JP2021037668A - 透明導電性フィルム、透明導電性フィルムの製造方法および中間体 - Google Patents

透明導電性フィルム、透明導電性フィルムの製造方法および中間体 Download PDF

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Abstract

【課題】導体層および透明導電層の密着性に優れる透明導電性フィルム、その透明導電性フィルムの製造方法、および、その透明導電性フィルムの製造方法に用いられる中間体を提供すること。
【解決手段】透明導電性フィルム１は、透明基材２と、導電層３とを厚み方向一方側に向かって順に備える。導電層３は、視認領域１０および視認領域１０の周縁部に配置される額縁領域１１を備える。視認領域１０は、透明導電層４を備える。額縁領域１１は、導体層５と、透明導電層４と、それらの間に配置され、導体層５および透明導電層４の密着を図るための導電密着層６とを備える。透明導電層４は、金属ナノワイヤーを含む。
【選択図】図１

Description

本発明は、透明導電性フィルム、透明導電性フィルムの製造方法および中間体に関し、詳しくは、光学用途に好適に用いられる透明導電性フィルム、その透明導電性フィルムの製造方法、および、その透明導電性フィルムの製造方法に用いられる中間体に関する。
従来から、金属ナノワイヤーを含む透明導電層を所望の電極パターンに形成した透明導電性フィルムが、タッチパネルなどの光学用途に用いられている。
このような透明導電性フィルムとして、透明基板と、第１の感光性樹脂層と、銀ナノワーヤーを含む透明導電膜層と、金属薄膜層と、第２の感光性樹脂層とを備えるタッチ入力センサが提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
特開２０１７−２７２３１号公報
一方、特許文献１のタッチ入力センサにおいて、金属薄膜層と、金属ナノワイヤーを含む透明導電層との密着性が低いため、透明導電層が剥離するという不具合がある。
本発明は、導体層および透明導電層の密着性に優れる透明導電性フィルム、その透明導電性フィルムの製造方法、および、その透明導電性フィルムの製造方法に用いられる中間体を提供することにある。
本発明［１］は、透明基材と、導電層とを厚み方向一方側に向かって順に備え、前記導電層は、視認領域および前記視認領域の周縁部に配置される額縁領域を備え、前記視認領域は、透明導電層を備え、前記額縁領域は、導体層と、前記透明導電層と、それらの間に配置され、前記導体層および前記透明導電層の密着を図るための導電密着層とを備え、前記透明導電層は、金属ナノワイヤーを含む、透明導電性フィルムである。
本発明［２］は、前記額縁領域が、前記導体層と、前記導電密着層と、前記透明導電層とを厚み方向一方側に向かって順に備える、上記［１］に記載の透明導電性フィルムを含んでいる。
本発明［３］は、前記透明基材の両側に、前記導電層が配置されている、上記［１］または［２］に記載の透明導電性フィルムを含んでいる。
本発明［４］は、前記金属ナノワイヤーが、銀ナノワイヤーである、上記［１］〜［３］のいずれか一項に記載の透明導電性フィルムを含んでいる。
本発明［５］は、前記導体層が、銅層である、上記［１］〜［４］のいずれか一項に記載の透明導電性フィルムを含んでいる。
本発明［６］は、前記導電密着層が、クロム、ニッケル、酸化ケイ素およびアルミニウムドープ酸化亜鉛からなる群から１つ以上を含む、上記［１］〜［５］のいずれか一項に記載の透明導電性フィルムを含んでいる。
本発明［７］は、フォトレジスト用またはウェットエッチング用である、上記［１］〜［６］のいずれか一項に記載の透明導電性フィルムを含んでいる。
本発明［８］は、透明基材を準備する第１工程と、前記透明基材に、視認領域および前記視認領域の周縁部に配置される額縁領域を備える導電層を配置する第２工程とを備え、第２工程において、前記視認領域に、透明導電層を配置し、前記額縁領域に、導体層と、透明導電層と、それらの間に配置され、前記導体層および前記透明導電層の密着を図るための導電密着層とを配置し、前記透明導電層は、金属ナノワイヤーを含む、透明導電性フィルムの製造方法である。
本発明［９］は、上記［８］に記載の透明導電性フィルムの製造方法に用いられ、前記透明基材と、前記導体層と、前記導電密着層とを厚み方向一方側に向かって順に備えるか、または、前記透明基材と、前記透明導電層と、前記導電密着層とを厚み方向一方側に向かって順に備える、中間体を含んでいる。
本発明の透明導電性フィルムにおいて、額縁領域は、導体層と、透明導電層と、それらの間に配置され、導体層および透明導電層の密着を図るための導電密着層とを備える。
そのため、導体層および透明導電層の間の密着性に優れる。
本発明の透明導電性フィルムの製造方法は、額縁領域に、導体層と、透明導電層と、それらの間に配置され、導体層および透明導電層の密着を図るための導電密着層とを配置する工程を備える。
そのため、導体層および透明導電層の間の密着性に優れる透明導電性フィルムを得ることができる。
本発明の中間体は、本発明の透明導電性フィルムの製造方法に用いられる。
そのため、この中間体によれば、導体層および透明導電層の間の密着性に優れる透明導電性フィルムを得ることができる。
図１は、本発明の透明導電性フィルムの一実施形態の断面図を示す。 図２は、本発明の透明導電性フィルムの製造方法の一実施形態を示し、図２Ａは、透明基材を用意する第１工程を示し、図２Ｂは、第２工程において、透明基材の厚み方向一方面に、導体層を配置する工程を示し、図２Ｃは、第２工程において、導体層の厚み方向一方面に導電密着層を配置する工程を示し、図２Ｄは、第２工程において、導体層および導電密着層をパターン形成することにより、視認領域および額縁領域を形成する工程を示し、図２Ｅは、第２工程において、視認領域の厚み方向一方面および額縁領域の厚み方向一方面に、透明導電層を配置する工程を示す。 図３は、図１に示す透明導電性フィルムの変形例（導電層を、透明基材の両側に配置する場合）の断面図を示す。 図４は、図１に示す透明導電性フィルムの変形例（ハードコート層を備える場合）の断面図を示す。
図１を参照して、本発明の透明導電性フィルムの一実施形態を説明する。
図１において、紙面上下方向は、上下方向（厚み方向）であって、紙面上側が、上側（厚み方向一方側）、紙面下側が、下側（厚み方向他方側）である。また、紙面左右方向および奥行き方向は、上下方向に直交する面方向である。具体的には、各図の方向矢印に準拠する。
１．透明導電性フィルム
透明導電性フィルム１は、所定の厚みを有するフィルム形状（シート形状を含む）を有し、厚み方向と直交する面方向に延び、平坦な上面および平坦な下面を有する。透明導電性フィルム１は、例えば、画像表示装置に備えられるタッチパネル用基材や電磁波シールドなどの一部品であり、つまり、画像表示装置ではない。すなわち、透明導電性フィルム１は、画像表示装置などを作製するための部品であり、ＯＬＥＤモジュールなどの画像表示素子を含まず、部品単独で流通し、産業上利用可能なデバイスである。
具体的には、図１に示すように、透明導電性フィルム１は、透明基材２と、導電層３とを厚み方向一方側に向かって順に備える。透明導電性フィルム１は、より具体的には、透明基材２と、透明基材２の上面（厚み方向一方面）に配置される導電層３とを備える。
透明導電性フィルム１の厚みは、例えば、２００μｍ以下、好ましくは、１５０μｍ以下であり、また、例えば、２０μｍ以上、好ましくは、３０μｍ以上である。
２．透明基材
透明基材２は、透明導電性フィルム１の機械強度を確保するための透明な基材である。
透明基材２は、フィルム形状を有する。透明基材２は、導電層３の下面に接触するように、導電層３の下面に全面に、配置されている。
透明基材２は、例えば、透明性を有する高分子フィルムである。
透明基材２の材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマーなどのオレフィン樹脂、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル樹脂、例えば、ポリメタクリレートなどの（メタ）アクリル樹脂（アクリル樹脂および／またはメタクリル樹脂）、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ポリアリレート樹脂、メラミン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、セルロース樹脂、ポリスチレン樹脂などが挙げられる。
透明基材２は、単独使用または２種以上併用することができる。
透明基材２の材料としては、好ましくは、シクロオレフィンポリマーが挙げられる。すなわち、透明基材２は、好ましくは、シクロオレフィンポリマーから形成されるシクロオレフィン系フィルムである。
シクロオレフィン系ポリマーは、シクロオレフィンモノマーを重合して得られ、主鎖の繰り返し単位中に脂環構造を有する高分子である。シクロオレフィン系樹脂は、好ましくは、非晶質シクロオレフィン系樹脂である。
シクロオレフィン系ポリマーとしては、例えば、シクロオレフィンモノマーからなるシクロオレフィンホモポリマー、例えば、シクロオレフィンモノマーと、エチレンなどのオレフィンなどとの共重合体からなるシクロオレフィンコポリマーなどが挙げられる。
シクロオレフィンモノマーとしては、例えば、ノルボルネン、メチルノルボルネン、ジメチルノルボルネン、エチリデンノルボルネン、ブチルノルボルネン、ジシクロペンタジエン、ジヒドロジシクロペンタジエン、テトラシクロドデセン、トリシクロペンタジエンなどの多環式オレフィン、例えば、シクロブテン、シクロペンテン、シシクロオクタジエン、シクロオクタトリエンなどの単環式オレフィンなどが挙げられる。好ましくは、多乾式オレフィンが挙げられる。これらシクロオレフィンは、単独使用または２種以上併用することができる。
透明基材２の厚みは、機械的強度などの観点から、例えば、２μｍ以上、好ましくは、１５μｍ以上であり、また、例えば、３００μｍ以下、好ましくは、１５０μｍ以下、より好ましくは、薄型化および屈曲性の観点から、５０μｍ未満である。透明基材２の厚みは、例えば、マイクロゲージ式厚み計を用いて測定することができる。
３．導電層
導電層３は、透明導電性フィルム１に導電性を付与するための層である。
導電層３は、透明基材２の上面（厚み方向一方面）に接触するように、透明基材２の上面に全面に、配置されている。
導電層３は、視認領域１０および視認領域１０の周縁部に配置される額縁領域１１を備える。
視認領域１０は、例えば、タッチパネルのタッチ入力領域であり、透明導電層４を備える。
額縁領域１１は、配線パターン（図示せず）を形成するための領域であって、導体層５と、透明導電層４と、それらの間に配置される導電密着層６とを備える。
額縁領域１１は、具体的には、導体層５と、導電密着層６と、透明導電層４とを厚み方向一方側に向かって順に備えるか、または、透明導電層４と、導電密着層６と、導体層５とを厚み方向一方側に向かって順に備える。好ましくは、狭額縁の観点から、額縁領域１１は、導体層５と、導電密着層６と、透明導電層４とを厚み方向一方側に向かって順に備える。
以下の説明では、額縁領域１１が、導体層５と、導電密着層６と、透明導電層４とを厚み方向一方側に向かって順に備える場合について、詳述する。
このような場合には、透明導電性フィルム１は、視認領域１０において、透明基材２と、透明基材２の上面（厚み方向一方面）に配置される透明導電層４とを備える。
また、透明導電性フィルム１は、額縁領域１１において、透明基材２と、透明基材２の上面（厚み方向一方面）に配置される導体層５と、導体層５の上面（厚み方向一方面）に配置される導電密着層６と、導電密着層６の上面（厚み方向一方面）に配置される透明導電層４とを備える。
また、透明導電層４は、透明導電性フィルム１において、最上層であり、透明導電層４は、視認領域１０における透明基材２の上面（厚み方向一方面）と、額縁領域１１における導電密着層６の上面（厚み方向一方面）と、視認領域１０および額縁領域１１の境界における導体層５および導電密着層６の内側面との全体に渡って、連続して配置されるように、視認領域１０および額縁領域１１に跨って配置されている。
４．透明導電層
透明導電層４は、優れた導電性を発現する透明な層である。
透明導電層４は、透明導電組成物から形成される。
透明導電組成物は、金属ナノワイヤーおよびバインダー樹脂を含む。すなわち、透明導電層４は、金属ナノワイヤーを含む。
透明導電層４が、金属ナノワイヤーを含むと、金属ナノワイヤーが網の目状となることにより、少量の金属ナノワイヤーであっても良好な電気伝導経路を形成することができ、比抵抗を小さくできる。また、金属ナノワイヤーが網の目状となることにより、網の目の隙間に開口部を形成して、光透過率を向上できる。
金属ナノワイヤーは、例えば、平均径１０ｎｍ程度の外径を有し、針状または糸状の形状を有する導電性物質である。
金属ナノワイヤーを構成する金属としては、例えば、銅、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、錫、コバルト、ロジウム、イリジウム、鉄、ルテニウム、オスミウム、マンガン、モリブデン、タングステン、ニオブ、タンタル、チタン、ビスマス、アンチモン、鉛またはこれらの合金などが挙げられ、好ましくは、銀が挙げられる。
すなわち、金属ナノワイヤーは、好ましくは、銀ナノワイヤーである。
金属ナノワイヤーが、銀ナノワイヤーであれば、透明導電層４の比抵抗を小さくすることができる。
バインダー樹脂としては、特に限定されないが、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、アミド樹脂、アルキド樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂、セルロース誘導体などが挙げられる。
そして、透明導電組成物は、バインダー樹脂および金属ナノワイヤーを混合することにより得られる。
バインダー樹脂の配合割合は、透明導電組成物に対して、例えば、７５質量％以上である。
また、金属ナノワイヤーの配合割合は、透明導電組成物に対して、例えば、０．１質量％以上である。
また、透明導電組成物は、必要により、溶媒によって希釈することができる。
また、透明導電組成物には、必要により、腐食防止などの観点から、酸化防止剤や紫外線吸収剤などの公知の添加剤を配合することができる。
透明導電層４は、後述する方法により形成される。
透明導電層４の厚みは、例えば、１０ｎｍ以上、好ましくは、３０ｎｍ以上、より好ましくは、４０ｎｍ以上であり、また、例えば、８０ｎｍ以下である。
なお、透明導電層４の厚みは、例えば、透過型電子顕微鏡を用いて、透明導電性フィルム１の断面を観察することにより測定することができる。
透明導電層４の表面抵抗値は、例えば、７０Ω／□以下、好ましくは、３０Ω／□以下である。
透明導電層４の表面抵抗値が上記した上限以下であれば、透明導電層４をパターンニングして電極として用いられるときに、優れた電気特性を発現できる。
透明導電層４の表面抵抗値の下限は、特に限定されない。例えば、透明導電層４の表面抵抗値は、通常、０Ω／□超過、また、１Ω／□以上である。
なお、表面抵抗値は、ＪＩＳ Ｋ７１９４に準拠して、４端子法により測定することができる。
４．導体層
導体層５は、額縁領域１１において、配線パターン（図示せず）と接続するための層である。
導体層５は、平面視枠形状を有する。
導体層５の材料としては、例えば、銅、銀、金、ニッケルまたは、それらの合金などの金属が挙げられる。
導体層５の材料は、単独使用または２種以上併用することができる。
導体層５の材料としては、導電性などの観点から、好ましくは、銅が挙げられる。
つまり、導体層５は、好ましくは、銅層である。
なお、導体層５が、銅などの酸化が生じやすい材料である場合、その導体層５の表面は酸化されていてもよい。具体的には、導体層５が、銅層である場合は、導体層５は、表面の一部または全部に酸化銅を備える銅層であってもよい。
導体層５は、後述する方法により形成される。
導体層５の厚みは、例えば、４０ｎｍ以上、好ましくは、１００ｎｍ以上であり、また、例えば、４００ｎｍ以下である。
なお、導体層５の厚みは、例えば、透過型電子顕微鏡を用いて、透明導電性フィルム１の断面を観察することにより測定することができる。
５．導電密着層
導電密着層６は、導体層５および透明導電層４の密着を図るための層である。
導電密着層６は、平面視枠形状を有する。
導電密着層６の材料としては、例えば、クロム、ニッケル、酸化ケイ素（ＳｉＯｘ、（０＜ｘ＜２））、銅・ニッケル・チタン（Ｃｕ−Ｎｉ−Ｔｉ）合金およびアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）などが挙げられる。
導電密着層６の材料は、単独使用または２種以上併用することができる。
導電密着層６の材料としては、透明導電層４と、導体層５との密着性の観点から、好ましくは、クロム、銅・ニッケル・チタン（Ｃｕ−Ｎｉ−Ｔｉ）合金、酸化ケイ素（ＳｉＯｘ）およびアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、より好ましくは、クロム、酸化ケイ素（ＳｉＯｘ）およびアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、さらに好ましくは、クロム、酸化ケイ素（ＳｉＯｘ）、とりわけ好ましくは、酸化ケイ素（ＳｉＯｘ）が挙げられる。
つまり、導電密着層６は、透明導電層４と、導体層５との密着性の観点から、好ましくは、クロム（好ましくは、銅・ニッケル・チタン（Ｃｕ−Ｎｉ−Ｔｉ）合金に含まれるクロム）、ニッケル、酸化ケイ素およびアルミニウムドープ酸化亜鉛からなる群から１つ以上を含む。
導電密着層６は、後述する方法により形成される。
導電密着層６の厚みは、例えば、１ｎｍ以上であり、また、例えば、１０ｎｍ以下である。
とりわけ、導電密着層６の材料が、クロム、酸化ケイ素（ＳｉＯｘ）、および、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）のいずれかである場合には、導電密着層６の厚みは、例えば、１ｎｍ以上であり、また、例えば、１０ｎｍ以下、好ましくは、５ｎｍ以下、より好ましくは、３ｎｍ以下である。
また、導電密着層６の材料が、ニッケルおよび銅・ニッケル・チタン（Ｃｕ−Ｎｉ−Ｔｉ）合金のいずれかである場合には、導電密着層６の厚みは、例えば、１ｎｍ以上、好ましくは、５ｎｍ以上であり、また、例えば、１０ｎｍ以下である。
５．透明導電性フィルムの製造方法
次に、透明導電性フィルム１の製造方法を説明する。
透明導電性フィルム１の製造方法は、透明基材２を準備する第１工程と、透明基材２に、導電層３を配置する第２工程とを備える。また、この製造方法では、各層を、例えば、ロールトゥロール方式で、順に配置する。
第１工程では、図２Ａに示すように、透明基材２を準備する。
第２工程では、透明基材２に、導電層３を配置する。具体的には、透明基材２の厚み方向一方面に、導電層３を配置する。
より具体的には、第２工程において、視認領域１０に、透明導電層４を配置し、また、額縁領域１１に、導体層５と、導電密着層６と、透明導電層４とを厚み方向一方側に向かって順に配置する。
以下、具体的に詳述する。
第２工程では、まず、図２Ｂに示すように、透明基材２の厚み方向一方面の全面に、導体層５を配置する。
透明基材２の厚み方向一方面の全面に、導体層５を配置する方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、ラミネート法、めっき法、イオンプレーティング法などが挙げられ、好ましくは、スパッタリング法が挙げられる。
スパッタリング法は、真空チャンバー内にターゲットおよび透明基材２を対向配置し、ガスを供給するとともに電源から電圧を印加することによりガスイオンを加速しターゲットに照射させて、ターゲット表面からターゲット材料をはじき出して、そのターゲット材料を透明基材２の表面に積層させる。
ガスとしては、例えば、Ａｒなどの不活性ガスが挙げられる。また、必要に応じて、酸素ガスなどの反応性ガスを併用することができる。反応性ガスを併用する場合において、反応性ガスの流量比（ｓｃｃｍ）は特に限定しないが、スパッタガスおよび反応性ガスの合計流量比に対して、例えば、０．１流量％以上５流量％以下である。
スパッタリング時の気圧は、例えば、０．１Ｐａ以上であり、また、例えば、１．０Ｐａ以下、好ましくは、０．７Ｐａ以下である。
電源は、例えば、ＤＣ電源、ＡＣ電源、ＭＦ電源およびＲＦ電源のいずれであってもよく、また、これらの組み合わせであってもよい。
これにより、透明基材２の厚み方向一方面の全面に、導体層５を配置する。
次いで、第２工程では、図２Ｃに示すように、導体層５の厚み方向一方面の全面に導電密着層６を配置する。
導体層５の厚み方向一方面の全面に導電密着層６を配置する方法としては、例えば、スパッタリング法、めっき法、真空蒸着法などが挙げられ、好ましくは、スパッタリング法が挙げられる。
スパッタリングの条件（反応性ガスの流量比およびスパッタリング時の気圧）は、上記した導体層５のおけるスパッタリングの条件と同様である。
これにより、導体層５の厚み方向一方面の全面に導電密着層６を配置する。また、透明基材２と、導体層５と、導電密着層６とを厚み方向一方側に向かって順に備える中間体１２（後述）が得られる。
次いで、第２工程では、図２Ｄに示すように、導体層５および導電密着層６をパターン形成することにより、視認領域１０および額縁領域１１を形成（区画）する。
導体層５および導電密着層６をパターン形成する方法としては、公知のエッチング手法が挙げられる。
具体的には、導体層５および導電密着層６を平面視枠形状にパターン形成する。換言すれば、導体層５および導電密着層６の平面視中央部２０の導体層５および導電密着層６を除去し、その中央部２０の周縁部２１の導体層５および導電密着層６を残存させるように、パターン形成する。
これにより、上記の中央部２０が、視認領域１０となり、周縁部２１が、額縁領域１１
となる。
すなわち、導体層５および導電密着層６が配置される領域が、額縁領域１１であり、導体層５および導電密着層６が配置されない領域が、視認領域１０である。
次いで、第２工程では、図２Ｅに示すように、視認領域１０の厚み方向一方面と、額縁領域１１の厚み方向一方面と、視認領域１０および額縁領域１１の境界における導体層５および導電密着層６の内側面とに、透明導電層４を配置する。
具体的には、透明導電層４は、視認領域１０および額縁領域１１を跨るように、配置される。詳しくは、透明導電層４は、視認領域１０において、透明基材２の厚み方向一方面に配置され、また、透明導電層４は、額縁領域１１において、導電密着層６の厚み方向一方面に配置され、視認領域１０および額縁領域１１の境界において、導体層５および導電密着層６の内側面に配置される。そして、視認領域１０における透明導電層４と、額縁領域１１における透明導電層４と、視認領域１０および額縁領域１１の境界における透明導電層４とは、連続するように形成される。
透明導電層４を配置するには、視認領域１０の厚み方向一方面（透明基材２の厚み方向一方面）、額縁領域１１の厚み方向一方面（導電密着層６の厚み方向一方面）、および、視認領域１０および額縁領域１１の境界における導体層５および導電密着層６の内側面に、透明導電組成物の希釈液を塗布し、その後、乾燥させる。
これにより、視認領域１０の厚み方向一方面と、額縁領域１１の厚み方向一方面と、視認領域１０および額縁領域１１の境界における導体層５および導電密着層６の内側面に、に、透明導電層４を配置する。
以上説明したように、このような第２工程により、視認領域１０に、透明導電層４を配置し、また、額縁領域１１に、導体層５と、導電密着層６と、透明導電層４とを厚み方向一方側に向かって順に配置する。
これにより、透明基材２と、導電層３とを厚み方向一方側に向かって順に備える透明導電性フィルム１が得られる。
そして、透明導電性フィルム１の透明導電層４は、例えば、フォトレジスト、ウェットエッチングなどの公知のパターニング方法により、パターン形成することもできる。
好ましくは、透明導電層４は、フォトレジスト、ウェットエッチングにより、パターン形成される。
つまり、透明導電性フィルム１は、フォトレジスト用またはウェットエッチング用として好適に用いられる。
６．作用効果
透明導電性フィルム１において、額縁領域１１は、導体層５と、導電密着層６と、透明導電層４とを厚み方向一方側に向かって順に備える。
つまり、導体層５と、透明導電層４との間に、導電密着層６を備える。
そのため、導体層５および透明導電層４の間の密着性に優れる。
とりわけ、透明導電性フィルム１の透明導電層４を、フォトレジストにより、パターン形成する場合には、導体層５と、金属ナノワイヤーを含む透明導電層４との密着性が低いため、透明導電層４が剥離する場合がある。
一方、この透明導電性フィルム１では、導体層５と、透明導電層４との間に、導電密着層６を備えるため、導体層５および透明導電層４の間の密着性に優れる。その結果、フォトレジストにより、パターン形成する場合においても、透明導電層４の剥離を抑制することができる。
透明導電性フィルム１の製造方法は、第２工程において、額縁領域１１に、導体層５と、導電密着層６と、透明導電層４とを厚み方向一方側に向かって順に配置する。
そのため、導体層５および透明導電層４の間の密着性に優れる透明導電性フィルム１を得ることができる。
７．中間体
中間体１２は、透明導電性フィルム１の製造方法に用いることができる部品である。
中間体１２は、透明基材２と、導体層５と、導電密着層６とを厚み方向一方側に向かって順に備えるか、または、透明基材２と、透明導電層４と、導電密着層６とを厚み方向一方側に向かって順に備える。
とりわけ、上記したように、額縁領域１１が、導体層５と、導電密着層６と、透明導電層４とを厚み方向一方側に向かって順に備える場合には、図２Ｃに示すように、中間体１２は、透明基材２と、導体層５と、導電密着層６とを厚み方向一方側に向かって順に備える。
このような中間体１２によれば、導体層５および透明導電層６の間の密着性に優れる透明導電性フィルム１を得ることができる。
８．変形例
変形例において、一実施形態と同様の部材および工程については、同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。また、変形例は、特記する以外、一実施形態と同様の作用効果を奏することができる。さらに、一実施形態およびその変形例を適宜組み合わせることができる。
上記した説明では、額縁領域１１は、導体層５と、導電密着層６と、透明導電層４とを厚み方向一方側に向かって順に備えるが、額縁領域１１は、透明導電層４と、導電密着層６と、導体層５とを厚み方向一方側に向かって順に備えることもできる。
このような場合には、透明導電性フィルムの製造方法の第２工程では、まず、透明基材２の厚み方向一方面の全面に、透明導電層４を配置し、次いで、透明導電層４の厚み方向一方面の全面に導電密着層６を配置し、次いで、透明導電層４および導電密着層６をパターン形成することにより、視認領域１０および額縁領域１１を形成し、次いで、額縁領域１１の厚み方向一方面（導電密着層６の厚み方向一方面）に、導体層５を配置する。
また、このような場合には、中間体１２は、透明基材２と、透明導電層４と、導電密着層６とを厚み方向一方側に向かって順に備える。
また、上記した説明では、導電層３を、透明基材２の厚み方向一方側に配置するが、図３に示すように、導電層３を、透明基材２の両側（厚み方向一方側および厚み方向他方側）に配置することもできる。
このような場合には、透明導電性フィルム１は、導電層３と、透明基材２と、導電層３とを厚み方向一方側に向かって順に備える。詳しくは、透明導電性フィルム１は、視認領域１０において、透明導電層４と、透明基材２と、透明導電層４とを厚み方向一方側に向かって順に備え、額縁領域１１において、透明導電層４と、導電密着層６と、導体層５と、透明基材２と、導体層５と、導電密着層６と、透明導電層４とを厚み方向一方側に向かって順に備える。
導電層３を、透明基材２の両側に配置すれば、透明基材２の共通化による薄膜化、パターン配線の位置精度向上の利点がある。
また、上記した説明では、透明基材２の上面（厚み方向一方面）に、導電層３を配置するが、透明基材２の上面（厚み方向一方面）に、ハードコート層７を配置することもできる。
このような場合には、図４に示すように、透明導電性フィルム１は、透明基材２と、透明基材２の上面（厚み方向一方面）に配置されるハードコート層７と、ハードコート層７の上面（厚み方向一方面）に配置される導電層３とを備える。
ハードコート層７は、透明導電性フィルム１を製造する際に、透明基材２に傷が発生することを抑制するための保護層である。また、ハードコート層７は、透明導電性フィルム１を積層した場合に、透明導電層４に擦り傷が発生することを抑制するための耐擦傷層である。
ハードコート層７は、ハードコート組成物から形成される。
ハードコート組成物は、樹脂および粒子を含有する。
樹脂としては、例えば、硬化性樹脂、熱可塑性樹脂（例えば、ポリオレフィン樹脂）などが挙げられ、好ましくは、硬化性樹脂が挙げられる。
硬化性樹脂としては、例えば、活性エネルギー線（具体的には、紫外線、電子線など）の照射により硬化する活性エネルギー線硬化性樹脂、例えば、加熱により硬化する熱硬化性樹脂などが挙げられ、好ましくは、活性エネルギー線硬化性樹脂が挙げられる。
活性エネルギー線硬化性樹脂は、例えば、分子中に重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基を有するポリマーが挙げられる。そのような官能基としては、例えば、ビニル基、（メタ）アクリロイル基（メタクリロイル基および／またはアクリロイル基）などが挙げられる。
活性エネルギー線硬化性樹脂としては、具体的には、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレートなどの（メタ）アクリル系紫外線硬化性樹脂が挙げられる。
また、活性エネルギー線硬化性樹脂以外の硬化性樹脂としては、例えば、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、シロキサン系ポリマー、有機シラン縮合物などの熱硬化性樹脂が挙げられる。
樹脂は、単独使用または２種以上併用することができる。
粒子としては、例えば、シリカ粒子、ジルコニア粒子などの無機粒子、例えば、架橋アクリル系粒子などの有機粒子などが挙げられる。
粒子の平均粒子径は、例えば、１０ｎｍ以上であり、また、例えば、３０００ｎｍ以下、好ましくは、１０００ｎｍ以下、より好ましくは、１００ｎｍ以下、さらに好ましくは、５０ｎｍ以下である。
そして、ハードコート組成物は、樹脂および粒子を混合することにより得られる。
また、ハードコート組成物には、必要により、レベリング剤、チクソトロピー剤、帯電防止剤などの公知の添加剤を配合することができる。
ハードコート層７を形成するには、ハードコート組成物の希釈液を透明基材２の厚み方向一方面に塗布し、乾燥後、紫外線照射により、ハードコート組成物を硬化させる。
これにより、ハードコート層７を形成する。
ハードコート層７の厚みは、耐擦傷性の観点から、例えば、０．１μｍ以上、好ましくは、０．５μｍ以上、より好ましくは、０．８μｍ以上であり、また、例えば、１０μｍ以下、好ましくは、２μｍ以下である。ハードコート層７の厚みは、例えば、透過型電子顕微鏡を用いて、断面観察により測定することができる。
そして、ハードコート層７の上面（厚み方向一方面）に、導電層３を、上記と同様に形成する。
また、ハードコート層７を、透明基材２の両側（厚み方向一方側および厚み方向他方側）に配置することもできる。
以下に実施例および比較例を示し、本発明をさらに具体的に説明する。なお、本発明は、何ら実施例および比較例に限定されない。また、以下の記載において用いられる配合割合（含有割合）、物性値、パラメータなどの具体的数値は、上記の「発明を実施するための形態」において記載されている、それらに対応する配合割合（含有割合）、物性値、パラメータなど該当記載の上限値（「以下」、「未満」として定義されている数値）または下限値（「以上」、「超過」として定義されている数値）に代替することができる。
１．試験用透明導電性フィルムの製造
以下の実施例および比較例では、後述する評価用の透明導電性フィルムとして、試験用透明導電性フィルムを製造した。
試験用透明導電性フィルムは、上記した第２工程において、導体層および導電密着層をパターン形成することなく（視認領域および額縁領域を形成することなく）、導電密着層の厚み方向一方面の全面に、透明導電層を配置したものである。
このような試験用透明導電性フィルムに対する評価（後述）の結果は、本発明の透明導電性フィルムに対する評価（後述）の結果に代替えすることができる。
実施例１
透明基材として、シクロオレフィン系フィルム（厚さ４０μｍ、日本ゼオン社製「ゼオノアフィルム」）を用意した。
透明基材の両面に、紫外線硬化性アクリル樹脂を含有するハードコート層用液を塗布および乾燥した。その後、紫外線照射により硬化性樹脂組成物を硬化させた。これにより、厚み１．０μｍのハードコート層を形成した。
次いで、透明基材の両面に設けられたハードコート層のうち、厚み方向一方側のハードコート層の厚み方向一方面の全面に、導体層を形成した。
具体的には、ＤＣスパッタリング法によって、スパッタ出力の設定厚みを２００ｎｍに調整して、銅のターゲットを用いてスパッタリングした。真空条件は、アルゴンガスを導入し、気圧を０．３Ｐａとした。これにより、厚み２００ｎｍの導体層（銅層）を形成した。
さらに、導体層の厚み方向一方面の全面に、導電密着層を形成した。
具体的には、ＤＣスパッタリング法によって、スパッタ出力の設定厚みを５．０ｎｍに調整して、クロムのターゲットを用いてスパッタリングした。真空条件は、アルゴンガスを導入し、気圧を０．３Ｐａとした。これにより、厚み５．０ｎｍの導電密着層（クロム層）を形成した。
そして、導電密着層の厚み方向一方面の全面に、透明導電層を形成した。
具体的には、銀ナノワイヤー（平均繊維長１０μｍ、平均繊維径１０ｎｍ）０．１５質量％、バインダー樹脂（セルロース誘導体）０．４５質量％、水系溶媒９９．４質量％含む透明導電組成物の希釈液を塗布し、乾燥させることにより、厚み１０〜８０ｎｍの透明導電層を形成した。
これにより、ハードコート層と、透明基材と、ハードコート層と、導電層（導体層、導電密着層および透明導電層）とを厚み方向一方側に向かって順に備える試験用透明導電性フィルムを得た。
実施例２
導電密着層（クロム層）の厚みを２．５ｎｍとした以外は、実施例１と同様にして、試験用透明導電性フィルムを得た。
実施例３
導電密着層としてＳｉＯｘ（０＜ｘ＜２）層を設け、ＳｉＯｘ層の厚みを５ｎｍとした以外は、実施例１と同様にして、試験用透明導電性フィルムを得た。
具体的には、スパッタ出力の設定厚みを５．０ｎｍに調整して、ターゲットとして、Ｓｉターゲットを用いてスパッタリングすることにより、導電密着層を形成した。
なお、真空条件は、アルゴンガス：酸素ガスを１：１．３の重量比率で導入し、気圧を０．２Ｐａとした。
実施例４
導電密着層（ＳｉＯｘ層）の厚みを２．５ｎｍとした以外は、実施例３と同様にして、試験用透明導電性フィルムを得た。
実施例５
導電密着層としてＣｕ−Ｔｉ−Ｎｉ層を設け、Ｃｕ−Ｔｉ−Ｎｉ層の厚みを５ｎｍとした以外は、実施例１と同様にして、試験用透明導電性フィルムを得た。
具体的には、スパッタ出力の設定厚みを５．０ｎｍに調整して、ターゲットとしてＣｕＴｉＮｉ（Ｃｕ：３５質量％、Ｔｉ：３質量％、Ｎｉ：６２質量％）を用いてスパッタリングすることにより、導電密着層を形成した。
なお、真空条件は、アルゴンガスを導入し、気圧を０．３Ｐａとした。
実施例６
導電密着層（Ｃｕ−Ｎｉ−Ｔｉ層）の厚みを２．５ｎｍとした以外は、実施例５と同様にして、試験用透明導電性フィルムを得た。
実施例７
導電密着層としてＮｉ層を設け、Ｎｉ層の厚みを５ｎｍとした以外は、実施例１と同様にして、試験用透明導電性フィルムを得た。
具体的には、スパッタ出力の設定厚みを５．０ｎｍに調整して、ターゲットとしてＮｉを用いてスパッタリングすることにより、導電密着層を形成した。
なお、真空条件は、アルゴンガスを導入し、気圧を０．３Ｐａとした。
実施例８
導電密着層（Ｎｉ層）の厚みを２．５ｎｍとした以外は、実施例７と同様にして、試験用透明導電性フィルムを得た。
実施例９
導電密着層としてアルミニウムドープ酸化亜鉛層（ＡＺＯ層）を設け、ＡＺＯ層の厚みを５ｎｍとした以外は、実施例１と同様にして、試験用透明導電性フィルムを得た。
具体的には、スパッタ出力の設定厚みを５．０ｎｍに調整して、ターゲットとしてＡＺＯを用いてスパッタリングことにより、導電密着層を形成した。
なお、真空条件は、アルゴンガスおよび酸素ガスを４０：１の重量比率で導入し、気圧を０．３Ｐａとした。
実施例１０
導電密着層（ＡＺＯ層）の厚みを２．５ｎｍとした以外は、実施例９と同様にして、試験用透明導電性フィルムを得た。
比較例１
導電密着層を設けなかった以外は、実施例１と同様にして、試験用透明導電性フィルムを得た。
２．評価
（密着性）
各実施例および各比較例の試験用透明導電性フィルムについて、クロスカット法に基づいて、１０マス×１０マス（合計１００マス）の切り込みを入れた。
その後、この試験用透明導電性フィルムを、４０℃、１質量％のＫＯＨ水溶液に、５分間浸漬後、純水で洗浄し、乾燥させた。
その後、１００マスについて、透明導電層が欠けでいるマス（欠け）、透明導電層が剥がれているマス（剥がれ）、および、透明導電層が剥がれておらず、かつ、欠けていないマス（欠け・剥がれなし）のそれぞれをカウントした。
その結果を表１に示す。
Figure 2021037668
１ 透明導電性フィルム
２ 透明基材
３ 導電層
４ 透明導電層
５ 導体層
６ 導電密着層
１０ 視認領域
１１ 額縁領域
１２ 中間体

Claims (9)

  1. 透明基材と、導電層とを厚み方向一方側に向かって順に備え、
    前記導電層は、視認領域および前記視認領域の周縁部に配置される額縁領域を備え、
    前記視認領域は、透明導電層を備え、
    前記額縁領域は、導体層と、前記透明導電層と、それらの間に配置され、前記導体層および前記透明導電層の密着を図るための導電密着層とを備え、
    前記透明導電層は、金属ナノワイヤーを含むことを特徴とする、透明導電性フィルム。
  2. 前記額縁領域が、前記導体層と、前記導電密着層と、前記透明導電層とを厚み方向一方側に向かって順に備えることを特徴とする、請求項１に記載の透明導電性フィルム。
  3. 前記透明基材の両側に、前記導電層が配置されていることを特徴とする、請求項１または２に記載の透明導電性フィルム。
  4. 前記金属ナノワイヤーが、銀ナノワイヤーであることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の透明導電性フィルム。
  5. 前記導体層が、銅層であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の透明導電性フィルム。
  6. 前記導電密着層が、クロム、ニッケル、酸化ケイ素およびアルミニウムドープ酸化亜鉛からなる群から１つ以上を含むことを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の透明導電性フィルム。
  7. フォトレジスト用またはウェットエッチング用であることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載の透明導電性フィルム。
  8. 透明基材を準備する第１工程と、
    前記透明基材に、視認領域および前記視認領域の周縁部に配置される額縁領域を備える導電層を配置する第２工程とを備え、
    第２工程において、前記視認領域に、透明導電層を配置し、前記額縁領域に、導体層と、透明導電層と、それらの間に配置され、前記導体層および前記透明導電層の密着を図るための導電密着層とを配置し、
    前記透明導電層は、金属ナノワイヤーを含むことを特徴とする、透明導電性フィルムの製造方法。
  9. 請求項８に記載の透明導電性フィルムの製造方法に用いられ、
    前記透明基材と、前記導体層と、前記導電密着層とを厚み方向一方側に向かって順に備えるか、または、
    前記透明基材と、前記透明導電層と、前記導電密着層とを厚み方向一方側に向かって順に備えることを特徴とする、中間体。
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