JP2020077785A - 基板支持器、プラズマ処理装置、及びフォーカスリング - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (13)
- プラズマ処理装置用の基板支持器であって、
その上に載置される基板を支持するように構成された第1支持領域と、
その上に載置されるフォーカスリングを支持するように構成された第2支持領域であり、前記第1支持領域に対して径方向において外側で周方向に延在する、該第2支持領域と、
前記フォーカスリングに接続するように構成された導電構造であり、
前記第2支持領域に対して前記径方向において外側に端子領域を提供し、該端子領域から下方に延びる導電路と、
前記フォーカスリングと前記端子領域とを互いに電気的に接続する接続部材であり、該接続部材に対して前記径方向において外側で下方に延在する前記フォーカスリングの面に対面するように前記端子領域上に配置された、該接続部材と、
を含む該導電構造と、
前記接続部材を下方に押圧し、且つ、前記接続部材に前記フォーカスリングの前記面を押圧させるように、該接続部材を保持するホルダーと、
を備える基板支持器。 - 前記接続部材は、
前記フォーカスリングの前記面に対面する第1部分と、
前記第1部分の下部に連続して、該第1部分から前記径方向において外側に延在する第2部分と、
を有し、
前記ホルダーは、前記第2部分を下方に押圧するように前記接続部材を保持する、
請求項1に記載の基板支持器。 - 弾性を有し、前記接続部材と前記端子領域との間で挟持される導電部材を更に備える、請求項1又は2に記載の基板支持器。
- 弾性を有し、前記ホルダーと前記フォーカスリングの前記面との間で挟持される導電部材を更に備える、請求項1〜3の何れか一項に記載の基板支持器。
- 前記フォーカスリングを更に備える、請求項1〜4の何れか一項に記載の基板支持器。
- 前記フォーカスリングは、
環状且つ板状をなし、前記第2支持領域上に配置される第1環状部と、
前記フォーカスリングの前記面を含み、前記接続部材に対面するように前記第1環状部から下方に延在する第2環状部と、
を含む、請求項5に記載の基板支持器。 - 前記ホルダーは、絶縁性を有し、
前記接続部材は、前記フォーカスリングと前記ホルダーとによって遮蔽される、
請求項5又は6に記載の基板支持器。 - 前記第2支持領域は、前記フォーカスリングを静電引力により保持するように構成されたチャック領域を含む、請求項1〜7の何れか一項に記載の基板支持器。
- 前記チャック領域と前記フォーカスリングとの間に伝熱ガスを供給するためのガスラインが前記第2支持領域を通っている、請求項8に記載の基板支持器。
- チャンバと、
前記チャンバ内において基板及びフォーカスリングを支持するように構成された、請求項1〜9の何れか一項に記載の基板支持器と、
前記基板支持器の下部電極に電気的に接続された高周波電源と、
前記チャンバの外側で前記導電構造に電気的に接続された別の電源であり、前記フォーカスリングに負極性の電圧を印加するように構成された、該別の電源と、
を備えるプラズマ処理装置。 - プラズマ処理装置用の基板支持器であって、
その上に載置される基板を支持するように構成された第1支持領域と、
その上に載置されるフォーカスリングを支持するように構成された第2支持領域であり、前記第1支持領域に対して径方向において外側で周方向に延在する、該第2支持領域と、
前記フォーカスリングに接続するように構成された導電構造であり、
端子領域を提供する導電路と、
前記フォーカスリングと前記端子領域とを互いに電気的に接続する接続部材であり、該接続部材に対して前記径方向において外側で下方に延在する前記フォーカスリングの面に対面するように前記端子領域上に配置された、該接続部材と、
を含む該導電構造と、
を備え、
前記接続部材は、前記端子領域を押圧し、且つ、前記フォーカスリングの前記面を押圧する、
基板支持器。 - 第1環状部と、
前記第1環状部の外周部から下方に延在する第2環状部と、
を備えるフォーカスリング。 - 前記第2環状部を介して負極性の電圧が印加される、請求項12に記載のフォーカスリング。
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