JP2020113669A

JP2020113669A - 乾燥機構

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Publication number: JP2020113669A
Application number: JP2019004266A
Authority: JP
Inventors: 聡山中; Satoshi Yamanaka; 石井　茂; Shigeru Ishii; 茂石井
Original assignee: Disco Abrasive Systems Ltd
Current assignee: Disco Corp
Priority date: 2019-01-15
Filing date: 2019-01-15
Publication date: 2020-07-27
Anticipated expiration: 2039-01-15
Also published as: JP7161411B2

Abstract

【課題】半導体ウェーハ等の被加工物を乾燥させる場合に、短時間で被加工物を十分に乾燥させる。【解決手段】保持手段３０により一方の面Ｗａが保持されている被加工物Ｗの他方の面Ｗｂに接触させ他方の面Ｗｂに付着している水を吸い取るスポンジ２と、被加工物Ｗに接する部分以外の部分でスポンジ２を支持しスポンジ２を吸引源４９に連通する吸引孔４０１を備える支持手段４と、保持手段３０と支持手段４とを相対的に保持手段３０に保持された被加工物Ｗの他方の面Ｗｂに平行な方向に移動させる移動手段５と、を備え、被加工物Ｗに付着している水を吸い取ってスポンジ２に溜まる水を吸引孔４０を介して吸引源４９が吸引することによってスポンジ２から排水させ、スポンジ２の被加工物Ｗに接する部分が水を吸い取れる状態を維持することで被加工物Ｗを乾燥させる乾燥機構１。【選択図】図１

Description

本発明は、半導体ウェーハ等の被加工物を乾燥させる乾燥機構に関する。

例えば、チャックテーブルに保持された半導体ウェーハ等の被加工物を加工水を供給しながら研削砥石で研削する研削装置は、研削した被加工物の上面を搬出パッドで吸引保持して、チャックテーブルから搬出している。

チャックテーブルは、吸引保持していた被加工物を保持面から離間させるために保持面からエアと水との混合液を噴出させている。そのため、搬出パッドで保持された被加工物のチャックテーブルに保持されていた下面には水滴が付着している。そして、搬出パッドで次工程の装置に搬送される被加工物の下面に水滴が付着していると、例えば次工程の装置がスピンナーテーブルを備えた枚葉式のスピンナー洗浄装置の場合、洗浄および乾燥させた被加工物をスピンナーテーブルから離反させるとき、スピンナーテーブルの保持面に水滴が溜まっているため、該貯まった水により離反できないという問題が起きる。また、スピンナーテーブルからエアを噴出させ離反させるときに、保持面に溜まって水を被加工物に付着させ被加工物を濡らしてしまうという問題が起きる。

したがって、研削装置のような加工水を供給しながら被加工物の加工を実行する加工装置では、チャックテーブルから離間させた被加工物の例えば下面を乾燥させる必要がある。
そのため、特許文献１に開示されている研削装置では、チャックテーブルからスピンナー洗浄装置に被加工物を搬送する間に、被加工物の下面にエアを噴き付けて乾燥させている。

特開２０１０−１６７５１９号公報

しかし、被加工物の下面にエアを噴き付けて水滴を飛ばしているため、エアを噴出するノズルの噴射口上方をゆっくりと被加工物を移動させる必要があり乾燥に時間がかかる。
よって、半導体ウェーハ等の被加工物の下面又は上面を乾燥させる場合には、短時間で被加工物の下面又は上面を十分に乾燥させるという課題がある。

上記課題を解決するための本発明は、被加工物を乾燥させる乾燥機構であって、保持手段により一方の面が保持されている被加工物の他方の面に接触させ該他方の面に付着している水を吸い取るスポンジと、被加工物に接する部分以外の部分で該スポンジを支持し該スポンジを吸引源に連通する吸引孔を備える支持手段と、該保持手段と該支持手段とを相対的に該保持手段に保持された被加工物の他方の面に平行な方向に移動させる移動手段と、を備え、被加工物に付着している水を吸い取って該スポンジに溜まる水を該吸引孔を介して該吸引源が吸引することによって該スポンジから排水させ、該スポンジの被加工物に接する部分が水を吸い取れる状態を維持することで被加工物を乾燥させる乾燥機構である。

前記スポンジは、ロールスポンジであって、前記支持手段は、該ロールスポンジの筒内に挿入され外側面に前記吸引孔が配設されたシャフトと、該シャフトを回転自在に支持するアームと、を備えると好ましい。

前記スポンジは、矩形スポンジであって、前記支持手段は、該矩形スポンジの被加工物に接する部分を露出させ、該矩形スポンジの被加工物に接する部分以外を収容する凹部を有し、該凹部の内面に前記吸引孔が形成された基台を備えると好ましい。

本発明に係る乾燥機構は、前記吸引孔を流体供給源に連通させ、前記吸引孔から水及びエアの少なくとも一方を噴出させ前記スポンジの被加工物に接する部分を洗浄する洗浄手段を備えると好ましい。

本発明に係る被加工物を乾燥させる乾燥機構は、保持手段により一方の面が保持されている被加工物の他方の面に接触させ他方の面に付着している水を吸い取るスポンジと、被加工物に接する部分以外の部分でスポンジを支持しスポンジを吸引源に連通する吸引孔を備える支持手段と、保持手段と支持手段とを相対的に保持手段に保持された被加工物の他方の面に平行な方向に移動させる移動手段と、を備えているため、被加工物に付着している水を吸い取ってスポンジに溜まる水を吸引孔を介して吸引源が吸引することによってスポンジから排水させ、スポンジの被加工物に接する部分が水を吸い取れる状態を維持することができ、スポンジに水が溜まって飽和状態になることがなく、被加工物の乾燥を短時間で十分に行うことが可能となる。また、被加工物の他方の面の乾燥と同時に、他方の面の加工屑を拭き取ることができる。

本発明に係る乾燥機構において、スポンジは、ロールスポンジであって、支持手段は、ロールスポンジの筒内に挿入され外側面に吸引孔が配設されたシャフトと、シャフトを回転自在に支持するアームと、を備えることで、被加工物の他方の面の乾燥中において、ロールスポンジの被加工物の他方の面に接触する外周面が回転できるため、外周面の全面で満遍なく乾燥を行えるようになる。

本発明に係る乾燥機構において、スポンジは、矩形スポンジであって、支持手段は、矩形スポンジの被加工物に接する部分を露出させ、矩形スポンジの被加工物に接する部分以外を収容する凹部を有し、凹部の内面に吸引孔が形成された基台を備えることで、矩形スポンジの交換時等において作業者が容易に交換作業を行うことが可能となる。

本発明に係る被加工物を乾燥させる乾燥機構は、吸引孔を流体供給源に連通させ、吸引孔から水及びエアの少なくとも一方を噴出させスポンジの被加工物に接する部分を洗浄する洗浄手段を備えることで、スポンジの被加工物に接する部分を加工屑が付着していない状態に戻すことができる。

スポンジがロールスポンジである乾燥機構の斜視図である。ロールスポンジと支持手段とを示す斜視図である。スポンジがロールスポンジである乾燥機構により被加工物の他方の面の乾燥を開始した状態を説明する断面図である。スポンジがロールスポンジである乾燥機構により被加工物の他方の面の乾燥を行っている状態を説明する断面図である。スポンジがロールスポンジである乾燥機構において吸引孔から例えば水を噴出させロールスポンジの被加工物に接する部分（外周面）を洗浄している状態を説明する断面図である。スポンジが矩形スポンジである乾燥機構の斜視図である。矩形スポンジと支持手段とを示す斜視図である。スポンジが矩形スポンジである乾燥機構により被加工物の他方の面の乾燥を開始した状態を説明する断面図である。スポンジが矩形スポンジである乾燥機構により被加工物の他方の面の乾燥を行っている状態を説明する断面図である。スポンジが矩形スポンジである乾燥機構において吸引孔から例えば水を噴出させロールスポンジの被加工物に接する部分（下面）を洗浄している状態を説明する断面図である。

図１に示す被加工物Ｗを乾燥させる本発明に係る乾燥機構１は、研削装置等に組み込んで使用することができ、また、これ単独で用いることもできる。
被加工物Ｗは、例えば、シリコンを母材とする外形が円形の半導体ウェーハであり、その一方の面Ｗａ（図１における下面）には、図示しないデバイスが形成されている。被加工物Ｗの一方の面Ｗａは、被加工物Ｗと略同径の保護テープＴが貼着されて保護されている。
なお、被加工物Ｗはシリコン以外にガリウムヒ素、サファイア、窒化ガリウム又はシリコンカーバイド等で構成されていてもよい。

乾燥機構１は、保持手段３０により一方の面Ｗａが保持されている被加工物Ｗの他方の面Ｗｂ（図１においては上面）に接触させ他方の面Ｗｂに付着している水を吸い取るスポンジ２と、被加工物Ｗに接する部分以外の部分でスポンジ２を支持しスポンジ２を吸引源４９に連通する吸引孔４０１（図２参照）を備える支持手段４と、保持手段３０と支持手段４とを相対的に保持手段３０に保持された被加工物Ｗの他方の面Ｗｂに平行な方向（図１に示す例においてはＸ軸方向）に移動させる移動手段５と、を備えている。

被加工物Ｗを保持する図１、３に示す保持手段３０は、例えば、その外形が円形状であり、ポーラス部材等からなり被加工物Ｗを吸着する吸着部３００と、吸着部３００を支持する枠体３０１とを備える保持テーブルである。吸着部３００は図示しない真空発生装置又はエジェクター等の吸引源に連通し、吸着部３００の露出面である保持面３００ａ上で被加工物Ｗを吸引保持する。例えば、本実施形態においては、図１、３に示す被加工物Ｗは、他方の面Ｗｂが研削され保持手段３０によって吸引保持された状態になっている。
なお、保持手段３０は、平坦な保持面で被加工物Ｗを吸引保持して搬送する搬送パッドであってもよい。
また、保持手段３０はＸ軸方向にボールネジ機構等によって往復移動可能となっていてもよい。

図１、２に示すスポンジ２は、例えば、所定の厚みを備えるスポンジを円筒形状に形成したロールスポンジ（以下、ロールスポンジ２とする）であり、例えば、Ｙ軸方向に被加工物Ｗの直径以上の長さで延在している。ロールスポンジ２は、例えば、気泡が互いに連通している構造を有する連泡スポンジであり、ポリウレタンを発泡成形して作られるスポンジ、ＰＶＡスポンジ、又はゴムに発泡剤等を練り込み成形されるスポンジ等を用いる。ロールスポンジ２の外周面２１が、被加工物Ｗの他方の面Ｗｂに接触し洗浄する洗浄面となる。

移動手段５は、例えば、Ｘ軸方向の軸心を有するボールネジ５０と、ボールネジ５０と平行に配設された一対のガイドレール５１と、ボールネジ５０の一端に連結しボールネジ５０を回動させるモータ５２と、内部のナットがボールネジ５０に螺合し側部がガイドレール５１に摺接する可動板５３とを備えており、モータ５２がボールネジ５０を回動させることに伴い可動板５３がガイドレール５１にガイドされてＸ軸方向に往復移動し、可動板５３に固定された支持手段４がＸ軸方向に往復移動する。

図２に示す支持手段４は、例えば、ロールスポンジ２の筒内２０に挿入され外側面４００に複数の吸引孔４０１が配設されたシャフト４０と、シャフト４０を回転自在に支持するアーム４１と、を備える。したがって、ロールスポンジ２の被加工物Ｗに接する部分である外周面２１以外の部分である筒内２０で、支持手段４はロールスポンジ２を支持している。

移動手段５の可動板５３の側面には、例えば側面視略Ｌ字状の連結部材４３が固定されており、連結部材４３の下端面にアーム４１を昇降させる昇降手段４５を介して側面視略コの字状の外形を備えるアーム４１の上面が固定されている。
昇降手段４５は、電動シリンダまたはエアシリンダ等から構成されており、アーム４１をＺ軸方向に昇降させることができる。

円柱状のシャフト４０は内部にＹ軸方向に延びる流路４０２が形成されており、該流路４０２は各吸引孔４０１と連通している。アーム４１の略コの字部分に収容されたシャフト４０は、図示しないベアリングを介してアーム４１により支持されている。
流路４０２の一端は、アーム４１の側面に取り付けられた継手４１２を介して金属配管や可撓性を有する樹脂チューブ等からなる吸引流路４９０に連通している。

吸引流路４９０上には、例えば、ソレノイドバルブ４９１が配設されており、ソレノイドバルブ４９１は、電磁石に電流を流して磁力を発生させ、この磁力を利用しバルブ内のスプールを引き付け移動させることで、吸引流路４９０を前記吸引源４９又は流体供給源４８のいずれかと連通するように切り換えることができる。流体供給源４８は、例えば、ポンプ等からなる水供給源及びコンプレッサー等からなるエア供給源の少なくとも一方を備えており、流体供給源４８が供給することができる流体は、例えば、水とエアとの混合流体である。または、該流体は水である。または、該流体はエアである。
よって、ソレノイドバルブ４９１と流体供給源４８と吸引流路４９０とによって、ロールスポンジ２の被加工物Ｗに接する部分である外周面２１を洗浄する洗浄手段４７を構成することができる。

以下に、上記乾燥機構１を用いて被加工物Ｗの他方の面Ｗｂを乾燥させる場合の乾燥機構１の動作について説明する。

例えば、図１、３に示すように、保持手段３０には他方の面Ｗｂが研削された後の被加工物Ｗが吸引保持されている。他方の面Ｗｂには、研削加工において供給された際に残った図示しない研削水の水滴や、研削により生じて残ってしまった図示しない加工屑が付着している。

図３に示すように、昇降手段４５が、ロールスポンジ２の外周面２１下部が被加工物Ｗの他方の面Ｗｂに接する所定の高さまで、アーム４１を−Ｚ方向へと降下させる。アーム４１が所定の高さまで降下した後、移動手段５がアーム４１を−Ｘ方向に移動させることで、ロールスポンジ２が被加工物Ｗの外周縁側から他方の面Ｗｂに付着している水を吸い取って他方の面Ｗｂを乾燥させていく。同時にロールスポンジ２によって他方の面Ｗｂの加工屑が拭き取られていく。

ロールスポンジ２の筒内２０に挿入されたシャフト４０は、アーム４１によって回転自在に支持されているため、ロールスポンジ２は被加工物Ｗの他方の面Ｗｂとの間の摩擦力によって回転して水を吸い取る外周面２１も回転していく。

ロールスポンジ２による被加工物Ｗの他方の面Ｗｂの乾燥が開始されると、ロールスポンジ２内には水が溜まっていき、吸水性が落ちてしまう。これを防ぐために、ソレノイドバルブ４９１が吸引流路４９０を吸引源４９に連通させ、吸引源４９が作動することで生み出す吸引力が、吸引流路４９０、及びシャフト４０の流路４０２（図２参照）を通り各吸引孔４０１に伝達される。その結果、吸引孔４０１からロールスポンジ２内部に溜まった水が吸引源４９によって吸引され、ロールスポンジ２から水が継続的に排水されて、ロールスポンジ２の被加工物Ｗの他方の面Ｗｂに接する部分である外周面２１は水を吸い取れる状態に維持される。

図４に示すように、ロールスポンジ２によって被加工物Ｗの他方の面Ｗｂの乾燥及び加工屑の拭き取りを行っていき、ロールスポンジ２が被加工物Ｗの他方の面Ｗｂの外周縁を越えるまで−Ｘ方向へ移動することで、ロールスポンジ２による被加工物Ｗの他方の面Ｗｂの乾燥及び加工屑の拭き取りが完了する。なお、ロールスポンジ２をＸ軸方向に往復移動させることで、更に被加工物Ｗの他方の面Ｗｂの乾燥及び加工屑の拭き取りを行ってもよい。

上記のように本発明に係る被加工物Ｗを乾燥させる乾燥機構１は、保持手段３０により一方の面Ｗａが保持されている被加工物Ｗの他方の面Ｗｂに接触させ他方の面Ｗｂに付着している水を吸い取るスポンジ２（ロールスポンジ２）と、被加工物Ｗに接する部分以外の部分でスポンジ２を支持しスポンジ２を吸引源４９に連通する吸引孔４０１を備える支持手段４と、保持手段３０と支持手段４とを相対的に保持手段３０に保持された被加工物Ｗの他方の面Ｗｂに平行な方向に移動させる移動手段５と、を備えているため、被加工物Ｗに付着している水を吸い取ってスポンジ２に溜まる水を吸引孔４０１を介して吸引源４９が吸引することによってスポンジ２から排水させ、スポンジ２の被加工物Ｗに接する部分（外周面２１）が水を吸い取れる状態を維持することができ、スポンジ２に水が溜まって飽和状態になることがなく、被加工物Ｗの他方の面Ｗｂの乾燥を短時間で十分に行うことが可能となる。また、被加工物Ｗの他方の面Ｗｂの乾燥と同時に、他方の面Ｗｂの加工屑を拭き取ることができる。

本発明に係る乾燥機構１において、スポンジ２は、ロールスポンジ２であって、支持手段４は、ロールスポンジ２の筒内２０に挿入され外側面４００に吸引孔４０１が配設されたシャフト４０と、シャフト４０を回転自在に支持するアーム４１と、を備えることで、被加工物Ｗの他方の面Ｗｂの乾燥中において、ロールスポンジ２の被加工物Ｗの他方の面Ｗｂに接触する外周面２１が回転できるため、外周面２１の全面で満遍なく乾燥を行えるようになる。したがって、外周面２１の一部にのみ加工屑が多く付着してしまうことが無くなる。

なお、保持手段３０が搬送パッドであり、被加工物Ｗの被研削面（図１、３における上面Ｗｂ）が搬送パッドで吸引保持される一方の面となり、搬送パッドで吸引保持されている状態で下方に向かって露出する被加工物Ｗの下面Ｗａに貼着されている保護テープＴが乾燥させるべき他方の面となってもよい。そして、先に説明したように被加工物Ｗの他方の面Ｗｂの乾燥を行ったのと同様に、ロールスポンジ２を保護テープＴ上で転動させて乾燥及び加工屑の拭き取りを行ってもよい。

被加工物Ｗの他方の面Ｗｂの乾燥と加工屑の拭き取りを行ったロールスポンジ２の洗浄を行う場合には、図５に示すように、洗浄手段４７を構成するソレノイドバルブ４９１が吸引流路４９０を流体供給源４８に連通させる。流体供給源４８から供給された例えば洗浄水は、吸引流路４９０からシャフト４０の流路４０２へ流入し、さらに複数の吸引孔４０１から噴出して、ロールスポンジ２へと到達する。そして、ロールスポンジ２に到達した洗浄水は、ロールスポンジ２の内部から、外周面２１に広範囲にわたって染み出していく。その結果、外周面２１に付着していた加工屑が洗浄水によって洗い落とされる。なお、流体供給源４８からロールスポンジ２に対して水とエアとの混合流体を供給し、ロールスポンジ２の外周面２１を洗浄してもよい。または、流体供給源４８から水とエアとを交互に供給し、ロールスポンジ２の外周面２１を洗浄してもよい。または、流体供給源４８からエアのみをロールスポンジ２に供給して、ロールスポンジ２の外周面２１に付着している加工屑をエアで吹き飛ばして洗浄するものとしてもよい。

本発明に係る被加工物Ｗを乾燥させる乾燥機構１は、吸引孔４０１を流体供給源４８に連通させ、吸引孔４０１から水及びエアの少なくとも一方を噴出させロールスポンジ２の被加工物Ｗに接する部分である外周面２１を洗浄する洗浄手段４７を備えることで、ロールスポンジ２の被加工物Ｗに接する部分である外周面２１を加工屑が付着していない状態に戻すことができる。

図１に示す被加工物Ｗを乾燥させる乾燥機構１は、図１に示す支持手段４及びロールスポンジ２に代えて、図６に示す支持手段４Ａ及び矩形スポンジ２Ａを備えてもよい。
図６に示す矩形スポンジ２Ａは、例えば、Ｙ軸方向に被加工物Ｗの直径以上の長さで延在する直方体状の外形を備えている。矩形スポンジ２Ａの材質等については、図１に示すロールスポンジ２と同様となっている。そして、矩形スポンジ２Ａの例えばその下面２４が、図１に示す被加工物Ｗの他方の面Ｗｂに接触し洗浄する洗浄面となる。

図６、７に示す支持手段４Ａは、矩形スポンジ２Ａの被加工物Ｗに接する部分である下面２４を露出させ、矩形スポンジ２Ａの被加工物Ｗに接する下面２４以外を収容する凹部４６０を有し、凹部４６０の５つ内面、即ち、４つの内側面と１つの内側上面（図７においては内下面）とに吸引孔４６１が形成された基台４６を備える。なお、吸引孔４６１は、５つの内面全てに形成されている必要は無い。

例えば、基台４６の凹部４６０は、矩形スポンジ２Ａが嵌合する大きさに設定されている。例えば、凹部４６０の内側面には、スプリング等からなる図示しないストッパーが設けられており、矩形スポンジ２Ａが凹部４６０に挿入された際に該ストッパーによって矩形スポンジ２Ａが凹部４６０から抜け落ちないようになっていてもよい。

基台４６の内部には、吸引孔４６１に連通する図示しない複数の流路が形成されており、該流路は１つに合流した後、図６に示す基台４６に取り付けられた継手４６２を介して吸引流路４９０に連通している。基台４６の上面には昇降手段４５が連結されており、昇降手段４５は連結部材４３を介して図１に示す移動手段５に連結されている。

乾燥機構１は、上記支持手段４Ａ及び矩形スポンジ２Ａを備えることで、例えば使い込んだ矩形スポンジ２Ａを新品と交換する際に、支持手段４Ａを各種部品に分解することなく矩形スポンジ２Ａを凹部４６０から抜くだけで交換することができるため、作業者が容易に交換を行うことができる。

以下に、上記矩形スポンジ２Ａ及び支持手段４Ａを備える図８に示す乾燥機構１を用いて被加工物Ｗの他方の面Ｗｂを乾燥させる場合の乾燥機構１の動作について説明する。

図８に示すように、保持手段３０には他方の面Ｗｂが研削された後の被加工物Ｗが吸引保持されている。他方の面Ｗｂには、図示しない研削水の由来の水滴や加工屑が付着している。図８に示すように、昇降手段４５が、矩形スポンジ２Ａの下面２４が被加工物Ｗの他方の面Ｗｂに接する所定の高さまで、基台４６を−Ｚ方向へと降下させて停止させる。その後、移動手段５が基台４６を−Ｘ方向に移動させることで、矩形スポンジ２Ａが被加工物Ｗの外周縁側から他方の面Ｗｂに付着している水を吸い取って他方の面Ｗｂを乾燥させていく。同時に矩形スポンジ２Ａによって他方の面Ｗｂに付着している図示しない加工屑が拭き取られていく。

矩形スポンジ２Ａによる被加工物Ｗの他方の面Ｗｂの乾燥が開始されると、ソレノイドバルブ４９１が吸引流路４９０を吸引源４９に連通させ、吸引源４９が生み出す吸引力が、吸引流路４９０、及び基台４６内部の流路を通り各吸引孔４６１に伝達される。その結果、吸引孔４６１から矩形スポンジ２Ａ内部に溜まった水が吸引源４９によって継続的に吸引され排水されて、矩形スポンジ２Ａの被加工物Ｗの他方の面Ｗｂに接する部分である下面２４は水を吸い取れる状態に維持される。

図９に示すように、矩形スポンジ２Ａによって被加工物Ｗの他方の面Ｗｂの乾燥及び加工屑の拭き取りを行っていき、矩形スポンジ２Ａが被加工物Ｗの他方の面Ｗｂの外周縁を越えるまで−Ｘ方向へ移動することで、矩形スポンジ２Ａによる被加工物Ｗの他方の面Ｗｂの乾燥及び加工屑の拭き取りが完了する。

上記のように本発明に係る被加工物Ｗを乾燥させる乾燥機構１は、被加工物Ｗに付着している水を吸い取って矩形スポンジ２Ａに溜まる水を吸引孔４６１を介して吸引源４９が吸引することによって矩形スポンジ２Ａから排水させ、矩形スポンジ２Ａの被加工物Ｗに接する部分（下面２４）が水を吸い取れる状態を維持することができ、矩形スポンジ２Ａに水が溜まって飽和状態になることがなく、被加工物Ｗの他方の面Ｗｂの乾燥を短時間で十分に行うことが可能となる。また、被加工物Ｗの他方の面Ｗｂの乾燥と同時に、他方の面Ｗｂの加工屑を拭き取ることができる。

なお、保持手段３０が搬送パッドであり、被加工物Ｗの被研削面（図８における上面Ｗｂ）が搬送パッドで吸引保持される一方の面となり、搬送パッドで吸引保持されている状態で被加工物Ｗの下面Ｗａに貼着されている保護テープＴが乾燥させるべき他方の面となってもよい。そして、上記のように被加工物Ｗの他方の面Ｗｂの乾燥を行ったのと同様に、矩形スポンジ２Ａを保護テープＴ上で移動させて乾燥及び加工屑の拭き取りを行ってもよい。

被加工物Ｗの他方の面Ｗｂの乾燥と加工屑の拭き取りを行った矩形スポンジ２Ａの洗浄を行う場合には、図１０に示すように、洗浄手段４７を構成するソレノイドバルブ４９１が吸引流路４９０を流体供給源４８に連通させる。流体供給源４８から供給された例えば洗浄水は、吸引流路４９０から基台４６内部の流路へ流入し、さらに複数の吸引孔４６１から噴出して、矩形スポンジ２Ａへと到達する。そして、矩形スポンジ２Ａに到達した洗浄水は、矩形スポンジ２Ａの内部から、下面２４に広範囲にわたって染み出していく。その結果、下面２４に付着していた加工屑が洗浄水によって洗い落とされる。なお、流体供給源４８から矩形スポンジ２Ａに対して水とエアの混合流体を供給し、矩形スポンジ２Ａの下面２４を洗浄してもよい。または、流体供給源４８から水とエアとを交互に供給し、矩形スポンジ２Ａの下面２４を洗浄してもよい。または、流体供給源４８からエアのみを矩形スポンジ２Ａに供給して、矩形スポンジ２Ａの下面２４に付着している加工屑をエアで吹き飛ばして洗浄するものとしてもよい。すなわち、矩形スポンジ２Ａの被加工物Ｗに接する部分である下面２４を加工屑が付着していない状態に戻すことができる。

Ｗ：被加工物Ｗａ：被加工物の一方の面Ｗｂ：被加工物の他方の面Ｔ：保護テープ
１：乾燥機構
３０：保持手段３００：吸着部３００ａ：保持面３０１：枠体
２：ロールスポンジ２０：筒内２１：外周面
４：支持手段４０：シャフト４００：外側面４０１：吸引孔４０２：流路
４１：アーム４１２：継手
４９：吸引源４９０：吸引流路４９１：ソレノイドバルブ４８：流体供給源
４３：連結部材４５：昇降手段４７：洗浄手段
５：移動手段５０：ボールネジ５１：ガイドレール５２：モータ５３：可動板
２Ａ：矩形スポンジ２４：矩形スポンジの下面
４Ａ：支持手段４６：基台４６０：凹部４６１：吸引孔

Claims

被加工物を乾燥させる乾燥機構であって、
保持手段により一方の面が保持されている被加工物の他方の面に接触させ該他方の面に付着している水を吸い取るスポンジと、
被加工物に接する部分以外の部分で該スポンジを支持し該スポンジを吸引源に連通する吸引孔を備える支持手段と、
該保持手段と該支持手段とを相対的に該保持手段に保持された被加工物の他方の面に平行な方向に移動させる移動手段と、を備え、
被加工物に付着している水を吸い取って該スポンジに溜まる水を該吸引孔を介して該吸引源が吸引することによって該スポンジから排水させ、該スポンジの被加工物に接する部分が水を吸い取れる状態を維持することで被加工物を乾燥させる乾燥機構。
前記スポンジは、ロールスポンジであって、
前記支持手段は、該ロールスポンジの筒内に挿入され外側面に前記吸引孔が配設されたシャフトと、該シャフトを回転自在に支持するアームと、を備える請求項１記載の乾燥機構。
前記スポンジは、矩形スポンジであって、
前記支持手段は、該矩形スポンジの被加工物に接する部分を露出させ、該矩形スポンジの被加工物に接する部分以外を収容する凹部を有し、該凹部の内面に前記吸引孔が形成された基台を備える請求項１記載の乾燥機構。
前記吸引孔を流体供給源に連通させ、前記吸引孔から水及びエアの少なくとも一方を噴出させ前記スポンジの被加工物に接する部分を洗浄する洗浄手段を備える請求項１、２、又は３記載の乾燥機構。