JP2021049560A - アブレーション加工用の加工装置および加工方法 - Google Patents
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Abstract
Description
15 装置本体
20 ラインビーム形成部
25 ラインビーム形成光学系
30 投影光学系
100 加工装置
M マスク
W 基板
Claims (10)
- レーザー光源から出たレーザー光をライン状に整形し、装置本体に配置されたマスクへ導くラインビーム形成光学系と、
前記装置本体に設置され、前記マスクを透過した光を前記装置本体に配置された基板に投影する投影光学系と、
前記ラインビーム形成光学系を内包するラインビーム形成部を前記装置本体に対して相対移動させ、ライン状の光を走査させる走査機構と
を備えることを特徴とするアブレーション加工用の加工装置。 - 前記ラインビーム形成光学系が、前記ラインビーム形成光学系の光軸が走査方向に平行となるように、前記装置本体に配置され、
前記走査機構が、前記ラインビーム光学系の光軸位置を維持させながら前記ラインビーム形成部を相対移動させることを特徴とする請求項1に記載の加工装置。 - 前記走査機構が、前記ラインビーム形成部より下方であって、前記マスクを支持するマスクステージの上方スペース外に配置されることを特徴とする請求項1または2に記載の加工装置。
- 前記走査機構が、走査方向に沿って前記ラインビーム形成部と向かい合うことを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の加工装置。
- 前記マスクと前記ラインビーム形成光学系との間の光路上に配置され、前記ライン状の光の幅を変更可能なシャッタ機構をさらに備えることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の加工装置。
- 前記マスクに対するアライメントカメラが、前記ラインビーム形成部のケーシングに設置されていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の加工装置。
- 前記レーザーから前記ラインビーム形成光学系に入射する光の光軸方向を検出する検出部と、
前記レーザーから前記ラインビーム形成光学系に入射する光の光軸を調整可能な補正光学系と、
前記検出部からの出力に基づいて、光軸方向のずれを補償するように前記補正光学系を駆動する駆動機構とをさらに備えることを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の加工装置。 - 前記補正光学系が、前記レーザーと前記ラインビーム形成光学系との間の光路上に設けられていることを特徴とする請求項6に記載の加工装置。
- 2つの補正光学系が、前記レーザーと前記ラインビーム形成光学系との間の光路を、装置本体の上下方向に沿って折り返すことを特徴とする請求項8に記載の加工装置。
- ラインビーム形成光学系によって、レーザーから発振された光をライン状に整形し、アブレーション加工装置の装置本体に配置されたアブレーション加工用マスクへ導き、
前記装置本体に設置された投影光学系によって、前記マスクを透過した光を、前記装置本体に配置された基板に投影し、
走査機構によって、前記ラインビーム形成光学系を内包するラインビーム形成部を前記装置本体に対して相対移動させ、ライン状の光を走査させる
ことを特徴とするアブレーション加工装置の加工方法。
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