JP2021018494A - 状態管理システム及び状態管理方法 - Google Patents
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- 238000007726 management method Methods 0.000 title claims abstract description 61
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 55
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 53
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 122
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 95
- 230000036541 health Effects 0.000 description 94
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 72
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 44
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 16
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 11
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 11
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 10
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 6
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 5
- 230000006870 function Effects 0.000 description 4
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 4
- 230000004044 response Effects 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000010606 normalization Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
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- G05B23/02—Electric testing or monitoring
- G05B23/0205—Electric testing or monitoring by means of a monitoring system capable of detecting and responding to faults
- G05B23/0259—Electric testing or monitoring by means of a monitoring system capable of detecting and responding to faults characterized by the response to fault detection
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- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B23/00—Testing or monitoring of control systems or parts thereof
- G05B23/02—Electric testing or monitoring
- G05B23/0205—Electric testing or monitoring by means of a monitoring system capable of detecting and responding to faults
- G05B23/0259—Electric testing or monitoring by means of a monitoring system capable of detecting and responding to faults characterized by the response to fault detection
- G05B23/0267—Fault communication, e.g. human machine interface [HMI]
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- G07—CHECKING-DEVICES
- G07C—TIME OR ATTENDANCE REGISTERS; REGISTERING OR INDICATING THE WORKING OF MACHINES; GENERATING RANDOM NUMBERS; VOTING OR LOTTERY APPARATUS; ARRANGEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS FOR CHECKING NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- G07C3/00—Registering or indicating the condition or the working of machines or other apparatus, other than vehicles
- G07C3/08—Registering or indicating the production of the machine either with or without registering working or idle time
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
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- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B19/00—Programme-control systems
- G05B19/02—Programme-control systems electric
- G05B19/418—Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS] or computer integrated manufacturing [CIM]
- G05B19/4183—Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS] or computer integrated manufacturing [CIM] characterised by data acquisition, e.g. workpiece identification
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- G—PHYSICS
- G07—CHECKING-DEVICES
- G07C—TIME OR ATTENDANCE REGISTERS; REGISTERING OR INDICATING THE WORKING OF MACHINES; GENERATING RANDOM NUMBERS; VOTING OR LOTTERY APPARATUS; ARRANGEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS FOR CHECKING NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- G07C3/00—Registering or indicating the condition or the working of machines or other apparatus, other than vehicles
- G07C3/005—Registering or indicating the condition or the working of machines or other apparatus, other than vehicles during manufacturing process
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
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- G—PHYSICS
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- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B2219/00—Program-control systems
- G05B2219/30—Nc systems
- G05B2219/45—Nc applications
- G05B2219/45031—Manufacturing semiconductor wafers
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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Abstract
Description
装置に蓄積されたデータを取得する取得部と、
取得されたデータのうち、予め選択された複数種類のデータを組み合わせ、前記装置の正常度合いを示す1の指標を算出する処理を、所定周期ごとに実行する実行部と、
算出された前記1の指標を表示する表示制御部とを有する。
<状態管理システムのシステム構成及び基板処理装置に蓄積されるデータ例>
はじめに、第1の実施形態に係る状態管理システムのシステム構成と、該状態管理システムを構成する各基板処理装置に蓄積されるデータ例について説明する。図1は、状態管理システムのシステム構成及び基板処理装置に蓄積されるデータ例を示す図である。
次に、解析装置140のハードウェア構成について説明する。図2は、解析装置のハードウェア構成の一例を示す図である。図2に示すように、解析装置140は、CPU(Central Processing Unit)201、ROM(Read Only Memory)202、RAM(Random Access Memory)203を有する。CPU201、ROM202、RAM203は、いわゆるコンピュータを形成する。
次に、解析装置140の機能構成について説明する。図3は、解析装置の機能構成の一例を示す図である。上述したように、解析装置140には解析プログラムがインストールされており、当該解析プログラムを実行することで、解析装置140は、データ取得部301、健康値算出部302、稼働率算出部303、表示制御部304として機能する。
次に、解析装置140による健康値算出処理の具体例について説明する。図4は、健康値算出処理の具体例を示す図である。図4に示すように、解析装置140が健康値算出処理を行うにあたっては、はじめに、表示制御部304が、表示部205にカスタマイズ画面400を表示し、健康値の算出に用いるデータ項目の選択を受け付ける。
(式1)
(健康値)=100−a1×(ウェハ処理枚数)−a2×(アラーム発生頻度)−a3×(累積膜厚)−a4×(RISK品発生割合)
なお、"a1"〜"a4"は、選択されたデータ項目ごとに指定された重み係数を表す。また、"100"は満点値であり、a1×(ウェハ処理枚数)は、データ項目="ウェハ処理枚数"の減点値を表す。同様に、a2×(アラーム発生頻度)は、データ項目="アラーム発生頻度"の減点値を、a3×(累積膜厚)は、データ項目="累積膜厚"の減点値を、a4×(RISK品発生割合)は、データ項目="RISK品発生割合"の減点値をそれぞれ表す。ただし、健康値算出部302では、減点値を算出するにあたり、選択されたデータ項目に対応するデータ内容に対して、例えば正規化処理を行うものとする。
次に、解析装置140による健康値算出処理の流れについて説明する。図5は、解析装置による健康値算出処理の流れを示すフローチャートである。なお、健康値算出処理の実行中、データ取得部301では、基板処理装置120_1から継続的に蓄積データ130を取得し、データ格納部310に格納するものとする。
次に、解析装置140による稼働率算出処理の具体例について説明する。図6は、稼働率算出処理の具体例を示す図である。解析装置140の稼働率算出部303では、カスタマイズ画面400(図4参照)において指定された対象区間(点線420で囲まれた対象区間)について、稼働率を算出する。
次に、解析装置140による稼働率算出処理の流れについて説明する。図7は、解析装置による稼働率算出処理の流れを示すフローチャートである。なお、稼働率算出処理の実行中、データ取得部301では、基板処理装置120_1から継続的に蓄積データを取得し、データ格納部310に格納するものとする。
次に、表示制御部304により解析装置140の表示部205に表示される管理画面及び詳細画面の表示例について説明する。図8は、解析装置に表示される管理画面及び詳細画面の一例を示す図である。
以上の説明から明らかなように、第1の実施形態に係る状態管理システムは、
・基板処理装置に蓄積された蓄積データから、選択された複数種類のデータ項目に対応するデータ内容であって、指定された対象区間のデータ内容を読み出す。
・読み出したデータ内容に、指定された重み係数をかけ合わせることで、データ項目ごとに減点値を算出し、満点値から差し引くことで、基板処理装置の現在の状態を示す1の指標である"健康値"を算出する。
・算出した健康値を管理画面に表示する。
・基板処理装置に蓄積された蓄積データから、基板を処理することができる状態にあったか否かを示すデータ項目に対応するデータ内容であって、指定された対象区間のデータ内容を読み出す。
・読み出したデータ内容に基づいて、基板処理装置の過去の状態を示す1の指標である"稼働率"を算出する。
・算出した稼働率を管理画面に表示する。
上記第1の実施形態では、解析装置140を基板処理装置120_1に接続し、基板処理装置120_1に蓄積された蓄積データを取得することで、健康値及び稼働率を算出する場合について説明した。しかしながら、解析装置140の接続先は、基板処理装置120_1に限定されず、複数の基板処理装置に同時に接続してもよい。これにより、複数の基板処理装置の状態を、共通の指標を用いて対比することが可能となる。以下、第2の実施形態について、上記第1の実施形態との相違点を中心に説明する。
はじめに、基板処理装置120_1〜120_nそれぞれの蓄積データに基づいて、基板処理装置ごとに健康値と稼働率とを算出し、管理画面に表示した場合の表示例について説明する。図9は、複数の基板処理装置について算出された健康値及び稼働率の具体例を示す図である。
以上の説明から明らかなように、第2の実施形態に係る状態管理システムは、
・複数の基板処理装置の蓄積データを取得し、同じデータ項目、同じ重み係数、同じ対象区間に基づいて、健康値を算出するとともに、同じデータ項目、同じ対象区間に基づいて、稼働率を算出する。
・複数の基板処理装置の蓄積データに基づいて算出した、健康値及び稼働率とを並列に表示する。
上記第1及び第2の実施形態において、解析装置140は、基板処理装置の現在及び過去の状態を示す指標として、健康値と稼働率の両方を算出して表示するものとして説明した。しかしながら、解析装置140は、いずれか一方のみを算出して表示するように構成してもよい。
110 :ホスト装置
120_1〜120_n :基板処理装置
140 :解析装置
301 :データ取得部
302 :健康値算出部
303 :稼働率算出部
304 :表示制御部
400 :カスタマイズ画面
800 :管理画面
810 :詳細画面
910、920 :管理画面
Claims (10)
- 装置に蓄積されたデータを取得する取得部と、
取得されたデータのうち、予め選択された複数種類のデータを組み合わせ、前記装置の正常度合いを示す1の指標を算出する処理を、所定周期ごとに実行する実行部と、
算出された前記1の指標を表示する表示制御部と
を有する状態管理システム。 - 装置に蓄積されたデータを取得する取得部と、
取得されたデータのうち、前記装置が稼働できる状態にあったか否かを示すデータを抽出し、前記装置が稼働できる状態にあった割合を示す1の指標を算出する処理を、所定周期ごとに実行する実行部と、
算出された前記1の指標を表示する表示制御部と
を有する状態管理システム。 - 前記実行部は、前記取得されたデータのうち、予め指定された対象区間のデータについて、前記処理を実行する、請求項1または2に記載の状態管理システム。
- 前記実行部は、予め指定された重み係数を、前記予め選択された複数種類のデータにかけ合わせることで減点値を算出し、算出した減点値を満点値から減算することで、前記1の指標を算出する、請求項1に記載の状態管理システム。
- 装置に蓄積されたデータを取得する取得部と、
取得されたデータのうち、予め選択された複数種類のデータを組み合わせ、前記装置の正常度合いを示す第1の指標を算出する処理を、所定周期ごとに実行する第1の実行部と、
取得されたデータのうち、前記装置が稼働できる状態にあったか否かを示すデータを抽出し、前記装置が稼働できる状態にあった割合を示す第2の指標を算出する処理を、前記所定周期ごとに実行する第2の実行部と、
算出された前記第1の指標と前記第2の指標とを、並列に表示する表示制御部と
を有する状態管理システム。 - 前記取得部が、複数の前記装置に蓄積されたデータを取得し、前記第1の実行部が、複数の前記装置それぞれについて、前記第1の指標を算出する際、前記第1の実行部は、予め選択された共通の複数種類のデータを組み合わせて、前記第1の指標を算出する、請求項5に記載の状態管理システム。
- 前記第1の実行部は、予め指定された共通の重み係数を、前記予め選択された共通の複数種類のデータにかけ合わせることで減点値を算出し、算出した減点値を満点値から減算することで、前記第1の指標を算出する、請求項6に記載の状態管理システム。
- 装置に蓄積されたデータを取得する取得工程と、
取得されたデータのうち、予め選択された複数種類のデータを組み合わせ、前記装置の正常度合いを示す1の指標を算出する処理を、所定周期ごとに実行する実行工程と、
算出された前記1の指標を表示する表示制御工程と
を有する状態管理方法。 - 装置に蓄積されたデータを取得する取得工程と、
取得されたデータのうち、前記装置が稼働できる状態にあったか否かを示すデータを抽出し、前記装置が稼働できる状態にあった割合を示す1の指標を算出する処理を、所定周期ごとに実行する実行工程と、
算出された前記1の指標を表示する表示制御工程と
を有する状態管理方法。 - 装置に蓄積されたデータを取得する取得工程と、
取得されたデータのうち、予め選択された複数種類のデータを組み合わせ、前記装置の正常度合いを示す第1の指標を算出する処理を、所定周期ごとに実行する第1の実行工程と、
取得されたデータのうち、前記装置が稼働できる状態にあったか否かを示すデータを抽出し、前記装置が稼働できる状態にあった割合を示す第2の指標を算出する処理を、前記所定周期ごとに実行する第2の実行工程と、
算出された前記第1の指標と前記第2の指標とを、並列に表示する表示制御工程と
を有する状態管理方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019132259A JP7249902B2 (ja) | 2019-07-17 | 2019-07-17 | 状態管理システム及び状態管理方法 |
KR1020200082191A KR102639388B1 (ko) | 2019-07-17 | 2020-07-03 | 상태 관리 시스템 및 상태 관리 방법 |
CN202010645757.1A CN112242011A (zh) | 2019-07-17 | 2020-07-07 | 状态管理系统和状态管理方法 |
TW109122959A TWI833975B (zh) | 2019-07-17 | 2020-07-08 | 狀態管理系統及狀態管理方法 |
US16/926,944 US20210018905A1 (en) | 2019-07-17 | 2020-07-13 | State management system and state management method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019132259A JP7249902B2 (ja) | 2019-07-17 | 2019-07-17 | 状態管理システム及び状態管理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021018494A true JP2021018494A (ja) | 2021-02-15 |
JP7249902B2 JP7249902B2 (ja) | 2023-03-31 |
Family
ID=74170879
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019132259A Active JP7249902B2 (ja) | 2019-07-17 | 2019-07-17 | 状態管理システム及び状態管理方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20210018905A1 (ja) |
JP (1) | JP7249902B2 (ja) |
KR (1) | KR102639388B1 (ja) |
CN (1) | CN112242011A (ja) |
TW (1) | TWI833975B (ja) |
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- 2019-07-17 JP JP2019132259A patent/JP7249902B2/ja active Active
-
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---|---|---|---|---|
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7249902B2 (ja) | 2023-03-31 |
KR20210010343A (ko) | 2021-01-27 |
US20210018905A1 (en) | 2021-01-21 |
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CN112242011A (zh) | 2021-01-19 |
TW202119152A (zh) | 2021-05-16 |
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