JP2020169406A - レッグウェア - Google Patents

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Abstract

【課題】締め付けや肌へのダメージ等のストレスなく爪先部のずれを抑制する。【解決手段】レッグウェア(1)は、母趾関節側方領域(P1)および子趾関節側方領域(P2)を含む伸縮性を有する本体部(2)と、母趾関節側方領域(P1)および子趾関節側方領域(P2)の周囲に配置され、足(F)に対する前記領域(P1・P2)の下方向および前後方向へのずれを抑制する低伸縮部(10)とを備え、低伸縮部(10)は、本体部(2)よりも伸縮性が低いおよび本体部(2)よりも足(F)に対する摩擦が大きい特性の少なくとも一方を有する。【選択図】図1

Description

本発明は、足に着用するレッグウェアに関し、より詳細には、歩行などの動作によるずれや脱げを抑制するレッグウェアに関する。
靴下等のレッグウェアを着用して歩行・運動する際、爪先部の生地が幅方向もしくは足長方向にずれ、不快感を生じることがある。特に足甲部の生地が浅いフットカバーにおいては踵部の脱げもさることながら、爪先部の脱げも着用感を大きく損なうことが問題となっている。
この問題に対する従来技術として、例えば次の技術が開示されている。特許文献1には、履き口部の前方周辺に全周の伸縮部を設けるとともに、後方に細幅の部分伸縮を設けることにより履き心地を維持しつつ、脱げを防止するフットカバーが開示されている。また、特許文献2には、履き口部周縁に伸縮性および粘着性を備えた、帯状のシリコン部を設けたフットカバーが開示されている。
実用新案登録第3211514号 特開2015−137426号公報
しかしながら、特許文献1では、履き口部前方に伸縮部を設けたとしても爪先部のずれや回転を効果的に防止することができないという問題がある。また、締め付ける箇所を増やすと着用感の悪化を招き、さらに、締め付け力を強化したとしても不快感が生じる。つまり、締め付けによる脱げ防止は、締め付けを弱くすると効果が薄れ、締め付けを強くすると着用感が悪化するため、好適とはいえない。
また、特許文献2では、足甲部の幅方向にシリコン部を設ける構造が開示されているが、踵部の皮膚とは異なり足甲部の皮膚は薄いため、シリコン部との摩擦により足甲部の皮膚が炎症を起こしやすいという問題がある。また、足指の一部が露出するような浅履きタイプのフットカバーについては、シリコン部が足指の上面に位置するため、シリコン部と皮膚との接触面積が小さくなり、十分な脱げ抑制効果が得られないという問題がある。
上記のような問題に鑑み、本発明の一態様は、締め付けや肌へのダメージ等のストレスなく、効果的に爪先部のずれ、または脱げを抑制するレッグウェアを実現することを目的とする。
上記の課題を解決するために、本発明の一態様に係るレッグウェアは、少なくとも足の爪先から母趾中足趾関節および子趾中足趾関節までを覆い、前記母趾中足趾関節の側方を覆う母趾関節側方領域および前記子趾中足趾関節の側方を覆う子趾関節側方領域を含む、伸縮性を有する本体部と、前記母趾関節側方領域および前記子趾関節側方領域の少なくとも一方の領域の周囲に配置され、前記足の厚み方向を上下方向、前記足の長手方向を前後方向と定義したとき、前記足に対する前記領域の下方向および前後方向へのずれを抑制する低伸縮部とを備え、前記低伸縮部は、前記本体部よりも伸縮性が低いおよび前記本体部よりも前記足に対する摩擦が大きい特性の少なくとも一方を有することを特徴とする。
上記構成によれば、母趾関節側方領域または子趾関節側方領域の下方向および前後方向へのずれ(動き)が、該領域の周囲に配置された低伸縮部によって抑制される。そのため、足を締め付けることなく、レッグウェアの爪先部のずれ、または脱げを抑制することができる。その結果、締め付けや肌へのダメージ等のストレスなく、効果的に爪先部のずれ、または脱げを抑制するレッグウェアを実現することができる。
また、本発明に係るレッグウェアでは、前記低伸縮部は、前記母趾関節側方領域または前記子趾関節側方領域に対して、上方向および前後方向に配置されていてもよい。
上記構成によれば、母趾関節側方領域または子趾関節側方領域の下方向および前後方向へのずれを効果的に抑制することができる。
また、本発明に係るレッグウェアでは、前記足に接する前記低伸縮部の内面は、前記足に接する前記本体部の内面よりも、前記足に対する摩擦が大きくてもよい。
上記構成によれば、足に対する低伸縮部の動きが抑制されるため、低伸縮部によって母趾関節側方領域または子趾関節側方領域のずれをさらに効果的に抑制することができる。
また、本発明に係るレッグウェアでは、前記低伸縮部は、前記母趾関節側方領域および前記子趾関節側方領域の周囲にそれぞれ設けられていてもよい。
上記構成によれば、足の幅方向の両側において、レッグウェアの爪先部のずれ、または脱げを抑制することができるため、確実に爪先部のずれ、または脱げを抑制することができる。
また、本発明に係るレッグウェアでは、前記低伸縮部は、帯状であってもよい。
上記構成によれば、低伸縮部が帯状であることによって、低伸縮部がストッパーの役割を果たすため、より高いずれ防止効果を得ることができる。
また、本発明に係るレッグウェアでは、前記帯状の前記低伸縮部は、前記母趾関節側方領域または前記子趾関節側方領域の前後方向から挟むように配置され、2つの前記低伸縮部の下端部の距離は、少なくとも前記母趾関節側方領域または前記子趾関節側方領域の幅以上であってもよい。
上記構成によれば、歩行時において、母趾中足趾関節および子趾中足趾関節を軸とした屈曲時(蹴り出し開始から蹴り出し終了時)に、中足趾関節の可動を妨げることなく生地が伸縮するため、好適にレッグウェアのずれ、脱げを抑制することができる。
また、本発明に係るレッグウェアでは、前記低伸縮部は、前記母趾関節側方領域または前記子趾関節側方領域の前後方向の伸縮を抑制する第1帯状部と、該領域の上下方向の伸縮を抑制する第2帯状部と、を含んでいてもよい。
上記構成によれば、母趾関節側方領域または子趾関節側方領域の前後方向の伸縮が第1帯状部によって抑制され、該領域の上下方向の伸縮を第2帯状部によって抑制される。これにより、母趾関節側方領域または子趾関節側方領域の下方向および前後方向へのずれを抑制することができる。
また、本発明に係るレッグウェアでは、前記第2帯状部は、前記母趾関節側方領域または前記子趾関節側方領域を前後方向から挟むように配置されていてもよい。
上記構成によれば、前後方向から挟むように第2帯状部が配置されているため、母趾関節側方領域または子趾関節側方領域の足に対しての前後方向への移動を、効果的に抑制することができる。
また、本発明に係るレッグウェアでは、前記低伸縮部は、前記足の足底側に開口した略コの字型の形状であってもよい。
上記構成によれば、母趾関節側方領域または子趾関節側方領域を前後方向から挟むように第2帯状部を設置することができる。これにより母趾関節側方領域または子趾関節側方領域の下方向へのずれを効果的に抑制することができる。また、同時にこれらの第2帯状部の上端部を第1帯状部によって接続もしくは近傍に配置することにより、母趾関節側方領域または子趾関節側方領域の足に対しての下方向へのずれを抑制することができる。そのため、母趾関節側方領域または子趾関節側方領域の上方向を除く全ての方向へのずれを効果的に抑制することができる。
また、本発明に係るレッグウェアでは、前記第2帯状部の下方向の下端が、前記母趾関節側方領域または前記子趾関節側方領域の上下方向の中心位置よりも下方向に位置していてもよい。
上記構成によれば、母趾関節側方領域または子趾関節側方領域の下方向へのずれを十分に抑制することができる。
また、本発明に係るレッグウェアでは、前記第1帯状部の前記母趾関節側方領域側の辺の長さ、または前記子趾関節側方領域側の辺の長さは、前記母趾関節側方領域または前記子趾関節側方領域の幅よりも短く、前記第2帯状部の長さは前記第1帯状部よりも長く、かつ前記第2帯状部の下方にいくにつれて前記第2帯状部の距離が互いに離れるようにハの字型に配置されていてもよい。
上記構成によれば、歩行・運動による母趾中足趾関節および子趾中足趾関節を軸とした屈曲に応じて低伸縮部のハの字が広がり、関節の可動を妨げることなく生地が伸長する。そのため、着用感を妨げることなく、レッグウェアと低伸縮母趾関節側方領域または子趾関節側方領域とのずれ、レッグウェアの脱げを好適に抑制することができる。
また、本発明に係るレッグウェアでは、前記第1帯状部と前記第2帯状部とは、一連に形成されていてもよい。
上記構成によれば、帯状部が一連に形成されることにより、帯状部相互間の部分的な位置ずれが生じにくくすることができる。
また、本発明に係るレッグウェアでは、前記本体部は、編地で構成されており、前記爪先を覆う爪先部、前記足の足底を覆う足底部、前記足の両側辺を覆う側辺部、および前記足の踵を覆う踵部を含んでいてもよい。
上記構成によれば、足にレッグウェアがフィットするため、効果的に爪先部のずれ、脱げを抑制する靴下を実現することができる。
また、本発明に係るレッグウェアでは、前記足の足甲および足首を露出させるフットカバーであってもよい。
本願発明は、フットカバーに好適に適用され、爪先部のずれ、脱げを抑制することができる。
また、本発明に係るレッグウェアでは、前記フットカバーは、前記足の足指の分岐部位の一部を露出させる浅履き形状であってもよい。
本願発明は、浅履き形状のフットカバーに特に好適に適用され、爪先部のずれ、脱げを抑制することができる。
また、本発明に係るレッグウェアでは、前記爪先部は、足指の外郭にそって親指側から小指側へなだらかに傾斜する形状であってもよい。
上記の構成によれば、爪先部のフィット感が向上するため、より好適に爪先部のずれ、脱げを抑制することができる。
また、本発明に係るレッグウェアでは、前記踵部の内面に滑り止めが設けられていてもよい。
上記構成によれば、滑り止めを踵部の内面に設けることによって、レッグウェアの踵部のずれや脱げを抑制することができる。
また、本発明に係るレッグウェアでは、前記低伸縮部は、前記本体部の内面に塗布された樹脂であってもよい。
上記構成によれば、樹脂からなる低伸縮部が肌に密着し、より好適に爪先部のずれ、脱げを抑制することができる。
また、本発明に係るレッグウェアでは、前記本体部は、前記爪先を覆う爪先部に複数の指収納部が形成されていてもよい。
上記構成によれば、例えば、二股の指収納部、または5本指の指収納部を有するレッグウェアにおいて、指収納部に指が収まり本体生地の動きが抑制されるため、効果的に爪先部のずれ、脱げを抑制することができる。
本発明の一態様によれば、締め付けや肌へのダメージ等のストレスなく、効果的に爪先部のずれまたは脱げを抑制するレッグウェアを実現することができる。
(a)は本発明の実施形態に係る右足用のフットカバーの外観構成を示す斜視図である。(b)はレッグウェアにおける上下方向および前後方向を説明する図である。 母趾中足趾関節および子趾中足趾関節を説明する図面である。(a)は右足背側の骨の平面図である。(b)は右足の骨の左側面図である。(c)は右足の骨の右側面図である。 歩行時の足底に係る荷重の移動を示す図面である。 足底の横アーチについて説明する図である。(a)は足底の横アーチを示す右足の斜視図である。(b)は横アーチを説明する右足裏側からの骨の平面図である。(c)は横アーチを説明する右足の骨の断面図である。 皮膚の厚さを説明する図である。(a)は母趾中足趾関節および子趾中足趾関節の皮膚の厚さを示す図である。(b)は足の指の上側の皮膚の厚さを示す図である。 (a)から(o)は、本実施形態に係る低伸縮部の変形例を示す図である。 歩行・運動による母趾中足趾関節および子趾中足趾関節を軸とした右足の屈曲を説明する図である。(a)は足が屈曲する前を示す図であり、(b)は足が屈曲している状態を示す図である。
以下、本発明の実施の一形態について、図1から図6に基づいて説明すれば以下のとおりである。
〔レッグウェアの構成〕
図1の(a)は、本実施形態に係る右足用のレッグウェア1の外観構成を示す斜視図である。図1の(b)は、レッグウェア1における上下方向および前後方向を説明する図である。図1の(a)に示すように、レッグウェア1は、足Fに着用される本体部2、および本体部2のずれや脱げを防止する低伸縮部10を備えている。なお、以下の説明において足の厚み方向を上下方向(図1の(b)のy方向)、足の長手方向を前後方向(図1の(b)のx方向)とする。
(本体部2)
本体部2は、足Fの足底を覆う足底部21、足Fの爪先を覆う爪先部22、足Fの両側辺を覆う側辺部23、および足Fの踵を覆う踵部24で形成されている。また、本体部2には、足底部21に対して上下反対側に足を出し入れするための履き口部2aが設けられている。また、踵部24の内面には滑り止めが設けられていることが望ましい。
履き口部2aは、足甲および足首が露出するように大きく開口されており、これにより、靴を履いたときに本体部2全体が靴の中に隠れるように構成されている。レッグウェア1は、足Fの足指の分岐部位の一部を露出させる浅履き形状である。
本体部2は、少なくとも足Fの爪先から母趾中足趾関節Q1および子趾中足趾関節Q2までを覆う。本体部2は、伸縮性の高い生地からなり、母趾中足趾関節Q1の側方(外側面)を覆う母趾関節側方領域P1および子趾中足趾関節Q2の側方(外側面)を覆う子趾関節側方領域P2を含む。
図2は、母趾中足趾関節Q1および子趾中足趾関節Q2を説明する図面である。図2の(a)は、右足背側の骨の平面図である。図2の(b)は、右足の骨の左側面図である。図2の(c)は、右足の骨の右側面図である。中足趾関節とは、図2の(a)に示す、指節骨N1と中足骨N2とをつなぐ関節である。母趾中足趾関節Q1は、図2の(a)から図2の(c)に示すように、中足趾関節において親指に対応する関節である。子趾中足趾関節Q2は、中足趾関節において小指に対応する関節である。
母趾関節側方領域P1は、本体部2のうち、レッグウェア1を装着した状態で母趾中足趾関節Q1の側方を覆う領域である。母趾関節側方領域P1は、レッグウェア1を装着した状態で、少なくとも母趾中足趾関節Q1の最も外側に突出している領域Q11を覆う領域であればよい。
子趾関節側方領域P2は、本体部2のうち、レッグウェア1を装着した状態で子趾中足趾関節Q2の側方を覆う領域である。子趾関節側方領域P2は、レッグウェア1を装着した状態で、少なくとも子趾中足趾関節Q2の最も外側に突出している領域Q12を覆う領域であればよい。
(本体部の生地)
本発明のレッグウェア1は、幅方向に伸縮性のある生地を用いることができる。これにより、歩行により重心が移動し中足趾関節の外面部が生地を押し広げる際に、中足趾関節の外面部と生地とが密着し、ずれ抑制効果を高めることができる。中足趾関節の外面部が生地を押し広げる動作について、詳しくは後述する。伸縮性の強さ(収縮力)はレッグウェア1の用途によるが、例えば日常用であれば、肌面と生地とが常にフィットする程度の収縮力があればよく、締め付け感が生じるよう収縮力までは必要ない。
生地は上述のように目的にあった伸縮性があればどのようなものでもよいが、編成組織や編成糸により適宜収縮力を調整可能であることから編地を用いることが望ましい。また、レッグウェア1に用いる生地は、切断面に縫製等の処理を施さなくとも端面がほつれない生地(フリーカットあるいは切りっぱなしと呼ばれる)を用いることができる。これにより、履き口周縁に位置する生地端部に凹凸がなくなり、履き口周縁がフラットとなるため足甲部の肌への刺激を軽減することができる。
レッグウェア1にクッション性を持たせるために、足底部21にパイル編地を用いることも可能である。素材はナイロンを用いることができ、綿などの天然繊維、あるいは合成繊維との混紡糸を用いてもよく、足底部21と側辺部23とで素材を使い分けてもよい。
なお、本実施形態では、本体部2は編地を用いることが望ましいとしているが、織り機により織成した生地を縫着する等の方法によって本体部2を形成することも可能である。また、本体部2は、爪先部を足指の外郭にそって親指側から小指側へなだらかに傾斜する形状としてもよいし、爪先を覆う爪先部22に複数の指収納部が形成されていてもよい。
(低伸縮部)
低伸縮部10は、母趾関節側方領域P1および子趾関節側方領域P2の少なくとも一方の領域の周囲に配置され、これらの領域が足Fに対して下方向および前後方向へずれる(動く)ことを抑制する。低伸縮部10は、下記の(1)または(2)どちらかの特性を備える。低伸縮部10は、下記の(1)および(2)の両方の特性を備えるものであってもよい。(1)本体部2よりも伸縮性が低い、または(2)本体部2よりも足Fに対する摩擦が大きい。ここでいう摩擦とは静止摩擦係数を指し、例えば最大静止摩擦力(N1)/垂直抗力(N2)で算出することができる。本実施形態では、低伸縮部10は、母趾関節側方領域P1および子趾関節側方領域P2の両方の周囲にそれぞれ設けられている。なお、以下において、母趾関節側方領域P1の周囲に配置された低伸縮部10について説明するが、子趾関節側方領域P2の周囲に配置される低伸縮部10も同様である。
本実施形態では、図1の(a)に示すように、低伸縮部10は、帯状である。ここでいう帯状とは、主に幅と長さをもった切れ目のない面形状を指すが、例えば、後述する図6の(a)から図6の(o)の低伸縮部10に示すような、線や点、任意の部分形状等が略帯状に集合した形状など、全体として実質的に帯状と同等の機能を奏する形状も含む。また、一定の幅を有する必要はなく、部分的に細幅もしくは太幅であっても構わないし、直線、曲線などの形状も問わない。低伸縮部10は、母趾関節側方領域P1の前後方向の伸縮を抑制する第1帯状部11cと、母趾関節側方領域P1の上下方向の伸縮を抑制する第2帯状部11a・11bと、を有する。
第1帯状部11cは母趾関節側方領域P1の上方向に前後方向に延伸するように配置されている。
第2帯状部11aおよび第2帯状部11bは、母趾関節側方領域P1を前後方向から挟むように配置されている。第2帯状部11aおよび第2帯状部11bの上端部は、第1帯状部11cによって接続されている。言い換えると、低伸縮部10は、足Fの足底側に開口した略コの字型の形状である。このとき、第2帯状部11a・11bの下方向の下端が、母趾関節側方領域P1上下方向の中心位置よりも下方向に位置することが望ましい。第1帯状部11cと第2帯状部11a・11bとは、一連に形成されていてもよい。また、足に接する低伸縮部10の内面は、足Fに接する本体部2の内面よりも、足Fに対する摩擦が大きいことが望ましい。
さらに、第1帯状部11cの長さは、母趾関節側方領域P1または子趾関節側方領域P2の幅よりも短い。これにより、第2帯状部11a・11bと母趾関節側方領域P1または子趾関節側方領域P2とが接する。また、第2帯状部11a・11bの長さは第1帯状部11cよりも長く、かつ第2帯状部11a・11bの下方にいくにつれて、第2帯状部11aと第2帯状部11bとの距離が互いに離れるように、第2帯状部11a・11bがハの字型に配置されている。これにより、図7の(a)および図7の(b)に示すような、歩行・運動による母趾中足趾関節Q1および子趾中足趾関節Q2を軸とした足Fの屈曲に応じて、第2帯状部11a・11bのハの字が自然に扇状に広がる。そのため、中足趾関節の可動を妨げることなく、レッグウェア1の生地が自然に伸縮するので、着用感を妨げることなく母趾関節側方領域P1または子趾関節側方領域P2のずれ、レッグウェア1の脱げを好適に抑制することができる。図7は、歩行・運動による母趾中足趾関節Q1および子趾中足趾関節Q2を軸とした右足Fの屈曲を説明する図である。図7の(a)は足Fが屈曲する前を示す図であり、図7の(b)は足Fが屈曲している状態を示す図である。
低伸縮部10の形成については、例えば、以下の(1)〜(4)の方法がある。(1)本体部2の生地よりも伸縮性の低い布製のテープを接着することで低伸縮部10を形成する。(2)低伸縮部10の編目(度目)を本体部2の生地よりも小さくすることで低伸縮部10を形成する。(3)タック編み等の伸縮を抑制する編成で低伸縮部10を形成する。(4)本体部2の内面に樹脂を塗布するか、もしくはシート状の樹脂を貼り付けることで低伸縮部10を形成する。
本実施形態では、本体部2の内面にシート状の樹脂を貼り付けることで低伸縮部10を形成している。これにより、肌に対する摩擦力を抑え、レッグウェア1のずれを効果的に抑制することができる。
(低伸縮部の効果)
図3は、歩行時の足底に係る荷重の移動を示す図面である。図3に示すように、人は歩行の際、踵R1の接地とともに踵R1に重心がかかり、徐々に爪先R4側へと重心を移動させる。足Fの裏において、指の根元の膨らんだ部分である指球部付近においては、外側(小指側指球部R2)から内側(親指側指球部R3)へと重心が移動する。最後に、中足趾関節の可動により、接地面を蹴り出すように親指側指球部R3から爪先R4にかけて重心が移動する。
従来のレッグウェアを装着していた場合、外側(小指側指球部R2)に重心がかかった際に、小指付近の生地が回転したりずれたりする。また、内側(親指側指球部R3)への重心の移動とともにさらにずれが進み、特に従来のレッグウェアが甲部の浅いフットカバー等であった場合は、生地が小指から外れ最後に親指からも外れる。結果、従来のレッグウェアは爪先部から脱げてしまう。
ここで、図4の(a)から図4の(c)に示すように、中足趾関節は、横アーチS1を有している。図4は、足底の横アーチS1について説明する図である。図4の(a)は、足底の横アーチS1を示す右足の斜視図である。図4の(b)は、横アーチS1を説明する右足裏側からの骨の平面図である。図4の(c)は、横アーチS1を説明する図4の(b)のF1−F2断面図である。点F1および点F2は中足趾関節上の両端に位置する点である。中足趾関節は足Fの幅方向にやや突出した形状をしており、歩行時において図3に示す踵R1から爪先R4へと重心が移動する際、横アーチS1が足Fの幅方向に広がるとともに、中足趾関節が足Fの幅方向の外側にさらに突き出る。言い換えると、横アーチS1により曲面を成す骨格が平面状に伸びる。
低伸縮部10はストッパーの役割を果たすため、レッグウェア1において、母趾関節側方領域P1および子趾関節側方領域P2は、足Fに対して下方向および前後方向へ移動することが抑制される。そのため、ユーザが歩行して、中足趾関節の外面部(母趾中足趾関節Q1および子趾中足趾関節Q2)がレッグウェア1の生地を押し広げる場合であっても、母趾中足趾関節Q1の側方と母趾関節側方領域P1がずれない。また、子趾中足趾関節Q2の側方と子趾関節側方領域P2とがずれない。
このように、歩行時において中足趾関節の外面部がレッグウェア1の生地を押し広げる状態において、レッグウェア1が足Fからずれないため、靴の内側面にレッグウェア1の生地を押し付けるように力が働き、中足趾関節の外面部がレッグウェア1と密着する。さらに、低伸縮部10は下方が開口しているので蹴り出し時における中足趾関節の可動を妨げない。その結果、レッグウェア1が足Fから脱げることを防ぐことができる。
なお、本実施形態では、レッグウェア1において、母趾中足趾関節Q1の側方および子趾中足趾関節Q2の側方に対応する両位置に低伸縮部10を設けたが、歩行メカニズムにおいて小指側から脱げることが多いことから、子趾中足趾関節Q2側のみに低伸縮部10を設けてもよい。
さらに、低伸縮部10を踵部24に配置してもよい。これにより、踵部24の脱げを防止することができる。踵部24が脱げると足Fへのフィット感が極端になくなる。また、爪先の脱げにも直結するため、踵部24へ低伸縮部10を設けることは爪先の脱げ防止に繋がる。
(皮膚のダメージについて)
レッグウェア1の低伸縮部10に樹脂を用いても、足甲部の履き口周縁に樹脂の滑り止めを設けている従来のレッグウェアに比べ、レッグウェア1は皮膚炎症等が軽減可能であることを皮膚の厚さの観点から補足する。
皮膚の角質層は圧迫や摩擦のような刺激を受けることで徐々に硬く厚くなる。母趾中足趾関節Q1と子趾中足趾関節Q2付近の皮膚は歩くたびに靴に当たることが多く刺激を受けやすい。反対に足Fの指の上側の皮膚は中足趾関節付近の皮膚に比べると刺激が少ない。そのため、個人差はあるものの、図5の(a)および図5の(b)に示すように、一般的に母趾中足趾関節Q1および子趾中足趾関節Q2付近の皮膚の厚さは足Fの指の上側の皮膚よりも厚い。
図5は、皮膚の厚さを説明する図である。図5の(a)は、母趾中足趾関節Q1および子趾中足趾関節Q2の皮膚の厚さを示す図である。図5の(b)は、足Fの指の上側の皮膚の厚さを示す図である。図5の(a)において、厚さT1は、母趾中足趾関節Q1および子趾中足趾関節Q2の皮膚全体の厚さを示す。厚さT11は、母趾中足趾関節Q1および子趾中足趾関節Q2の皮膚において、炎症を起こす皮膚の厚さを示す。厚さT12は、母趾中足趾関節Q1および子趾中足趾関節Q2の皮膚において、炎症を起こさない皮膚の厚さを示す。図5の(b)において、厚さT2は足Fの指の上側の皮膚全体の厚さを示す。厚さT21は、足Fの指の上側の皮膚において炎症を起こす皮膚の厚さを示す。厚さT22は、足Fの指の上側の皮膚において炎症を起こさない皮膚の厚さを示す。
図5の(a)および図5の(b)に示すように、レッグウェア1では、皮膚全体の厚さに対して、炎症等を受ける皮膚表面の厚さの割合が従来のレッグウェアと比較すると相対的に低くなるため炎症等が軽減する。
上述したように、中足趾関節の外面は歩行時に靴に押し付けられる力が働く。しかしながら、レッグウェア1の低伸縮部10は、皮膚が比較的丈夫にできており、かつ足甲部に比べ炎症等の皮膚障害が生じるリスクが低い中足趾関節に設けられているため、樹脂を塗布して低伸縮部10を形成しても肌へのダメージが少なくなる。樹脂としては、シリコンのほか、ウレタンゴムや、肌に優しいとされるEVA(エチレンビニルアセテート)を用いることができる。
〔変形例1〕
低伸縮部10の変形例について、図6の(a)から図6の(o)に基づき説明する。図6の(a)から図6の(o)は、本実施形態に係る低伸縮部10の変形例を示す図である。なお、本変形例では、母趾関節側方領域P1の周囲に配置される低伸縮部10について説明するが、子趾中足趾関節Q2の周囲に配置される低伸縮部10についても同様である。なお、図6における母趾関節側方領域P1において、色の濃いところは母趾中足趾関節Q1の最も外側に突出している領域Q11に対応する領域を示す。
上述の実施形態では、低伸縮部10を足Fの足底側に開口した略コの字型に配置したが、低伸縮部10を、U字・Y字・V字・O字型に配置してもよい。また、低伸縮部10を、下方向および前後方向の生地の動きを抑制可能な位置に点状に設けてもよい。具体的な例を以下に示す。
例えば、図6の(a)に示す低伸縮部10では、図1の(a)に示す低伸縮部10において、第1帯状部11cと第2帯状部11a・11bとが、一連に形成されている。また、第1帯状部11cの母趾関節側方領域P1側の辺の長さは、母趾関節側方領域P1の幅よりも短く、第2帯状部11a・11bの下端部は、母趾関節側方領域P1の中心より下方に位置する。さらに、第2帯状部11a・11bの下方にいくにつれて、第2帯状部11aと第2帯状部11bとの距離が互いに離れるように、第2帯状部11a・11bがハの字型に配置されている。
図6の(b)に示す低伸縮部10では、図1の(a)に示す低伸縮部10において、第1帯状部11c、第2帯状部11aおよび第2帯状部11bが、それぞれ離れて配置されている。また、第1帯状部11cが母趾関節側方領域P1の幅よりも短く、第2帯状部11a・11bの下端部は、母趾関節側方領域P1の中心より下方に位置する。さらに、第2帯状部11a・11bの下方にいくにつれて、第2帯状部11aと第2帯状部11bとの距離が互いに離れるように、第2帯状部11a・11bがハの字型に配置されている。
図6の(c)に示す低伸縮部10では、図1の(b)に示す低伸縮部10において、母趾関節側方領域P1の前方に位置する第2帯状部11aの下端部は、母趾関節側方領域P1の中心より下方に位置する。また、母趾関節側方領域P1の後方に位置する第2帯状部11bの下端部は、母趾関節側方領域P1の中心より上方に位置する。
図6の(d)に示す低伸縮部10では、図6の(c)に示す低伸縮部10において、第2帯状部11a・11bがハの字型に配置されておらず、母趾関節側方領域P1の前方に位置する第2帯状部11aの下端部も、母趾関節側方領域P1の中心より上方に位置する。また、第2帯状部11aと第2帯状部11bとは略平行に配置されている。
図6の(e)に示す低伸縮部10では、図6の(d)に示す低伸縮部10において、第2帯状部11a・11bの下端部は、母趾関節側方領域P1の中心より下方に位置している。また、第1帯状部11cおよび第2帯状部11a・11bは、前後方向xに略平行な、太さが異なる第3帯状部11dが不連続に配置されることにより構成されている。言い換えると、図6の(e)における第1帯状部11cおよび第2帯状部11a・11bは、第3帯状部11dが集合した形状である。
図6の(f)に示す低伸縮部10では、図6の(e)に示す低伸縮部10における第1帯状部11cおよび第2帯状部11a・11bは、第3帯状部11dではなく点11eが略帯状に集合することにより形成されている。
図6の(g)に示す低伸縮部10では、図6の(e)に示す低伸縮部10における第1帯状部11cおよび第2帯状部11a・11bが、第3帯状部11dではなく線状部11fが略帯状に集合することにより形成されている。具体的には、第1帯状部11cは、第1帯状部11cより細い複数の線状部11fが前後方向xに略平行に配置されることにより形成されている。第2帯状部11a・11bは、第2帯状部11a・11より細い複数の線状部11fが上下方向yに略平行に配置されることにより形成されている。また、第1帯状部11cは、母趾関節側方領域P1の幅よりも長い。
図6の(h)に示す低伸縮部10では、第1帯状部11cと第2帯状部11a・11bとが、一連に形成されている。第2帯状部11a・11bの下端部は母趾関節側方領域P1の中心より下方に位置し、低伸縮部10は、足底側に開口した略コの字型の形状となる。また、第1帯状部11cは母趾関節側方領域P1の幅よりも長い。
図6の(i)に示す低伸縮部10では、図6の(g)に示す低伸縮部10における第1帯状部11cおよび第2帯状部11a・11bが、細幅の波線状で形成されている。
図6の(j)では、低伸縮部10は、略前後方向xおよび略上下方向yとは異なる斜め方向へ延伸する2つの斜め型帯状部12a・12bを含み、斜め型帯状部12a・12bは母趾関節側方領域P1を挟むように配置されている。斜め型帯状部12a・12bは斜め型帯状部12a・12bの下方にいくにつれて、斜め型帯状部12aと斜め型帯状部12bとの距離が互いに離れるように、ハの字型に配置されている。
図6の(k)では、低伸縮部10は、所定の大きさの円状部13a・13b・13cを含み、円状部13a・13bは母趾関節側方領域P1を前後方向から挟むように配置され、円状部13cは母趾関節側方領域P1の上部に配置されている。
図6の(l)では、低伸縮部10は、所定の大きさの円状部13d・13eを含み、円状部13dは母趾関節側方領域P1の前方向かつ上方向に配置され、円状部13eは母趾関節側方領域P1の後方向かつ上方向に配置されていている。
図6の(m)では、低伸縮部10は、母趾関節側方領域P1の下端部より上側において、母趾関節側方領域P1を中心として、母趾関節側方領域P1から上方向に向けて放射線状に延伸する複数の線状部14aが配置されている。
図6の(n)では、低伸縮部10は、母趾関節側方領域P1を囲むような略環状である環状部15aにより形成されている。
図6の(o)では、低伸縮部10は、曲線状の曲線型帯状部16aが母趾関節側方領域P1の下端部から上側を囲むように配置されていている。曲線型帯状部16aは曲線型帯状部16aの中心にいくにつれて太幅となる。
低伸縮部10の形状についてまとめる。低伸縮部10の形状は、下記の(1)および(2)の生地の動きの抑制するような構成であればどのような位置・大きさ・形状であってもよい。(1)母趾中足趾関節Q1に対する、母趾関節側方領域P1の下方向および前後方向への生地の動き。(2)子趾中足趾関節Q2に対する子趾関節側方領域P2の下方向および前後方向への生地の動き。なお、未着用状態で、母趾中足趾関節Q1に対する、母趾関節側方領域P1の位置、または子趾中足趾関節Q2に対する子趾関節側方領域P2の位置が特定できないとしても、着用状態において、かかる位置関係が特定できればよい。上記の(1)および(2)の生地の動きの抑制するような構成として、以下の条件(A)および(B)が挙げられる。なお、上述した変形例は、以下の条件を満たしている。
条件(A)は、母趾関節側方領域P1の前後方向の前方・後方両方に低伸縮部10が位置してなくてならないことである。母趾関節側方領域P1の前後方向のどちらか一方のみに低伸縮部10が位置するだけでは、母趾中足趾関節Q1と母趾関節側方領域P1との位置がずれてしまう。なお、この点についても上述した通り、未着用状態で母趾関節側方領域P1の前後・後方における低伸縮部10の位置が特定できないとしても、着用状態で、母趾関節側方領域P1と低伸縮部10との位置関係が特定できればよい。ここで、未着用状態で母趾関節側方領域P1の前後・後方における低伸縮部10の位置が特定できない状態とは、例えば、レッグウェア1の生地が縮小した状態であるがゆえに明らかに母趾中足趾関節Q1上に低伸縮部10が重なってしまう状態である。また、着用状態で、母趾関節側方領域P1と低伸縮部10との位置関係が特定できる状態とは、着用によりレッグウェア1の生地が伸長した結果、母趾関節側方領域P1の前方・後方に低伸縮部10が位置するようになる状態である。
条件(B)は、低伸縮部10が一連に繋がっている、または、低伸縮部10が一連に繋がっておらず複数に分かれている場合は、低伸縮部10の構成同士の距離が、母趾関節側方領域P1より短いことである。図6の(j)に基づき説明すると、斜め型帯状部12aの上端部と、斜め型帯状部12bの上端部との距離W1は、母趾関節側方領域P1の幅W2よりも短い必要がある。また、中足趾関節と低伸縮部10とは近接していることが望ましいが、中足趾関節と低伸縮部10との距離を置いた分、中足趾関節と低伸縮部10とのずれが生じうる。そのため、中足趾関節と低伸縮部10との距離は、母趾中足趾関節Q1に対し母趾関節側方領域P1が、もしくは、子趾中足趾関節Q2に対し子趾関節側方領域P2がずれたとしても、最低限、脱げに影響しない(足指が完全に露出しない)距離に留まっていればよい。
また、低伸縮部10は母趾関節側方領域P1の下端部よりも下方向に位置していても位置してなくても、どちらでもよい。低伸縮部10は、少なくとも母趾関節側方領域P1が母趾中足趾関節Q1に対して下方向にずれることを、低伸縮部10が母趾中足趾関節Q1にひっかかることによって抑制する構成を備えていればよい。図6の(a)に示すように、低伸縮部10(斜め型帯状部12aおよび斜め型帯状部12b)の下端部が母趾関節側方領域P1の上端の位置H1を下方向に超えていればよい。
また、母趾関節側方領域P1の前後方向は、少しでも低伸縮部10が位置していればよい。低伸縮部10の前後方向への幅、および低伸縮部の厚さについては特に規定はない。
本発明のレッグウェア1は、浅履きのレッグウェア1を例として説明したが、上記に限らない。レッグウェア1は、中足趾関節が覆われているものであればよい。レッグウェア1は、浅履き深履きを問わず、フットカバーはもちろん、クルー丈、ハイソックス等の靴下にも適用できる。また、レッグウェア1は、タイツ等の下腿部を覆うレッグウェア、爪先のみの爪先カバー、および踵部を帯状にひっかけるようなフットカバーにも適用できる。
本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。
1 レッグウェア
2 本体部
10 低伸縮部
21 足底部
22 爪先部
23 側辺部
24 踵部
11a・11b 第2帯状部
11c 第1帯状部
F 足
Q1 母趾中足趾関節
Q2 子趾中足趾関節
P1 母趾関節側方領域
P2 子趾関節側方領域
x 前後方向
y 上下方向

Claims (19)

  1. 少なくとも足の爪先から母趾中足趾関節および子趾中足趾関節までを覆い、前記母趾中足趾関節の側方を覆う母趾関節側方領域および前記子趾中足趾関節の側方を覆う子趾関節側方領域を含む、伸縮性を有する本体部と、
    前記母趾関節側方領域および前記子趾関節側方領域の少なくとも一方の領域の周囲に配置され、前記足の厚み方向を上下方向、前記足の長手方向を前後方向と定義したとき、前記足に対する前記領域の下方向および前後方向へのずれを抑制する低伸縮部とを備え、
    前記低伸縮部は、前記本体部よりも伸縮性が低いおよび前記本体部よりも前記足に対する摩擦が大きい特性の少なくとも一方を有することを特徴とするレッグウェア。
  2. 前記低伸縮部は、前記母趾関節側方領域または前記子趾関節側方領域に対して、上方向および前後方向に配置されることを特徴とする請求項1に記載のレッグウェア。
  3. 前記足に接する前記低伸縮部の内面は、前記足に接する前記本体部の内面よりも、前記足に対する摩擦が大きいことを特徴とする請求項1または2に記載のレッグウェア。
  4. 前記低伸縮部は、前記母趾関節側方領域および前記子趾関節側方領域の周囲にそれぞれ設けられていることを特徴とする請求項1から3までのいずれか1項に記載のレッグウェア。
  5. 前記低伸縮部は、帯状であることを特徴とする請求項1から4までのいずれか1項に記載のレッグウェア。
  6. 前記帯状の前記低伸縮部は、前記母趾関節側方領域または前記子趾関節側方領域の前後方向から挟むように配置され、
    2つの前記低伸縮部の下端部の距離は、少なくとも前記母趾関節側方領域または前記子趾関節側方領域の幅以上であることを特徴とする請求項5に記載のレッグウェア。
  7. 前記低伸縮部は、
    前記母趾関節側方領域または前記子趾関節側方領域の前後方向の伸縮を抑制する第1帯状部と、該領域の上下方向の伸縮を抑制する第2帯状部と、
    を含むことを特徴とする請求項5または6に記載のレッグウェア。
  8. 前記第2帯状部は、前記母趾関節側方領域または前記子趾関節側方領域を前後方向から挟むように配置されていることを特徴とする請求項7に記載のレッグウェア。
  9. 前記低伸縮部は、前記足の足底側に開口した略コの字型の形状であることを特徴とする請求項8に記載のレッグウェア。
  10. 前記第2帯状部の下方向の下端が、前記母趾関節側方領域または前記子趾関節側方領域の上下方向の中心位置よりも下方向に位置することを特徴とする請求項7から9までのいずれか1項に記載のレッグウェア。
  11. 前記第1帯状部の前記母趾関節側方領域側の辺の長さ、または前記子趾関節側方領域側の辺の長さは、前記母趾関節側方領域または前記子趾関節側方領域の幅よりも短く、
    前記第2帯状部の長さは前記第1帯状部よりも長く、かつ前記第2帯状部の下方にいくにつれて前記第2帯状部の距離が互いに離れるようにハの字型に配置されることを特徴とする請求項8から10のいずれか1項に記載のレッグウェア。
  12. 前記第1帯状部と前記第2帯状部とは、一連に形成されていることを特徴とする請求項7から11のいずれか1項に記載のレッグウェア。
  13. 前記本体部は、編地で構成されており、前記爪先を覆う爪先部、前記足の足底を覆う足底部、前記足の両側辺を覆う側辺部、および前記足の踵を覆う踵部を含むことを特徴とする請求項1から12までのいずれか1項に記載のレッグウェア。
  14. 前記足の足甲および足首を露出させるフットカバーであることを特徴とする請求項13に記載のレッグウェア。
  15. 前記フットカバーは、前記足の足指の分岐部位の一部を露出させる浅履き形状であることを特徴とする請求項14に記載のレッグウェア。
  16. 前記爪先部は、足指の外郭にそって親指側から小指側へなだらかに傾斜する形状であることを特徴とする請求項15に記載のレッグウェア。
  17. 前記踵部の内面に滑り止めが設けられていることを特徴とする請求項13から16までのいずれか1項に記載のレッグウェア。
  18. 前記低伸縮部は、前記本体部の内面に塗布された樹脂であることを特徴とする請求項1から17までのいずれか1項に記載のレッグウェア。
  19. 前記本体部は、前記爪先を覆う爪先部に複数の指収納部が形成されていることを特徴とする請求項1から18までのいずれか1項に記載のレッグウェア。
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