JP2020519700A - ハロシロキサンを生成する方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 93
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims abstract description 54
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 48
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 27
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims abstract description 23
- -1 unreacted halosilane Substances 0.000 claims abstract description 22
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims abstract description 15
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 claims abstract description 6
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 29
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 27
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 27
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 claims description 16
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims description 15
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims description 15
- ZUHZGEOKBKGPSW-UHFFFAOYSA-N tetraglyme Chemical group COCCOCCOCCOCCOC ZUHZGEOKBKGPSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000010992 reflux Methods 0.000 claims description 6
- YLJJAVFOBDSYAN-UHFFFAOYSA-N dichloro-ethenyl-methylsilane Chemical group C[Si](Cl)(Cl)C=C YLJJAVFOBDSYAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical compound CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims description 4
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C=C GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- QHAHOIWVGZZELU-UHFFFAOYSA-N trichloro(trichlorosilyloxy)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)O[Si](Cl)(Cl)Cl QHAHOIWVGZZELU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- CRWNQZTZTZWPOF-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4-phenylpyridine Chemical compound C1=NC(C)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 CRWNQZTZTZWPOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 claims description 3
- 150000003983 crown ethers Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000001983 dialkylethers Chemical class 0.000 claims description 3
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000003880 polar aprotic solvent Substances 0.000 claims description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 claims description 3
- HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical compound O=C1CCCN1 HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 claims description 3
- IMYGMRDBUAOCFV-UHFFFAOYSA-N trichloro(dichlorosilyloxy)silane Chemical compound Cl[SiH](Cl)O[Si](Cl)(Cl)Cl IMYGMRDBUAOCFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 2
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 2
- DMSZORWOGDLWGN-UHFFFAOYSA-N ctk1a3526 Chemical compound NP(N)(N)=O DMSZORWOGDLWGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 2
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000004971 nitroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- QNXUEHHVVZBQHD-UHFFFAOYSA-N chloro-(chloro-ethenyl-methylsilyl)oxy-ethenyl-methylsilane Chemical group C=C[Si](Cl)(C)O[Si](C)(Cl)C=C QNXUEHHVVZBQHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- JXZFXRHPZSMSRE-UHFFFAOYSA-N dichloro-[dichloro(ethenyl)silyl]oxy-ethenylsilane Chemical compound C=C[Si](Cl)(Cl)O[Si](Cl)(Cl)C=C JXZFXRHPZSMSRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 14
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 13
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 11
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 10
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 9
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 8
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 8
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical group CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 6
- 238000001165 gas chromatography-thermal conductivity detection Methods 0.000 description 5
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 5
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 4
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- AKEJUJNQAAGONA-UHFFFAOYSA-N sulfur trioxide Chemical compound O=S(=O)=O AKEJUJNQAAGONA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 3
- XSGWPKAQYBOFLU-UHFFFAOYSA-N dichloro(dichlorosilyloxy)silane Chemical compound Cl[SiH](Cl)O[SiH](Cl)Cl XSGWPKAQYBOFLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical compound [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 235000011089 carbon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- NQOYHMKLWAVZDX-UHFFFAOYSA-N chloro(silyloxy)silane Chemical compound [SiH3]O[SiH2]Cl NQOYHMKLWAVZDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 150000003948 formamides Chemical class 0.000 description 2
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 2
- 239000012035 limiting reagent Substances 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- BSCHIACBONPEOB-UHFFFAOYSA-N oxolane;hydrate Chemical compound O.C1CCOC1 BSCHIACBONPEOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- YZCKVEUIGOORGS-IGMARMGPSA-N Protium Chemical compound [1H] YZCKVEUIGOORGS-IGMARMGPSA-N 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003869 acetamides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001243 acetic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012080 ambient air Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000480 butynyl group Chemical group [*]C#CC([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- RJNIYSQKLSWQAD-UHFFFAOYSA-N dichloro(oxo)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)=O RJNIYSQKLSWQAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- DQYBDCGIPTYXML-UHFFFAOYSA-N ethoxyethane;hydrate Chemical compound O.CCOCC DQYBDCGIPTYXML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000005980 hexynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 150000002826 nitrites Chemical class 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 150000008039 phosphoramides Chemical class 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002568 propynyl group Chemical group [*]C#CC([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- LXEXBJXDGVGRAR-UHFFFAOYSA-N trichloro(trichlorosilyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)[Si](Cl)(Cl)Cl LXEXBJXDGVGRAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
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- C07F7/126—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-Y linkages, where Y is not a carbon or halogen atom
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/121—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20
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Abstract
Description
なし
ii)ハロシランを部分的に加水分解し縮合させて、ハロシロキサン、溶媒、未反応ハロシラン、及びハロゲン化水素を含む反応生成物混合物を形成する工程と、
iii)第2の溶媒がハロシロキサンの沸点以上の沸点を有する第2の溶媒を、i)の反応混合物に、又はii)の反応生成物混合物に加える工程と、
iv)反応生成物混合物からハロシロキサンを回収する工程と、を含む、ハロシロキサンの製造方法。
R1 aXbSiH4−a−b (I)
(式中、R1は、1つから8つの炭素原子、或いは1つから3つの炭素原子、或いは2つの炭素原子を有するヒドロカルビルであり、或いはR1は、メチル及びエテニル基を表し、Xは、ハロ、或いはクロロであり、aは0〜2の整数、bは1〜4、或いは2〜4、或いは3又は4、或いは2、或いは3、或いは4の整数である)に従う。
TCDSOの合成:
6.65g(0.37モル)の水を100gの予め乾燥されたTEGDMEに加えることにより、水−TEGDME溶液を調製した。水−TEGDME溶液を、攪拌しながら0〜18℃で30分で250ml丸底フラスコにおいて100.0g(0.74モル)のトリクロロシラン(TCS)に加えた。添加後、透明な反応混合物を温め、室温で1時間撹拌した。次いで、フラスコを徐々に60℃まで加熱しながら、反応混合物を1トールまで真空下除去した。真空除去中、粗生成物(25.0g)を冷却トラップで凝縮した。粗生成物は、2%のHCl、72%の未反応TCS、26%のTCDSO、及び1%未満のクロロ高級シロキサンを含んだ(全ての数値はGC−TCD積分率である)。TCDSOの収率は8.5%と推定された。粗生成物を後にカラムを通して分別蒸留して、収率99+%のTCDSOを得た。
大規模なTCDSOの合成:
50.0g(2.77モル)の水を1LのTEGDMEに加えて、水−TEGDME溶液を調製した。水−TEGDME溶液を、内容物の温度を20℃未満に維持しながら、2Lの攪拌ジャケット付き反応器において1125g(8.30モル)のトリクロロシラン(TCS)に1時間に渡り加えた。添加後、透明な反応混合物をドライアイストラップを通して1トールまで真空下除去し、その後、トラップからの大部分のTCS材料(327g)を空にした。次いで、完全な真空下で除去を続けながら、反応器の内容物を徐々に70℃まで加熱した。真空除去中に、粗生成物(246g)をドライアイストラップで凝縮した。粗生成物は、71%の未反応TCS、25%のTCDSO、及び3%未満のクロロ高級シロキサンを含んだ(全ての数値はGC−TCD積分率である)。TCDSOの収率は、H2Oに基づいて10.3%と推定された。粗生成物を後にカラムを通して分別蒸留して、99+%のTCDSOを得た。
PCDSOの合成:
0.133g(7.38ミリモル)の水を2.0gの予め乾燥されたTEGDMEに加えることにより、水−TEGDME溶液を調製した。水−TEGDME溶液を、攪拌しながら5分で50ml丸底フラスコにおいて1.00g(7.38ミリモル)のトリクロロシラン(TCS)と1.25g(7.38ミリモル)の四塩化ケイ素(STC)のプレミックスに加えた。添加後、透明な反応混合物を温め、室温で1時間撹拌した。PCDSO及びTCDSOを、GC−TCD分析に基づいて約1.7:1の重量比で形成した。
HCDSOの合成:
0.265g(14.7ミリモル)の水を10.0gの予め乾燥されたTEGDMEに加えることにより、水−TEGDME溶液を調製した。次いで、水−TEGDME溶液を、攪拌しながら0℃にて7分で50ml丸底フラスコにおいて5.00g(29.4ミリモル)の四塩化ケイ素(STC)に加えた。添加後、透明な反応混合物を温め、室温で2時間撹拌した。HCDSO及びいくつかの副生成物がGC−TCDによって検出された。反応混合物を室温で1日間加熱した後、副生成物が消失し、HCDSOへの変換が増加した。このプロセスでゲルは形成されなかった。
テトラヒドロフランにおけるHCDSOの合成
シンチレーションバイアルにおいて、1.61g(0.09モル)の水を31.13g(0.42モル)の乾燥テトラヒドロフランに加えることにより、水−テトラヒドロフラン溶液を調製した。実際的な(positive)アルゴンパージでは、水−テトラヒドロフラン溶液を、攪拌しながら室温で61.05g(0.36モル)のSiCl4を入れた100mL丸底フラスコに素早く注いだ。添加中、フラスコの壁に穏やかな還流が観察された。反応を室温で2時間撹拌し、次いで大気圧で分別蒸留して、純度95%の物質を得た。収率=5.3029g(単離、制限試薬として水を使用して22.7%)。
−40℃でのジエチルエーテルにおけるHCDSOの合成
50mLシュレンクフラスコにおいて、7.08g(0.04モル)のSiCl4を5.81g(0.08モル)のジエチルエーテルに溶解し、撹拌しながら反応を−40℃に冷却した。水−ジエチルエーテルの混合物を、シンチレーションバイアルにおいて0.17g(0.009モル)の水と6.10g(0.08モル)のジエチルエーテルを組み合わせることによって調製した。反応混合物を30分間に渡り激しい撹拌に維持しながら、湿潤溶媒をシリンジを介して反応フラスコに滴下した。添加終了後、室温まで温める前に、反応を更に2時間−40℃に維持し、その時点で反応混合物は濁った。反応混合物の分割した量をGC−TCDで分析し、2.7重量%のHCDSO含有量がわかり、これにより、水を制限試薬として使用して最大収率19.2%を得た。その場の収率は、全ての成分が考慮されることを前提としているため、真の値の過大評価となる。分析評価中にかなりの量の固体沈殿物が除外されたため、この仮定は無効であった。−40℃を超えるジエチルエーテルにおける反応は、大量の固体沈殿のため実用的ではない。
高温でのCMVDSOの合成
250ml丸底フラスコに、51.9g(0.367モル)のジクロロメチルビニルシラン、Cl2SiMeビニルを入れた。出発材料をフラスコ内で還流させながら、30.0mlのTEGDMEに溶解した3.31g(0.184モル)の水の溶液を39分で滴下した。反応温度は80〜93℃で変動した。塩酸副生成物を1.0M水酸化ナトリウムスクラバーから排出した。添加後、反応混合物を90℃で60分間維持した。ポット温度が90℃まで、圧力が1トールまでの真空下で反応混合物を蒸留した。0℃で凝縮した蒸留物は、10.4gのCMVDSOを含み、これは25%の単離収率を占めた。
CMVDSOの合成
250ml丸底フラスコに、60.0g(0.425モル)のジクロロメチルビニルシラン、Cl2SiMeビニルを入れた。出発物質をフラスコ内で還流させながら、30.0mlのTEGDMEに溶解した水の1.92g(0.106モル)の溶液を35分で滴下した。反応温度は87〜96℃の間で変動した。塩酸副生成物は1.0M水酸化ナトリウムスクラバーから排出された。添加後、反応混合物を90℃で60分間維持した。ポット温度が90℃まで、圧力が1トールまでの真空下で反応混合物を蒸留した。0℃で凝縮した蒸留物は、9.8gのCMVDSOを含み、これは単離収率41%を占めた。この粗生成物から99.6%純度のCMVDSOを分別蒸留した。
高温でのCVDSOの合成
250ml丸底フラスコに、120.0g(0.743モル)のトリクロロビニルシラン、Cl3Siビニルを入れた。出発物質をフラスコ内で還流させながら、52.8mlのTEGDMEに溶解した3.34g(0.186モル)の水の溶液を20分で滴下した。反応温度は83〜95℃の間で変動した。塩酸副生成物は1.0M水酸化ナトリウムスクラバーから排出された。添加後、反応混合物を90℃で60分間維持した。ポット温度が90℃まで、圧力が1トールまでの真空下で反応混合物を蒸留した。0℃で凝縮した蒸留物は、11.0gのCVDSOを含み、単離収率22%を占めた。この粗生成物から99.6%純度のCVDSOを分別蒸留した。
Claims (12)
- i)水、ハロシラン、及び第1の溶媒を組み合わせて反応混合物を形成する工程と、
ii)前記ハロシランを部分的に加水分解し縮合させて、ハロシロキサン、前記溶媒、未反応ハロシラン、及びハロゲン化水素を含む反応生成物混合物を形成する工程と、
iii)第2の溶媒が前記ハロシロキサンの沸点以上の沸点を有する前記第2の溶媒を、i)の前記反応混合物に、ii)の前記反応生成物混合物に、或いは、i)の前記反応混合物及びii)の前記反応生成物混合物に加える工程と、
iv)前記反応生成物混合物から前記ハロシロキサンを回収する工程と、を含む、ハロシロキサンを生成する方法。 - 前記ハロシランは、ジクロロメチルビニルシラン、トリクロロビニルシラン、トリクロロシラン、テトラクロロシラン、又はトリクロロシランとテトラクロロシランの混合物である、請求項1に記載の方法。
- 前記ハロシロキサンはハロジシロキサンである、請求項1又は2に記載の方法。
- 前記ハロジシロキサンは、1,3−ジクロロ−1,3−ジメチル−1,3−ジビニルジシロキサン、1,1,3,3−テトラクロロ−1,3−ジビニルジシロキサン、1,1,3,3−テトラクロロジシロキサン、1,1,1,3,3−ペンタクロロジシロキサン、又はヘキサクロロジシロキサンである、請求項3に記載の方法。
- 前記部分加水分解及び縮合は、−30℃から前記ハロシランの還流温度までの温度にある、請求項1に記載の方法。
- 前記反応混合物は、0.1kPaから150kPaまでの圧力にある、請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第2の溶媒は、アルカン、アルケン又は芳香族を含む炭化水素溶媒、ジアルキルエーテル、グリコールエーテル、クラウンエーテル又はジオキサンを含むエーテル溶媒、或いはケトン、ニトリル、ホルムアミド、アセトアミド、スルホキシド、酢酸、ホスホルアミド、ピロリジノン、ニトロアルカン、又は炭酸塩を含む極性非プロトン性溶媒である、請求項1〜6のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第2の溶媒は、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル又はポリ(エチレングリコール)ジメチルエーテルである、請求項7に記載の方法。
- 前記ハロシロキサンは、蒸留、真空除去、蒸発、抽出又はクロマトグラフィーによって前記反応生成物混合物から回収される、請求項1に記載の方法。
- 前記反応混合物を形成するために組み合わされた水とハロシランのモル比が4:1から1:100である、請求項1〜9のいずれか一項に記載の方法。
- 前記反応混合物における第1の溶媒の量が75%(重量/重量)までである、請求項1〜10のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第1の溶媒と前記第2の溶媒が同一である、請求項1〜11のいずれか一項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201762515604P | 2017-06-06 | 2017-06-06 | |
US62/515,604 | 2017-06-06 | ||
PCT/US2018/034344 WO2018226420A1 (en) | 2017-06-06 | 2018-05-24 | Method of making a halosiloxane |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020519700A true JP2020519700A (ja) | 2020-07-02 |
JP6919066B2 JP6919066B2 (ja) | 2021-08-11 |
Family
ID=62683427
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020513495A Active JP6919066B2 (ja) | 2017-06-06 | 2018-05-24 | ハロシロキサンを生成する方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11098068B2 (ja) |
EP (1) | EP3634969B1 (ja) |
JP (1) | JP6919066B2 (ja) |
KR (1) | KR102331397B1 (ja) |
CN (1) | CN110621679B (ja) |
TW (1) | TWI788360B (ja) |
WO (1) | WO2018226420A1 (ja) |
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-
2018
- 2018-05-24 US US16/613,130 patent/US11098068B2/en active Active
- 2018-05-24 CN CN201880031624.6A patent/CN110621679B/zh active Active
- 2018-05-24 JP JP2020513495A patent/JP6919066B2/ja active Active
- 2018-05-24 KR KR1020197034097A patent/KR102331397B1/ko active IP Right Grant
- 2018-05-24 WO PCT/US2018/034344 patent/WO2018226420A1/en unknown
- 2018-05-24 EP EP18732534.5A patent/EP3634969B1/en active Active
- 2018-05-31 TW TW107118812A patent/TWI788360B/zh active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201902906A (zh) | 2019-01-16 |
KR102331397B1 (ko) | 2021-11-29 |
JP6919066B2 (ja) | 2021-08-11 |
US20200190123A1 (en) | 2020-06-18 |
WO2018226420A1 (en) | 2018-12-13 |
EP3634969B1 (en) | 2022-10-05 |
KR20190137158A (ko) | 2019-12-10 |
TWI788360B (zh) | 2023-01-01 |
EP3634969A1 (en) | 2020-04-15 |
CN110621679A (zh) | 2019-12-27 |
CN110621679B (zh) | 2023-06-30 |
US11098068B2 (en) | 2021-08-24 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20191113 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
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RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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|
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|
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