JP2020511735A - インクジェット印刷システムおよび発光要素の光出力効率を高める技術 - Google Patents
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Abstract
Description
各種有機発光ダイオード(OLED)表示装置またはOLED照明装置などの種々の発光素子は、発光層を取り囲む多数の機能層を有する構造となっている。各機能層の屈折率が異なる場合があり、そのため装置構造を画定する各層内の内面反射により導波性が生じ、その結果、発光素子からの発光量が低減することがある。
(1)
図7に、非反応性ガス源と清浄乾燥空気(CDA)源とを組み合わせ、制御する格納式インクジェット印刷システム1000Aの概略を示す。この印刷システムを使用することで、例えば本明細書の別の箇所で説明した他例における制御環境が実現でき、また、この印刷システムは、製造格納部100の内部に示すインクジェット印刷システム2000に使用する加圧ガス供給部を備えることができる。さらに、図7の格納式インクジェット印刷システム1000Aには、例えば各種保守手順中に製造格納部100内でCDA環境を実現できるようにCDA供給部を含めてもよい。
(2)
図7に示すように、格納式インクジェット印刷システム1000Aでは、インクジェット印刷システム2000を製造格納部100内に収容することができる。インクジェット印刷システム2000は、印刷システム基部2150によって支持することができる。この基部は、グラナイトステージであってもよい。印刷システム基部2150は、チャック、例えば、限定はされないが、真空チャック、圧力ポートを有する基板浮揚チャック、および真空ポートおよび圧力ポートを有する基板浮揚チャックなどの基板支持装置を支持することができる。本教示の様々な実施形態では、基板支持装置は、図7に示す基板浮揚テーブル2250などの基板浮揚テーブルであってもよい。基板浮揚テーブル2250を用いると、摩擦のない基板支持が可能となる。インクジェット印刷システム2000には、低粒子発生浮揚テーブルに加えて、基板をY軸方向に摩擦なく搬送するための、エアブッシュを使用したY軸モーションシステムも設けることができる。さらに、インクジェット印刷システム2000には、X/Z軸搬送アセンブリ2310を設けてもよい。このアセンブリは、印刷システムブリッジ2130に取り付けることができる。X/Z軸搬送アセンブリ2310は、低粒子発生X軸空気軸受アセンブリによって動きを制御することができる。低粒子発生モーションシステムにおける、X軸空気軸受アセンブリなどの各構成要素は、例えば粒子が発生する直線型の各種機械軸受システムの代わりに使用することができる。本教示によるガス格納部およびシステムの様々な実施形態では、空圧操作式の多様な機器および装置を使用することによって、粒子の発生を減少させ、かつ保守の必要性を低減させることができる。
(3)
プロセスガスの供給と制御に関して、図7に示すように、格納式インクジェット印刷システム1000Aの様々な実施形態には、非反応性ガス源3201と清浄乾燥空気(CDA)源3203とを組み合わせ、制御する外部ガスループ3200を設けることができ、格納式インクジェット印刷システム1000Aの様々な動作態様で使用される。格納式インクジェット印刷システム1000Aはまた、本明細書で先に説明したように、内部粒子濾過およびガス循環システムの様々な実施形態、ならびに外部ガス浄化システムの様々な実施形態も含み得る。非反応性ガス源3201用のガスとして一般に使用される非限定的な例として、窒素、任意の貴ガス、およびそれらの任意の組合せが挙げられる。本教示によるガス浄化システムの様々な実施形態では、水蒸気、酸素、オゾン、ならびに有機溶剤蒸気などの様々な反応性雰囲気ガスを含め、各種反応種のそれぞれについて、製造格納部100中の濃度を例えば100ppm以下、10ppm以下、1.0ppm以下、または0.1ppm以下に保つことができる。非反応性ガスの供給に加えて、インクジェット印刷システム2000の基板浮揚テーブル2250は、空気軸受技術を利用できるものであるが、真空システム3270も使用することができる。この真空システム3270は、弁3274が開位置にあるとき、ライン3272を介して製造格納部100と連通している。
Claims (20)
- 基板上に膜を形成する方法であって、
前記基板上に第1のインクを第1の所定パターンで堆積させ、
前記基板上に第2のインクを第2の所定パターンで堆積させ、
前記第1のインクを乾燥または硬化させて第1のパターンのポリマーエリアを形成し、
前記第2のインクを乾燥または硬化させて第2のパターンのポリマーエリアを形成すること
によって、前記基板上に複合ポリマー膜を形成する工程と、
前記複合ポリマー膜上に少なくとも1つの薄膜層を堆積させる工程と
を含み、
前記第1のパターンのポリマーエリアの屈折率が、前記少なくとも1つの薄膜層の屈折率よりも前記基板の屈折率に近く、さらに、前記第2のパターンのポリマーエリアの屈折率が、前記基板の前記屈折率よりも前記少なくとも1つの薄膜層の前記屈折率に近い、方法。 - 前記基板の前記屈折率が1.45から1.5の範囲である、請求項1に記載の方法。
- 前記第1のパターンのポリマーエリアの前記屈折率が1.45から1.5の範囲である、請求項2に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの薄膜層の前記屈折率が1.6から1.9の範囲である、請求項1に記載の方法。
- 前記第2のパターンのポリマーエリアの前記屈折率が1.6から1.9の範囲である、請求項4に記載の方法。
- 前記第1のインクが、アクリレートモノマー、メタクリレートモノマー、またはそれらの組合せを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記第2のインクが、アクリレートモノマー、メタクリレートモノマー、またはそれらの組合せ、およびナノ粒子を含む、請求項6に記載の方法。
- 前記第2のインクを堆積させる前に、前記第1のインクを乾燥または硬化させる、請求項1に記載の方法。
- 前記第1のインクおよび前記第2のインクのいずれか一方を乾燥および硬化させる前に、前記第1のインクおよび前記第2のインクを堆積させる、請求項1に記載の方法。
- 前記基板が光電子素子の基板であり、前記少なくとも1つの薄膜層が電極である、請求項1に記載の方法。
- 前記光電子素子が有機発光ダイオードである、請求項10に記載の方法。
- 光電子素子基板と、
第1のパターンのポリマーエリアと第2のパターンのポリマーエリアとを含む、前記光電子素子基板上の複合ポリマー膜と、
前記複合ポリマー膜上の少なくとも1つの薄膜層と
を備え、
前記第1のパターンのポリマーエリアの屈折率が、前記少なくとも1つの薄膜層の屈折率よりも前記光電子素子基板の屈折率に近く、さらに、前記第2のパターンのポリマーエリアの屈折率が、前記光電子素子基板の前記屈折率よりも前記少なくとも1つの薄膜層の前記屈折率に近い、光電子素子。 - 前記基板の前記屈折率が1.45から1.5の範囲である、請求項12に記載の素子。
- 前記第1のパターンのポリマーエリアの前記屈折率が1.45から1.5の範囲である、請求項13に記載の素子。
- 前記少なくとも1つの薄膜層の前記屈折率が1.6から1.9の範囲である、請求項12に記載の素子。
- 前記第2のパターンのポリマーエリアの前記屈折率が1.6から1.9の範囲である、請求項15に記載の素子。
- 前記第1のパターンのポリマーエリアが、アクリレートモノマー、メタクリレートモノマー、またはそれらの組合せの重合生成物を含む、請求項12に記載の素子。
- 前記第2のパターンのポリマーエリアが、アクリレートモノマー、メタクリレートモノマー、またはそれらの組合せの重合生成物、およびナノ粒子を含む、請求項17に記載の素子。
- 前記少なくとも1つの薄膜層が電極である、請求項12に記載の素子。
- 前記光電子素子が有機発光ダイオードである、請求項19に記載の素子。
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