的寡聚物等。作為所述光聚合起始劑，可列舉含有照射紫外線等活性能量線而產生中性自由基、陰離子自由基、陽離子自由基等活性種的物質的化合物。
貼合層的厚度例如可為1 μm以上，較佳為1 μm以上且25 μm以下，更佳為2 μm以上且15 μm以下，進而佳為2.5 μm以上且5 μm以下。
（前面板） 偏光積層體10可包括前面板，亦可不包括前面板。前面板只要是能夠透過光的板狀體，則材料及厚度並無限定，另外可僅包含一層，亦可包含兩層以上。作為前面板，可列舉樹脂製的板狀體（例如樹脂板、樹脂片、樹脂膜等）、玻璃製的板狀體（例如玻璃板、玻璃膜等）。前面板可構成顯示裝置的最表面。
前面板的厚度例如可為10 μm以上且500 μm以下，較佳為30 μm以上且200 μm以下，更佳為40 μm以上且100 μm以下，亦可為50 μm以上。
於前面板為樹脂製的板狀體的情況下，樹脂製的板狀體只要能夠透過光，則並無限定。作為構成樹脂膜等樹脂製的板狀體的樹脂，例如可列舉由三乙醯纖維素、乙醯纖維素丁酸酯、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、丙醯纖維素、丁醯纖維素、乙醯丙醯纖維素、聚酯、聚苯乙烯、聚醯胺、聚醚醯亞胺、聚(甲基)丙烯酸、聚醯亞胺、聚醚碸、聚碸、聚乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚乙烯醇、聚乙烯縮醛、聚醚酮、聚醚醚酮、聚醚碸、聚甲基丙烯酸甲酯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚醯胺醯亞胺等高分子形成的膜。該些高分子可單獨使用或混合兩種以上使用。就提高強度及透明性的觀點而言，樹脂膜較佳為由聚醯亞胺、聚醯胺、聚醯胺醯亞胺等高分子形成。
前面板較佳為樹脂膜或於樹脂膜包括硬塗層的樹脂膜。硬塗層可形成於樹脂膜的一個面，亦可形成於兩面。藉由設置硬塗層，可製成提高了硬度及耐劃痕性的樹脂膜。硬塗層例如是紫外線硬化型樹脂的硬化層。作為紫外線硬化型樹脂，例如可列舉丙烯酸系樹脂、矽酮系樹脂、聚酯系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、醯胺系樹脂、環氧系樹脂等。為了提高強度，硬塗層可含有添加劑。添加劑並無限定，可列舉無機系微粒子、有機系微粒子、或者該些的混合物。於在樹脂膜的兩面具有硬塗層的情況下，各硬塗層的組成、厚度可彼此相同，亦可彼此不同。
於前面板為玻璃板的情況下，玻璃板可較佳地使用顯示器用強化玻璃。玻璃板的厚度例如可為10 μm以上且1000 μm以下，亦可為50 μm以上。藉由使用玻璃板，可構成具有優異的機械強度及表面硬度的前面板。
於光學積層體100用於顯示裝置的情況下，前面板可為不僅僅具有保護顯示裝置的前面（畫面）的功能（作為視窗膜的功能），亦具有作為觸控感測器的功能、藍光截止功能、視角調整功能等者。
（觸控感測器面板） 偏光積層體10亦可進而包括觸控感測器面板。作為包括觸控感測器面板的偏光積層體10，例如可列舉依次具有前面板、圓偏光板及觸控感測器的偏光積層體。觸控感測器面板只要是具有能夠檢測出被觸控的位置的感測器（即觸控感測器）的面板，則並無限定。觸控感測器的檢測方式並無限定，可例示：電阻膜方式、靜電電容耦合方式、光感測器方式、超音波方式、電磁感應耦合方式、表面聲波方式等的觸控感測器面板。就成本低的方面而言，可較佳地使用電阻膜方式、靜電電容耦合方式的觸控感測器面板。
作為電阻膜方式的觸控感測器的一例，可列舉包括彼此相向配置的一對基板、夾持於該些一對基板之間的絕緣性間隔物、於各基板的內側的前面作為電阻膜設置的透明導電膜、以及觸控位置檢測電路的構件。於設置有電阻膜方式的觸控感測器的圖像顯示裝置中，若觸控前面板的表面，則相向的電阻膜短路，電流於電阻膜中流動。觸控位置檢測電路檢測此時的電壓變化，從而檢測出被觸控的位置。
作為靜電電容耦合方式的觸控感測器的一例，可列舉包括基板、設置於基板的整個面的位置檢測用透明電極、以及觸控位置檢測電路的構件。於設置有靜電電容耦合方式的觸控感測器的圖像顯示裝置中，若觸控前面板的表面，則於被觸控的點，透明電極經由人體的靜電電容而接地。觸控位置檢測電路檢測透明電極的接地，從而檢測出被觸控的位置。
觸控感測器面板的厚度例如可為5 μm以上且2000 μm以下，較佳為5 μm以上且100 μm以下，進而佳為5 μm以上且50 μm以下。
觸控感測器面板可為於基材膜上形成有觸控感測器的圖案的構件。基材膜的例示可與所述熱塑性樹脂膜的說明中的例示相同。觸控感測器圖案的厚度例如可為1 μm以上且20 μm以下。
[光學積層體的製造方法] 光學積層體100可藉由包括貼合各層的步驟的方法來製造。可經過於先構成偏光積層體10後於其第一表面及第二表面設置黏著劑層的步驟來製造，亦可經過於具有形成偏光積層體的第一表面的表面的前驅物預先設置黏著劑層的步驟、或者於具有形成偏光積層體的第二表面的表面的前驅物預先設置黏著劑層的步驟、積層前驅物的步驟來製造具有偏光積層體10的光學積層體100。
[顯示裝置的用途] 本發明的顯示裝置可用作智慧型手機、輸入板等行動設備、電視機、數位相框（digital photo frame）、電子看板、測定器或儀表類、辦公用設備、醫療設備、電腦設備等。 [實施例]
以下，列舉實施例來更詳細地說明本發明，但本發明並不限定於該些實施例。
[偏光積層體的構成要素的準備] （具有作為液晶層的偏光片層的液晶型偏光板） 於厚度25 μm的三乙醯纖維素（Triacetyl Cellulose，TAC）膜的一面塗佈配向膜組成物，進行乾燥及偏光曝光，而形成配向膜。於配向膜上塗佈含有液晶聚合性化合物及染料的液晶組成物，進行乾燥。藉由紫外線照射進行硬化，而形成作為液晶層的偏光片層，從而獲得了液晶型偏光板。
（具有作為延伸層的偏光片層的延伸型偏光板） 藉由一邊對聚乙烯醇（polyvinylalcohol，PVA）膜進行單軸延伸，一邊浸漬於含有碘的溶液中進行染色後，浸漬於含有硼酸的溶液中使其交聯並進行乾燥，而獲得了偏光片層。於偏光片層的一面利用接著劑貼附厚度13 μm的包含環烯烴聚合物（Cycloolefin Polymer，COP）的透明膜，而獲得了延伸型偏光板。
（1/4波長板） 於聚對苯二甲酸乙二酯（polyethylene terephthalate，PET）膜的一面塗佈配向膜組成物，進行乾燥及偏光曝光，而形成配向膜。於配向膜上塗佈含有聚合性液晶化合物的液晶組成物，進行乾燥。藉由紫外線照射進行硬化，而形成相位差層（1/4波長層），從而獲得了帶PET膜的1/4波長板。將包含配向膜及相位差層（1/4波長層）的積層體設為1/4波長板。
（1/2波長板） 於PET膜的一面塗佈配向膜組成物，進行乾燥及偏光曝光，而形成配向膜。於配向膜上塗佈含有聚合性液晶化合物的液晶組成物，進行乾燥。藉由紫外線照射進行硬化，而形成相位差層（1/2波長層），從而獲得了帶PET膜的1/2波長板。將包含配向膜及相位差層（1/2波長層）的積層體設為1/2波長板。
（正C層） 於PET膜的一面塗佈垂直配向膜組成物，進行乾燥及曝光，而形成配向膜。於配向膜上塗佈含有聚合性液晶化合物的液晶組成物，並進行乾燥。藉由紫外線照射進行硬化，而形成相位差層（正C層），從而獲得了帶PET膜的正C層。將包含配向膜及相位差層的積層體亦設為正C層。
（防反射用液晶型偏光板） 於液晶型偏光板的非TAC膜側的表面使用黏著劑來貼合帶PET膜的1/4波長板後，剝離PET膜。進而，於1/4波長板的表面使用黏著劑來貼合帶PET膜的正C相位差層後，剝離PET膜。於正C層的表面塗佈黏著劑組成物而形成黏著劑層（第一黏著劑層），從而獲得了帶黏著劑層的防反射用液晶型偏光板（圓偏光板）。
（防反射用延伸型偏光板） 於延伸型偏光板的非COP膜側的表面使用黏著劑層來貼合帶PET膜的1/2波長板後，剝離PET膜。進而，於1/2波長板的表面使用黏著劑來貼合帶PET膜的1/4波長板後，剝離PET膜。於1/4波長板的表面塗佈黏著劑組成物而形成黏著劑層（第一黏著劑層），從而獲得了帶黏著劑層的防反射用延伸型偏光板（圓偏光板）。
[實施例1] 於帶黏著劑層的防反射用液晶型偏光板的TAC表面貼合表面保護膜A（帶丙烯酸系黏著劑層（第二黏著劑層）的聚對苯二甲酸乙二酯（PET）膜、藤森工業股份有限公司、AY-4212），於黏著劑層面貼合脫模膜F（經脫模處理的厚度50 μm的PET）而製作實施例1的光學積層體。
＜各參數的測定＞ （180°剝離力A1及表面保護膜的厚度A2的測定） 自實施例1的光學積層體的整體結構以2.5 cm寬裁切測定用樣品。自裁切後的光學積層體剝離去除脫模膜，將黏著劑層（第一黏著劑層）的表面貼合於玻璃。將玻璃固定於拉力測定裝置（島津製作所股份有限公司製造的「AG-1S」）。將表面保護膜A的一部分剝離，並固定於拉力測定裝置的夾具。於25℃環境下，以3.0 m/min的速度、剝離角度為180°的方式剝離表面保護膜A，測定剝離力A1[gf/25 mm]。剝離的表面保護膜A使用接觸式膜厚測定裝置（尼康（Nikon）股份有限公司製造的「MS-5C」）測定厚度A2[μm]。表1中示出180°剝離力A1、表面保護膜的厚度A2、以及根據A1/A2算出的參數A的各值。
（180°剝離力B1及脫模膜的厚度B2的測定） 自實施例1的光學積層體的整體結構以2.5 cm寬裁切測定用樣品。自裁切後的光學積層體去除表面保護膜A，將有表面保護膜A的面貼合於玻璃。將玻璃固定於拉力測定裝置（島津製作所股份有限公司製造的「AG-1S」），將脫模膜F（第一基材膜）的一部分剝離，並固定於拉力測定裝置的夾具。於25℃環境下，以3.0 m/min的速度、剝離角度為180°的方式剝離脫模膜F，測定剝離力B1[gf/25 mm]。剝離的脫模膜F亦同樣地使用接觸式膜厚測定裝置（尼康（Nikon）股份有限公司製造的「MS-5C」）測定厚度B2[μm]。表1中示出180°剝離力B1、脫模膜的厚度B2、以及根據B1/B2算出的參數B的各值。
（剛性C的測定） 自實施例1的光學積層體的整體結構裁切2.54 cm寬、長8.89 cm的大小的測定用樣品。自該測定用樣品去除脫模膜F，將其作為評價積層體，使用剛性測定器（格利（Gurley）公司的彎曲剛度測試儀（Bending Stiffness Tester））測定評價積層體剛性C[格利單位]。表1中示出剛性C及（A/B）×C的計算值。
[實施例2] 除了使用表面保護膜B（帶丙烯酸系黏著劑層（第二黏著劑層）的PET膜、藤森工業股份有限公司、AY-638）來代替表面保護膜A以外，與實施例1同樣地製作實施例2的光學積層體，測定各參數。
[實施例3] 除了使用表面保護膜C（帶丙烯酸系黏著劑層（第二黏著劑層）的PET膜、藤森工業股份有限公司、AY（75）-638）來代替表面保護膜A以外，與實施例1同樣地製作實施例3的光學積層體，測定各參數。
[實施例4] 除了使用表面保護膜D（於厚度125 μm的PET（第二基材膜）塗佈黏著劑組成物而形成厚度15 μm的丙烯酸系黏著劑層（第二黏著劑層）者）來代替表面保護膜A以外，與實施例1同樣地製作實施例4的光學積層體，測定各參數。
[實施例5] 除了使用作為經脫模處理的厚度38 μm的PET的脫模膜G來代替脫模膜F以外，與實施例1同樣地製作實施例5的光學積層體，測定各參數。
[實施例6] 除了使用帶黏著劑層的防反射用延伸型偏光板來代替帶黏著劑層的防反射用液晶型偏光板以外，與實施例3同樣地製作實施例6的光學積層體，測定各參數。
[比較例1] 除了使用表面保護膜E（帶丙烯酸系黏著劑層（第二黏著劑層）的PET膜、藤森工業股份有限公司、AY（75）-4212）來代替表面保護膜A以外，與實施例1同樣地製作比較例1的光學積層體，測定各參數。
[比較例2] 除了使用帶黏著劑層的防反射用延伸型偏光板來代替帶黏著劑層的防反射用液晶型偏光板以外，與實施例5同樣地製作比較例2的光學積層體，測定各參數。
[剝離評價] 藉由將各實施例及比較例中製作的光學積層體以表面保護膜與吸附台接觸的方式載置並吸引而加以固定。將剝離帶貼附於脫模膜（第一基材膜）的角部分，自光學積層體表面以剝離角度為90°的方式掀起。將脫模膜自黏著劑層（第一黏著劑層）面分離的情況判定為正常剝離，將表面保護膜自偏光積層體表面剝離的情況判定為剝離不良（逆向剝離）。結果如表1所示。
[表1]
實施例1 實施例2 實施例3 實施例4 實施例5 實施例6 比較例1 比較例2
表面保護膜 （第二基材膜+第二黏著劑層） 剝離力A1（gf/25 mm） 15.5 26.8 27.2 28.1 15.5 14.1 14.1 15.5
表面保護膜的厚度A2（µm） 53 53 90 140 53 90 90 53
A（=A1/A2） 0.292 0.506 0.302 0.201 0.292 0.157 0.157 0.292
脫模膜 （第一基材膜） 剝離力B1（gf/25 mm） 8.7 8.7 8.7 8.7 5.5 8.7 8.7 5.5
脫模膜的厚度B2（µm） 50 50 50 50 38 50 50 38
B（=B1/B2） 0.174 0.174 0.174 0.174 0.145 0.174 0.174 0.145
評價積層體 （表面保護膜+偏光積層體+第一黏著劑層） 偏光積層體的種類 液晶型偏光板 液晶型偏光板 液晶型偏光板 液晶型偏光板 液晶型偏光板 延伸型偏光板 液晶型偏光板 延伸型偏光板
剛性C（格利單位） 500 600 900 1200 500 1100 850 350
（A/B）×C 840 1744 1563 1384 1010 990 765 707
剝離評價結果 正常剝離 正常剝離 正常剝離 正常剝離 正常剝離 正常剝離 剝離不良 剝離不良
10:偏光積層體 21:第一黏著劑層 22:第一基材膜 30:表面保護膜 31:第二黏著劑層 32:第二基材膜 100、100':光學積層體 200:顯示元件 300:顯示裝置
圖1是表示本發明的光學積層體的一例的概略剖面圖。
10:偏光積層體
21:第一黏著劑層
22:第一基材膜
30:表面保護膜
31:第二黏著劑層
32:第二基材膜
100、100':光學積層體
200:顯示元件
300:顯示裝置

Claims (6)

  1. 一種光學積層體，具有：偏光積層體；第一黏著劑層，積層於所述偏光積層體的第一表面；第一基材膜，積層於所述第一黏著劑層的與所述偏光積層體側為相反側的表面；第二黏著劑層，積層於所述偏光積層體的第二表面；以及第二基材膜，積層於所述第二黏著劑層的與所述偏光積層體側為相反側的表面，且 滿足下述式（1a）的關係： （A/B）×C≧800   （1a） [式（1a）中， A是於將所述偏光積層體與所述第二黏著劑層之間的180°剝離力設為A1[gf/25 mm]、且將所述第二基材膜與所述第二黏著劑層的合計厚度設為A2[μm]時，利用A1/A2算出的值， B是於將所述第一黏著劑層與所述第一基材膜之間的180°剝離力設為B1[gf/25 mm]、且將所述第一基材膜的厚度設為B2[μm]時，利用B1/B2算出的值， C設為將所述第一黏著劑層、所述偏光積層體、所述第二黏著劑層及所述第二基材膜依次積層而成的評價積層體的剛性[格利單位]]。
  2. 如請求項1所述的光學積層體，進一步滿足下述式（2a）的關係： （A/B）×C≦10000   （2a）。
  3. 如請求項1或請求項2所述的光學積層體，其中所述A滿足下述式（3a）的關係： 0.1≦A≦1   （3a）。
  4. 如請求項1至請求項3中任一項所述的光學積層體，其中所述B滿足下述式（4a）的關係： 0.08≦B≦0.8   （4a）。
  5. 如請求項1至請求項4中任一項所述的光學積層體，其中所述C滿足下述式（5a）的關係： 200≦C≦3000   （5a）。
  6. 一種顯示裝置的製造方法，包括： 第一基材膜剝離步驟，自如請求項1至請求項5中任一項所述的光學積層體剝離所述第一基材膜，使所述第一黏著劑層的表面露出；以及 貼合步驟，將所述第一黏著劑層的露出的所述表面貼合於顯示元件。
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