JP2021070826A - 化合物、これを含む感光性樹脂組成物、感光性樹脂膜、カラーフィルタおよびディスプレイ装置 - Google Patents
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- 0 COC(CC=C1Oc(c(Cl)c(c2c3C4=NC(c(c(Cl)c5Cl)c6c(Cl)c5Oc(ccc(O*)c5)c5OC)=NC6=N[C@](C(C(C(Cl)=C5Oc(c(OC)c6)ccc6OC)=C6N=C(*7)[C@]8C(C(Cl)=C9Oc(c(OC)c%10)ccc%10OC)Cl)C(Cl)=C5Cl)N6[Zn]N4C2=NC7C8=C9Cl)Cl)c3Cl)C=C1OC1CC1 Chemical compound COC(CC=C1Oc(c(Cl)c(c2c3C4=NC(c(c(Cl)c5Cl)c6c(Cl)c5Oc(ccc(O*)c5)c5OC)=NC6=N[C@](C(C(C(Cl)=C5Oc(c(OC)c6)ccc6OC)=C6N=C(*7)[C@]8C(C(Cl)=C9Oc(c(OC)c%10)ccc%10OC)Cl)C(Cl)=C5Cl)N6[Zn]N4C2=NC7C8=C9Cl)Cl)c3Cl)C=C1OC1CC1 0.000 description 2
- YAOGKYFKOKAUQT-UHFFFAOYSA-N CC(C)CCOc(c(Cl)c(c(C(/N=C(/c(cccc1)c1/C1=N/C(c2c3cccc2)=N/C3=N2)\N1[Zn][n]1c2c2c(Cl)c3Cl)=N4)c5C)/C4=N/c1c2c(Cl)c3OCCC(C)C)c5Cl Chemical compound CC(C)CCOc(c(Cl)c(c(C(/N=C(/c(cccc1)c1/C1=N/C(c2c3cccc2)=N/C3=N2)\N1[Zn][n]1c2c2c(Cl)c3Cl)=N4)c5C)/C4=N/c1c2c(Cl)c3OCCC(C)C)c5Cl YAOGKYFKOKAUQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Abstract
Description
R1〜R4は、それぞれ独立して、水素原子であり、
R5〜R8は、それぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子であり、
R9〜R16は、それぞれ独立して、ハロゲン原子または下記の化学式2で表され、
R17は、置換もしくは非置換のC1〜C20アルキル基、または置換もしくは非置換のC6〜C20アリール基である。
R18およびR19は、それぞれ独立して、置換もしくは非置換のC1〜C20アルキル基であり、
R20〜R22は、それぞれ独立して、水素原子、または置換もしくは非置換のC1〜C20アルキル基であり、
L1は、置換もしくは非置換のC1〜C20アルキレン基である。
R23およびR24は、それぞれ独立して、ヒドロキシ基、または置換もしくは非置換のC1〜C20アルキル基であり、
n1およびn2は、それぞれ独立して、0〜5の整数でかつ、3≦n1+n2≦5である。
R1〜R4は、それぞれ独立して、水素原子であり、
R5〜R8は、それぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子であり、
R9〜R16は、それぞれ独立して、ハロゲン原子または下記の化学式2で表され、
R17は、置換もしくは非置換のC1〜C20アルキル基、または置換もしくは非置換のC6〜C20アリール基である。
R18およびR19は、それぞれ独立して、置換もしくは非置換のC1〜C20アルキル基であり、
R20〜R22は、それぞれ独立して、水素原子、または置換もしくは非置換のC1〜C20アルキル基であり、
L1は、置換もしくは非置換のC1〜C20アルキレン基である。
R23およびR24は、それぞれ独立して、ヒドロキシ基、または置換もしくは非置換のC1〜C20アルキル基であり、
L2〜L4は、それぞれ独立して、置換もしくは非置換のC1〜C20アルキレン基であり、
n1およびn2は、それぞれ独立して、0〜5の整数でかつ、3≦n1+n2≦5である。
合成例1:化学式1−1で表される化合物の合成
100mlのフラスコに、3,4,5,6−テトラクロロフタロニトリル(5g)、2−イソプロピル−フェノール(2.56g)、K2CO3(3.9g)、N,N−ジメチルホルムアミド(N,N−dimethylformamide)(25ml)を入れて、70℃に加熱しながら撹拌する。反応終了後、EA(酢酸エチル)で抽出する。抽出後に濃縮した後、カラムクロマトグラフィー(column chromatography)で精製する。精製後に真空乾燥して、4−(2−イソプロピル−フェノキシ)−3,5,6−トリクロロ−フタロニトリルを得る
100mlのフラスコに、4−(2−イソプロピル−フェノキシ)−3,5,6−トリクロロ−フタロニトリル(2g)、3,4,5,6−テトラクロロフタロニトリル(2.91g)、フタロニトリル(0.70g)、1,8−ジアザビシクロウンデカ−7−エン(4.16g)および1−ペンタノール(30g)を入れて、90℃に加熱して固体が溶けた後、酢酸亜鉛(1.00g)を入れて、140℃に加熱しながら撹拌する。反応終了後、メタノールで沈殿を確認し、ろ過後、真空乾燥する。乾燥された固体をカラムクロマトグラフィー(column chromatography)で精製する。精製後に得られた固体にジクロロメタンを適当に入れて固体を溶かした後、メタノールを添加して結晶化する。前記結晶化された固体をろ過し、真空乾燥して、下記の化学式1−2で表される化合物を得る。
100mlのフラスコに、3,4,5,6−テトラクロロフタロニトリル(5g)、2−tert−ブチル−フェノール(2.83g)、K2CO3(3.9g)、N,N−ジメチルホルムアミド(N,N−dimethylformamide)(25ml)を入れて、70℃に加熱しながら撹拌する。反応終了後、EA(酢酸エチル)で抽出する。抽出後に濃縮した後、カラムクロマトグラフィー(column chromatography)で精製する。精製後に真空乾燥して、4−(2−tert−ブチル−フェノキシ)−3,5,6−トリクロロ−フタロニトリルを得る。
100mlのフラスコに、4−(2−tert−Butyl−phenoxy)−3,5,6−トリクロロ−フタロニトリル(2g)、3,4,5,6−テトラクロロフタロニトリル(2.80g)、フタロニトリル(0.67g)、1,8−ジアザビシクロウンデカ−7−エン(4.01g)および1−ペンタノール(30g)を入れて、90℃に加熱して固体が溶けた後、酢酸亜鉛(0.97g)を入れて、140℃に加熱しながら撹拌する。反応終了後、メタノールで沈殿を確認し、ろ過後、真空乾燥する。乾燥された固体をカラムクロマトグラフィー(column chromatography)で精製する。精製後に得られた固体にジクロロメタンを適当に入れて固体を溶かした後、メタノールを添加して結晶化する。前記結晶化された固体をろ過し、真空乾燥して、下記の化学式1−4で表される化合物を得る。
100mlのフラスコに、3,4,5,6−テトラクロロフタロニトリル(5g)、p−クレゾール(2.83g)、K2CO3(3.9g)、N,N−ジメチルホルムアミド(N,N−dimethylformamide)(25ml)を入れて、70℃に加熱しながら撹拌する。反応終了後、EA(酢酸エチル)で抽出する。抽出後に濃縮した後、カラムクロマトグラフィー(column chromatography)で精製する。精製後に真空乾燥して、4−(2−メチル−フェノキシ)−3,5,6−トリクロロ−フタロニトリルを得る。
100mlのフラスコに、3,4,5,6−テトラクロロフタロニトリル(5g)、2,6−ジメチルフェノール(2.30g)、K2CO3(3.9g)、N,N−ジメチルホルムアミド(N,N−dimethylformamide)(25ml)を入れて、70℃に加熱しながら撹拌する。反応終了後、EA(酢酸エチル)で抽出する。抽出後に濃縮した後、カラムクロマトグラフィー(column chromatography)で精製する。精製後に真空乾燥して、4−(2,6−ジメチル−フェノキシ)−3,5,6−トリクロロ−フタロニトリルを得る。
100mlのフラスコに、4−(2,6−ジメチル−フェノキシ)−3,5,6−トリクロロ−フタロニトリル(2g)、3,4,5,6−テトラクロロフタロニトリル(3.03g)、フタロニトリル(0.73g)、1,8−ジアザビシクロウンデカ−7−エン(4.33g)および1−ペンタノール(30g)を入れて、90℃に加熱して固体が溶けた後、酢酸亜鉛(1.04g)を入れて、140℃に加熱しながら撹拌する。反応終了後、メタノールで沈殿を確認し、ろ過後、真空乾燥する。乾燥された固体をカラムクロマトグラフィー(column chromatography)で精製する。精製後に得られた固体にジクロロメタンを適当に入れて固体を溶かした後、メタノールを添加して結晶化する。前記結晶化された固体をろ過し、真空乾燥して、下記の化学式1−7で表される化合物を得る。
100mlのフラスコに、3,4,5,6−テトラクロロフタロニトリル(5g)、2,4−ジ−t−ブチルフェノール(3.9g)、K2CO3(3.9g)、N,N−ジメチルホルムアミド(N,N−dimethylformamide)(25ml)を入れて、70℃に加熱しながら撹拌する。反応終了後、EA(酢酸エチル)で抽出する。抽出後に濃縮した後、カラムクロマトグラフィー(column chromatography)で精製する。精製後に真空乾燥して、4−(2,4−ジ−t−ブチル−フェノキシ)−3,5,6−トリクロロ−フタロニトリルを得る。
100mlのフラスコに、4−(2,4−ジ−t−ブチル−フェノキシ)−3,5,6−トリクロロ−フタロニトリル(2g)、3,4,5,6−テトラクロロフタロニトリル(2.80g)、フタロニトリル(0.68g)、1,8−ジアザビシクロウンデカ−7−エン(4.01g)および1−ペンタノール(15g)を入れて、90℃に加熱して固体が溶けた後、酢酸亜鉛(0.97g)を入れて、140℃に加熱しながら撹拌する。反応終了後、メタノールで沈殿を確認し、ろ過後、真空乾燥する。乾燥された固体をカラムクロマトグラフィー(column chromatography)で精製する。精製後に得られた固体にジクロロメタンを適当に入れて固体を溶かした後、メタノールを添加して結晶化する。前記結晶化された固体をろ過し、真空乾燥して、下記の化学式1−9で表される化合物を得る。
100mlのフラスコに、3,4,5,6−テトラクロロフタロニトリル(5g)、2−tert−ブチル−4−メチルフェノール(3.09g)、K2CO3(3.9g)、N,N−ジメチルホルムアミド(N,N−dimethylformamide)(25ml)を入れて、70℃に加熱しながら撹拌する。反応終了後、EA(酢酸エチル)で抽出する。抽出後に濃縮した後、カラムクロマトグラフィー(column chromatography)で精製する。精製後に真空乾燥して、4−(2−tert−ブチル−4−メチルフェノキシ)−3,5,6−トリクロロ−フタロニトリルを得る。
100mlのフラスコに、4−(2−tert−ブチル−4−メチルフェノキシ)−3,5,6−トリクロロ−フタロニトリル(2g)、フタロニトリル(0.65g)、1,8−ジアザビシクロウンデカ−7−エン(1.9g)および1−ペンタノール(15g)を入れて、90℃に加熱して固体が溶けた後、酢酸亜鉛(0.47g)を入れて、140℃に加熱しながら撹拌する。反応終了後、メタノールで沈殿を確認し、ろ過後、真空乾燥する。乾燥された固体をカラムクロマトグラフィー(column chromatography)で精製する。精製後に得られた固体にジクロロメタンを適当に入れて固体を溶かした後、メタノールを添加して結晶化する。前記結晶化された固体をろ過し、真空乾燥して、下記の化学式1−11で表される化合物を得る。
100mlのフラスコに、3,4,5,6−テトラクロロフタロニトリル(5g)、2,2−ジメチル−1−プロパノール(1.66g)、ジアザビシクロウンデカ−7−エン(4.29g)、N,N−ジメチルホルムアミド(N,N−dimethylformamide)(25ml)を入れて、70℃に加熱しながら撹拌する。反応終了後、EA(酢酸エチル)で抽出する。抽出後に濃縮した後、カラムクロマトグラフィー(column chromatography)で精製する。精製後に真空乾燥して、4−(2,2−ジメチル−1−プロポキシ)−3,5,6−トリクロロ−フタロニトリルを得る。
100mlのフラスコに、4−(2,2−ジメチル−1−プロポキシ)−3,5,6−トリクロロ−フタロニトリル(1g)、3,4,5,6−テトラクロロフタロニトリル(1.67g)、フタロニトリル(0.40g)、1,8−ジアザビシクロウンデカ−7−エン(2.40g)および1−ペンタノール(15g)を入れて、90℃に加熱して固体が溶けた後、酢酸亜鉛(0.58g)を入れて、140℃に加熱しながら撹拌する。反応終了後、メタノールで沈殿を確認し、ろ過後、真空乾燥する。乾燥された固体をカラムクロマトグラフィー(column chromatography)で精製する。精製後に得られた固体にジクロロメタンを適当に入れて固体を溶かした後、メタノールを添加して結晶化する。前記結晶化された固体をろ過し、真空乾燥して、下記の化学式1−13で表される化合物を得る。
100mlのフラスコに、4−(2,2−ジメチル−1−プロポキシ)−3,5,6−トリクロロ−フタロニトリル(2g)、フタロニトリル(0.81g)、1,8−ジアザビシクロウンデカ−7−エン(2.40g)および1−ペンタノール(15g)を入れて、90℃に加熱して固体が溶けた後、酢酸亜鉛(0.58g)を入れて、140℃に加熱しながら撹拌する。反応終了後、メタノールで沈殿を確認し、ろ過後、真空乾燥する。乾燥された固体をカラムクロマトグラフィー(column chromatography)で精製する。精製後に得られた固体にジクロロメタンを適当に入れて固体を溶かした後、メタノールを添加して結晶化する。前記結晶化された固体をろ過し、真空乾燥して、下記の化学式1−14で表される化合物を得る。
100mlのフラスコに、3,4,5,6−テトラクロロフタロニトリル(5g)、3−メチル−1−ブタノール(1.66g)、1,8−ジアザビシクロウンデカ−7−エン(4.29g)、N,N−ジメチルホルムアミド(N,N−dimethylformamide)(25ml)を入れて、70℃に加熱しながら撹拌する。反応終了後、EA(酢酸エチル)で抽出する。抽出後に濃縮した後、カラムクロマトグラフィー(column chromatography)で精製する。精製後に真空乾燥して、4−(3−メチル−1−ブトキシ)−3,5,6−トリクロロ−フタロニトリルを得る。
100mlのフラスコに、4−(3−メチル−1−ブトキシ)−3,5,6−トリクロロ−フタロニトリル(1g)、3,4,5,6−テトラクロロフタロニトリル(1.67g)、フタロニトリル(0.40g)、1,8−ジアザビシクロウンデカ−7−エン(2.40g)および1−ペンタノール(15g)を入れて、90℃に加熱して固体が溶けた後、酢酸亜鉛(0.58g)を入れて、140℃に加熱しながら撹拌する。反応終了後、メタノールで沈殿を確認し、ろ過後、真空乾燥する。乾燥された固体をカラムクロマトグラフィー(column chromatography)で精製する。精製後に得られた固体にジクロロメタンを適当に入れて固体を溶かした後、メタノールを添加して結晶化する。前記結晶化された固体をろ過し、真空乾燥して、下記の化学式1−16で表される化合物を得る。
100mlのフラスコに、4−(3−メチル−1−ブトキシ)−3,5,6−トリクロロ−フタロニトリル(2g)、フタロニトリル(0.81g)、1,8−ジアザビシクロウンデカ−7−エン(2.40g)および1−ペンタノール(15g)を入れて、90℃に加熱して固体が溶けた後、酢酸亜鉛(0.58g)を入れて、140℃に加熱しながら撹拌する。反応終了後、メタノールで沈殿を確認し、ろ過後、真空乾燥する。乾燥された固体をカラムクロマトグラフィー(column chromatography)で精製する。精製後に得られた固体にジクロロメタンを適当に入れて固体を溶かした後、メタノールを添加して結晶化する。前記結晶化された固体をろ過し、真空乾燥して、下記の化学式1−17で表される化合物を得る。
100mlのフラスコに、3,4,5,6−テトラクロロフタロニトリル(5g)、2−メチル−1−プロパノール(1.39g)、1,8−ジアザビシクロウンデカ−7−エン(4.29g)、N,N−ジメチルホルムアミド(N,N−dimethylformamide)(25ml)を入れて、70℃に加熱しながら撹拌する。反応終了後、EA(酢酸エチル)で抽出する。抽出後に濃縮した後、カラムクロマトグラフィー(column chromatography)で精製する。精製後に真空乾燥して、4−(3−メチル−1−ブトキシ)−3,5,6−トリクロロ−フタロニトリルを得る。
100mlのフラスコに、4−(2−メチル−1−プロポキシ)−3,5,6−トリクロロ−フタロニトリル(1g)、3,4,5,6−テトラクロロフタロニトリル(1.76g)、フタロニトリル(0.42g)、1,8−ジアザビシクロウンデカ−7−エン(2.52g)および1−ペンタノール(15g)を入れて、90℃に加熱して固体が溶けた後、酢酸亜鉛(0.61g)を入れて、140℃に加熱しながら撹拌する。反応終了後、メタノールで沈殿を確認し、ろ過後、真空乾燥する。乾燥された固体をカラムクロマトグラフィー(column chromatography)で精製する。精製後に得られた固体にジクロロメタンを適当に入れて固体を溶かした後、メタノールを添加して結晶化する。前記結晶化された固体をろ過し、真空乾燥して、下記の化学式1−19で表される化合物を得る。
100mlのフラスコに、4−(2−メチル−1−プロポキシ)−3,5,6−トリクロロ−フタロニトリル(2g)、フタロニトリル(0.85g)、1,8−ジアザビシクロウンデカ−7−エン(2.52g)および1−ペンタノール(15g)を入れて、90℃に加熱して固体が溶けた後、酢酸亜鉛(0.61g)を入れて、140℃に加熱しながら撹拌する。反応終了後、メタノールで沈殿を確認し、ろ過後、真空乾燥する。乾燥された固体をカラムクロマトグラフィー(column chromatography)で精製する。精製後に得られた固体にジクロロメタンを適当に入れて固体を溶かした後、メタノールを添加して結晶化する。前記結晶化された固体をろ過し、真空乾燥して、下記の化学式1−20で表される化合物を得る。
100mlのフラスコに、4−(2,4−ジ−t−ブチル−フェノキシ)−3,5,6−トリクロロ−フタロニトリル(2g)、フタロニトリル(2.03g)、1,8−ジアザビシクロウンデカ−7−エン(4.01g)および1−ペンタノール(15g)を入れて、90℃に加熱して固体が溶けた後、酢酸亜鉛(0.97g)を入れて、140℃に加熱しながら撹拌する。反応終了後、メタノールで沈殿を確認し、ろ過後、真空乾燥する。乾燥された固体をカラムクロマトグラフィー(column chromatography)で精製する。精製後に得られた固体にジクロロメタンを適当に入れて固体を溶かした後、メタノールを添加して結晶化する。前記結晶化された固体をろ過し、真空乾燥して、下記の化学式1−21で表される化合物を得る。
100mlのフラスコに、4−(2−sec−ブチル−フェノキシ)−3,5,6−トリクロロ−フタロニトリル(1g)、1,8−ジアザビシクロウンデカ−7−エン(0.30g)、1−ペンタノール(7g)、酢酸亜鉛(0.12g)を入れて、140℃に加熱しながら撹拌する。反応終了後、濃縮して、カラムクロマトグラフィー(column chromatography)で精製する。精製後に得られた液体を濃縮して固体を得る。前記結晶化された固体を真空乾燥して、下記の化学式C−1で表される化合物を得る。
100mlのフラスコに、3,4,5,6−テトラクロロフタロニトリル(5g)、2,4−ジ−tert−ブチルフェノール(2.75g)、K2CO3(3.9g)、N,N−ジメチルホルムアミド(N,N−dimethylformamide)(25ml)を入れて、70℃に加熱しながら撹拌する。反応終了後、EA(酢酸エチル)で抽出する。抽出後に濃縮すれば固体を得ることができる。この時得られた固体を少量のジクロロメタンに溶かした後、ヘキサンで数回洗い、ろ過後、真空乾燥して、3,4,6−トリクロロ−5−(2,4−ジメチル−フェノキシ)−フタロニトリルを得る。
100mlのフラスコに、3,4,5,6−テトラクロロフタロニトリル(5g)、2,4−ジメトキシフェノール(3.47g)、K2CO3(3.9g)、N,N−ジメチルホルムアミド(N,N−dimethylformamide)(25ml)を入れて、70℃に加熱しながら撹拌する。反応終了後、EA(酢酸エチル)で抽出する。抽出後に濃縮すれば固体を得ることができる。この時得られた固体を少量のジクロロメタンに溶かした後、ヘキサンで数回洗い、ろ過後、真空乾燥して、3,4,6−トリクロロ−5−(2,4−ジメトキシ−フェノキシ)−フタロニトリルを得る。
100mlのフラスコに、合成例1−2の4−(2,4−ジメトキシ−フェノキシ)−3,5,6−トリクロロ−フタロニトリル(0.7g)、3,4,5,6−テトラクロロフタロニトリル(1.45g)、1,8−ジアザビシクロウンデカ−7−エン(1.38g)および1−ペンタノール(14g)を入れて、90℃に加熱して固体が溶けた後、酢酸亜鉛(0.33g)を入れて、140℃に加熱しながら撹拌する。反応終了後、メタノールで沈殿を確認し、ろ過後、真空乾燥する。乾燥された固体をカラムクロマトグラフィー(column chromatography)で精製する。精製後に得られた固体にジクロロメタンを適当に入れて固体を溶かした後、メタノールを添加して結晶化する。前記結晶化された固体をろ過し、真空乾燥して、下記の化学式C−4で表される化合物を得る。
100mlのフラスコに、4−(2−tert−ブチル−フェノキシ)−3,5,6−トリクロロ−フタロニトリル(2g)、3,4,5,6−テトラクロロフタロニトリル(0.70g)、4,5−ジクロロフタロニトリル(0.52g)、1,8−ジアザビシクロウンデカ−7−エン(2.01g)および1−ペンタノール(15g)を入れて、90℃に加熱して固体が溶けた後、酢酸亜鉛(0.48g)を入れて、140℃に加熱しながら撹拌する。反応終了後、メタノールで沈殿を確認し、ろ過後、真空乾燥する。乾燥された固体をカラムクロマトグラフィー(column chromatography)で精製する。精製後に得られた固体にジクロロメタンを適当に入れて固体を溶かした後、メタノールを添加して結晶化する。前記結晶化された固体をろ過し、真空乾燥して、下記の化学式C−5で表される化合物を得る。
100mlのフラスコに、4−(2−tert−ブチル−フェノキシ)−3,5,6−トリクロロ−フタロニトリル(2g)、3,4,5,6−テトラクロロフタロニトリル(0.70g)、4−ジクロロフタロニトリル(0.43g)、1,8−ジアザビシクロウンデカ−7−エン(2.01g)および1−ペンタノール(15g)を入れて、90℃に加熱して固体が溶けた後、酢酸亜鉛(0.48g)を入れて、140℃に加熱しながら撹拌する。反応終了後、メタノールで沈殿を確認し、ろ過後、真空乾燥する。乾燥された固体をカラムクロマトグラフィー(column chromatography)で精製する。精製後に得られた固体にジクロロメタンを適当に入れて固体を溶かした後、メタノールを添加して結晶化する。前記結晶化された固体をろ過し、真空乾燥して、下記の化学式C−6で表される化合物を得る。
前記合成例1〜合成例21および比較合成例1〜比較合成例6による化合物を、希釈溶剤(PGMEA)を用いて0.005wt%の濃度に製造して、前記合成例1〜合成例21および比較合成例1〜比較合成例6によるフタロシアニン系化合物のそれぞれに対する吸収スペクトルを得て、その結果を下記表1に示した。(UV−1800、SHIMADZU)
前記合成例1〜合成例21および比較合成例1〜比較合成例6による化合物0.5gに、希釈溶剤(PGMEA)をそれぞれ添加し、当該溶液をミックスローター(iuchi株式会社、MIXROTAR VMR−5)にて25℃、100rpmで1時間撹拌した後、それぞれの化合物の溶解度の確認結果を下記表2に示した。
希釈溶剤の総量に対して化合物(溶質)が10重量%以上溶解:○
希釈溶剤の総量に対して化合物(溶質)が10重量%未満溶解:X
実施例1
下記に言及された構成成分を下記表3〜表5に示す組成で混合して、実施例1〜実施例21および比較例1〜比較例6による感光性樹脂組成物を製造した。
脱脂洗浄した厚さ1mmのガラス基板上に、1μm〜3μmの厚さに前記実施例1〜実施例21および比較例1〜比較例6で製造した感光性樹脂組成物を塗布し、90℃のホットプレート上で2分間乾燥させて塗膜を得た。続いて、塗膜に365nmの主波長を有する高圧水銀ランプを用いて露光した。この後、230℃の熱風循環式乾燥炉内で20分間乾燥させてサンプルを得た。画素層は分光光度計(MCPD3000、Otsuka electronic社)を用いてC光源ベースの色純度を評価し、CIE色座標ベースで輝度(Y)を計算して、下記表6に記した。
del(E*)が3未満:○
del(E*)が3以上:X
BPが60秒未満:○
BPが60秒以上:X
走査電子顕微鏡で観察時、パターン表面でシワが観察されず:○
走査電子顕微鏡で観察時、パターン表面でシワが観察された:X
Claims (19)
- 最大吸収波長に対する半値幅の最短波長が600nm〜620nmの範囲内に位置するフタロシアニン系化合物。
- 前記R9〜R16のいずれか1つは、前記化学式2で表される、請求項2または3に記載の化合物。
- 前記「R9〜R12のいずれか1つ」または前記「R13〜R16のいずれか1つ」は、前記化学式2で表される、請求項4に記載の化合物。
- 前記「R10、R11、R14およびR15のいずれか1つ」は、前記化学式2で表される、請求項5に記載の化合物。
- 前記「R9〜R16のいずれか2つ」は、前記化学式2で表される、請求項2または3に記載の化合物。
- 前記「R9〜R12のいずれか1つ」および前記「R13〜R16のいずれか1つ」は、前記化学式2で表される、請求項7に記載の化合物。
- 前記「R10およびR11のいずれか1つ」および前記「R14およびR15のいずれか1つ」は、前記化学式2で表される、請求項8に記載の化合物。
- 前記化合物は、緑色染料である、請求項1〜10のいずれか1項に記載の化合物。
- 請求項1〜11のいずれか1項に記載の化合物を含む感光性樹脂組成物。
- 前記化合物は、前記感光性樹脂組成物の総量に対して1重量%〜40重量%含まれる、請求項12に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記感光性樹脂組成物は、バインダー樹脂、光重合性化合物、光重合開始剤および溶媒をさらに含む、請求項12または13に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記感光性樹脂組成物は、顔料をさらに含む、請求項12〜14のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。
- 請求項12〜15のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物を用いて製造される感光性樹脂膜。
- 請求項17に記載の感光性樹脂膜を含むカラーフィルタ。
- 請求項18に記載のカラーフィルタを含むディスプレイ装置。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR20190135770 | 2019-10-29 | ||
KR10-2019-0135770 | 2019-10-29 | ||
KR1020200104060A KR102590489B1 (ko) | 2019-10-29 | 2020-08-19 | 화합물, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물, 감광성 수지막, 컬러필터 및 디스플레이 장치 |
KR10-2020-0104060 | 2020-08-19 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021070826A true JP2021070826A (ja) | 2021-05-06 |
JP7091418B2 JP7091418B2 (ja) | 2022-06-27 |
Family
ID=75587082
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020180419A Active JP7091418B2 (ja) | 2019-10-29 | 2020-10-28 | 化合物、これを含む感光性樹脂組成物、感光性樹脂膜、カラーフィルタおよびディスプレイ装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11852971B2 (ja) |
JP (1) | JP7091418B2 (ja) |
CN (1) | CN112745326B (ja) |
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-
2020
- 2020-10-28 JP JP2020180419A patent/JP7091418B2/ja active Active
- 2020-10-28 CN CN202011170430.XA patent/CN112745326B/zh active Active
- 2020-10-28 US US17/082,384 patent/US11852971B2/en active Active
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US20210124264A1 (en) | 2021-04-29 |
US11852971B2 (en) | 2023-12-26 |
CN112745326A (zh) | 2021-05-04 |
CN112745326B (zh) | 2023-10-20 |
JP7091418B2 (ja) | 2022-06-27 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210916 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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