JP2020197715A5 - - Google Patents
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Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102017211443.6A DE102017211443A1 (de) | 2017-07-05 | 2017-07-05 | Metrologiesystem mit einer EUV-Optik |
| DE102017211443.6 | 2017-07-05 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2018128123A Division JP7023808B2 (ja) | 2017-07-05 | 2018-07-05 | Euv光学ユニットを有する計測システム |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2020197715A JP2020197715A (ja) | 2020-12-10 |
| JP2020197715A5 true JP2020197715A5 (https=) | 2021-08-12 |
| JP7216684B2 JP7216684B2 (ja) | 2023-02-01 |
Family
ID=64666441
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2018128123A Active JP7023808B2 (ja) | 2017-07-05 | 2018-07-05 | Euv光学ユニットを有する計測システム |
| JP2020117695A Active JP7216684B2 (ja) | 2017-07-05 | 2020-07-08 | Euv光学ユニットを有する計測システム |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2018128123A Active JP7023808B2 (ja) | 2017-07-05 | 2018-07-05 | Euv光学ユニットを有する計測システム |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10948637B2 (https=) |
| JP (2) | JP7023808B2 (https=) |
| DE (1) | DE102017211443A1 (https=) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102019206648B4 (de) * | 2019-05-08 | 2021-12-09 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zur Annäherung von Abbildungseigenschaften eines optischen Produktionssystems an diejenigen eines optischen Messsystems sowie Metrologiesystem hierfür |
| DE102019206651B4 (de) * | 2019-05-08 | 2022-10-13 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zum dreidimensionalen Bestimmen eines Luftbildes einer Lithographiemaske |
| DE102019208552B4 (de) * | 2019-06-12 | 2025-10-09 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zum Ermitteln eines Produktions-Luftbildes eines zu vermessenden Objektes |
| KR102866527B1 (ko) | 2020-11-26 | 2025-10-01 | 삼성전자주식회사 | 극자외선 발생 장치와 이의 제조 방법, 및 극자외선 시스템 |
| DE102024205353A1 (de) * | 2024-06-10 | 2025-12-11 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Filter zum Trennen von EUV-Nutzlicht von mit dem EUV-Nutzlicht mitgeführtem Falschlicht und/oder mitgeführten Partikeln |
Family Cites Families (31)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63140530A (ja) | 1986-08-01 | 1988-06-13 | Fujitsu Ltd | X線マスク |
| JPH02260414A (ja) * | 1989-03-30 | 1990-10-23 | Fujitsu Ltd | X線露光マスク |
| EP0952491A3 (en) | 1998-04-21 | 2001-05-09 | Asm Lithography B.V. | Lithography apparatus |
| US6404499B1 (en) * | 1998-04-21 | 2002-06-11 | Asml Netherlands B.V. | Lithography apparatus with filters for optimizing uniformity of an image |
| DE10220815A1 (de) | 2002-05-10 | 2003-11-20 | Zeiss Carl Microelectronic Sys | Reflektives Röntgenmikroskop und Inspektionssystem zur Untersuchung von Objekten mit Wellenlängen 100 nm |
| DE10220816A1 (de) | 2002-05-10 | 2003-11-20 | Zeiss Carl Microelectronic Sys | Reflektives Röntgenmikroskop und Inspektionssystem zur Untersuchung von Objekten mit Wellenlängen 100 nm |
| JP2006073620A (ja) | 2004-08-31 | 2006-03-16 | Nikon Corp | Euv露光装置 |
| US7224430B2 (en) * | 2004-10-29 | 2007-05-29 | Asml Netherlands B.V. | Optical component, optical system including such an optical component, lithographic apparatus, method of correcting apodization in an optical system, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
| JP2008066345A (ja) | 2006-09-04 | 2008-03-21 | Nikon Corp | 照明光学装置及び露光装置 |
| CN101836163B (zh) | 2007-08-20 | 2012-06-27 | 卡尔蔡司Smt有限责任公司 | 包括具有反射涂层的镜元件的投射物镜 |
| DE102008041436A1 (de) | 2007-10-02 | 2009-04-09 | Carl Zeiss Smt Ag | Optisches Membranelement |
| DE102008021833B4 (de) | 2007-12-19 | 2010-04-22 | Carl Zeiss Smt Ag | Verfahren zur Einstellung einer Beleuchtungswinkelverteilung und gleichzeitig einer Intensitätsverteilung über ein in ein Bildfeld abzubildendes Objektfeld |
| WO2010108516A1 (en) | 2009-03-27 | 2010-09-30 | Carl Zeiss Smt Ag | Illumination optical system for euv microlithography and euv attenuator for an illumination optical system of this kind, illumination system and projection exposure installation having an illumination optical system of this kind |
| JP5872452B2 (ja) * | 2009-04-13 | 2016-03-01 | エーエスエムエル ホールディング エヌ.ブイ. | フーリエフィルタリングおよびイメージ比較を用いるマスク検査システム及び方法、並びにリソグラフィシステム |
| DE102010029049B4 (de) | 2010-05-18 | 2014-03-13 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungsoptik für ein Metrologiesystem für die Untersuchung eines Objekts mit EUV-Beleuchtungslicht sowie Metrologiesystem mit einer derartigen Beleuchtungsoptik |
| EP2663897A4 (en) | 2011-01-11 | 2018-01-03 | KLA-Tencor Corporation | Apparatus for euv imaging and methods of using same |
| WO2012125647A2 (en) * | 2011-03-16 | 2012-09-20 | Kla-Tencor Corporation | Euv actinic reticle inspection system using imaging sensor with thin film spectral purity filter coating |
| JP2013026424A (ja) * | 2011-07-21 | 2013-02-04 | Renesas Electronics Corp | 半導体装置の製造方法 |
| JP2013080810A (ja) | 2011-10-04 | 2013-05-02 | Lasertec Corp | Euvマスク検査装置及びeuvマスク検査方法 |
| DE102012202057B4 (de) | 2012-02-10 | 2021-07-08 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projektionsobjektiv für EUV-Mikrolithographie, Folienelement und Verfahren zur Herstellung eines Projektionsobjektivs mit Folienelement |
| DE102012204295A1 (de) * | 2012-03-19 | 2013-03-28 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Filterelement |
| DE102012207866A1 (de) | 2012-05-11 | 2013-11-14 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Baugruppe für eine Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Projektionslithografie |
| JP5711703B2 (ja) | 2012-09-03 | 2015-05-07 | 信越化学工業株式会社 | Euv用ペリクル |
| DE102013202948A1 (de) * | 2013-02-22 | 2014-09-11 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungssystem für eine EUV-Lithographievorrichtung und Facettenspiegel dafür |
| DE102013217146A1 (de) | 2013-08-28 | 2015-03-05 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches Bauelement |
| TWI646401B (zh) * | 2013-12-19 | 2019-01-01 | 美商應用材料股份有限公司 | 帶有簡化光學元件的極紫外線(euv)基板檢查系統及其製造方法 |
| WO2015160185A1 (ko) * | 2014-04-17 | 2015-10-22 | 한양대학교 산학협력단 | Euv 리소그래피용 펠리클 |
| WO2016012426A1 (de) | 2014-07-22 | 2016-01-28 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zum dreidimensionalen vermessen eines 3d-luftbildes einer lithografiemaske |
| KR102242562B1 (ko) * | 2014-09-04 | 2021-04-20 | 삼성전자주식회사 | 극자외선(euv) 마스크 보호장치 및 그 보호장치를 포함한 euv 노광 장치 |
| DE102015221209A1 (de) * | 2015-10-29 | 2017-05-04 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optische Baugruppe mit einem Schutzelement und optische Anordnung damit |
| JP6371022B1 (ja) * | 2018-02-08 | 2018-08-08 | レーザーテック株式会社 | 照明方法、検査方法、照明装置及び検査装置 |
-
2017
- 2017-07-05 DE DE102017211443.6A patent/DE102017211443A1/de not_active Withdrawn
-
2018
- 2018-07-03 US US16/026,192 patent/US10948637B2/en active Active
- 2018-07-05 JP JP2018128123A patent/JP7023808B2/ja active Active
-
2020
- 2020-07-08 JP JP2020117695A patent/JP7216684B2/ja active Active
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