JP2020075842A - 窒化物半導体 - Google Patents
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例えば、特許文献1には、サファイア基板の表面にAlN核形成を行った後、AlN核を埋め込んで貫通転位を低減し、その後、縦方向に高速に結晶成長させることを繰り返すことによって得られた品質の良好なAlN層を下地として、その上にAlNのモル分率が0.7以上の品質の良好なAlGaN層を形成することが開示されている。
非特許文献1に示すように、発明者はサファイア基板の上にスパッタ法を用いてAlN層を結晶成長させ、高温(窒素雰囲気中、1700℃、3時間)でアニールすることで低欠陥のAlN結晶を作製する技術を開発した。このAlN層は結晶欠陥が1×109/cm2以下であり高品質である。しかし、このAlN層の表面にAlGaN層を積層して結晶成長させると、格子定数の違いによりAlGaN層に圧縮応力がかかることによって格子緩和が生じ、AlGaN層内において、AlN層とAlGaN層との界面から結晶欠陥が生じる。そのため、サファイア基板の上にスパッタ法を用いてAlN層を結晶成長させて高温でアニールしたAlN層の上に後述する図1に示す構造を作製した場合、結晶表面における欠陥密度は、サファイア基板上にMOCVD法等を用いて積層した欠陥の多いAlN層の表面に同様の構造(後述する図1に示す構造)を結晶成長した場合と同等(3〜5×109/cm2)であることがわかった。
AlN又はAlGaNで形成された第1層と、
前記第1層の表面に積層して結晶成長され、AlGaNを含み、AlNのモル分率が前記第1層より小さく、前記第1層側に位置する界面に転位が集中した複数の転位集中領域、及び前記転位集中領域の表面に積層され前記転位集中領域より転位が少ない上層を有する第2層と、
を備えていることを特徴とする。
今回、発明者らが鋭意検討した結果、AlN層の表面側にAlGaN層を積層して結晶成長する成長条件として、V/III比を高くして、従来に比べて低い成長レートとすることによって、AlN層の表面側にAlGaN層を積層して結晶成長する初期の段階において、山形状の転位集中領域を含む三次元成長をさせ、その後、二次元成長させることによって、従来に比べて表面の平坦性が向上した高品質なAlGaN層を得ることができることを見出した。
実施例1の窒化物半導体1は、MOCVD法(有機金属気相成長法)を用いて積層して結晶成長する。
先ず、TMGa、TMAl、及びSH4の反応炉内への供給を停止し、スパッタ−テンプレート基板10の温度を1100℃まで降温する。所定の温度に達したら、AlNのモル分率が0.5になるようにTMGa、及びTMAlを反応炉内に供給する。
窒化物半導体1はn−AlGaN層12のAlNのモル分率を0.6としているが、AlNのモル分率を0.5としても同様の結果が得られる(図示せず。)。
n−AlGaN層12の厚みが3μmの時(n−AlGaN層12の結晶成長を開始しておよそ150分経過した時)には、結晶表面の凹凸が埋没しつつあり、平坦になりつつあるが、まだ、凹凸が現れており、極小値を示した反射率が回復する傾向にある。
n−AlGaN層12の厚みが5μmの時(n−AlGaN層12の結晶成長を開始しておよそ260分経過した時)には、結晶表面が極めて平坦になり、反射率がAlGaN層11の結晶成長中における反射率とほぼ同じになり、定常状態になっている。
以上から、n−AlGaN層12の厚みがおよそ2μmまで(n−AlGaN層12の結晶成長を開始しておよそ100分の間)三次元成長(凹凸)が生じ、n−AlGaN層12の厚みがおよそ2μmを超える(n−AlGaN層12の結晶成長を開始しておよそ100分を過ぎる)と、三次元成長(凹凸)を埋没させるように二次元成長するものと考えられる。
つまり、n−AlGaN層12はAlN層10B側に位置する界面に転位が集中した複数の転位集中領域12A、及び転位集中領域12Aの表面に転位集中領域12Aより転位が少ない上層12Bを有する。
こうして、n−AlGaN層12の表面にさらに第1ガイド層13A、2重量子井戸活性層13B、及び第2ガイド層13C等の構造をエピタキシャル成長する過程において転位はより低減し、最終的に第2ガイド層13Cの転位密度が1×109/cm2を下回ることがわかった。
次に、スパッタ−テンプレート基板10に代えて、MOCVD法を用いてサファイア基板10Aの表面にAlN層を積層して結晶成長したテンプレート基板(以下、MOCVD−テンプレート基板ともいう)を使い、窒化物半導体1と同様の構造を備えた実施例2の窒化物半導体2(以下、実施例2の窒化物半導体2ともいう)、及びスパッタ−テンプレート基板10に代えて、AlN自立基板を使い、窒化物半導体1と同様の構造を備えた実施例3の窒化物半導体3(以下、実施例3の窒化物半導体3ともいう)を作製した。
実施例2の窒化物半導体2はMOCVD−テンプレート基板を使用している点が実施例1の窒化物半導体1と相違する。実施例1と同一の構成は符号を付して詳細な説明は省略する。実施例2の窒化物半導体2を作製する手順は、実施例1のスパッタ−テンプレート基板10を作製する手順を除き実施例1の窒化物半導体1を作製する手順と同一であり詳細な説明は省略する。
実施例3の窒化物半導体3はAlN自立基板を使用している点が実施例1の窒化物半導体1と相違する。実施例1と同一の構成は符号を付して詳細な説明は省略する。実施例3の窒化物半導体3を作製する手順は、実施例1のスパッタ−テンプレート基板10を作製する手順を除き実施例1の窒化物半導体1を作製する手順と同一であり詳細な説明は省略する。
実施例2の窒化物半導体2、及び実施例3の窒化物半導体3はn−AlGaN層12の厚みが1μmの時にはヒロックが発生することによって凹凸が多く現れている。実施例2の窒化物半導体2、及び実施例3の窒化物半導体3はn−AlGaN層12の厚みが5μmの時には厚みが1μmの時に比べて表面が平坦になっている。実施例2の窒化物半導体2、及び実施例3の窒化物半導体3におけるn−AlGaN層12の結晶成長中の結晶表面の様子の変化は実施例1の窒化物半導体1におけるn−AlGaN層12の結晶成長中の結晶表面の様子の変化と同様の傾向を示している。
図7に示すように、実施例2の窒化物半導体2、及び実施例3の窒化物半導体3はn−AlGaN層12を結晶成長させると反射率は一旦低下した後上昇している。実施例2の窒化物半導体2、及び実施例3の窒化物半導体3における反射率の変化は実施例1の窒化物半導体1における反射率の変化と同様の傾向を示している。
そして、実施例2の窒化物半導体2、及び実施例3の窒化物半導体3はn−AlGaN層12の厚みが3μmの時に転位が大きく低減する。また、表面の平坦性はn−AlGaN層12の厚みが1μmの時に比べて向上している(図6参照。)。つまり、実施例2の窒化物半導体2、及び実施例3の窒化物半導体3は転位集中領域の表面に転位集中領域より転位が少ない上層を有する。
そして、実施例2の窒化物半導体2、及び実施例3の窒化物半導体3はn−AlGaN層12の厚みが5μmの時に転位がさらに低減する。
このように、実施例2の窒化物半導体2、及び実施例3の窒化物半導体3におけるn−AlGaN層12の結晶成長に伴う転位の変化は実施例1の窒化物半導体1におけるn−AlGaN層12の結晶成長に伴う転位の変化と同様の傾向を示している。
以上より、MOCVD−テンプレート基板、及びAlN自立基板を使用しても、スパッタ−テンプレート基板10を使用した場合と同様にn−AlGaN層12の結晶成長によって表面に伝搬する転位を低減することができることがわかった。
実施例4の窒化物半導体4は、図9に示すように、AlGaN層11とn−AlGaN層12との間にAlGaN組成傾斜層16を積層して結晶成長している点、及びn−AlGaN層12の厚みが実施例1〜3と相違する。実施例1と同一の構成は符号を付して詳細な説明は省略する。
図10に示すように、実施例4の窒化物半導体4は、AlGaN層11の結晶成長中に反射率の低下が見られないが、AlGaN組成傾斜層16の結晶成長中のAlNのモル分率が0.7を下回る組成から反射率の低下が見られ(図10における、n−AlGaN層12の近傍のAlGaN組成傾斜層16)、AlGaN組成傾斜層16の表面にn−AlGaN層12を積層して結晶成長させると反射率が急激に低下する。このことから、AlGaN組成傾斜層16において、AlNのモル分率がおよそ0.7を下回ると転位が増加し、転位集中領域の形成が開始していると考えられる。そして、AlGaN組成傾斜層16において、AlNのモル分率がおよそ0.7を下回らなければ、転位が増加しないと考えられる。つまり、AlGaN組成傾斜層16において転位の量は、AlNのモル分率がおよそ0.7を境にして発生せず増加しない傾向と増加する傾向とに遷移すると考えられる。さらにn−AlGaN層12を積層して結晶成長をさせ、n−AlGaN層12の結晶成長を開始しておよそ70分経過した(n−AlGaN層12の厚みがおよそ1.5μmになった)ところで反射率は極小値を示す。そして、さらに結晶成長を続けると反射率は上昇し、n−AlGaN層12の結晶成長を開始しておよそ210分経過した(n−AlGaN層12の厚みがおよそ4μmになった)ところでAlGaN層11及びAlGaN組成傾斜層16の結晶成長中における反射率とほぼ同じになり、定常状態となる。つまり、実施例4の窒化物半導体4の反射率の変化は窒化物半導体1〜3で得られた反射率の変化と同様の傾向を示すことがわかった。
以上より、実施例4の窒化物半導体4のn−AlGaN層12は実施例1の窒化物半導体1と同様に、転位が集中した複数の転位集中領域、及び転位集中領域の表面に転位集中領域より転位が少ない上層を有していると考えられる。また、AlGaN組成傾斜層16においても転位集中領域の形成が開始していると考えられる。
(1)実施例1では、n型不純物としてSiを添加してn−AlGaN層としているが、これに限らず、n型不純物である、Ge、Te等であっても良い。また、p型不純物としてMg、Zn,Be、Ca、Sr、及びBa等を添加して、p−AlGaN層としてもよい。
(2)実施例1、2、4ではサファイア基板を使用しているがSiC基板等の他の基板にAlN層を積層して結晶成長しても良い。
(3)実施例1では、AlGaN層のAlNのモル分率が0.99であるが、GaNを添加せず、組成をAlNのみとしてもよい。
10B…AlN層(第1層)
11…AlGaN層(第1層)
12…n−AlGaN層(第2層)
12A…転位集中領域
12B…上層
Claims (2)
- AlN又はAlGaNで形成された第1層と、
前記第1層の表面に積層して結晶成長され、AlGaNを含み、AlNのモル分率が前記第1層より小さく、前記第1層側に位置する界面に転位が集中した複数の転位集中領域、及び前記転位集中領域の表面に積層され前記転位集中領域より転位が少ない上層を有する第2層と、
を備えていることを特徴とする窒化物半導体。 - 前記第2層の反射率は、層の厚み方向の中間部が上部、及び下部よりも低いことを特徴とする請求項1に記載の窒化物半導体。
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