JP2020174086A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2020174086A5
JP2020174086A5 JP2019074141A JP2019074141A JP2020174086A5 JP 2020174086 A5 JP2020174086 A5 JP 2020174086A5 JP 2019074141 A JP2019074141 A JP 2019074141A JP 2019074141 A JP2019074141 A JP 2019074141A JP 2020174086 A5 JP2020174086 A5 JP 2020174086A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid
valve
supply
flow rate
control device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2019074141A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP7326003B2 (ja
JP2020174086A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2019074141A priority Critical patent/JP7326003B2/ja
Priority claimed from JP2019074141A external-priority patent/JP7326003B2/ja
Priority to KR1020217026608A priority patent/KR102784538B1/ko
Priority to PCT/JP2020/013257 priority patent/WO2020209064A1/ja
Priority to US17/599,324 priority patent/US12140980B2/en
Publication of JP2020174086A publication Critical patent/JP2020174086A/ja
Publication of JP2020174086A5 publication Critical patent/JP2020174086A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7326003B2 publication Critical patent/JP7326003B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2019074141A 2019-04-09 2019-04-09 液体供給装置、洗浄ユニット、基板処理装置 Active JP7326003B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019074141A JP7326003B2 (ja) 2019-04-09 2019-04-09 液体供給装置、洗浄ユニット、基板処理装置
KR1020217026608A KR102784538B1 (ko) 2019-04-09 2020-03-25 액체 공급 장치, 세정 유닛, 기판 처리 장치
PCT/JP2020/013257 WO2020209064A1 (ja) 2019-04-09 2020-03-25 液体供給装置、洗浄ユニット、基板処理装置
US17/599,324 US12140980B2 (en) 2019-04-09 2020-03-25 Apparatus for supplying liquid, cleaning unit, and apparatus for processing substrate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019074141A JP7326003B2 (ja) 2019-04-09 2019-04-09 液体供給装置、洗浄ユニット、基板処理装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2020174086A JP2020174086A (ja) 2020-10-22
JP2020174086A5 true JP2020174086A5 (cg-RX-API-DMAC7.html) 2022-01-06
JP7326003B2 JP7326003B2 (ja) 2023-08-15

Family

ID=72751070

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019074141A Active JP7326003B2 (ja) 2019-04-09 2019-04-09 液体供給装置、洗浄ユニット、基板処理装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US12140980B2 (cg-RX-API-DMAC7.html)
JP (1) JP7326003B2 (cg-RX-API-DMAC7.html)
KR (1) KR102784538B1 (cg-RX-API-DMAC7.html)
WO (1) WO2020209064A1 (cg-RX-API-DMAC7.html)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7509657B2 (ja) * 2020-10-29 2024-07-02 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置
AT526426B1 (de) * 2023-01-26 2024-03-15 Siconnex Customized Solutions Gmbh Behandlungsvorrichtung und Verfahren zur Behandlung von Halbleiterobjekten
JP2025003021A (ja) * 2023-06-23 2025-01-09 サーパス工業株式会社 流量調整装置および流量調整装置の制御方法

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11627A (ja) 1997-06-13 1999-01-06 Urutora Clean Technol Kaihatsu Kenkyusho:Kk 洗浄液供給系及び供給方法
JP2001271188A (ja) 2000-03-24 2001-10-02 Ses Co Ltd 基板処理装置
JP2004193329A (ja) 2002-12-11 2004-07-08 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
JP4626176B2 (ja) 2004-04-13 2011-02-02 トヨタ自動車株式会社 燃料電池の制御装置
JP5406518B2 (ja) 2008-12-18 2014-02-05 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置
JP5789400B2 (ja) 2011-04-12 2015-10-07 東京エレクトロン株式会社 液処理方法及び液処理装置
JP6059087B2 (ja) * 2013-05-31 2017-01-11 東京エレクトロン株式会社 液処理装置、液処理方法および記憶媒体
JP6378555B2 (ja) 2014-06-26 2018-08-22 株式会社荏原製作所 洗浄ユニット
US10340159B2 (en) 2014-06-09 2019-07-02 Ebara Corporation Cleaning chemical supplying device, cleaning chemical supplying method, and cleaning unit
JP6339954B2 (ja) 2014-06-09 2018-06-06 株式会社荏原製作所 洗浄薬液供給装置、洗浄薬液供給方法、及び洗浄ユニット
JP6669560B2 (ja) 2016-03-30 2020-03-18 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置
JP2017177303A (ja) 2016-03-31 2017-10-05 株式会社荏原製作所 基板研磨装置、その洗浄方法および基板研磨装置への液体供給装置
KR102433049B1 (ko) 2016-12-16 2022-08-17 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 세정 유닛 및 프로그램을 저장한 기억 매체
JP6774327B2 (ja) 2016-12-16 2020-10-21 株式会社荏原製作所 洗浄薬液供給装置、洗浄ユニット、及びプログラムを格納した記憶媒体
JP6486986B2 (ja) 2017-04-03 2019-03-20 株式会社荏原製作所 液体供給装置及び液体供給方法
JP6925872B2 (ja) * 2017-05-31 2021-08-25 東京エレクトロン株式会社 基板液処理装置、処理液供給方法及び記憶媒体

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2020174086A5 (cg-RX-API-DMAC7.html)
KR101005031B1 (ko) 유체혼합시스템 및 유체혼합장치
JP5430621B2 (ja) ガス流量検定システム及びガス流量検定ユニット
JP5134841B2 (ja) ガス供給ユニット
JP6533740B2 (ja) ガス流量監視方法及びガス流量監視装置
DE502004005710D1 (de) Verfahren zum ermitteln des ansteuerstroms eines stellgeräts
KR20190014120A (ko) 초크 유동에 기반한 질량 유량 검증을 위한 방법들, 시스템들 및 장치
JP2009002901A (ja) 圧力センサ、差圧式流量計及び流量コントローラ
KR20150069510A (ko) 유량 제어 밸브 및 이것을 사용한 유량 제어 장치
JP2005208712A (ja) 流体通路のウォータハンマーレス開放方法及びこれを用いた薬液供給方法並びにウォータハンマーレス開放装置
JP2019144275A (ja) 可撓性容器の完全性試験のためのシステム及び方法
JP2021002551A (ja) 液体供給装置の液抜き方法、液体供給装置
KR20060085257A (ko) 유체통로의 폐쇄방법과 이것에 이용하는 워터 해머리스밸브장치
WO2020209064A1 (ja) 液体供給装置、洗浄ユニット、基板処理装置
CN108695203B (zh) 液体供给装置以及液体供给方法
CN108607462A (zh) 一种液体混合装置及液体流量控制方法
KR20200083707A (ko) 약액 유량 제어 시스템
US12090457B2 (en) Mixing apparatus
JP2007175691A (ja) 流体混合装置
KR20150124107A (ko) 유량제어시스템
JP4699184B2 (ja) 流量制御方法及び流量制御装置
TW201805058A (zh) 流體混合系統、混合系統與應用其之控制混合流體之濃度的方法
JP3950772B2 (ja) 液体原料質量流量計とその制御器とその液体原料のセンサ管路への通流方法
US20210131422A1 (en) Pump noise dampener
TWM416079U (en) Sensing device of gas content in a pressure vessel