JP2020164551A - 硫酸エステル又はその塩、及び、界面活性剤 - Google Patents
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Abstract
【課題】複数のカルボニル基を有する新規な硫酸エステル又はその塩、及び、界面活性剤を提供すること。【解決手段】複数のカルボニル基を有する新規な硫酸エステル又はその塩、及び、界面活性剤を提供する。式:R1−C(=O)−R2−C(=O)−R3−OSO3X(式中、R1は、炭素数1以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数3以上の環状のアルキル基であり、炭素原子に結合した水素原子がヒドロキシ基又はエステル結合を含む1価の有機基により置換されていてもよく、炭素数が2以上の場合はカルボニル基を含んでもよく、炭素数が3以上の場合は1価又は2価の複素環を含んでも環を巻いていてもよい。R2及びR3は、独立に、単結合又は2価の連結基である。R1、R2及びR3は、炭素数が合計で6以上である。Xは、H、金属原子、NR44、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、R4はH又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。R1、R2及びR3は、いずれか2つがお互いに結合して、環を形成してもよい。)で示されることを特徴とする化合物である。【選択図】 なし
Description
本発明は、硫酸エステル又はその塩、及び、界面活性剤に関する。
Gregory R. Schulz、外3名、「Micelles formed from photochemically active amphiphiles: structural characterization by small−angle neutron scattering」、Journal of Molecular Structure、383(1−3)、1996、pp.191−196
本発明は、複数のカルボニル基を有する新規な硫酸エステル又はその塩、及び、界面活性剤を提供することを目的とする。
本発明は、下記式:
(式中、R1は、炭素数1以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数3以上の環状のアルキル基であり、炭素原子に結合した水素原子がヒドロキシ基又はエステル結合を含む1価の有機基により置換されていてもよく、炭素数が2以上の場合はカルボニル基を含んでもよく、炭素数が3以上の場合は1価又は2価の複素環を含んでも環を巻いていてもよい。R2及びR3は、独立に、単結合又は2価の連結基である。R1、R2及びR3は、炭素数が合計で6以上である。Xは、H、金属原子、NR4 4、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、R4はH又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。R1、R2及びR3は、いずれか2つがお互いに結合して、環を形成してもよい。)で示されることを特徴とする化合物である。
上記式中、R2及びR3は、独立に、単結合又は炭素数1以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基又は炭素数3以上の環状のアルキレン基であることが好ましく、炭素原子に結合した水素原子がヒドロキシ基又はエステル結合を含む1価の有機基により置換されていてもよい。
上記式中、R1は、カルボニル基を含まない炭素数1〜8の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、カルボニル基を含まない炭素数3〜8の環状のアルキル基、1〜10個のカルボニル基を含む炭素数2〜45の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、カルボニル基を含む炭素数3〜45の環状のアルキル基、又は、炭素数が3〜45の1価若しくは2価の複素環を含むアルキル基であることが好ましい。
上記式中、R1は、下記式:
(式中、n11は0〜10の整数であり、R11は炭素数1〜5の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数3〜5の環状のアルキル基であり、R12は炭素数0〜3のアルキレン基である。n11が2〜10の整数である場合、R12は各々同じであっても異なっていてもよい。)で示される基であることが好ましい。
上記式中、R2及びR3は、独立に、カルボニル基を含まない炭素数1以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基であることが好ましい。
上記式中、R2及びR3は、独立に、カルボニル基を含まない炭素数1〜3の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基であることが好ましい。
本発明は、上述の化合物を含む界面活性剤でもある。
本発明は、上述の化合物を含む水系分散剤でもある。
本発明の化合物は、界面活性作用を示す化合物であり、アニオン性界面活性剤や水系分散剤として好適に利用可能である。
以下、本発明を具体的に説明する。
本明細書中、特に断りのない限り、「有機基」は、1個以上の炭素原子を含有する基、又は有機化合物から1個の水素原子を除去して形成される基を意味する。
当該「有機基」の例は、
1個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、
1個以上の置換基を有していてもよいアルケニル基、
1個以上の置換基を有していてもよいアルキニル基、
1個以上の置換基を有していてもよいシクロアルキル基、
1個以上の置換基を有していてもよいシクロアルケニル基、
1個以上の置換基を有していてもよいシクロアルカジエニル基、
1個以上の置換基を有していてもよいアリール基、
1個以上の置換基を有していてもよいアラルキル基、
1個以上の置換基を有していてもよい非芳香族複素環基、
1個以上の置換基を有していてもよいヘテロアリール基、
シアノ基、
ホルミル基、
RaO−、
RaCO−、
RaSO2−、
RaCOO−、
RaNRaCO−、
RaCONRa−、
RaSO2NRa−、
RaNRaSO2−、
RaOCO−、及び、
RaOSO2−、
(これらの式中、Raは、独立して、
1個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、
1個以上の置換基を有していてもよいアルケニル基、
1個以上の置換基を有していてもよいアルキニル基、
1個以上の置換基を有していてもよいシクロアルキル基、
1個以上の置換基を有していてもよいシクロアルケニル基、
1個以上の置換基を有していてもよいシクロアルカジエニル基、
1個以上の置換基を有していてもよいアリール基、
1個以上の置換基を有していてもよいアラルキル基、
1個以上の置換基を有していてもよい非芳香族複素環基、又は
1個以上の置換基を有していてもよいヘテロアリール基である)
を包含する。
上記有機基としては、1個以上の置換基を有していてもよいアルキル基が好ましい。
当該「有機基」の例は、
1個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、
1個以上の置換基を有していてもよいアルケニル基、
1個以上の置換基を有していてもよいアルキニル基、
1個以上の置換基を有していてもよいシクロアルキル基、
1個以上の置換基を有していてもよいシクロアルケニル基、
1個以上の置換基を有していてもよいシクロアルカジエニル基、
1個以上の置換基を有していてもよいアリール基、
1個以上の置換基を有していてもよいアラルキル基、
1個以上の置換基を有していてもよい非芳香族複素環基、
1個以上の置換基を有していてもよいヘテロアリール基、
シアノ基、
ホルミル基、
RaO−、
RaCO−、
RaSO2−、
RaCOO−、
RaNRaCO−、
RaCONRa−、
RaSO2NRa−、
RaNRaSO2−、
RaOCO−、及び、
RaOSO2−、
(これらの式中、Raは、独立して、
1個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、
1個以上の置換基を有していてもよいアルケニル基、
1個以上の置換基を有していてもよいアルキニル基、
1個以上の置換基を有していてもよいシクロアルキル基、
1個以上の置換基を有していてもよいシクロアルケニル基、
1個以上の置換基を有していてもよいシクロアルカジエニル基、
1個以上の置換基を有していてもよいアリール基、
1個以上の置換基を有していてもよいアラルキル基、
1個以上の置換基を有していてもよい非芳香族複素環基、又は
1個以上の置換基を有していてもよいヘテロアリール基である)
を包含する。
上記有機基としては、1個以上の置換基を有していてもよいアルキル基が好ましい。
また、本明細書中、特に断りのない限り、「置換基」は、置換可能な基を意味する。当該「置換基」の例は、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、脂肪族オキシ基、芳香族オキシ基、ヘテロ環オキシ基、脂肪族オキシカルボニル基、芳香族オキシカルボニル基、ヘテロ環オキシカルボニル基、カルバモイル基、脂肪族スルホニル基、芳香族スルホニル基、ヘテロ環スルホニル基、脂肪族スルホニルオキシ基、芳香族スルホニルオキシ基、ヘテロ環スルホニルオキシ基、スルファモイル基、脂肪族スルホンアミド基、芳香族スルホンアミド基、ヘテロ環スルホンアミド基、アミノ基、脂肪族アミノ基、芳香族アミノ基、ヘテロ環アミノ基、脂肪族オキシカルボニルアミノ基、芳香族オキシカルボニルアミノ基、ヘテロ環オキシカルボニルアミノ基、脂肪族スルフィニル基、芳香族スルフィニル基、脂肪族チオ基、芳香族チオ基、ヒドロキシ基、シアノ基、スルホ基、カルボキシ基、脂肪族オキシアミノ基、芳香族オキシアミノ基、カルバモイルアミノ基、スルファモイルアミノ基、ハロゲン原子、スルファモイルカルバモイル基、カルバモイルスルファモイル基、ジ脂肪族オキシホスフィニル基、及び、ジ芳香族オキシホスフィニル基を包含する。
上記脂肪族基は、飽和であっても不飽和であってもよく、また、ヒドロキシ基、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記脂肪族基としては、総炭素原子数1〜8、好ましくは1〜4のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、ビニル基、シクロヘキシル基、カルバモイルメチル基等が挙げられる。
上記芳香族基は、例えば、ニトロ基、ハロゲン原子、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記芳香族基としては、炭素数6〜12、好ましくは総炭素原子数6〜10のアリール基、例えば、フェニル基、4−ニトロフェニル基、4−アセチルアミノフェニル基、4−メタンスルホニルフェニル基等が挙げられる。
上記ヘテロ環基は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記ヘテロ環基としては、総炭素原子数2〜12、好ましくは2〜10の5〜6員へテロ環、例えば2−テトラヒドロフリル基、2−ピリミジル基等が挙げられる。
上記アシル基は、脂肪族カルボニル基、アリールカルボニル基、ヘテロ環カルボニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、芳香族基、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記アシル基としては、総炭素原子数2〜8、好ましくは2〜4のアシル基、例えばアセチル基、プロパノイル基、ベンゾイル基、3−ピリジンカルボニル基等が挙げられる。
上記アシルアミノ基は、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基等を有していてもよく、例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、2−ピリジンカルボニルアミノ基、プロパノイルアミノ基等を有していてもよい。上記アシルアミノ基としては、総炭素原子数2〜12、好ましくは2〜8のアシルアミノ基、総炭素原子数2〜8のアルキルカルボニルアミノ基、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、2−ピリジンカルボニルアミノ基、プロパノイルアミノ基等が挙げられる。
上記脂肪族オキシカルボニル基は、飽和であっても不飽和であってもよく、また、ヒドロキシ基、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記脂肪族オキシカルボニル基としては、総炭素原子数2〜8、好ましくは2〜4のアルコキシカルボニル基、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、(t)−ブトキシカルボニル基等が挙げられる。
上記カルバモイル基は、脂肪族基、芳香族基、へテロ環基等を有していてもよい。上記カルバモイル基としては、無置換のカルバモイル基、総炭素数2〜9のアルキルカルバモイル基、好ましくは無置換のカルバモイル基、総炭素原子数2〜5のアルキルカルバモイル基、例えばN−メチルカルバモイル基、N,N−ジメチルカルバモイル基、N−フェニルカルバモイル基等が挙げられる。
上記脂肪族スルホニル基は、飽和であっても不飽和であってもよく、また、ヒドロキシ基、芳香族基、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記脂肪族スルホニル基としては、総炭素原子数1〜6、好ましくは総炭素原子数1〜4のアルキルスルホニル基、例えばメタンスルホニル等が挙げられる。
上記芳香族スルホニル基は、ヒドロキシ基、脂肪族基、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記芳香族スルホニル基としては、総炭素原子数6〜10のアリールスルホニル基、例えばベンゼンスルホニル等が挙げられる。
上記アミノ基は、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基等を有していてもよい。
上記アシルアミノ基は、例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、2−ピリジンカルボニルアミノ基、プロパノイルアミノ基等を有していてもよい。上記アシルアミノ基としては、総炭素原子数2〜12、好ましくは総炭素原子数2〜8のアシルアミノ基、より好ましくは総炭素原子数2〜8のアルキルカルボニルアミノ基、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、2−ピリジンカルボニルアミノ基、プロパノイルアミノ基等が挙げられる。
上記脂肪族スルホンアミド基、芳香族スルホンアミド基、ヘテロ環スルホンアミド基は、例えば、メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基、2−ピリジンスルホンアミド基等であってもよい。
上記スルファモイル基は、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基等を有していてもよい。上記スルファモイル基としては、スルファモイル基、総炭素原子数1〜9のアルキルスルファモイル基、総炭素原子数2〜10のジアルキルスルファモイル基、総炭素原子数7〜13のアリールスルファモイル基、総炭素原子数2〜12のヘテロ環スルファモイル基、より好ましくはスルファモイル基、総炭素原子数1〜7のアルキルスルファモイル基、総炭素原子数3〜6のジアルキルスルファモイル基、総炭素原子数6〜11のアリールスルファモイル基、総炭素原子数2〜10のヘテロ環スルファモイル基、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、N,N−ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基、4−ピリジンスルファモイル基等が挙げられる。
上記脂肪族オキシ基は、飽和であっても不飽和であってもよく、また、メトキシ基、エトキシ基、i−プロピルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、メトキシエトキシ基等を有していてもよい。上記脂肪族オキシ基としては、総炭素原子数1〜8、好ましくは1〜6のアルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、i−プロピルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、メトキシエトキシ基等が挙げられる。
上記芳香族アミノ基、へテロ環アミノ基は、脂肪族基、脂肪族オキシ基、ハロゲン原子、カルバモイル基、該アリール基と縮環したへテロ環基、脂肪族オキシカルボニル基、好ましくは総炭素原子数1〜4の脂肪族基、総炭素原子数1〜4の脂肪族オキシ基、ハロゲン原子、総炭素原子数1〜4のカルバモイル基、ニトロ基、総炭素原子数2〜4の脂肪族オキシカルボニル基を有していてもよい。
上記脂肪族チオ基は、飽和であっても不飽和であってもよく、また、総炭素原子数1〜8、より好ましくは総炭素原子数1〜6のアルキルチオ基、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、カルバモイルメチルチオ基、t−ブチルチオ基等が挙げられる。
上記カルバモイルアミノ基は、脂肪族基、アリール基、ヘテロ環基等を有していてもよい。上記カルバモイルアミノ基としては、カルバモイルアミノ基、総炭素原子数2〜9のアルキルカルバモイルアミノ基、総炭素原子数3〜10のジアルキルカルバモイルアミノ基、総炭素原子数7〜13のアリールカルバモイルアミノ基、総炭素原子数3〜12のヘテロ環カルバモイルアミノ基、好ましくはカルバモイルアミノ基、総炭素原子数2〜7のアルキルカルバモイルアミノ基、総炭素原子数3〜6のジアルキルカルバモイルアミノ基、総炭素原子数7〜11のアリールカルバモイルアミノ基、総炭素原子数3〜10のヘテロ環カルバモイルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、メチルカルバモイルアミノ基、N,N−ジメチルカルバモイルアミノ基、フェニルカルバモイルアミノ、4−ピリジンカルバモイルアミノ基等が挙げられる。
式中、R1は、炭素数1以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数3以上の環状のアルキル基である。
上記アルキル基は、炭素数が3以上の場合、2つの炭素原子間にカルボニル基(−C(=O)−)を含んでもよい。また、上記アルキル基は、炭素数が2以上の場合、上記アルキル基の末端に上記カルボニル基を含むこともできる。すなわち、CH3−C(=O)−で示されるアセチル基等のアシル基も、上記アルキル基に含まれる。
また、上記アルキル基は、炭素数が3以上の場合は1価又は2価の複素環を含むこともできるし、環を巻くこともできる。上記複素環としては、不飽和複素環が好ましく、含酸素不飽和複素環がより好ましく、例えば、フラン環等が挙げられる。R1において、2価の複素環が2つの炭素原子間に挿入されていてもよいし、2価の複素環が末端に位置して−C(=O)−と結合してもよいし、1価の複素環が上記アルキル基の末端に位置してもよい。
上記アルキル基は、炭素数が3以上の場合、2つの炭素原子間にカルボニル基(−C(=O)−)を含んでもよい。また、上記アルキル基は、炭素数が2以上の場合、上記アルキル基の末端に上記カルボニル基を含むこともできる。すなわち、CH3−C(=O)−で示されるアセチル基等のアシル基も、上記アルキル基に含まれる。
また、上記アルキル基は、炭素数が3以上の場合は1価又は2価の複素環を含むこともできるし、環を巻くこともできる。上記複素環としては、不飽和複素環が好ましく、含酸素不飽和複素環がより好ましく、例えば、フラン環等が挙げられる。R1において、2価の複素環が2つの炭素原子間に挿入されていてもよいし、2価の複素環が末端に位置して−C(=O)−と結合してもよいし、1価の複素環が上記アルキル基の末端に位置してもよい。
R1としての上記アルキル基は、置換基を有してもよい。R1としての上記アルキル基が有してもよい上記置換基としては、ハロゲン原子、炭素数1〜10の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数3〜10の環状のアルキル基、ヒドロキシ基が好ましく、メチル基、エチル基が特に好ましい。
上記アルキル基は、また、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基(−OH)又はエステル結合を含む1価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む1価の有機基としては、式:−O−C(=O)−R101(式中、R101はアルキル基)で示される基が挙げられる。
上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の75%以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、50%以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、25%以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記エステル結合を含む1価の有機基としては、式:−O−C(=O)−R101(式中、R101はアルキル基)で示される基が挙げられる。
上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の75%以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、50%以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、25%以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
式中、R2及びR3は、独立に、単結合又は2価の連結基である。
R2及びR3は、独立に、単結合又は炭素数1以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基又は炭素数3以上の環状のアルキレン基であることが好ましい。
R2及びR3を構成する上記アルキレン基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
R2及びR3は、独立に、単結合又は炭素数1以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基又は炭素数3以上の環状のアルキレン基であることが好ましい。
R2及びR3を構成する上記アルキレン基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基(−OH)又はエステル結合を含む1価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む1価の有機基としては、式:−O−C(=O)−R102(式中、R102はアルキル基)で示される基が挙げられる。
上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子の75%以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、50%以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、25%以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキレン基であることが好ましい。
上記エステル結合を含む1価の有機基としては、式:−O−C(=O)−R102(式中、R102はアルキル基)で示される基が挙げられる。
上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子の75%以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、50%以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、25%以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキレン基であることが好ましい。
R1、R2及びR3は、炭素数が合計で6以上である。合計の炭素数としては、8以上が好ましく、9以上がより好ましく、10以上が更に好ましく、20以下が好ましく、18以下がより好ましく、15以下が更に好ましい。
R1、R2及びR3は、いずれか2つがお互いに結合して、環を形成してもよい。
R1、R2及びR3は、いずれか2つがお互いに結合して、環を形成してもよい。
式中、Xは、H、金属原子、NR4 4、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、R4はH又は有機基である。4つのR4は、同一でも異なっていてもよい。R4としては、H又は炭素数1〜10の有機基が好ましく、H又は炭素数1〜4の有機基がより好ましい。上記金属原子としては、アルカリ金属(1族)、アルカリ土類金属(2族)等が挙げられ、Na、K又はLiが好ましい。
Xとしては、H、金属原子又はNR4 4が好ましく、H、アルカリ金属(1族)、アルカリ土類金属(2族)又はNR4 4がより好ましく、H、Na、K、Li又はNH4が更に好ましく、Na、K又はNH4が更により好ましく、Na又はNH4が特に好ましく、NH4が最も好ましい。
Xとしては、H、金属原子又はNR4 4が好ましく、H、アルカリ金属(1族)、アルカリ土類金属(2族)又はNR4 4がより好ましく、H、Na、K、Li又はNH4が更に好ましく、Na、K又はNH4が更により好ましく、Na又はNH4が特に好ましく、NH4が最も好ましい。
R1としては、カルボニル基を含まない炭素数1〜8の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、カルボニル基を含まない炭素数3〜8の環状のアルキル基、1〜10個のカルボニル基を含む炭素数2〜45の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、カルボニル基を含む炭素数3〜45の環状のアルキル基、又は、炭素数が3〜45の1価若しくは2価の複素環を含むアルキル基が好ましい。
また、R1としては、下記式:
(式中、n11は0〜10の整数であり、R11は炭素数1〜5の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数3〜5の環状のアルキル基であり、R12は炭素数0〜3のアルキレン基である。n11が2〜10の整数である場合、R12は各々同じであっても異なっていてもよい。)で示される基がより好ましい。
n11としては、0〜5の整数が好ましく、0〜3の整数がより好ましく、1〜3の整数が更に好ましい。
R11としての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
R11としての上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基(−OH)又はエステル結合を含む1価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む1価の有機基としては、式:−O−C(=O)−R103(式中、R103はアルキル基)で示される基が挙げられる。
R11としての上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の75%以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、50%以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、25%以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
R11のアルキル基の炭素数は、1〜20であってよく、1〜15が好ましく、1〜12がより好ましく、1〜10が更に好ましく、1〜8が更により好ましく、1〜6が殊更好ましく、1〜3が尚更に好ましく、1又は2が特に好ましく、1が最も好ましい。また、上記R11のアルキル基は、1級炭素、2級炭素、3級炭素のみで構成されていることが好ましく、1級炭素、2級炭素のみで構成されるのが特に好ましい。すなわち、R11としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基が好ましく、特にメチル基が最も好ましい。
R11としての上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基(−OH)又はエステル結合を含む1価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む1価の有機基としては、式:−O−C(=O)−R103(式中、R103はアルキル基)で示される基が挙げられる。
R11としての上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の75%以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、50%以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、25%以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
R11のアルキル基の炭素数は、1〜20であってよく、1〜15が好ましく、1〜12がより好ましく、1〜10が更に好ましく、1〜8が更により好ましく、1〜6が殊更好ましく、1〜3が尚更に好ましく、1又は2が特に好ましく、1が最も好ましい。また、上記R11のアルキル基は、1級炭素、2級炭素、3級炭素のみで構成されていることが好ましく、1級炭素、2級炭素のみで構成されるのが特に好ましい。すなわち、R11としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基が好ましく、特にメチル基が最も好ましい。
R11としては、置換基を有してもよい炭素数1〜10の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数3〜10の環状のアルキル基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数1〜10の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はカルボニル基を含まない炭素数3〜10の環状のアルキル基がより好ましく、置換基を有さない炭素数1〜10の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更に好ましく、置換基を有さない炭素数1〜3の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更により好ましく、メチル基(−CH3)又はエチル基(−C2H5)が特に好ましく、メチル基(−CH3)が最も好ましい。
R11としての上記アルキル基は、置換基を有してもよい。R11としての上記アルキル基が有してもよい上記置換基としては、ハロゲン原子、炭素数1〜10の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数3〜10の環状のアルキル基、ヒドロキシ基が好ましく、メチル基、エチル基が特に好ましい。
R12は炭素数0〜3のアルキレン基である。上記炭素数は1〜3が好ましい。
R12としての上記アルキレン基は、直鎖状又は分岐鎖状であってよい。
R12としての上記アルキレン基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。R12としては、エチレン基(−C2H4−)又はプロピレン基(−C3H6−)がより好ましい。
R12としての上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基(−OH)又はエステル結合を含む1価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む1価の有機基としては、式:−O−C(=O)−R104(式中、R104はアルキル基)で示される基が挙げられる。
R12としての上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子の75%以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、50%以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、25%以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキレン基であることが好ましい。
R12としての上記アルキレン基は、直鎖状又は分岐鎖状であってよい。
R12としての上記アルキレン基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。R12としては、エチレン基(−C2H4−)又はプロピレン基(−C3H6−)がより好ましい。
R12としての上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基(−OH)又はエステル結合を含む1価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む1価の有機基としては、式:−O−C(=O)−R104(式中、R104はアルキル基)で示される基が挙げられる。
R12としての上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子の75%以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、50%以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、25%以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキレン基であることが好ましい。
R2及びR3としては、独立に、カルボニル基を含まない炭素数1以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数1〜3の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基がより好ましく、エチレン基(−C2H4−)又はプロピレン基(−C3H6−)が更に好ましい。
上記化合物としては、次の化合物が例示できる。各式中、Xは上述のとおりである。
本発明の化合物は、式:
(式中、R3は上述のとおり、Eは脱離基である。)で示される化合物(10)と、リチウム、及び、式:R201 3Si−Cl(式中、R201は、独立に、アルキル基又はアリール基である。)で示されるクロロシラン化合物とを反応させて、式:
(式中、R3、R201及びEは上述のとおりである。)で示される化合物(11)を得る工程(11)、
化合物(11)と、式:
(式中、R1は上述のとおり、R21は単結合又は2価の連結基である。)で示されるオレフィンとを反応させて、式:
(式中、R1、R21、R3及びEは上述のとおりである。)で示される化合物(12)を得る工程(12)、
化合物(12)が有する脱離基を脱離させて、式:
(式中、R1、R21及びR3は上述のとおりである。)で示される化合物(13)を得る工程(13)、及び、
化合物(13)と、式:
(式中、Xは、上述したとおりである。)で示される塩化スルホン酸とを反応させて、式:
(式中、R1、R21、R3及びXは上述のとおりである。)で示される化合物(14)を得る工程(14)を含む製造方法により製造できる。
化合物(11)と、式:
化合物(12)が有する脱離基を脱離させて、式:
化合物(13)と、式:
R1にフラン環を含む場合は、例えば酸によりフラン環を開環しジカルボニル誘導体に変換してもよい。酸としては酢酸、塩酸、p−トルエンスルホン等があげられ、中でも酢酸が好ましい。
工程(11)では、リチウム及び上記クロロシラン化合物を予め反応させて、シロキシリチウム化合物を得た後、上記シロキシリチウム化合物と化合物(10)とを反応させて、化合物(11)を得ることが好ましい。
Eは脱離基を表す。上記脱離基としては、tert−ブチルジメチルシリル(TBS)基、トリエチルシリル(TES)基、トリイソプロピルシリル(TIPS)基、tert−ブチルジフェニルシリル(TBDPS)基、ベンジル(Bn)基等が挙げられる。
R21としては、単結合又は炭素数1以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基が好ましい。
工程(11)におけるいずれの反応も、溶媒中で実施することができる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム(エチレングリコールジメチルエーテル)、ジグライム(ジエチレングリコールジメチルエーテル)、トリグライム(トリエチレングリコールジメチルエーテル)、テトラヒドロフラン、テトラグライム(テトラエチレングリコールジメチルエーテル)、クラウンエーテル(15−クラウン−5,18−クラウン−6)等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
工程(11)におけるリチウム及び上記クロロシラン化合物の反応の温度としては、−78〜150℃が好ましく、0〜100℃がより好ましく、10〜40℃が更に好ましく、20〜30℃が特に好ましい。
工程(11)における上記シロキシリチウム化合物と化合物(10)との反応の温度としては、−100〜0℃が好ましく、−80〜−50℃がより好ましい。また、−100〜100℃が好ましく、−80〜50℃がより好ましい。
工程(11)における上記シロキシリチウム化合物と化合物(10)との反応の温度としては、−100〜0℃が好ましく、−80〜−50℃がより好ましい。また、−100〜100℃が好ましく、−80〜50℃がより好ましい。
工程(11)におけるリチウム及び上記クロロシラン化合物の反応の圧力としては、0.1〜5MPaが好ましく、0.1〜1MPaがより好ましい。
工程(11)における上記シロキシリチウム化合物と化合物(10)との反応の圧力としては、0.1〜5MPaが好ましく、0.1〜1MPaがより好ましい。
工程(11)における上記シロキシリチウム化合物と化合物(10)との反応の圧力としては、0.1〜5MPaが好ましく、0.1〜1MPaがより好ましい。
工程(11)におけるリチウム及び上記クロロシラン化合物の反応の時間としては、0.1〜72時間が好ましく、1〜48時間がより好ましく、6〜10時間が更に好ましい。
工程(11)における上記シロキシリチウム化合物と化合物(10)との反応の時間としては、0.1〜72時間が好ましく、1〜2時間がより好ましい。
工程(11)における上記シロキシリチウム化合物と化合物(10)との反応の時間としては、0.1〜72時間が好ましく、1〜2時間がより好ましい。
工程(12)において、化合物(11)と上記オレフィンとの反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物(11)1モルに対して、上記オレフィンが0.5〜10モルであることが好ましく、1〜2モルであることがより好ましく、0.6〜5.0モルであることが更に好ましく、1〜1.1モルであることが特に好ましい。
工程(12)における反応は、チアゾリウム塩及び塩基の存在下、溶媒中で実施できる。
上記チアゾリウム塩としては、3−エチル−5−(2−ヒドロキシエチル)−4−メチルチアゾリウムブロミド、3−ベンジル−5−(2−ヒドロキシエチル)−4−メチルチアゾリウムクロリド等が挙げられる。
上記塩基としては、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン、トリエチルアミン等が挙げられる。
上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、アルコール、エーテルが更に好ましい。
上記アルコールとしては、メタノール、エタノール、1−プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム(エチレングリコールジメチルエーテル)、ジグライム(ジエチレングリコールジメチルエーテル)、トリグライム(トリエチレングリコールジメチルエーテル)、テトラヒドロフラン、テトラグライム(テトラエチレングリコールジメチルエーテル)、クラウンエーテル(15−クラウン−5,18−クラウン−6)等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
工程(12)における反応の温度としては、−78〜150℃が好ましく、0〜100℃がより好ましく、40〜60℃が更に好ましく、50〜55℃が特に好ましい。
工程(12)における反応の圧力としては、0.1〜5MPaが好ましく、0.1〜1MPaがより好ましい。
工程(12)における反応の時間としては、0.1〜72時間が好ましく、1〜48時間がより好ましく、6〜10時間が更に好ましい。
工程(13)における脱離基の脱離反応は、フッ化物イオンや酸を使用することにより、実施できる。脱離基の脱離させる方法としては、例えば、フッ酸を用いる方法、ピリジン・nHFやトリエチルアミン・nHFのようなフッ化水素のアミン錯体を用いる方法、フッ化セシウム、フッ化カリウム、ホウフッ化リチウム(LiBF4)、フッ化アンモニウムのような無機塩を用いる方法、テトラブチルアンモニウムフルオリド(TBAF)のような有機塩を用いる方法が挙げられる。
工程(13)における脱離基の脱離反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム(エチレングリコールジメチルエーテル)、ジグライム(ジエチレングリコールジメチルエーテル)、トリグライム(トリエチレングリコールジメチルエーテル)、テトラヒドロフラン、テトラグライム(テトラエチレングリコールジメチルエーテル)、クラウンエーテル(15−クラウン−5,18−クラウン−6)等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
工程(13)における反応の温度としては、−78〜150℃が好ましく、0〜100℃がより好ましく、0〜40℃が更に好ましく、0〜20℃が特に好ましい。
工程(13)における反応の圧力としては、0.1〜5MPaが好ましく、0.1〜1MPaがより好ましい。
工程(13)における反応の時間としては、0.1〜72時間が好ましく、1〜48時間がより好ましく、3〜8時間が更に好ましい。
工程(14)において、化合物(13)と上記塩化スルホン酸との反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物(13)1モルに対して、上記塩化スルホン酸が0.5〜10.0モルであることが好ましく、0.6〜5.0モルであることがより好ましく、1〜2モルであることが更に好ましく、1〜1.1モルであることが特に好ましい。
工程(14)における反応は、塩基の存在下に実施することが好ましい。上記塩基としては、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アミン等があげられ、なかでも、アミンが好ましい。
工程(14)における上記アミンとしては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、N、N−ジメチルアニリン、ジメチルベンジルアミン、N,N,N’,N’−テトラメチル−1,8−ナフタレンジアミン等の三級アミン、ピリジン、ピロール、ウラシル、コリジン、ルチジン等の複素芳香族アミン、1,8−ジアザ−ビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン、1,5−ジアザ−ビシクロ[4.3.0]−5−ノネン等の環状アミン等が挙げられる。なかでも、トリエチルアミン、ピリジンが好ましい。
工程(14)における上記塩基の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物(13)1モルに対して、0.5〜10モルが好ましく、0.6〜5.0モルがより好ましく、1〜2モルが更に好ましく、1〜1.1モルが特に好ましい。
工程(14)における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム(エチレングリコールジメチルエーテル)、ジグライム(ジエチレングリコールジメチルエーテル)、トリグライム(トリエチレングリコールジメチルエーテル)、テトラヒドロフラン、テトラグライム(テトラエチレングリコールジメチルエーテル)、クラウンエーテル(15−クラウン−5,18−クラウン−6)等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテルが好ましい。
工程(14)における反応の温度としては、−78〜150℃が好ましく、0〜100℃がより好ましく、0〜40℃が更に好ましく、0〜20℃が特に好ましい。
工程(14)における反応の圧力としては、0.1〜5MPaが好ましく、0.1〜1MPaがより好ましい。
工程(14)における反応の時間としては、0.1〜72時間が好ましく、1〜48時間がより好ましく、3〜12時間が更に好ましい。
工程(14)における反応を溶媒中で実施すると、上記反応の終了後に化合物(14)を含む溶液が得られる。上記溶液に水を加えた後、静置して2相に分離させ、水相を回収し、溶媒を留去することにより、高純度の化合物(14)を回収してもよい。化合物(14)が−OSO3Hで示される基を有する場合は(すなわちXがHである場合は)、水に代えて、炭酸水素ナトリウム水溶液やアンモニア水等のアルカリ水溶液を使用することにより、−OSO3Hを硫酸塩基に変換することも可能である。
各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。
本発明の化合物は、また、式:
(式中、R3は上述のとおり、R22は1価の有機基、Eは脱離基である。)で示されるケトンと、式:
(式中、R1は上述のとおり、R23は1価の有機基である。)で示されるカルボン酸エステルとを反応させて、式:
(式中、R1、R3及びEは上述のとおり、R24は単結合又は2価の連結基である。)で示される化合物(21)を得る工程(21)、
化合物(21)が有する脱離基を脱離させて、式:
(式中、R1、R24及びR3は上述のとおりである。)で示される化合物(22)を得る工程(22)、及び、
化合物(22)と、式:
(式中、Xは、上述したとおりである。)で示される塩化スルホン酸とを反応させて、式:
(式中、R1、R24、R3及びXは上述のとおりである。)で示される化合物(23)を得る工程(23)を含む製造方法により製造できる。
化合物(21)が有する脱離基を脱離させて、式:
化合物(22)と、式:
R1にフラン環を含む場合は、例えば酸によりフラン環を開環しジカルボニル誘導体に変換してもよい。酸としては酢酸、塩酸、p−トルエンスルホン等があげられ、中でも酢酸が好ましい。
Eは脱離基を表す。上記脱離基としては、tert−ブチルジメチルシリル(TBS)基、トリエチルシリル(TES)基、トリイソプロピルシリル(TIPS)基、tert−ブチルジフェニルシリル(TBDPS)基、ベンジル(Bn)基等が挙げられる。
R22としては、炭素数1以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
R23としては、炭素数1以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
R24としては、炭素数1以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、メチレン基(−CH2−)がより好ましい。
R23としては、炭素数1以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
R24としては、炭素数1以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、メチレン基(−CH2−)がより好ましい。
工程(21)における反応は、塩基の存在下、溶媒中で実施できる。
上記塩基としては、ナトリウムアミド、水素化ナトリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等が挙げられる。
上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、アルコール、エーテルが更に好ましい。
上記アルコールとしては、メタノール、エタノール、1−プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム(エチレングリコールジメチルエーテル)、ジグライム(ジエチレングリコールジメチルエーテル)、トリグライム(トリエチレングリコールジメチルエーテル)、テトラヒドロフラン、テトラグライム(テトラエチレングリコールジメチルエーテル)、クラウンエーテル(15−クラウン−5,18−クラウン−6)等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
工程(21)における反応の温度としては、−78〜150℃が好ましく、0〜100℃がより好ましく、0〜40℃が更に好ましく、0〜20℃が特に好ましい。
工程(21)における反応の圧力としては、0.1〜5MPaが好ましく、0.1〜1MPaがより好ましい。
工程(21)における反応の時間としては、0.1〜72時間が好ましく、1〜48時間がより好ましく、3〜8時間が更に好ましい。
工程(22)における脱離基の脱離反応は、フッ化物イオンや酸を使用することにより、実施できる。脱離基の脱離させる方法としては、例えば、フッ酸を用いる方法、ピリジン・nHFやトリエチルアミン・nHFのようなフッ化水素のアミン錯体を用いる方法、フッ化セシウム、フッ化カリウム、ホウフッ化リチウム(LiBF4)、フッ化アンモニウムのような無機塩を用いる方法、テトラブチルアンモニウムフルオリド(TBAF)のような有機塩を用いる方法が挙げられる。
工程(22)における脱離基の脱離反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム(エチレングリコールジメチルエーテル)、ジグライム(ジエチレングリコールジメチルエーテル)、トリグライム(トリエチレングリコールジメチルエーテル)、テトラヒドロフラン、テトラグライム(テトラエチレングリコールジメチルエーテル)、クラウンエーテル(15−クラウン−5,18−クラウン−6)等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
工程(22)における反応の温度としては、−78〜150℃が好ましく、0〜100℃がより好ましく、0〜40℃が更に好ましく、0〜20℃が特に好ましい。
工程(22)における反応の圧力としては、0.1〜5MPaが好ましく、0.1〜1MPaがより好ましい。
工程(22)における反応の時間としては、0.1〜72時間が好ましく、1〜48時間がより好ましく、3〜8時間が更に好ましい。
工程(23)において、化合物(22)と上記塩化スルホン酸との反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物(22)1モルに対して、上記塩化スルホン酸が0.5〜10モルであることが好ましく、0.6〜5.0モルであることがより好ましく、1〜2モルであることが更に好ましく、1〜1.1モルであることが特に好ましい。
工程(23)における反応は、塩基の存在下に実施することが好ましい。上記塩基としては、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アミン等があげられ、なかでも、アミンが好ましい。
工程(23)における上記アミンとしては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、N、N−ジメチルアニリン、ジメチルベンジルアミン、N,N,N’,N’−テトラメチル−1,8−ナフタレンジアミン等の三級アミン、ピリジン、ピロール、ウラシル、コリジン、ルチジン等の複素芳香族アミン、1,8−ジアザ−ビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン、1,5−ジアザ−ビシクロ[4.3.0]−5−ノネン等の環状アミン等が挙げられる。なかでも、トリエチルアミン、ピリジンが好ましい。
工程(23)における上記塩基の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物(22)1モルに対して、0.5〜10モルが好ましく、0.6〜5.0モルがより好ましく、1〜2モルが更に好ましく、1〜1.1モルが特に好ましい。
工程(23)における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム(エチレングリコールジメチルエーテル)、ジグライム(ジエチレングリコールジメチルエーテル)、トリグライム(トリエチレングリコールジメチルエーテル)、テトラヒドロフラン、テトラグライム(テトラエチレングリコールジメチルエーテル)、クラウンエーテル(15−クラウン−5,18−クラウン−6)等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテルが好ましい。
工程(23)における反応の温度としては、−78〜150℃が好ましく、0〜100℃がより好ましく、0〜40℃が更に好ましく、0〜20℃が特に好ましい。
工程(23)における反応の圧力としては、0.1〜5MPaが好ましく、0.1〜1MPaがより好ましい。
工程(23)における反応の時間としては、0.1〜72時間が好ましく、1〜48時間がより好ましく、3〜12時間が更に好ましい。
工程(23)における反応を溶媒中で実施すると、上記反応の終了後に化合物(23)を含む溶液が得られる。上記溶液に水を加えた後、静置して2相に分離させ、水相を回収し、溶媒を留去することにより、高純度の化合物(23)を回収してもよい。化合物(23)が−OSO3Hで示される基を有する場合は(すなわちXがHである場合は)、水に代えて、炭酸水素ナトリウム水溶液やアンモニア水等のアルカリ水溶液を使用することにより、−OSO3Hを硫酸塩基に変換することも可能である。
各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。
本発明の化合物は、また、式:Y−R3−OE
(式中、R3は上述のとおり、Yはハロゲン原子、Eは脱離基である。)で示されるハロゲン化アルキルと、式:
(式中、R1は上述のとおりである。)で示されるリチウムアセチリドとを反応させて、式:
(式中、R1、R3及びEは上述のとおりである。)で示される化合物(31)を得る工程(31)、
化合物(31)を酸化して、式
(式中、R1、R3及びEは上述のとおりである。)で示される化合物(32)を得る工程(32)、
化合物(32)が有する脱離基を脱離させて、式:
(式中、R1及びR3は上述のとおりである。)で示される化合物(33)を得る工程(33)、及び、
化合物(33)と、式:
(式中、Xは、上述したとおりである。)で示される塩化スルホン酸とを反応させて、式:
(式中、R1、R3及びXは上述のとおりである。)で示される化合物(34)を得る工程(34)を含む製造方法により製造できる。
(式中、R3は上述のとおり、Yはハロゲン原子、Eは脱離基である。)で示されるハロゲン化アルキルと、式:
化合物(31)を酸化して、式
化合物(32)が有する脱離基を脱離させて、式:
化合物(33)と、式:
R1にフラン環を含む場合は、例えば酸によりフラン環を開環しジカルボニル誘導体に変換してもよい。酸としては酢酸、塩酸、p−トルエンスルホン等があげられ、中でも酢酸が好ましい。
Eは脱離基を表す。上記脱離基としては、tert−ブチルジメチルシリル(TBS)基、トリエチルシリル(TES)基、トリイソプロピルシリル(TIPS)基、tert−ブチルジフェニルシリル(TBDPS)基、ベンジル(Bn)基等が挙げられる。
工程(31)において、上記ハロゲン化アルキルと上記リチウムアセチリドとの反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、上記ハロゲン化アルキル1モルに対して、上記リチウムアセチリドが0.5〜10モルが好ましく、0.6〜5.0モルがより好ましく、1〜2モルが更に好ましく、1〜1.2モルが特に好ましい。
工程(31)における反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、ヘキサンが好ましい。
工程(31)における反応の温度としては、−100〜−40℃が好ましく、−80〜−50℃がより好ましい。また、−100〜100℃が好ましく、−80〜50℃がより好ましい。
工程(31)における反応の圧力としては、0.1〜5MPaが好ましく、0.1〜1MPaがより好ましい。
工程(31)における反応の時間としては、0.1〜72時間が好ましく、1〜48時間がより好ましく、6〜10時間が更に好ましい。
工程(32)における酸化は、[(Cn*)RuIII(CF3CO2)3]・H2O(式中、Cn*は1,4,7−トリメチルー1,4,7−トリアザビシクロノナンを表す)を、(NH4)2Ce(NO3)6及びトリフルオロ酢酸で処理した後、過塩素酸ナトリウムを添加することにより生じる錯体を使用して、ニトリル系溶媒中で実施できる。
酸化終了後に、アルカリにより中和し、エーテル等の有機溶媒を使用して化合物(32)を抽出してもよい。
工程(32)における反応の温度としては、−78〜150℃が好ましく、0〜100℃がより好ましく、30〜100℃が更に好ましく、40〜90℃が特に好ましい。
工程(32)における反応の圧力としては、0.1〜5MPaが好ましく、0.1〜1MPaがより好ましい。
工程(32)における反応の時間としては、0.1〜72時間が好ましく、1〜48時間がより好ましく、3〜8時間が更に好ましい。
工程(33)における脱離基の脱離反応は、フッ化物イオンや酸を使用することにより、実施できる。脱離基の脱離させる方法としては、例えば、フッ酸を用いる方法、ピリジン・nHFやトリエチルアミン・nHFのようなフッ化水素のアミン錯体を用いる方法、フッ化セシウム、フッ化カリウム、ホウフッ化リチウム(LiBF4)、フッ化アンモニウムのような無機塩を用いる方法、テトラブチルアンモニウムフルオリド(TBAF)のような有機塩を用いる方法が挙げられる。
工程(33)における脱離基の脱離反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム(エチレングリコールジメチルエーテル)、ジグライム(ジエチレングリコールジメチルエーテル)、トリグライム(トリエチレングリコールジメチルエーテル)、テトラヒドロフラン、テトラグライム(テトラエチレングリコールジメチルエーテル)、クラウンエーテル(15−クラウン−5,18−クラウン−6)等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
工程(33)における反応の温度としては、−78〜150℃が好ましく、0〜100℃がより好ましく、0〜40℃が更に好ましく、0〜20℃が特に好ましい。
工程(33)における反応の圧力としては、0.1〜5MPaが好ましく、0.1〜1MPaがより好ましい。
工程(33)における反応の時間としては、0.1〜72時間が好ましく、1〜48時間がより好ましく、3〜8時間が更に好ましい。
工程(34)において、化合物(33)と上記塩化スルホン酸との反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物(33)1モルに対して、上記塩化スルホン酸が0.5〜10モルが好ましく、0.6〜5.0モルがより好ましく、1〜2モルが更に好ましく、1〜1.1モルが特に好ましい。
工程(34)における反応は、塩基の存在下に実施することが好ましい。上記塩基としては、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アミン等があげられ、なかでも、アミンが好ましい。
工程(34)における上記アミンとしては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、N、N−ジメチルアニリン、ジメチルベンジルアミン、N,N,N’,N’−テトラメチル−1,8−ナフタレンジアミン等の三級アミン、ピリジン、ピロール、ウラシル、コリジン、ルチジン等の複素芳香族アミン、1,8−ジアザ−ビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン、1,5−ジアザ−ビシクロ[4.3.0]−5−ノネン等の環状アミン等が挙げられる。なかでも、トリエチルアミン、ピリジンが好ましい。
工程(34)における上記塩基の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物(33)1モルに対して、0.5〜10モルが好ましく、0.6〜5.0モルがより好ましく、1〜2モルが更に好ましく、1〜1.1モルが特に好ましい。
工程(34)における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム(エチレングリコールジメチルエーテル)、ジグライム(ジエチレングリコールジメチルエーテル)、トリグライム(トリエチレングリコールジメチルエーテル)、テトラヒドロフラン、テトラグライム(テトラエチレングリコールジメチルエーテル)、クラウンエーテル(15−クラウン−5,18−クラウン−6)等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテルが好ましい。
工程(34)における反応の温度としては、−78〜150℃が好ましく、0〜100℃がより好ましく、0〜40℃が更に好ましく、0〜20℃が特に好ましい。
工程(34)における反応の圧力としては、0.1〜5MPaが好ましく、0.1〜1MPaがより好ましい。
工程(34)における反応の時間としては、0.1〜72時間が好ましく、1〜48時間がより好ましく、3〜12時間が更に好ましい。
工程(34)における反応を溶媒中で実施すると、上記反応の終了後に化合物(34)を含む溶液が得られる。上記溶液に水を加えた後、静置して2相に分離させ、水相を回収し、溶媒を留去することにより、高純度の化合物(34)を回収してもよい。化合物(34)が−OSO3Hで示される基を有する場合は(すなわちXがHである場合は)、水に代えて、炭酸水素ナトリウム水溶液やアンモニア水等のアルカリ水溶液を使用することにより、−OSO3Hを硫酸塩基に変換することも可能である。
各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。
本発明の化合物は、また、式:
(式中、R1は上述のとおり、R21は単結合又は2価の連結基である。)で示されるアルケンと、式:
(式中、Y51はアルコキシル基である。)で示されるアルキンとを反応させて、式:
(式中、R1及びR21は上述のとおりである。)
で示される化合物(41)を得る工程(41)、及び、
化合物(41)に、式:
(式中、Xは、上述したとおりである。)で示される塩化スルホン酸とを反応させて、式:
(式中、R1、R21及びXは上述のとおりである。)で示される化合物(42)を得る工程(42)を含む製造方法により製造できる。
で示される化合物(41)を得る工程(41)、及び、
化合物(41)に、式:
R1にフラン環を含む場合は、例えば酸によりフラン環を開環しジカルボニル誘導体に変換してもよい。酸としては酢酸、塩酸、p−トルエンスルホン等があげられ、中でも酢酸が好ましい。
R21としては、単結合又は炭素数1以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基が好ましい。
工程(41)において、上記アルケンと上記アルキンとの反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、上記アルキン1モルに対して、上記アルケンが0.5〜10モルが好ましく、0.6〜5.0モルがより好ましく、0.5〜2モルが更に好ましく、0.6〜1.2モルが特に好ましい。
工程(41)における反応は、金属触媒存在下に実施することが好ましい。上記金属としては、ルテニウム等があげられる。
工程(41)における上記金属触媒の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、上記アルケン1モルに対して、0.00001〜0.4モルが好ましく、0.00005〜0.1モルがより好ましく、0.01〜0.4モルが更に好ましく、0.05〜0.1モルが特に好ましい。
工程(41)における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水、アセトニトリル、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミドが好ましい。
工程(41)における反応の温度としては、20〜160℃が好ましく、40〜140℃がより好ましい。
工程(41)における反応の圧力としては、0.1〜5MPaが好ましく、0.1〜1MPaがより好ましい。
工程(41)における反応の時間としては、0.1〜72時間が好ましく、1〜48時間がより好ましく、4〜8時間が更に好ましい。
工程(42)において、化合物(41)と上記塩化スルホン酸との反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物(41)1モルに対して、上記塩化スルホン酸が0.5〜10モルが好ましく、0.6〜5.0モルがより好ましく、1〜2モルが更に好ましく、1〜1.1モルが特に好ましい。
工程(42)における反応は、塩基の存在下に実施することが好ましい。上記塩基としては、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アミン等があげられ、なかでも、アミンが好ましい。
工程(42)における上記アミンとしては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、N、N−ジメチルアニリン、ジメチルベンジルアミン、N,N,N’,N’−テトラメチル−1,8−ナフタレンジアミン等の三級アミン、ピリジン、ピロール、ウラシル、コリジン、ルチジン等の複素芳香族アミン、1,8−ジアザ−ビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン、1,5−ジアザ−ビシクロ[4.3.0]−5−ノネン等の環状アミン等が挙げられる。なかでも、トリエチルアミン、ピリジンが好ましい。
工程(42)における上記塩基の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物(41)1モルに対して、0.5〜10モルが好ましく、0.6〜5.0モルがより好ましく、1〜2モルが更に好ましく、1〜1.1モルが特に好ましい。
工程(42)における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム(エチレングリコールジメチルエーテル)、ジグライム(ジエチレングリコールジメチルエーテル)、トリグライム(トリエチレングリコールジメチルエーテル)、テトラヒドロフラン、テトラグライム(テトラエチレングリコールジメチルエーテル)、クラウンエーテル(15−クラウン−5,18−クラウン−6)等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテルが好ましい。
工程(42)における反応の温度としては、−78〜150℃が好ましく、0〜100℃がより好ましく、0〜40℃が更に好ましく、0〜20℃が特に好ましい。
工程(42)における反応の圧力としては、0.1〜5MPaが好ましく、0.1〜1MPaがより好ましい。
工程(42)における反応の時間としては、0.1〜72時間が好ましく、1〜48時間がより好ましく、3〜12時間が更に好ましい。
工程(42)における反応を溶媒中で実施すると、上記反応の終了後に化合物(42)を含む溶液が得られる。上記溶液に水を加えた後、静置して2相に分離させ、水相を回収し、溶媒を留去することにより、高純度の化合物(42)を回収してもよい。化合物(42)が−OSO3Hで示される基を有する場合は(すなわちXがHである場合は)、水に代えて、炭酸水素ナトリウム水溶液やアンモニア水等のアルカリ水溶液を使用することにより、−OSO3Hを硫酸塩基に変換することも可能である。
各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。
つぎに本発明を実施例をあげて説明するが、本発明はかかる実施例のみに限定されるものではない。
実施例の各数値は以下の方法により測定した。
実施例1
リチウム(2.0g)、ジメチルフェニルクロロシラン(8.4g)、テトラヒドロフラン(120mL)混合物を室温下、6時間撹拌した。反応液に4−(tertブチルジメチルシロキシ)−1−モルホリノブタン−1−オン(10g)を加え、−78℃で2時間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液(300mL)を加え、酢酸エチルで抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、4−(tert−ブチルジメチルシロキシ)−1−(ジメチル(フェニル)シリル)ブタン−1−オン(6.4g)を得た。
1H−NMR(CDCl3) δppm:−0.01(s,6H)、0.49(s,6H)、0.85(s,9H)、1.61−1.71(m,2H)、2.66(J=7.0,t,2H)、3.51(J=6.2,t,2H)、7.38−7.40(m,3H),7.53−7.57(m,2H)
リチウム(2.0g)、ジメチルフェニルクロロシラン(8.4g)、テトラヒドロフラン(120mL)混合物を室温下、6時間撹拌した。反応液に4−(tertブチルジメチルシロキシ)−1−モルホリノブタン−1−オン(10g)を加え、−78℃で2時間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液(300mL)を加え、酢酸エチルで抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、4−(tert−ブチルジメチルシロキシ)−1−(ジメチル(フェニル)シリル)ブタン−1−オン(6.4g)を得た。
1H−NMR(CDCl3) δppm:−0.01(s,6H)、0.49(s,6H)、0.85(s,9H)、1.61−1.71(m,2H)、2.66(J=7.0,t,2H)、3.51(J=6.2,t,2H)、7.38−7.40(m,3H),7.53−7.57(m,2H)
4−(tert−ブチルジメチルシロキシ)−1−(ジメチル(フェニル)シリル)ブタン−1−オン(6.4g)、1−オクテン−3−オン(2.41g)、3−エチル−5−(2−ヒドロキシエチル)−4−メチルチアゾリウムブロミド(1.42g)、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(0.86g)、イソプロパノール(3.17g)、テトラヒドロフラン(11.5mL)混合物を75℃下8時間撹拌した。反応液を減圧下に溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、1−tert−ブチルジメチルシロキシドデカン−4,7−ジオン(4.0g)を得た。
1H−NMR(CDCl3) δppm:0.02(s,6H)、0.88(s,12H)、1.22−1.31(m,4H)、1.51−1.59(m,2H)、1.72−1.83(m,2H)、2.43(J=7.6,t,2H)、2.55(J=7.6,t,2H),2.67(s,4H)、3.59(J=5.9,t,2H)
1H−NMR(CDCl3) δppm:0.02(s,6H)、0.88(s,12H)、1.22−1.31(m,4H)、1.51−1.59(m,2H)、1.72−1.83(m,2H)、2.43(J=7.6,t,2H)、2.55(J=7.6,t,2H),2.67(s,4H)、3.59(J=5.9,t,2H)
1−tert−ブチルジメチルシロキシドデカン−4,7−ジオン(1.9g)、テトラブチルアンモニウムフルオリド 1Mテトラヒドロフラン溶液(15mL)、テトラヒドロフラン(17.5mL)の混合物を0℃下2時間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム溶液(100mL)を加え、酢酸エチルで抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、1−ヒドロキシドデカン−4,7−ジオン(2.0g)を得た。
1H−NMR(CDCl3) δppm:0.89(s,3H)、1.24−1.33(m,4H)、1.52−1.58(m,2H)、1.81−1.90(m,2H)、2.45(J=7.6,t,2H)、2.63(J=7.0,t,2H),2.76(s,4H)、3.65(J=5.9,t,2H)
1H−NMR(CDCl3) δppm:0.89(s,3H)、1.24−1.33(m,4H)、1.52−1.58(m,2H)、1.81−1.90(m,2H)、2.45(J=7.6,t,2H)、2.63(J=7.0,t,2H),2.76(s,4H)、3.65(J=5.9,t,2H)
1−ヒドロキシドデカン−4,7−ジオン(1.9g)、塩化スルホン酸(1.3g)、トリエチルアミン(1.79g)、ジエチルエーテル(30mL)の混合物を室温下2時間撹拌した。反応液に10%炭酸水素ナトリウム水溶液10mLを加え、水相を酢酸エチルで洗い減圧下に溶媒を留去した。得られた残渣を脱イオン水20mLに溶解後、アセトン100mLを加え沈殿物を除去した。濾液を減圧下で溶媒留去し、残渣をメタノールで抽出した。抽出溶液を減圧下で溶媒留去し、4,7−ジオキソドデシル硫酸ナトリウム(2.4g)を得た。
1H−NMR(D2O) δppm:0.67(J=6.8,t,3H)、1.04−1.14(m,4H)、1.31−1.42(m,2H)、1.72−1.79(m,2H)、2.36(J=7.3,t,2H)、2.54(J=7.3,t,2H),2.62(s,4H)、3.86(J=6.2,t,2H)
1H−NMR(D2O) δppm:0.67(J=6.8,t,3H)、1.04−1.14(m,4H)、1.31−1.42(m,2H)、1.72−1.79(m,2H)、2.36(J=7.3,t,2H)、2.54(J=7.3,t,2H),2.62(s,4H)、3.86(J=6.2,t,2H)
4,7−ジオキソドデシル硫酸ナトリウムを表1に記載の濃度になるように水に溶解させ、表面張力を測定した。上記表面張力は、20℃で、ウィルヘルミー法により測定した。結果を表1に示す。
実施例2
ジビニルケトン(7.4g)、2−メチルフラン(8.0g)、酢酸(6mL)、水(60 mL)を40℃で4時間撹拌した。反応溶液を飽和炭酸水素ナトリウム溶液に加え、酢酸エチルで抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、1−(5−メチル−2−フラニル)−3−ブテン−2−オン(7.4g)を得た。
1H−NMR(CDCl3) δppm:5.88(dd,J=17.4,10.6,2H)、6.32(dd,J=17.4,1.3,2H)、5.88(dd,J=10.6,1.3,2H)
ジビニルケトン(7.4g)、2−メチルフラン(8.0g)、酢酸(6mL)、水(60 mL)を40℃で4時間撹拌した。反応溶液を飽和炭酸水素ナトリウム溶液に加え、酢酸エチルで抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、1−(5−メチル−2−フラニル)−3−ブテン−2−オン(7.4g)を得た。
1H−NMR(CDCl3) δppm:5.88(dd,J=17.4,10.6,2H)、6.32(dd,J=17.4,1.3,2H)、5.88(dd,J=10.6,1.3,2H)
1−(5−メチル−2−フラニル)−3−ブテン−2−オン(1.7g)、4−(tert−ブチルジメチルシロキシ)−1−(ジメチル(フェニル)シリル)ブタン−1−オン(4.8g)、3−エチル−5−(2−ヒドロキシエチル)−4−メチルチアゾリウムブロミド(1.42g)、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(0.66g)、イソプロパノール(3.4g)、テトラヒドロフラン(11.5mL)混合物を75℃下8時間撹拌した。反応液を減圧下に溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、8−((tert−ブチルジメチルシリル)オキシ)−1−(5−メチルフラン−2−ニル)オクタン−2,5−ジオン(1.9g)を得た。
8−((tert−ブチルジメチルシリル)オキシ)−1−(5−メチルフラン−2−ニル)オクタン−2,5−ジオン(1.9g)、テトラブチルアンモニウムフルオリド 1Mテトラヒドロフラン溶液(7mL)、テトラヒドロフラン(5mL)の混合物を0℃下2時間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム溶液(100mL)を加え、酢酸エチルで抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、8−ヒドロキシ−1−(5−メチルフラン−2−ニル)オクタン2,5−ジオン(1.0g)を得た。
8−ヒドロキシ−1−(5−メチルフラン−2−ニル)オクタン2,5−ジオン(1.0g)、塩化スルホン酸(0.5g)、トリエチルアミン(0.8g)、ジエチルエーテル(10mL)の混合物を室温下2時間撹拌した。反応液に10%炭酸水素ナトリウム水溶液10mLを加え、水相を酢酸エチルで洗い減圧下に溶媒を留去した。得られた残渣を脱イオン水20mLに溶解後、アセトン100mLを加え沈殿物を除去した。濾液を減圧下で溶媒留去し、残渣をメタノールで抽出した。抽出溶液を減圧下で溶媒留去し、9−(5−メチルフラン−2−ニル)−4,7−ジオキソノニル硫酸ナトリウム(0.8g)を得た。
9−(5−メチルフラン−2−ニル)−4,7−ジオキソノニル硫酸ナトリウム(0.8g)、1M塩酸(3mL)の混合物を100℃の条件下で1時間撹拌した。反応液にNaOH水溶液(0.2M)を加えて中和し濃縮。アセトン/水により再沈殿法により精製し、4,7,10,13−テトラオキソテトラデシル硫酸ナトリウム(0.75g)を得た。
4,7,10,13−テトラオキソテトラデシル硫酸ナトリウムを表2に記載の濃度になるように水に溶解させ、表面張力を測定した。上記表面張力は、20℃で、ウィルヘルミー法により測定した。結果を表2に示す。
本発明の化合物は、好適に水の表面張力を低下させることができる。
本発明の化合物は、界面活性剤として好適に使用できる。
本発明の化合物は、界面促進剤(特に、塗料、ラッカー、又は接着剤等における界面促進剤)として好適に使用できる。
本発明の化合物は、また例えば、粘性低下剤として好適に使用できる。
本発明の化合物は、また例えば、分散剤、特に水系分散剤として好適に使用できる。
本発明の化合物は、また例えば、乳化剤として好適に使用できる。
本発明の化合物は、界面活性剤として好適に使用できる。
本発明の化合物は、界面促進剤(特に、塗料、ラッカー、又は接着剤等における界面促進剤)として好適に使用できる。
本発明の化合物は、また例えば、粘性低下剤として好適に使用できる。
本発明の化合物は、また例えば、分散剤、特に水系分散剤として好適に使用できる。
本発明の化合物は、また例えば、乳化剤として好適に使用できる。
Claims (8)
- 下記式:
で示されることを特徴とする化合物。 - 前記式中、R2及びR3は、独立に、単結合又は炭素数1以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基又は炭素数3以上の環状のアルキレン基であり、炭素原子に結合した水素原子がヒドロキシ基又はエステル結合を含む1価の有機基により置換されていてもよい請求項1記載の化合物。
- 前記式中、R1は、カルボニル基を含まない炭素数1〜8の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、カルボニル基を含まない炭素数3〜8の環状のアルキル基、1〜10個のカルボニル基を含む炭素数2〜45の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、カルボニル基を含む炭素数3〜45の環状のアルキル基、又は、炭素数が3〜45の1価若しくは2価の複素環を含むアルキル基である請求項1又は2記載の化合物。
- 前記式中、R2及びR3は、独立に、カルボニル基を含まない炭素数1以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基である請求項1、2、3又は4記載の化合物。
- 前記式中、R2及びR3は、独立に、カルボニル基を含まない炭素数1〜3の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基である請求項1、2、3、4又は5記載の化合物。
- 請求項1、2、3、4、5又は6記載の化合物を含む界面活性剤。
- 請求項1、2、3、4、5又は6記載の化合物を含む水系分散剤。
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US11512155B2 (en) * | 2017-03-31 | 2022-11-29 | Daikin Industries, Ltd. | Production method for fluoropolymer, surfactant for polymerization, and use of surfactant |
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CN115974730A (zh) * | 2023-01-06 | 2023-04-18 | 湖南大学 | 以过硫酸盐合成有机硫酸盐的方法 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2781372A (en) * | 1956-02-10 | 1957-02-12 | Hans S Mannheimer | Detergent sulphonic acid and sulphate salts of certain amphoteric detergents |
US2781353A (en) * | 1956-03-26 | 1957-02-12 | John J Mccabe Jr | Imidazoline derivatives and process |
JPS49133677A (ja) * | 1973-04-26 | 1974-12-23 | ||
JPH0881357A (ja) * | 1994-09-12 | 1996-03-26 | Kao Corp | 身体用洗浄剤組成物 |
JPH08301747A (ja) * | 1995-05-11 | 1996-11-19 | Kanebo Ltd | 化粧料 |
JPH10338617A (ja) * | 1997-06-06 | 1998-12-22 | Kanebo Ltd | 陰イオン界面活性剤及びそれを含有する化粧料 |
JP2001172669A (ja) * | 1999-12-21 | 2001-06-26 | Lion Corp | 洗浄剤組成物 |
US20090181952A1 (en) * | 2008-01-14 | 2009-07-16 | Wyeth | Compounds useful as alpha7 nicotinic acetylcholine receptor agonists |
WO2011030816A1 (ja) * | 2009-09-14 | 2011-03-17 | 国立大学法人北海道大学 | 抗植物ウイルス剤 |
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Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2781372A (en) * | 1956-02-10 | 1957-02-12 | Hans S Mannheimer | Detergent sulphonic acid and sulphate salts of certain amphoteric detergents |
US2781353A (en) * | 1956-03-26 | 1957-02-12 | John J Mccabe Jr | Imidazoline derivatives and process |
JPS49133677A (ja) * | 1973-04-26 | 1974-12-23 | ||
JPH0881357A (ja) * | 1994-09-12 | 1996-03-26 | Kao Corp | 身体用洗浄剤組成物 |
JPH08301747A (ja) * | 1995-05-11 | 1996-11-19 | Kanebo Ltd | 化粧料 |
JPH10338617A (ja) * | 1997-06-06 | 1998-12-22 | Kanebo Ltd | 陰イオン界面活性剤及びそれを含有する化粧料 |
JP2001172669A (ja) * | 1999-12-21 | 2001-06-26 | Lion Corp | 洗浄剤組成物 |
US20090181952A1 (en) * | 2008-01-14 | 2009-07-16 | Wyeth | Compounds useful as alpha7 nicotinic acetylcholine receptor agonists |
WO2011030816A1 (ja) * | 2009-09-14 | 2011-03-17 | 国立大学法人北海道大学 | 抗植物ウイルス剤 |
JP2014037406A (ja) * | 2012-07-20 | 2014-02-27 | Shizuoka Prefecture | 植物へのストレスを軽減する薬剤組成物 |
Non-Patent Citations (4)
Title |
---|
JOURNAL OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY, vol. 127(33), JPN6021035157, 2005, pages 11754 - 11762, ISSN: 0004589242 * |
JOURNAL OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY, vol. 130(31), JPN6021035156, 2008, pages 10072 - 10073, ISSN: 0004589243 * |
JOURNAL OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY, vol. 74, JPN6021035155, 1952, pages 2550 - 2552, ISSN: 0004589244 * |
SYNLETT, vol. 9, JPN6021035154, 2001, pages 1452 - 1454, ISSN: 0004589245 * |
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