TW202128420A - 光學積層體及其製造方法 - Google Patents

Abstract

本發明的目的在於提供一種即使彎曲亦可抑制於液晶層中產生裂紋的光學積層體。本發明提供一種光學積層體，所述光學積層體依次包括前面板、第一黏著劑層、偏光板及第二黏著劑層，所述偏光板包括包含聚合性液晶化合物的硬化物的液晶層，於將為所述光學積層體的整周中的一部分、且遍及積層方向的側面作為對象側面時，若將所述對象側面中的所述第一黏著劑層的表面粗糙度設為Ra[μm]，則滿足下式（1a）的關係。 Ra≦10 μm   （1a）

Description

光學積層體及其製造方法

本發明是有關於一種光學積層體及其製造方法。

作為液晶顯示裝置或有機電致發光（EL（electroluminescence））顯示裝置等中可使用的偏光板，已知耐裂紋性優異的偏光板（專利文獻1）。 [現有技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2012-173588號公報

[發明所欲解決之課題] 包括包含聚合性液晶化合物的硬化物的液晶層的偏光板存在有於彎曲時液晶層中容易產生裂紋的問題。

本發明的目的在於提供一種即使彎曲亦可抑制於液晶層中產生裂紋的光學積層體及其製造方法。 [解決課題之手段]

本發明提供以下例示的光學積層體及其製造方法。 〔1〕一種光學積層體，依次包括前面板、第一黏著劑層、偏光板及第二黏著劑層， 所述偏光板包括包含聚合性液晶化合物的硬化物的液晶層， 於將為所述光學積層體的整周中的一部分、且遍及積層方向的側面作為對象側面時，若將所述對象側面中的所述第一黏著劑層的表面粗糙度設為Ra[μm]，則滿足下式（1a）的關係： Ra≦10 μm   （1a）。 〔2〕如〔1〕所述的光學積層體，其中所述偏光板自所述第一黏著劑層側向所述第二黏著劑層側依次包括直線偏光片層及相位差層， 所述相位差層包括所述液晶層。 〔3〕如〔2〕所述的光學積層體，其中所述相位差層包括作為所述液晶層的正C層。 〔4〕如〔1〕～〔3〕中任一項所述的光學積層體，其中所述光學積層體能夠沿著彎曲軸彎曲， 所述對象側面包括與所述彎曲軸交差的側面。 〔5〕一種光學積層體的製造方法，是製造如〔1〕～〔4〕中任一項所述的光學積層體的方法，且所述光學積層體的製造方法包括： 準備依次包括前面板、第一黏著劑層、偏光板及第二黏著劑層的光學積層膜的步驟；以及 藉由雷射光切斷所述光學積層膜而形成所述對象側面的步驟。 [發明的效果]

根據本發明，可提供一種即使彎曲亦可抑制裂紋的產生的光學積層體及其製造方法。

以下，參照圖式說明本發明的實施方式，但本發明並不限定於以下的實施方式。於以下的所有圖式中，為了使各結構要素容易理解而適當調整比例尺來表示，圖式中所示的各結構要素的比例尺與實際的結構要素的比例尺未必一致。

＜光學積層體＞ 圖1是表示本發明的光學積層體的一例的概略剖面圖。圖1所示的光學積層體100依次包括前面板101、第一黏著劑層102、偏光板103及第二黏著劑層104。偏光板103包括包含聚合性液晶化合物的硬化物的液晶層。再者，於本說明書中，所謂液晶層，是指含有聚合性液晶化合物的硬化物的層，且不需要顯示出液晶性。光學積層體100亦可具有貼合於第二黏著劑層104的表面的剝離膜105。光學積層體100亦可具有貼合於第二黏著劑層104的表面的背面板。

將作為光學積層體100的整周中的一部分、且遍及積層方向的側面作為對象側面100a。於對象側面100a中，若將第一黏著劑層102的側面102a的表面粗糙度設為Ra[μm]，則第一黏著劑層102的側面102a滿足下式（1a）的關係，較佳為滿足下式（1b）的關係。將表面粗糙度Ra設為根據實施例中記載的方法測定的值。 Ra≦10 μm   （1a） Ra≦6 μm   （1b）

於對象側面100a中，第一黏著劑層102的側面102a較佳為滿足下式（2a）的關係，進而佳為滿足下式（2b）的關係。 Ra≧1 μm   （2a） Ra≧2 μm   （2b）

對象側面100a只要是光學積層體100的整周中的至少一部分即可，若包括第一黏著劑層102的側面102a，則可為任意部位中的任意大小。對象側面100a亦可為光學積層體100的整周。光學積層體100可於光學積層體的主面方向上具有彎曲軸，光學積層體100能夠沿著彎曲軸彎曲。對象側面較佳為包括與彎曲軸交差的側面。所謂光學積層體的主面，是指與光學積層體的厚度方向垂直的面。

對象側面100a中的第一黏著劑層102的側面102a可於積層第一黏著劑層102之前形成於第一黏著劑層102，亦可於將積層有第一黏著劑層102的光學積層膜切斷時或切斷後形成。

第一黏著劑層102的側面102a較佳為藉由對光學積層膜照射雷射光而形成。藉由雷射光的照射，第一黏著劑層102開始熔融，於第一黏著劑層102完全熔融之前施加切斷等力，可形成滿足式（1a）及式（2a）的關係的側面102a。關於雷射光，可根據構成光學積層膜的層的材質及厚度等選擇適當的雷射光，例如可使用放射200 nm～11 μm的範圍的波長的雷射。雷射可為連續波（continuous wave，CW）雷射，亦可為脈衝雷射。雷射光的種類可列舉CO₂ 雷射等氣體雷射、釔鋁石榴石（yttrium aluminum garnet，YAG）雷射等固體雷射、半導體雷射。就適合於對光學積層膜的吸收區域的切斷性及低費用的觀點而言，所使用的雷射較佳為CO₂ 雷射。第一黏著劑層102的側面102a的表面粗糙度Ra可根據切斷方法、切斷條件進行調整。於使用CO₂ 雷射光的情況下，第一黏著劑層102的側面102a的表面粗糙度Ra可根據雷射光的入射方向、焦點深度、輸出條件、移動速度、焦點位置進行調整。

雷射光可自光學積層膜的前面板101側入射，亦可自第二黏著劑層104側入射。較佳為使雷射光自前面板101側入射。

雷射光的照射條件（輸出條件、移動速度）可根據所使用的雷射而採用任意的適當的條件。於使用CO₂ 雷射的情況下，輸出條件較佳為1 W以上且100 W以下，更佳為2 W以上且60 W以下，進而佳為4 W以上且10 W以下。移動速度較佳為30 mm/秒以上且1000 mm/秒以下，更佳為100 mm/秒以上且500 mm/秒以下，進而佳為250 mm/秒以上且400 mm/秒以下。於藉由透鏡會聚雷射光的情況下，雷射光的焦點可對準光學積層膜的前面板101側的表面，亦可對準第一黏著劑層102的內部。若採用所述雷射光的照射條件，則第一黏著劑層102的側面102a的表面粗糙度Ra容易被調整為規定的範圍。

對於光學積層體100，可於使用切割器、剪切刀等將光學積層膜切斷成規定的形狀後，對切斷面照射雷射光而形成第一黏著劑層102的側面102a，但較佳為對光學積層膜照射雷射光，藉由相同的步驟進行切斷與側面102a的形成。此時，光學積層體100的對象側面100a成為利用雷射光所得的切斷面。

關於光學積層體100，若偏光板103包括液晶層，則該液晶層容易沿著彎曲軸產生裂紋。然而，於本發明中，研究到：對象側面100a中的第一黏著劑層102的側面102a滿足式（1a）的關係，因此即使以該對象側面100a與彎曲軸交差的方式使光學積層體100彎曲，亦可抑制裂紋的產生，於第一黏著劑層102的側面102a滿足式（1a）的關係的情況下，即使以對象側面100a與彎曲軸交差的方式使光學積層體100彎曲，亦可避免應力集中於包含聚合性液晶化合物的硬化物的液晶層（尤其是作為液晶層的相位差層）的側面，可抑制裂紋的產生。

所謂裂紋，是指於光學積層體100的至少一層產生的龜裂，容易於偏光板103中所含的液晶層中產生。於偏光板103包括多個液晶層的情況下，存在該液晶層的厚度越薄，越容易產生裂紋的傾向。裂紋的產生可藉由利用光學顯微鏡的觀察來判別。

作為偏光板103中所含的液晶層，例示了直線偏光片層、相位差層等，作為相位差層，例示了正C層、λ/4層、λ/2層或者該些的組合等。偏光板103只要是包括至少一個液晶層的結構即可，亦可為包括多個液晶層的結構。於偏光板103包括正C層作為液晶層的情況下，存在有於正C層中容易產生裂紋的傾向。正C層通常厚度薄，認為這是容易產生裂紋的理由之一。根據本發明，即使是包括包含正C層作為液晶層的偏光板103的光學積層體100，亦可抑制裂紋的產生。

於本說明書中，彎曲包括在彎曲部分形成有曲面的彎折的形態，彎折的內表面的彎曲半徑並無特別限定。另外，彎曲亦包括內表面的屈折角大於0度且未滿180度的屈折、以及內表面的彎曲半徑近似為零或內表面的屈折角為0度的折疊。

光學積層體100的厚度根據對光學積層體所要求的功能及光學積層體的用途等而不同，因此並無特別限定，例如為20 μm以上且2000 μm以下，較佳為50 μm以上且1000 μm以下，更佳為100 μm以上且500 μm以下。

光學積層體100的俯視形狀例如可為方形形狀，較佳為具有長邊與短邊的方形形狀，更佳為長方形。於光學積層體100的面方向的形狀為長方形的情況下，長邊的長度例如可為10 mm以上且1400 mm以下，較佳為50 mm以上且600 mm以下。短邊的長度例如為5 mm以上且800 mm以下，較佳為30 mm以上且500 mm以下，更佳為50 mm以上且300 mm以下。對於構成光學積層體100的各層，可對角部進行R加工，或者對端部進行切口加工，或者進行穿孔加工。

光學積層體100例如可用於顯示裝置等。顯示裝置並無特別限定，例如可列舉：有機電致發光（有機EL（electroluminescence））顯示裝置、無機電致發光（無機EL）顯示裝置、液晶顯示裝置、電場發光顯示裝置等。光學積層體100適於能夠彎曲的具有可撓性的顯示裝置。

以下，對構成光學積層體100的各層進行詳述。

[前面板] 前面板101只要是能夠透過光的板狀體，則材料及厚度並無限定。前面板可僅包含一層，亦可包含兩層以上。作為前面板101，可列舉樹脂製的板狀體（例如樹脂板、樹脂片、樹脂膜等）、玻璃製的板狀體（例如玻璃板、玻璃膜等）、樹脂製的板狀體與玻璃製的板狀體的積層體。前面板101可構成顯示裝置的最表面。

前面板101的厚度例如可為30 μm以上且500 μm以下，較佳為40 μm以上且200 μm以下，更佳為50 μm以上且100 μm以下。於本發明中，構成光學積層體100的各層的厚度可根據後述的實施例中說明的厚度測定方法進行測定。

於前面板101為樹脂製的板狀體的情況下，樹脂製的板狀體只要能夠透過光，則並無限定。作為構成樹脂製的板狀體的樹脂，例如可列舉三乙醯纖維素、乙醯纖維素丁酸酯、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、丙醯纖維素、丁醯纖維素、乙醯丙醯纖維素、聚酯、聚苯乙烯、聚醯胺、聚醚醯亞胺、聚(甲基)丙烯酸、聚醯亞胺、聚醚碸、聚碸、聚乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚乙烯醇、聚乙烯縮醛、聚醚酮、聚醚醚酮、聚醚碸、聚甲基丙烯酸甲酯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚醯胺醯亞胺等高分子。該些高分子可單獨使用或混合兩種以上使用。就提高強度及透明性的觀點而言，樹脂製的板狀體較佳為由聚醯亞胺、聚醯胺、聚醯胺醯亞胺等高分子形成的樹脂膜。

就硬度的觀點而言，前面板101可為包括硬塗層的樹脂膜。硬塗層可形成於樹脂膜的一個面，亦可形成於兩面。藉由設置硬塗層，可提高硬度及耐劃痕性。硬塗層例如是紫外線硬化型樹脂的硬化層。作為紫外線硬化型樹脂，例如可列舉丙烯酸系樹脂、矽酮系樹脂、聚酯系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、醯胺系樹脂、環氧系樹脂等。為了提高強度，硬塗層可含有添加劑。添加劑並無特別限定，可列舉無機系微粒子、有機系微粒子、或者該些的混合物。於在樹脂膜的兩面具有硬塗層的情況下，各硬塗層的組成、厚度可彼此相同，亦可彼此不同。

於前面板101為玻璃板的情況下，玻璃板可較佳地使用顯示器用強化玻璃。玻璃板的厚度例如可為20 μm以上且1000 μm以下。藉由使用玻璃板，可構成具有優異的機械強度及表面硬度的前面板101。

於光學積層體100用於顯示裝置的情況下，前面板101可為不僅僅具有保護顯示裝置的前面（畫面）的功能（作為視窗膜的功能），亦具有作為觸控感測器的功能、藍光截止功能、視角調整功能等者。

[第一黏著劑層] 第一黏著劑層102介隔存在於前面板101與偏光板103之間，並將它們貼合。第一黏著劑層102可包含一層，亦可包含兩層以上，較佳為包含一層。

第一黏著劑層102可包含以(甲基)丙烯酸系樹脂、橡膠系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、酯系樹脂、矽酮系樹脂、聚乙烯醚系樹脂為主成分（原料聚合物）的黏著劑組成物。作為構成第一黏著劑層102的黏著劑組成物，較佳為以透明性、耐候性、耐熱性等優異的(甲基)丙烯酸系樹脂為原料聚合物的黏著劑組成物。黏著劑組成物可為活性能量線硬化型或熱硬化型。

作為黏著劑組成物中可使用的(甲基)丙烯酸系樹脂，可較佳地使用將(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等(甲基)丙烯酸酯的一種或兩種以上作為單體的聚合物或共聚物。較佳為使極性單體與原料聚合物共聚。作為極性單體，可列舉(甲基)丙烯酸化合物、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯化合物、(甲基)丙烯酸羥基乙酯化合物、(甲基)丙烯醯胺化合物、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯化合物、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯化合物等具有羧基、羥基、醯胺基、胺基、環氧基等的單體。

黏著劑組成物可僅含有所述原料聚合物，但通常進而含有交聯劑。作為交聯劑，可例示：與羧基之間形成羧酸金屬鹽的二價以上的金屬離子；與羧基之間形成醯胺鍵的多胺化合物；與羧基之間形成酯鍵的聚環氧化合物或多元醇；與羧基之間形成醯胺鍵的聚異氰酸酯化合物。交聯劑較佳為聚異氰酸酯化合物。

活性能量線硬化型黏著劑組成物具有受到紫外線或電子束之類的活性能量線的照射而硬化的性質，且具有即使在活性能量線照射前亦有黏著性而可與膜等被黏物密接，且可藉由活性能量線的照射而硬化，從而調整密接力的性質。活性能量線硬化型黏著劑組成物較佳為紫外線硬化型。活性能量線硬化型黏著劑組成物除了原料聚合物、交聯劑以外，進而含有活性能量線聚合性化合物。根據需要，亦可含有光聚合起始劑、光增感劑等。

作為活性能量線聚合性化合物，例如可列舉：分子內具有至少一個(甲基)丙烯醯氧基的(甲基)丙烯酸酯單體；使兩種以上含官能基的化合物反應而得且分子內具有至少兩個(甲基)丙烯醯氧基的(甲基)丙烯酸酯寡聚物等含(甲基)丙烯醯氧基的化合物等(甲基)丙烯酸系化合物、分子內具有至少兩個苯甲醯基苯基甲基丙烯醯基的化合物。相對於黏著劑組成物的固體成分100質量份，黏著劑組成物可包含0.1質量份以上的活性能量線聚合性化合物，可包含10質量份以下、5質量份以下或2質量份以下的活性能量線聚合性化合物。

苯甲醯基苯基甲基丙烯醯基是指由以下的結構所表示的基。*表示鍵結鍵。活性能量線聚合性化合物的分子內所具有的苯甲醯基苯基甲基丙烯醯基的數量可為5以下，可為4以下。

[化1]

作為分子內具有至少兩個苯甲醯基苯基甲基丙烯醯基的化合物，例如可列舉以下的化合物。

[化2]

作為光聚合起始劑，例如可列舉二苯甲酮、苄基二甲基縮酮、1-羥基環己基酮等。光聚合起始劑可含有一種或兩種以上。於黏著劑組成物含有光聚合起始劑時，其總含量例如相對於黏著劑組成物的固體成分100質量份可為0.01質量份以上且3.0質量份以下。

黏著劑組成物可含有用於賦予光散射性的微粒子、珠（樹脂珠、玻璃珠等）、玻璃纖維、原料聚合物以外的樹脂、黏著性賦予劑、填充劑（金屬粉或其他無機粉末等）、抗氧化劑、紫外線吸收劑、染料、顏料、著色劑、消泡劑、防腐蝕劑、光聚合起始劑等添加劑。

第一黏著劑層102可藉由將所述黏著劑組成物的有機溶劑稀釋液塗佈於基材上並使其乾燥而形成。第一黏著劑層102亦可使用利用黏著劑組成物而形成的黏著片來形成。第一黏著劑層102亦可藉由將黏著劑組成物塗佈於前面板101或偏光板103的表面並使其乾燥而形成。作為黏著劑組成物的塗佈方法，例如可利用棒塗法、刮刀塗佈法、輥塗法、刮板塗佈法、模塗法、凹版塗佈法等。於使用活性能量線硬化型黏著劑組成物的情況下，藉由對所形成的黏著劑層照射活性能量線，可製成具有所期望的硬化度的黏著劑層。

第一黏著劑層102的厚度並無特別限定，例如較佳為1 μm以上且100 μm以下，更佳為3 μm以上且50 μm以下，亦可為10 μm以上，亦可為20 μm以上。

[偏光板] 偏光板103包括直線偏光片層。直線偏光片層可為液晶層，於該情況下，偏光板103可為包括直線偏光片層以外的其他液晶層的結構，亦可為不包括直線偏光片層以外的其他液晶層的結構。其他液晶層例如為相位差層。偏光板103例如可為直線偏光板、圓偏光板、橢圓偏光板等。圓偏光板包括直線偏光片層及相位差層，可吸收圖像顯示裝置中被反射的外部光，因此可對光學積層體100賦予作為防反射膜的功能。

偏光板103的厚度通常為5 μm以上，可為20 μm以上，亦可為25 μm以上，亦可為30 μm以上。另外，偏光板103的厚度較佳為80 μm以下，更佳為60 μm以下。

（直線偏光片層） 直線偏光片層具有自自然光等非偏光的光線選擇性地透過一個方向上的直線偏光的功能。以下，將直線偏光片層亦簡稱為偏光片層。偏光片層可為吸附有二色性色素的延伸膜或延伸層，亦可為液晶層，所述液晶層包含聚合性液晶化合物的硬化物及二色性色素且二色性色素於聚合性液晶化合物的硬化物中分散並配向。二色性色素是指具有分子的長軸方向上的吸光度與短軸方向上的吸光度不同的性質的色素。於偏光片層為液晶層的情況下，與吸附有二色性色素的延伸膜或延伸層的情況相比，於彎曲方向上並無限制，因此較佳。

（作為吸附有二色性色素的延伸膜或延伸層的偏光片層） 作為吸附有二色性色素的延伸膜的偏光片層通常可經過如下的步驟來製造：將聚乙烯醇系樹脂膜單軸延伸的步驟；藉由利用碘等二色性色素對聚乙烯醇系樹脂膜進行染色來吸附該二色性色素的步驟；利用硼酸水溶液對吸附有二色性色素的聚乙烯醇系樹脂膜進行處理的步驟；以及於利用硼酸水溶液進行處理後進行水洗的步驟。

偏光片層的厚度通常為30 μm以下，較佳為18 μm以下，更佳為15 μm以下。減薄偏光片層的厚度有利於偏光板103的薄膜化。偏光片層的厚度通常為1 μm以上，例如可為5 μm以上。

聚乙烯醇系樹脂可藉由將聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化而獲得。作為聚乙酸乙烯酯系樹脂，除了作為乙酸乙烯酯的均聚物的聚乙酸乙烯酯以外，還可使用乙酸乙烯酯和能夠與其共聚的其他單量體的共聚物。作為能夠與乙酸乙烯酯共聚的其他單量體，例如可列舉不飽和羧酸系化合物、烯烴系化合物、乙烯基醚系化合物、不飽和磺酸系化合物、具有銨基的(甲基)丙烯醯胺系化合物。

聚乙烯醇系樹脂的皂化度通常為85莫耳%以上且100莫耳%以下左右，較佳為98莫耳%以上。聚乙烯醇系樹脂可經改質，亦可使用經醛類改質的聚乙烯縮甲醛、聚乙烯縮醛等。聚乙烯醇系樹脂的聚合度通常為1000以上且10000以下，較佳為1500以上且5000以下。

作為吸附有二色性色素的延伸層的偏光片層通常可經過如下步驟來製造：將含有所述聚乙烯醇系樹脂的塗佈液塗佈於基材膜上的步驟；將所得的積層膜單軸延伸的步驟；藉由利用二色性色素對經單軸延伸的積層膜的聚乙烯醇系樹脂層進行染色來吸附該二色性色素而製成偏光片層的步驟；利用硼酸水溶液對吸附有二色性色素的膜進行處理的步驟；以及於利用硼酸水溶液進行處理後進行水洗的步驟。用於形成偏光片層的基材膜可用作偏光片層的保護層。根據需要，可自偏光片層剝離去除基材膜。基材膜的材料及厚度可與後述的熱塑性樹脂膜的材料及厚度相同。

作為吸附有二色性色素的延伸膜或延伸層的偏光片層可直接用作偏光板的結構要素，亦可於其一面或兩面形成保護層來用作偏光板的結構要素。作為保護層，可使用後述的熱塑性樹脂膜。

熱塑性樹脂膜例如可列舉：環聚烯烴系樹脂膜；包含三乙醯纖維素、二乙醯纖維素等樹脂的乙酸纖維素系樹脂膜；包含聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯等樹脂的聚酯系樹脂膜；聚碳酸酯系樹脂膜；(甲基)丙烯酸系樹脂膜；聚丙烯系樹脂膜等本領域公知的膜。偏光片層與保護層可經由後述的貼合層而積層。

就薄型化的觀點而言，熱塑性樹脂膜的厚度通常為100 μm以下，較佳為80 μm以下，更佳為60 μm以下，進而佳為40 μm以下，進一步較佳為30 μm以下，另外通常為5 μm以上，較佳為10 μm以上。

可於熱塑性樹脂膜上形成硬塗層。硬塗層可形成於熱塑性樹脂膜的一個面，亦可形成於兩面。藉由設置硬塗層，可製成提高了硬度及耐劃痕性的熱塑性樹脂膜。硬塗層可與形成於所述樹脂膜的硬塗層同樣地形成。

（作為液晶層的偏光片層） 用於形成液晶層的聚合性液晶化合物為具有聚合性反應基且顯示出液晶性的化合物。聚合性反應基是參與聚合反應的基，較佳為光聚合性反應基。光聚合性反應基是指藉由自光聚合起始劑產生的活性自由基或酸等而能夠參與聚合反應的基。作為光聚合性官能基，可列舉乙烯基、乙烯基氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯醯基氧基、甲基丙烯醯基氧基、氧雜環丙烷基、氧雜環丁烷基等。其中，較佳為丙烯醯基氧基、甲基丙烯醯基氧基、乙烯基氧基、氧雜環丙烷基及氧雜環丁烷基，更佳為丙烯醯基氧基。聚合性液晶化合物的種類並無特別限定，可使用棒狀液晶化合物、圓盤狀液晶化合物及該些的混合物。聚合性液晶化合物的液晶性可為熱致（thermotropic）性液晶亦可為溶致（lyotropic）性液晶，作為相秩序結構，可為向列液晶亦可為層列液晶。

關於作為液晶層的偏光片層中可使用的二色性色素，較佳為於300 nm～700 nm的範圍內具有最大吸收波長（λMAX）。作為此種二色性色素，例如可列舉吖啶色素、噁嗪色素、花青色素、萘色素、偶氮色素及蒽醌色素等，其中較佳為偶氮色素。作為偶氮色素，可列舉單偶氮色素、雙偶氮色素、三偶氮色素、四偶氮色素及二苯乙烯偶氮色素等，較佳為雙偶氮色素及三偶氮色素。二色性色素可為單獨，亦可組合兩種以上，較佳為組合三種以上。尤其更佳為組合三種以上的偶氮化合物。二色性色素的一部分可具有反應性基，另外亦可具有液晶性。

作為液晶層的偏光片層例如可藉由於形成於基材膜上的配向膜上塗佈包含聚合性液晶化合物及二色性色素的偏光片層形成用組成物，使聚合性液晶化合物聚合並使其硬化而形成。亦可藉由於基材膜上塗佈偏光片層形成用組成物形成塗膜，並將該塗膜與基材膜一起延伸，來形成偏光片層。用於形成偏光片層的基材膜亦可用作偏光片層的保護層。基材膜的材料及厚度可與所述熱塑性樹脂膜的材料及厚度相同。

作為包含聚合性液晶化合物及二色性色素的偏光片層形成用組成物、以及使用了該組成物的偏光片層的製造方法，可例示日本專利特開2013-37353號公報、日本專利特開2013-33249號公報、日本專利特開2017-83843號公報等中記載者。偏光片層形成用組成物除了聚合性液晶化合物及二色性色素以外，亦可進而含有溶媒、聚合起始劑、交聯劑、調平劑、抗氧化劑、增塑劑、增感劑等添加劑。該些成分可分別僅使用一種，亦可組合兩種以上使用。

偏光片層形成用組成物可含有的聚合起始劑是可引發聚合性液晶化合物的聚合反應的化合物，就可於更低的溫度條件下引發聚合反應的方面而言，較佳為光聚合起始劑。具體而言，可列舉藉由光的作用而可產生活性自由基或酸的光聚合起始劑，其中，較佳為藉由光的作用而產生自由基的光聚合起始劑。相對於聚合性液晶化合物的總量100質量份，聚合起始劑的含量較佳為1質量份以上且10質量份以下，更佳為3質量份以上且8質量份以下。於為該範圍內時，聚合性基的反應充分進行，且容易使液晶化合物的配向狀態穩定化。

作為液晶層的偏光片層的厚度通常為10 μm以下，較佳為0.5 μm以上且8 μm以下，更佳為1 μm以上且5 μm以下。

作為液晶層的偏光片層可不剝離去除基材膜而作為直線偏光板使用，亦可將基材膜自偏光片層剝離去除而作為直線偏光板使用。作為液晶層的偏光片層亦可於其一面或兩面形成保護層而作為直線偏光板使用。作為保護層，可使用所述熱塑性樹脂膜。

關於作為液晶層的偏光片層，為了保護偏光片層等，可於偏光片層的一面或兩面具有外塗層。外塗層例如可藉由於偏光片層上塗佈用於形成外塗層的材料（組成物）而形成。作為構成外塗層的材料，例如可列舉光硬化性樹脂、水溶性聚合物等。作為構成外塗層的材料，可使用(甲基)丙烯酸系樹脂、聚乙烯醇系樹脂等。

於偏光板103具有相位差層的情況下，偏光板103通常為自第一黏著劑層102側向第二黏著劑層104側依次具有直線偏光片層及相位差層的結構。構成偏光板103且與第一黏著劑層102接觸的最外層較佳為偏光片層的形成中使用的基材膜或保護層。

（相位差層） 相位差層可為一層，亦可為兩層以上。相位差層可構成為積層有保護其表面的外塗層、支撐相位差層的基材膜等而成的相位差積層體。於偏光板為圓偏光板的情況下，相位差層可列舉包括λ/4層、進而包括λ/2層或正C層中的至少任一者的結構。於相位差層包括λ/2層的情況下，自直線偏光片層側起依次積層λ/2層及λ/4層。於相位差層包括正C層的情況下，可自直線偏光片層側起依次積層λ/4層及正C層，亦可自直線偏光片層側起依次積層正C層及λ/4層。相位差層的厚度例如為0.1 μm以上且10 μm以下，較佳為0.5 μm以上且8 μm以下，更佳為1 μm以上且6 μm以下。

相位差層可由作為偏光板的保護層的材料而例示的樹脂膜形成，亦可為包含聚合性液晶化合物的硬化物的液晶層。相位差層亦可具有用於貼合λ/4層、與λ/2層或正C層的貼合層。

於使聚合性液晶化合物硬化而形成相位差層的情況下，相位差層可藉由將含有聚合性液晶化合物的組成物塗佈於基材膜並使其硬化而形成。可於基材膜與塗佈層之間形成配向層。基材膜的材料及厚度可與所述熱塑性樹脂膜的材料及厚度相同。於由使聚合性液晶化合物硬化而成的層形成相位差層的情況下，相位差層可以具有配向層及基材膜的相位差積層體的形態組裝於光學積層體中，亦可以具有配向膜的相位差積層體的形態組裝於光學積層體中。相位差層可經由貼合層與直線偏光板貼合。

[第二黏著劑層] 第二黏著劑層104貼合於偏光板103的與貼合有第一黏著劑層102的表面為相反側的表面。第二黏著劑層104可包含一層，亦可包含兩層以上，較佳為包含一層。

關於構成第二黏著劑層104的黏著劑組成物的組成及調配成分、黏著劑組成物的類型（是否為活性能量線硬化型或熱硬化型等）、黏著劑組成物中可調配的添加劑、第二黏著劑層的製作方法、第二黏著劑層的厚度等，與所述第一黏著劑層102的說明中所示者相同。第二黏著劑層104於黏著劑組成物的組成及調配成分、厚度等方面與第一黏著劑層102可相同亦可不同。可於第二黏著劑層104的表面貼合剝離膜105。

於對象側面100a中，就可進一步抑制裂紋的產生的觀點而言，第二黏著劑層104的側面的表面粗糙度Ra較佳為7 μm以下、進而佳為4 μm以下，較佳為1 μm以上、進而佳為2 μm以上。將表面粗糙度Ra設為根據實施例中記載的方法測定的值。

[貼合層] 光學積層體100可包括用以接合兩個層的貼合層。貼合層是包含黏著劑或接著劑的層。作為貼合層的材料的黏著劑可使用與構成所述第一黏著劑層102的黏著劑組成物相同的黏著劑組成物。貼合層亦可使用其他黏著劑、例如與構成第一黏著劑層102的黏著劑不同的(甲基)丙烯酸系黏著劑、苯乙烯系黏著劑、矽酮系黏著劑、橡膠系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑、聚酯系黏著劑、環氧系共聚物黏著劑等。

關於作為貼合層的材料的接著劑，例如可將水系接著劑、活性能量線硬化型接著劑等中的一種或兩種以上組合而形成。作為水系接著劑，例如可列舉聚乙烯醇系樹脂水溶液、水系二液型胺基甲酸酯系乳液接著劑等。活性能量線硬化型接著劑是藉由照射紫外線等活性能量線而硬化的接著劑，例如可列舉含有聚合性化合物及光聚合起始劑的接著劑、含有光反應性樹脂的接著劑、含有黏合劑樹脂及光反應性交聯劑的接著劑等。作為所述聚合性化合物，可列舉光硬化性環氧系單體、光硬化性丙烯酸系單體、光硬化性胺基甲酸酯系單體等光聚合性單體、以及源自該些單體的寡聚物等。作為所述光聚合起始劑，可列舉含有照射紫外線等活性能量線而產生中性自由基、陰離子自由基、陽離子自由基等活性種的物質的化合物。

貼合層的厚度例如可為1 μm以上，較佳為1 μm以上且25 μm以下，更佳為2 μm以上且15 μm以下，進而佳為2.5 μm以上且5 μm以下。

經由貼合層而貼合的相向的兩個表面可預先進行電暈處理、電漿處理、火焰處理等，亦可具有底塗層等。

[背面板] 作為背面板，可使用能夠透過光的板狀體或通常的顯示裝置中可使用的結構要素等。

背面板的厚度例如可為5 μm以上且2000 μm以下，較佳為10 μm以上且1000 μm以下，更佳為15 μm以上且500 μm以下。

作為背面板中可使用的板狀體，可僅包含一層，亦可包含兩層以上，可使用關於前面板101中敘述的板狀體而例示者。

作為背面板中使用的通常的顯示裝置中可使用的結構要素，例如可列舉觸控感測器面板、有機EL顯示元件等。

（觸控感測器面板） 觸控感測器面板只要是具有能夠檢測出被觸控的位置的感測器（即觸控感測器）的面板，則不受限定。觸控感測器的檢測方式不受限定，可例示：電阻膜方式、靜電電容耦合方式、光感測器方式、超音波方式、電磁感應耦合方式、表面聲波方式等的觸控感測器面板。就成本低的方面而言，可較佳地使用電阻膜方式、靜電電容耦合方式的觸控感測器面板。

作為電阻膜方式的觸控感測器的一例，可列舉包括彼此相向配置的一對基板、夾持於該些一對基板之間的絕緣性間隔物、於各基板的內側的前面作為電阻膜設置的透明導電膜、以及觸控位置檢測電路的構件。於設置有電阻膜方式的觸控感測器的圖像顯示裝置中，若觸控前面板的表面，則相向的電阻膜短路，電流於電阻膜中流動。觸控位置檢測電路檢測此時的電壓變化，從而檢測出被觸控的位置。

作為靜電電容耦合方式的觸控感測器的一例，可列舉包括基板、設置於基板的整個面的位置檢測用透明電極、以及觸控位置檢測電路的構件。於設置有靜電電容耦合方式的觸控感測器的圖像顯示裝置中，若觸控前面板的表面，則於被觸控的點，透明電極經由人體的靜電電容而接地。觸控位置檢測電路檢測透明電極的接地，從而檢測出被觸控的位置。

觸控感測器面板的厚度例如可為5 μm以上且2000 μm以下，較佳為5 μm以上且100 μm以下，進而佳為5 μm以上且50 μm以下。

觸控感測器面板可為於基材膜上形成有觸控感測器的圖案的構件。基材膜的例示可與所述熱塑性樹脂膜的說明中的例示相同。另外，觸控感測器面板亦可自基材膜經由黏著劑層轉印至被黏物。觸控感測器圖案的厚度例如可為1 μm以上且20 μm以下。

＜光學積層體的製造方法＞ 光學積層體的製造方法包括：準備依次包括前面板101、第一黏著劑層102、偏光板103及第二黏著劑層104的光學積層膜的步驟；以及藉由雷射光切斷所述光學積層膜而形成所述對象側面的步驟。所得的光學積層體是與所述光學積層體100相同的光學積層體。

光學積層膜具有與光學積層體100相同的層結構。構成光學積層膜的各層可藉由黏著劑層等貼合層貼合。於貼合時，為了提高密接性，較佳為對貼合面的一個面或兩個面實施電暈處理等表面活性化處理。

於藉由雷射光切斷光學積層膜時，自光學積層膜的前面板101側或相反側照射雷射光，切斷光學積層膜，而獲得光學積層體100。此時，同時形成有對象側面100a。雷射光的照射條件可設為所述＜光學積層體＞中記載的條件。

＜顯示裝置＞ 光學積層體100可於顯示裝置中使用。顯示裝置並無特別限定，例如可列舉有機EL顯示裝置、無機EL顯示裝置、液晶顯示裝置、電致發光顯示裝置等圖像顯示裝置。包括光學積層體100的顯示裝置可用作顯示出優異的彎曲耐久性且能夠彎曲或捲繞等的可撓性顯示器。

於構築顯示裝置時，光學積層體100例如可經由第二黏著劑層104貼合於顯示面板的可見側來使用。 [實施例]

以下，列舉實施例來更詳細地說明本發明，但本發明並不限定於該些實施例。

＜實施例1＞ （帶黏著劑層的前面板的製作） 作為前面板101，準備於基材膜的一面形成有硬塗層的厚度50 μm的視窗膜（基材膜40 μm、硬塗層10 μm、縱179 mm×橫106 mm），作為第一黏著劑層102，準備(甲基)丙烯酸系黏著劑層（厚度25 μm、縱179 mm×橫106 mm）。視窗膜的基材膜是聚醯亞胺系樹脂膜，硬塗層是由含有末端具有多官能丙烯酸基的樹枝狀聚合物化合物的組成物形成的層。然後，於對視窗膜的基材膜面、以及第一黏著劑層102的貼合於視窗膜的基材膜面的面進行電暈處理後，將視窗膜與第一黏著劑層102貼合，而獲得帶黏著劑層的前面板（包含前面板101與第一黏著劑層102的積層體）。於頻率：20 kHz、電壓：8.6 kV、功率：2.5 kW、速度：6 m/分鐘的條件下進行電暈處理。

（帶黏著劑層的圓偏光板的製作） 於光配向膜形成於厚度25 μm的三乙醯纖維素（Triacetyl Cellulose，TAC）膜後，將含有二色性色素與聚合性液晶化合物的組成物塗佈於光配向膜上，進行配向並使其硬化，而獲得厚度2.5 μm的直線偏光片層。於該直線偏光片層上塗佈丙烯酸系樹脂組成物並使其硬化，而獲得厚度1 μm的外塗層。於該外塗層上貼合包含使聚合性液晶化合物聚合並硬化而成的相位差層的相位差積層體（厚度16 μm、層結構：黏著劑層（厚度5 μm）/包含使液晶化合物硬化而成的相位差層及配向膜的λ/4板（厚度3 μm）/黏著劑層（厚度5 μm）/包含使液晶化合物硬化而成的相位差層及配向膜的正C層（厚度3 μm））。獲得以所述方式製作的圓偏光板（「TAC/直線偏光片層/相位差積層體」的層結構，厚度44.5 μm，縱179 mm×橫106 mm）。然後，於對圓偏光板的相位差積層體側的表面、以及預先準備的第二黏著劑層104（使用與第一黏著劑層102相同者）的貼合於圓偏光板的面進行電暈處理後，貼合圓偏光板與黏著劑層，而獲得帶黏著劑層的圓偏光板（包含偏光板103與第二黏著劑層104的積層體）。於第二黏著劑層104的與圓偏光板為相反側的表面保持貼合有剝離膜105的狀態。

（光學積層體的製作） 對帶黏著劑層的前面板的黏著劑層（第一黏著劑層102）的面、以及帶黏著劑層的圓偏光板的TAC面實施電暈處理，以實施了電暈處理的面成為內側的方式積層帶黏著劑層的前面板與帶黏著劑層的圓偏光板，使用輥貼合機進行貼合，而獲得光學積層膜。對於所得的光學積層膜，自前面板101側照射CO₂ 雷射光（萊泰科（LPTECH）公司製造，萊泰勒（LPTSLC）-M，連續波振盪），切斷成20 mm×100 mm的大小，而獲得光學積層體100（前面板101/第一黏著劑層102/偏振板103（TAC/直線偏光片層/相位差積層體）/第二黏著劑層104/剝離膜105）。光學積層體的俯視形狀為方形形狀，利用雷射光所得的切斷面遍及整周而構成側面。雷射光利用透鏡會聚，焦點對準光學積層體的前面板101側的表面。雷射光的照射於表1中記載的移動速度條件及輸出條件下進行。關於以所述方式獲得的各實施例及各比較例的光學積層體，利用後述的方法測定對象側面中的第一黏著劑層及第二黏著劑層的表面粗糙度Ra。

（顯示積層體的模擬成形體的準備） 由聚醯亞胺系樹脂組成物形成樹脂成形體，並準備其作為顯示積層體的模擬成形體（代替有機EL面板）。所述模擬成形體的厚度為113 μm。對所得的模擬成形體照射CO₂ 雷射光（萊泰科（LPTECH）公司製造，萊泰勒（LPTSLC）-M，連續波振盪），切斷成22 mm×112 mm的大小。雷射光的照射於移動速度：240 mm/秒、輸出：24 W的條件下進行。

（彎曲試驗片的準備） 於對剝離了貼附於光學積層體100的第二黏著劑層104的剝離膜105後露出的面、以及模擬成形體的貼合面實施電暈處理，以實施了電暈處理的面成為內側的方式積層光學積層體與模擬成形體，使用輥貼合機貼合，而獲得彎曲試驗片。對包含以所述方式獲得的各實施例及各比較例的光學積層體100的彎曲試驗片進行後述的彎曲試驗。

[表面粗糙度Ra的測定] 將各實施例及各比較例的光學積層體100以藉由雷射光的照射而切斷的一個切斷面（對象側面）成為觀察對象的方式安裝於夾具。利用3D雷射顯微鏡（VK-9510，基恩士（KEYENCE）公司製造）觀察第一黏著劑層102的剖面與第二黏著劑層104的剖面。關於第一黏著劑層102及第二黏著劑層104，計算出不包含自周緣部起1 μm的範圍內的區域在內的積層方向20 μm×周向200 μm的大小的任意區域（關於第一黏著劑層102，為側面102a）的算術平均粗糙度Ra，將其作為表面粗糙度Ra。

[彎曲試驗] 彎曲試驗是於溫度25℃下進行。於彎曲試驗機（F1-2SV，福萊滬（Forehu）公司製造）中，以平坦的狀態（未彎曲的狀態）設置彎曲試驗片，以前面板側為內側的方式，且以相向的前面板間的距離為3.0 mm的方式（彎曲半徑為1.5 mm），使彎曲試驗片彎曲180°。然後，恢復至原來的平坦的狀態。於進行了一次一系列的操作時計數為彎曲次數一次，反覆進行所述彎曲操作。將彎曲速度設為1次/1秒。 將於因彎曲操作而彎曲的區域中產生裂紋或黏著劑層的浮起時的彎曲次數記錄為極限彎曲次數。根據以下基準對極限彎曲次數進行評價。 A：極限彎曲次數為60萬次以上， B：極限彎曲次數為30萬次以上且未滿60萬次， C：極限彎曲次數為10萬次以上且未滿30萬次， D：極限彎曲次數為2萬次以上且未滿10萬次， E：極限彎曲次數未滿2萬次。

於表1中示出將實施例1～實施例3、比較例1～比較例4的光學積層體100供於彎曲試驗中的結果。

[表1]

	實施例1	實施例2	實施例3	比較例1	比較例2	比較例3	比較例4
光學積層體的製作	雷射光的輸出（W）	7.9	7.7	4.7	3.7	1.5	1.9	0.9
雷射光的速度（mm/sec）	320	320	200	200	80	80	40
表面粗糙度的測定	第一黏著劑層的Ra（μm）	3	5	6	11	15	18	34
第二黏著劑層的Ra（μm）	2	3	2	3	5	6	3
彎曲試驗	A	B	B	D	E	E	E

100:光學積層體 100a:對象側面 101:前面板 102:第一黏著劑層 102a:第一黏著劑層的側面 103:偏光板 104:第二黏著劑層 105:剝離膜

圖1是表示本發明的光學積層體的一例的概略剖面圖。

100:光學積層體

100a:對象側面

101:前面板

102:第一黏著劑層

102a:第一黏著劑層的側面

103:偏光板

104:第二黏著劑層

105:剝離膜

Claims (5)

1. 一種光學積層體，依次包括前面板、第一黏著劑層、偏光板及第二黏著劑層， 所述偏光板包括包含聚合性液晶化合物的硬化物的液晶層， 於將為所述光學積層體的整周中的一部分、且遍及積層方向的側面作為對象側面時，若將所述對象側面中的所述第一黏著劑層的表面粗糙度設為Ra[μm]，則滿足下式（1a）的關係： Ra≦10 μm   （1a）。
2. 如請求項1所述的光學積層體，其中所述偏光板自所述第一黏著劑層側向所述第二黏著劑層側依次包括直線偏光片層及相位差層， 所述相位差層包括所述液晶層。
3. 如請求項2所述的光學積層體，其中所述相位差層包括作為所述液晶層的正C層。
4. 如請求項1至請求項3中任一項所述的光學積層體，其中所述光學積層體能夠沿著彎曲軸彎曲， 所述對象側面包括與所述彎曲軸交差的側面。
5. 一種光學積層體的製造方法，是製造如請求項1至請求項4中任一項所述的光學積層體的方法，且所述光學積層體的製造方法包括： 準備依次包括前面板、第一黏著劑層、偏光板及第二黏著劑層的光學積層膜的步驟；以及 藉由雷射光切斷所述光學積層膜而形成所述對象側面的步驟。

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