JP2020203388A - Ｐｔｐブリスター用シート及びｐｔｐブリスター包装体 - Google Patents

Abstract

【課題】成型加工時の歩留りの高いＰＴＰブリスター用シート及びそれを用いたＰＴＰブリスター包装体を提供する。【解決手段】ＰＴＰブリスター包装体１を形成するＰＴＰブリスター用シート２０において、主成分が同じ樹脂の第１基材層２１及び第２基材層２４と、臭気を吸着する吸着剤を含有した吸着層２３とを備え、第１基材層２１と第２基材層２４との間に吸着層２３を配した。【選択図】図３

Description

本発明は、吸着剤を含有するＰＴＰブリスター用シート及びそれを用いたＰＴＰブリスター包装体に関する。

薬剤等を包装する従来のＰＴＰブリスター包装体は特許文献１に開示される。このＰＴＰブリスター包装体は薬剤等の収納部を凹設した容器部と、収納部を閉塞する蓋材とを備えている。容器部はバリア層及び吸着層を積層したＰＴＰブリスター用シートにより形成される。

ＰＴＰブリスター用シートの外層側に配されるバリア層はガスバリア性を有した樹脂により形成される。ＰＴＰブリスター用シートの内層側に配される吸着層は疎水性ゼオライト等の吸着剤を含有した樹脂組成物により形成され、蓋材に接着される。吸着層を設けることにより、薬剤等の臭気を吸着して消臭することができる。

特開２００６−３３４８１９号公報（第３頁〜第７頁、第３図）

ＰＴＰブリスター包装体の容器部はＰＴＰブリスター用シートを上金型と下金型との間に挟んで成形加工することにより形成される。上記従来のＰＴＰブリスター用シートはバリア層と吸着層とが異なる樹脂材料により形成される場合がある。この時、ＰＴＰブリスター用シートを成形加工する際に、上金型に接する上層と下金型に接する下層の最適な温度条件が異なる。このため、上層が下金型の温度の影響を受けて下層が上金型の温度の影響を受け、ＰＴＰブリスター用シートの成形性が悪く歩留りが低くなる問題があった。

例えば、バリア層がポリ塩化ビニル及びポリ塩化ビニリデンの積層体により形成され、吸着層がポリエチレンにより形成される。この時、成形加工時の下金型の温度が高いとポリエチレンから成る吸着層が溶融して金型に付着する。一方で下金型の温度を低くするとバリア層の伸びが悪くなり、ＰＴＰブリスター用シートの白化現象が生じる。このため、ＰＴＰブリスター用シートの歩留りが低くなる。

本発明は、成型加工時の歩留りの高いＰＴＰブリスター用シート及びそれを用いたＰＴＰブリスター包装体を提供することを目的とする。

上記目的を達成するために本発明のＰＴＰブリスター用シートは、主成分が同じ樹脂の第１基材層及び第２基材層と、臭気を吸着する吸着剤を含有した吸着層とを備え、前記第１基材層と前記第２基材層との間に前記吸着層を配したことを特徴としている。

また本発明は上記構成のＰＴＰブリスター用シートにおいて、前記第１基材層及び前記第２基材層がポリ塩化ビニルまたはポリプロピレンから成ることを特徴としている。

また本発明は上記構成のＰＴＰブリスター用シートにおいて、前記吸着層がポリオレフィン系樹脂に前記吸着剤を含有することを特徴としている。

また本発明は上記構成のＰＴＰブリスター用シートにおいて、前記第１基材層の前記吸着層側にガスバリア性を有するバリア層を設けたことを特徴としている。

また本発明は上記構成のＰＴＰブリスター用シートにおいて、前記バリア層がポリ塩化ビニリデンから成ることを特徴としている。

また本発明は上記構成のＰＴＰブリスター用シートにおいて、前記吸着剤が、ヒドロキシル基を有する化合物、金属炭酸塩、金属炭酸水素塩、アミノ基含有化合物、アミド基含有化合物、リン酸、スルホン酸、カルボン酸、リン酸の金属塩、スルホン酸の金属塩、カルボン酸の金属塩、金属酸化物から選択された少なくとも１種の化学吸着剤を含むことを特徴としている。

また本発明は上記構成のＰＴＰブリスター用シートにおいて、前記吸着剤が無機多孔体に前記化学吸着剤を担持することを特徴としている。

また本発明は上記構成のＰＴＰブリスター用シートにおいて、前記第１基材層及び前記第２基材層の厚みが前記吸着層の厚みよりも大きいことを特徴としている。

また本発明のＰＴＰブリスター包装体は、上記各構成のＰＴＰブリスター用シートにより形成されるとともに前記第１基材層側に凸の収納部を設けた容器部と、前記収納部の周囲の前記第２基材層上に熱接着される蓋材とを備えたことを特徴としている。

本発明によると、ＰＴＰブリスター用シートは主成分が同じ樹脂の第１基材層と第２基材層との間に吸着層を配される。このため、ＰＴＰブリスター用シートを成型加工する際に上金型及び下金型の温度条件を同じにすることができる。従って、ＰＴＰブリスター用シートの成型加工時の歩留りを向上することができ、ＰＴＰブリスター用シート及びＰＴＰブリスター包装体のコストを削減することができる。

本発明の実施形態のＰＴＰブリスター包装体を示す上面図 本発明の実施形態のＰＴＰブリスター包装体を示す正面断面図 本発明の実施形態のＰＴＰブリスター包装体のＰＴＰブリスター用シートを示す断面図 本発明の実施形態のＰＴＰブリスター包装体の蓋材を示す断面図 本発明の実施形態のＰＴＰブリスター包装体のＰＴＰブリスター用シートの成型加工時の状態を示す正面断面図

以下に図面を参照して本発明の実施形態を説明する。図１は一実施形態のＰＴＰブリスター包装体の上面図及び正面断面図を示している。ＰＴＰブリスター包装体１は容器部２及び蓋材３を備えている。容器部２はＰＴＰブリスター用シート２０（図３参照）により形成され、成形加工によって複数の収納部２ａが設けられる。収納部２ａには臭いの強い薬剤等の内容物Ｄが収納される。容器部２の下面に蓋材３を熱接着することにより、収納部２ａが密閉される。

図３は容器部２を形成するＰＴＰブリスター用シート２０の断面図を示している。ＰＴＰブリスター用シート２０は第１基材層２１、バリア層２２、吸着層２３、第２基材層２４を順に積層して形成される。ＰＴＰブリスター包装体１の容器部２は第１基材層２１を外層側に配され、第２基材層２４を内層側に配される。

第１基材層２１及び第２基材層２４は主成分が同じ樹脂フィルムにより形成される。尚、第１基材層２１及び第２基材層２４の一方または両方に添加剤等を添加してもよい。第１基材層２１及び第２基材層２４の厚みは３０〜３５０μｍが好ましく、１００〜２００μｍであるとより好ましい。

第１基材層２１及び第２基材層２４を形成する樹脂フィルムとして、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリビニルアルコール、エチレン・ビニルアルコール共重合体等を用いることができる。ポリ塩化ビニル及びポリプロピレンは成型加工時の温度範囲を広く設定できるため成形性がよく、より好ましい。ポリ塩化ビニルは特に成形性がよいため更に好ましい。

バリア層２２はガスバリア性を有し、第１基材層２１の吸着層２３側の面に設けられる。バリア層２２として、第１基材層２１上に蒸着された酸化物蒸着膜（シリカ、アルミナ等）、金属蒸着膜（アルミニウム等）を用いることができる。バリア層２２を金属箔（アルミニウム等）により形成してもよい。

また、バリア層２２をポリ塩化ビニリデン等の樹脂により形成してもよい。この時、第１基材層２１を形成する樹脂フィルム上にバリア層２２を形成する樹脂を押し出して積層することができる。第１基材層２１を形成する樹脂フィルムとバリア層２２を形成する樹脂フィルムとをドライラミネートにより積層してもよい。バリア層２２をポリ塩化ビニリデン等の樹脂により形成すると、第１基材層２１及びバリア層２２を積層した樹脂フィルムを安価に形成できるため好ましい。

尚、バリア層２２は内容物Ｄを視認するために透明であることがより望ましい。

吸着層２３は臭気を吸着する吸着剤を樹脂中に混練した単層の樹脂組成物により形成される。吸着層２３を異なる樹脂から成る多層構成にしてもよい。吸着剤は臭気成分を化学吸着する化学吸着剤であってもよく、臭気成分を物理吸着する無機多孔体であってもよい。

また、化学吸着剤を無機多孔体により担持してもよい。例えば、化学吸着剤を含有する溶液を無機多孔体に含浸した後に乾燥することによって、化学吸着剤を無機多孔体により担持させることができる。化学吸着剤を無機多孔体に担持させることにより、化学吸着剤の質量当たりの臭気吸着能を大幅に高めることができる。従って、吸着層２３内の化学吸着剤の添加量を減らすことができ、吸着層２３の製膜性及びＰＴＰブリスター用シート２０の成形性を高くすることができる。

化学吸着剤は除去対象の臭気物質と化学反応を起こして結合する反応性官能基を有する。除去対象の臭気物質がカルボン酸類、硫化水素、メルカプタン類等の酸性物質である場合は、反応性官能基として塩基性官能基を有する化合物を用いることができる。

塩基性官能基を有する化合物として、ヒドロキシル基を有する化合物（水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化鉄等の水酸化物）、金属炭酸塩（炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カルシウム等）、金属炭酸水素塩、アミノ基含有化合物（テトラメチレンジアミン等のポリアミン、アルキルアミン、エタノールアミン、ピペリジン等）、アミド基含有化合物（２‐アクリルアミド‐２‐メチルプロパンスルホン酸等）を用いることができる。

例えば、臭気物質がカルボン酸類の場合にヒドロキシル基を有する化合物を用いると、カルボキシル基とヒドロキシル基とが化学反応を起こして結合し、臭気物質が吸着される。

除去対象の臭気物質がアンモニア、アミン類等の塩基性物質である場合は、反応性官能基として酸性官能基を有する化合物を用いることができる。酸性官能基を有する化合物として、リン酸、スルホン酸、カルボン酸、及びこれらの金属塩等を用いることができる。

例えば、臭気物質がアンモニアである場合にリン酸基を有する化合物を用いると、アンモニアとリン酸基とが化学反応を起こして結合し、臭気物質が吸着される。

除去対象の臭気物質がアルデヒドである場合は、アミノ基含有化合物を用いることができ、複数の１級アミノ基を末端に有したアミノ基含有化合物が特に好ましい。これにより、アルデヒド基とアミノ基とが化学反応を起こして結合し、臭気物質が吸着される。

更に、両性物質（酸化亜鉛等の金属酸化物）を化学吸着剤として用いることにより、酸性及び塩基性物質を吸着することができる。

また、吸着剤を担持する無機多孔体は表面に多数の細孔を有する任意の無機化合物を用いることができる。無機多孔体として、ゼオライト、二酸化ケイ素、ケイ酸塩、活性炭、チタニア、無機燐酸塩（燐酸カルシウム等）、アルミナ、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、及びこれらの混合物が挙げられる。特に、吸着対象物の大きさに対して有効な多孔状態を有することや安全面の観点から水酸化アルミニウム、ゼオライト、ケイ酸塩、二酸化ケイ素を用いることが好ましい。

これらの無機多孔体は、球状、棒状、楕円状等の任意の外形形状とすることができ、粉体状、塊状、粒状等の任意の形態とすることができる。吸着層２３の製膜性や吸着層２３を形成する樹脂への均質な混練特性等の観点から、無機多孔体を粉体状にするとより好ましい。

無機多孔体のサイズは用途に応じて適宜に選択することができるが、平均粒子径０．０１μｍ〜１０μｍが好ましい。平均粒子径０．０１μｍ以下では、無機多孔体の凝集が生じ、樹脂内での無機多孔体の分散性が抑制される。また、平均粒子径１０μｍ以上では、吸着層２３の樹脂内での吸着剤の添加量を多くできないため十分な消臭効果が得られない。また、吸着層２３の表面に凹凸を生じさせ、製膜性を悪化させる要因となる。ここで、平均粒子径は、動的光散乱法により測定された値である。

吸着層２３を形成する樹脂は特に制限されないが、吸着剤を均質に分散して混練することが容易なポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂を好適に用いることができる。尚、吸着層２３に酸化防止剤、アンチブロック剤等の添加剤を添加してもよい。

吸着剤を樹脂中に混練する方法としては、公知の混練方法を適用することができるが、例えばいわゆるマスターバッチ式のブレンド方法を用いることができる。即ち、樹脂中に吸着剤を分散させてペレット状のマスターバッチを作製し、これを再度樹脂中に分散させる。これにより、凝集し易い吸着剤であっても、均質に分散させることができる。

吸着層２３の吸着剤の添加量は吸着層２３全体の質量に対して０．１質量％以上であれば消臭効果を示すことができる。吸着剤の添加量を吸着層２３全体の質量に対して０．５質量％以上にするとより好ましく、１質量％以上にするとさらに好ましい。一方で、吸着層２３の良好な製膜性、成形性を得るため、吸着剤の添加量を吸着層２３全体の質量に対して３０質量％以下であると好ましく、１５質量％以下であるとより好ましい。

尚、吸着層２３中に吸着剤を均質に分散させているが、厚み方向に濃度勾配を設けて分散させてもよい。

吸着層２３を形成する樹脂組成物は第１基材層２１及びバリア層２２を形成する樹脂フィルムと、第２基材層２４を形成する樹脂フィルムとの間に押し出して積層される。これにより、両樹脂フィルムが吸着層２３を介して接着される。

押出し樹脂により吸着層２３を形成すると第１基材層２１及び第２基材層２４を形成する樹脂フィルムの厚みばらつきが吸収される。このため、ＰＴＰブリスター用シート２０の厚みばらつきを低減することができる。

尚、第１基材層２１及びバリア層２２を形成する樹脂フィルムと、吸着層２３を形成する樹脂フィルムと、第２基材層２４を形成する樹脂フィルムとを接着剤を介してドライラミネートしてもよい。

吸着層２３の厚みは５μｍ以上であれば製膜が可能であるが、良好な製膜性、成形性及び臭気吸着性を得るために、１０μｍ〜２００μｍがより好ましい。

この時、第１基材層２１及び第２基材層２４の厚みが吸着層２３の厚みよりも大きく形成される。これにより、吸着剤の使用量を減らして吸着層２３の製膜性を向上するとともにＰＴＰブリスター用シート２０のコストを削減することができる。また、第１基材層２１及び第２基材層２４を成形性のよい樹脂（ポリ塩化ビニル等）により形成した際に、ＰＴＰブリスター用シート２０内の成形性のよい樹脂の含有率を大きくできる。このため、ＰＴＰブリスター用シート２０の成形性を向上することができる。

ＰＴＰブリスター用シート２０の一例として、第１基材層２１及び第２基材層２４をポリ塩化ビニル、バリア層２２をポリ塩化ビニリデン、吸着層２３の樹脂をポリエチレンによりそれぞれ形成することができる。この時、第１基材層２１を形成するポリ塩化ビニルの樹脂フィルム上にポリ塩化ビニリデンを押し出してバリア層２２を形成するとよい。また、第１基材層２１及びバリア層２２を積層した積層フィルムと、第２基材層２４を形成するポリ塩化ビニルの樹脂フィルムとの間に吸着剤を混練したポリエチレンを押し出して吸着層２３を形成するとよい。

図４は蓋材３の積層構造を示す断面図である。蓋材３は金属箔層３１と熱接着性樹脂層３２とを積層して形成される。金属箔層３１はアルミニウム箔等により形成される。金属箔層３１の厚みは例えば、５０μｍ〜１００μｍに形成される。

熱接着性樹脂層３２はアクリル系熱接着性樹脂等の熱接着性樹脂を金属箔層３１上にコーティングして形成される。この時、熱接着性樹脂層３２の厚みは１０〜５０μｍ程度である。容器部２の収納部２ａ（図２参照）の周囲に配される第２基材層２４と熱接着性樹脂層３２とを熱接着して収納部２ａが密閉される。尚、熱接着性樹脂層３２を直鎖状低密度ポリエチレン、無延伸ポリプロピレン等の樹脂フィルムにより形成してもよい。

図５はＰＴＰブリスター用シート２０の成型加工時の状態を示す正面断面図である。容器部２（図２参照）は上金型１０Ｕ及び下金型１０Ｄを備えた金型１０によって成形加工される。上金型１０Ｕには所定周期で凹部１０ａが形成され、下金型１０Ｄには凹部１０ａに対向する凸部１０ｂが形成される。

ＰＴＰブリスター用シート２０は加熱された上金型１０Ｕと下金型１０Ｄとの間に挟まれる。ＰＴＰブリスター用シート２０の第１基材層２１は上金型１０Ｕに接し、第２基材層２４は下金型１０Ｄに接する。これにより、ＰＴＰブリスター用シート２０が軟化し、第１基材層２１側が凸の収納部２ａを有した容器部２が形成される。

この時、第１基材層２１及び第２基材層２４は主成分が同じ樹脂から成るので、これらに接する上金型１０Ｕ及び下金型１０Ｄの温度条件を同じにすることができる。このため、金型１０及びＰＴＰブリスター用シート２０の温度を安定して成形することができ、ＰＴＰブリスター用シート２０の成形性が向上して歩留りを向上することができる。

本実施形態によると、ＰＴＰブリスター用シート２０は主成分が同じ樹脂の第１基材層２１と第２基材層２４との間に吸着層２３を配される。このため、ＰＴＰブリスター用シート２０を成型加工する際に上金型１０Ｕ及び下金型１０Ｄの温度条件を同じにすることができる。従って、ＰＴＰブリスター用シート２０の成型加工時の歩留りを向上することができ、ＰＴＰブリスター用シート２０及びＰＴＰブリスター包装体１のコストを削減することができる。

また、第１基材層２１及び第２基材層２４をポリ塩化ビニルまたはポリプロピレンにより形成すると、成型加工時の温度範囲を広く設定できるため、容器部２の歩留りをより向上することができる。

また、吸着層２３がポリオレフィン系樹脂に吸着剤を含有すると、容易に吸着剤を均質に分散して混練することができる。

また、第１基材層２１の吸着層２３側にガスバリア性を有するバリア層２２を設けたので、内容物Ｄのガスによる劣化を防止することができる。

また、バリア層２２をポリ塩化ビニリデンにより形成すると、ＰＴＰブリスター用シート２０のコストを削減することができる。

また、吸着層２３の吸着剤が、ヒドロキシル基を有する化合物、金属炭酸塩、金属炭酸水素塩、アミノ基含有化合物、アミド基含有化合物、リン酸、スルホン酸、カルボン酸、リン酸の金属塩、スルホン酸の金属塩、カルボン酸の金属塩、金属酸化物から選択された少なくとも１種の化学吸着剤を含む。これにより、臭気成分が化学吸着され、臭気成分の再放出を防止することができる。

また、吸着剤が無機多孔体に化学吸着剤を担持すると、化学吸着剤の質量当たりの臭気吸着能を大幅に高めることができる。従って、吸着層２３内の化学吸着剤の添加量を減らすことができ、吸着層２３の製膜性及びＰＴＰブリスター用シート２０の成形性を高くすることができる。

また、第１基材層２１及び第２基材層２４の厚みが吸着層２３の厚みよりも大きいので、吸着剤の使用量を減らすことができる。これにより、吸着層２３の製膜性を向上するとともにＰＴＰブリスター用シート２０のコストを削減することができる。また、第１基材層２１及び第２基材層２４を成形性のよい樹脂により形成した際に、ＰＴＰブリスター用シート２０内の成形性のよい樹脂の含有率を大きくできる。このため、ＰＴＰブリスター用シート２０の成形性をより向上することができる。

本実施形態において、容器部２のガスバリア性を必要としない内容物Ｄの場合はバリア層２２を省いてもよい。

本発明によると、薬剤等のＰＴＰブリスター包装体に利用することができる。

１ ＰＴＰブリスター包装体
２ 容器部
２ａ 収納部
３ 蓋材
１０ 金型
１０Ｄ 下金型
１０Ｕ 上金型
１０ａ 凹部
１０ｂ 凸部
２０ ＰＴＰブリスター用シート
２１ 第１基材層
２２ バリア層
２３ 吸着層
２４ 第２基材層
３１ 金属箔層
３２ 熱接着性樹脂層
Ｄ 内容物

Claims (9)

1. 主成分が同じ樹脂の第１基材層及び第２基材層と、臭気を吸着する吸着剤を含有した吸着層とを備え、前記第１基材層と前記第２基材層との間に前記吸着層を配したことを特徴とするＰＴＰブリスター用シート。
2. 前記第１基材層及び前記第２基材層がポリ塩化ビニルまたはポリプロピレンから成ることを特徴とする請求項１に記載のＰＴＰブリスター用シート。
3. 前記吸着層がポリオレフィン系樹脂に前記吸着剤を含有することを特徴とする請求項１または請求項２に記載のＰＴＰブリスター用シート。
4. 前記第１基材層の前記吸着層側にガスバリア性を有するバリア層を設けたことを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれかに記載のＰＴＰブリスター用シート。
5. 前記バリア層がポリ塩化ビニリデンから成ることを特徴とする請求項４に記載のＰＴＰブリスター用シート。
6. 前記吸着剤が、ヒドロキシル基を有する化合物、金属炭酸塩、金属炭酸水素塩、アミノ基含有化合物、アミド基含有化合物、リン酸、スルホン酸、カルボン酸、リン酸の金属塩、スルホン酸の金属塩、カルボン酸の金属塩、金属酸化物のいずれかから選択される少なくとも１種の化学吸着剤を含むことを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれかに記載のＰＴＰブリスター用シート。
7. 前記吸着剤が無機多孔体に前記化学吸着剤を担持することを特徴とする請求項６に記載のＰＴＰブリスター用シート。
8. 前記第１基材層及び前記第２基材層の厚みが前記吸着層の厚みよりも大きいことを特徴とする請求項１〜請求項７のいずれかに記載のＰＴＰブリスター用シート。
9. 請求項１〜請求項８のいずれかに記載のＰＴＰブリスター用シートにより形成されるとともに前記第１基材層側に凸の収納部を設けた容器部と、前記収納部の周囲の前記第２基材層上に熱接着される蓋材とを備えたことを特徴とするＰＴＰブリスター包装体。

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