JP2020064858A - リチウム二次電池用ニッケル系活物質前駆体、その製造方法、そこから形成されたリチウム二次電池用ニッケル系活物質、及びそれを含む正極を含んだリチウム二次電池 - Google Patents

リチウム二次電池用ニッケル系活物質前駆体、その製造方法、そこから形成されたリチウム二次電池用ニッケル系活物質、及びそれを含む正極を含んだリチウム二次電池 Download PDF

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Abstract

【課題】リチウム二次電池用ニッケル系活物質前駆体、その製造方法、そこから形成されたリチウム二次電池用ニッケル系活物質、及びそれを含む正極を含んだリチウム二次電池を提供する。【解決手段】コア部10、中間層部20、及びシェル部30を具備する粒子状構造体100を含み、中間層部及びシェル部は、コア部上に放射形に配置される一次粒子を具備し、コア部、中間層部及びシェル部は、それぞれ異種の陽イオンまたは陰イオンを含み、陽イオンは、ボロン(B)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、ストロンチウム(Sr)、バリウム(Ba)、チタン(Ti)、バナジウム(V)、タングステン(W)、クロム(Cr)、鉄(Fe)、銅(Cu)、ジルコニウム(Zr)及びアルミニウム(Al)のうちから選択された1以上であり、陰イオンは、ホスフェート(PO4)、BO2、B4O7、B3O5及びFのうちから選択された1以上である。【選択図】図1A

Description

本発明は、リチウム二次電池用ニッケル系活物質前駆体、その製造方法、そこから形成されたリチウム二次電池用ニッケル系活物質、及びそれを含む正極を含んだリチウム二次電池に関する。
携帯用電子機器、通信機器などの発展により、高エネルギー密度のリチウム二次電池開発の必要性が高い。特に、最近では、高エネルギー密度を提供するために、ニッケル含量が多いリチウムニッケルマンガンコバルト複合酸化物が多用される。前記リチウム二次電池の正極活物質としては、リチウムニッケルマンガンコバルト複合酸化物、リチウムコバルト酸化物などが使用される。ところで、そのような正極活物質を利用する場合、充放電の反復により一次粒子に生じるクラックと結晶構造の変化とにより、リチウム二次電池の長期寿命が低下し、抵抗が増大し、容量特性が満足すべきレベルに達することができないため、それに対する改善が要求される。
本発明が解決しようとする課題は、ニッケル系活物質の遷移金属と陰イオンとの結合力が強化され、結晶構造が安定化され、陽イオン混合(cation mixing)による問題点が改善され、構造的な安定性が改善されるように、リチウム二次電池用ニッケル系活物質前駆体を提供することである。
本発明が解決しようとする課題は、また、前述のニッケル系活物質前駆体の製造方法を提供することである。
本発明が解決しようとする課題は、また、前述のニッケル系活物質前駆体から得られたニッケル系活物質と、それを含んだ正極を含み、寿命が改善したリチウム二次電池と、を提供することである。
一側面により、
コア部、前記コア部上に配置された中間層部、及び前記中間層部上に配置されたシェル部を具備する粒子状構造体を含み、
前記中間層部及び前記シェル部は、コア部上に放射形に配置される一次粒子を具備し、
前述のコア部、中間層部及びシェル部は、それぞれ異種の陽イオンまたは陰イオンを含み、
前記陽イオンは、ボロン(B)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、ストロンチウム(Sr)、バリウム(Ba)、チタン(Ti)、バナジウム(V)、タングステン(W)、クロム(Cr)、鉄(Fe)、銅(Cu)、ジルコニウム(Zr)及びアルミニウム(Al)のうちから選択された1以上であり、
前記陰イオンは、ホスフェート(PO)、BO、B、B及びFのうちから選択された1以上であるリチウム二次電池用ニッケル系活物質前駆体が提供される。
他の側面により、
錯化剤、pH調節剤、ニッケル系活物質前駆体形成用金属原料、及び陽イオン含有化合物または陰イオン含有化合物の反応を実施し、陽イオンまたは陰イオンを含むニッケル系活物質前駆体のコア部を形成する第1段階と、
前記第1段階から得たコア部上部に、陽イオンまたは陰イオンを含む中間層部を形成する第2段階と、
前記第2段階から得た中間層部上部に、陽イオンまたは陰イオンを含むシェル部を形成する第3段階と、を含み、
前記コア部及び中間層部は、シェル部とは異種の陽イオンまたは陰イオンを含み、
前記陽イオンは、ボロン(B)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、ストロンチウム(Sr)、バリウム(Ba)、チタン(Ti)、バナジウム(V)、タングステン(W)、クロム(Cr)、鉄(Fe)、銅(Cu)、ジルコニウム(Zr)及びアルミニウム(Al)のうちから選択された1以上であり、
前記陰イオンは、ホスフェート(PO)、BO、B、B及びFのうちから選択された1以上であるリチウム二次電池用ニッケル系活物質前駆体の製造方法が提供される。
さらに他の側面により、前述のニッケル系活物質前駆体から得られたリチウム二次電池用ニッケル系活物質が提供される。
さらに他の側面により、前述のリチウム二次電池用ニッケル系活物質を含む正極を含んだリチウム二次電池が提供される。
一具現例によるリチウム二次電池用ニッケル系活物質前駆体を利用することにより、陽イオン混合による劣化が抑制され、構造的安定性が改善されたニッケル系活物質を得ることができる。そのようなニッケル系活物質を正極活物質として利用したリチウム二次電池では、容量と寿命の特性が向上する。
一具現例によるニッケル系活物質前駆体の概略的な部分透視図である。 一具現例によるニッケル系活物質前駆体のさらに具体的な部分透視図である。 実施例1で製造されたニッケル系活物質の断面に対するSEM(scanning electron microscope)イメージである。 実施例2で製造されたニッケル系活物質の断面に対するSEM イメージである。 実施例2で製造されたニッケル系活物質の表面のSEMイメージである。 図2Cに比べ、解像度が2倍に増強された、実施例2で製造されたニッケル系活物質の表面のSEMイメージである。 実施例2で製造されたニッケル系活物質の断面に対するHAADF(high-angle annular dark field image)STEM(scanning transmission electron. microscopy)イメージ及びEDS(energy dispersive X-ray spectrometry)イメージである。 比較例2で製造されたニッケル系活物質の断面に対するHAADF(high-angle annular dark field image)STEM(scanning transmission electron. microscopy)イメージ及びEDS(energy dispersive X-ray spectrometry)イメージである。 一具現例によるリチウム二次電池の構造を概略的に示した図面である。
以下、本発明の一実施例によるリチウム二次電池用ニッケル系活物質前駆体、その製造方法、そこから形成されたニッケル系活物質、及びそれを含んだ正極を具備したリチウム二次電池について詳細に説明する。以下は、例示として提示されるものであり、それらにより、本発明が制限されるものではなく、本発明は、後述する特許請求の範囲の範疇によって定義されるのみである。
本明細書において、用語「粒子状構造体」は、複数の一次粒子が凝集して形成された粒子形態の構造体を意味する。
本明細書において、「陽イオン混合」は、互いにイオン半径が類似したLi(0.76Å)とNi2+(0.72Å)とが互いの位置を変え、すなわち、ニッケル二価イオンがリチウム層に移動し、層状構造の柱(pillar)として作用する現象を意味する。そのような陽イオン混合は、リチウム層でのリチウム拡散を妨害し、それによる結晶構造内での局所的な過電位差を誘発させ、結果として、結晶構造の不安定性を増大させる。
本明細書において、「気孔度(porosity)」は、全体総面積対比で気孔が占める面積を比率で示したものである。例えば、シェル部の気孔度は、シェル部全体面積対比で気孔が占める面積を比率で示したものである。コア部及び中間層部についても、同一である。
本明細書において、用語「放射形中心」は、図1A及び図1Bに図示されているように、コア部、コア部上に放射形に配列される一次粒子を具備する中間層部、及びシェル部を含んだ粒子状構造体の中心を意味する。
本明細書において、「放射形」は、図1A及び図1Bに図示されているように、シェル部が具備する一次粒子の長軸が、粒子状構造体の表面に垂直である方向、または垂直である方向と±30°以内の方向をなすように配列される形態を意味する。
本明細書において、粒子の「平均粒径」は、粒子が球形である場合、平均直径を示し、粒子が非球形である場合には、同体積球体の平均直径を示す。 平均粒径は平均粒子径(D50)であり、50%での累積直径分布に対応する粒子径として定義されます。これは、サンプルの50%が存在する粒径を表します。粒子の平均粒径は、粒子サイズ分析器(PSA:particle size analyzer)を利用して測定することができる。
本明細書において、用語「不規則多孔性気孔」は、気孔の大きさ及び形態が規則的ではなく、均一性がない気孔を意味する。該不規則多孔性気孔を含んだコア部は、シェル部と異なるように、非定形粒子を含んでもよく、そのような非定形粒子は、シェル部と異なり、規則性なしに配列される。 気孔度は、例えば粒子状構造体の断面SEM画像からコア部全体の面積比細孔が占める面積の割合として計算されることができる。
以下の図面において、同一参照符号は、同一構成要素を指し、図面上において、各構成要素の大きさは、説明の明瞭性と便宜性とから誇張されている。また、以下で説明される実施例は、単に例示的なものに過ぎず、そのような実施例から、多様な変形が可能である。また、以下で説明する層構造において、「上部」や「上」と記載された表現は、接触して真上にあるものだけではなく、非接触で上にあるものも含む。
一具現例によるリチウム二次電池用ニッケル系活物質前駆体は、コア部、コア部上に配置された中間層部、及び中間層部上に配置されたシェル部を具備する粒子状構造体を含み、該中間層部及び該シェル部は、コア部上に放射形に配置される一次粒子を具備し、前述のコア部、中間層部及びシェル部は、それぞれ異種の陽イオンまたは陰イオンを含み、該陽イオンは、ボロン(B)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、ストロンチウム(Sr)、バリウム(Ba)、チタン(Ti)、バナジウム(V)、タングステン(W)、クロム(Cr)、鉄(Fe)、銅(Cu)、ジルコニウム(Zr)及びアルミニウム(Al)のうちから選択された1以上であり、該陰イオンは、ホスフェート(PO)、BO、B、B及びFのうちから選択された1以上である。
図1A及び図1Bを参照すれば、リチウム二次電池用ニッケル系活物質前駆体は、コア部10、コア部10上に配置された中間層部20、及び中間層部20上に配置されたシェル部30を具備する粒子状構造体100を含み、中間層部20及びシェル部30は、コア部10上に放射形に配置される一次粒子40を具備し、コア部10、中間層部20及びシェル部30は、それぞれ異種の陽イオンまたは陰イオンを含み、陽イオンは、ボロン(B)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、ストロンチウム(Sr)、バリウム(Ba)、チタン(Ti)、バナジウム(V)、タングステン(W)、クロム(Cr)、鉄(Fe)、銅(Cu)、ジルコニウム(Zr)及びアルミニウム(Al)のうちから選択された1以上であり、陰イオンは、ホスフェート(PO)、BO、B、B及びFのうちから選択された1以上である。
図1A及び図1Bを参照すれば、粒子状構造体100は、コア部10、中間層部20及びシェル部30が順次に積層された構造を有する。粒子状構造体100は、例えば、二次粒子である。コア部10は、多孔性コア部であり、ニッケル系活物質前駆体から得られるニッケル系活物質において、リチウム拡散距離を縮小させる。中間層部20においては、一次粒子40が放射形に配置されることにより、密度が高い。シェル部30においても、一次粒子40が放射形に配置される。粒子状構造体100において、コア部10上に一次粒子40が放射形に配置され、中間層部20及び/またはシェル部30を構成することにより、充放電時、一次粒子40に加えられる応力が低減される。従って、一次粒子40の体積変化を効果的に受容する。従って、充放電時、ニッケル系活物質前駆体から製造されたニッケル系活物質の体積変化による亀裂を抑制する。コア部10、中間層部20及びシェル部30は、図面に図示されていないが、それぞれ異種の陽イオンまたは陰イオンを含む。
該陽イオンは、例えば、ニッケル陽イオンと類似しているが、差があるイオン半径を有したり、酸素化結合力が増大されたりする金属陽イオンである。コア部10、中間層部20及び/またはシェル部30が、そのような金属陽イオンを含むことにより、結晶格子内において、陽イオン混合(cation mixing)が抑制され、結果として、ニッケルイオンの溶出が抑制されるので、陽イオンを含む部分の構造的安定性が向上する。例えば、ニッケル陽イオンと類似しているが、差があるイオン半径を有する金属陽イオンが、リチウム陽イオンのサイト、または結晶格子内の空スペースに置換されたりドーピングされたりすることにより、リチウム層において、Ni2+の移動経路を一部遮断したり、反撥力によって移動を困難にしたりすることにより、陽イオン混合を低減させる。また、シェル部30が、そのような金属陽イオンを含むことにより、遷移金属層を安定化させ、充放電による結晶体積変化、及びニッケル陽イオンの移動が抑制され、陽イオン混合が抑制される。また、正極活物質の合成時、表面に生成されるNiO相(岩塩構造(rock salt phase))の生成が抑制され、酸素の脱離が抑制され、正極活物質がさらに安定したものになる。
陰イオンは、例えば、酸素に比べ、電気陰性度が高い陰イオンである。コア部10、中間層部20及び/またはシェル部30が、そのような電気陰性度が高い陰イオンを含むことにより、結晶格子内において、遷移金属と陰イオンとの結合力を強化させる。該遷移金属と該陰イオンとの結合力が増大すれば、活物質の構造変化、及びそれによる酸素の脱離を抑制することにより、正極活物質の構造的安定性が向上する。例えば、充放電時、リチウムの出入りによる陰イオン層の不安定性が低下し、酸素放出によるガス発生が抑制される。従って、そのようなニッケル系活物質前駆体から製造されたニッケル系活物質は、大きい放電容量と優秀な構造的安定性とを同時に提供する。
図1A及び図1Bを参照すれば、シェル部30は、例えば、ボロン(B)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、ストロンチウム(Sr)、バリウム(Ba)、チタン(Ti)、バナジウム(V)、タングステン(W)、クロム(Cr)、鉄(Fe)、銅(Cu)、ジルコニウム(Zr)及びアルミニウム(Al)のうちから選択された1以上の陽イオンを含む。該ニッケル系活物質前駆体が含む陽イオンの含量は、例えば、ニッケル系活物質前駆体全体に対し、0.9mol%以下、0.7mol%以下、0.5mol%以下、0.3mol%以下または0.28mol%以下である。例えば、該ニッケル系活物質前駆体が含む陽イオンの含量は、ニッケル系活物質前駆体全体に対し、0.0001ないし0.9mol%以下、0.001ないし0.7mol%以下、0.001ないし0.5mol%以下、0.001ないし0.3mol%、または0.001ないし0.28mol%である。陽イオンの含量が過度に増加すれば、シェル部内においてドーピングが困難であり、残留する不純物の含量が増加し、シェル部の気孔度がさらに上昇する。従って、そのような多孔性ニッケル系活物質前駆体から得られるニッケル系活物質を含むリチウム電池の体積容量が減少し、サイクル特性も低下する。
図1A及び図1Bを参照すれば、コア部10及び中間層部20は、例えば、ホスフェート(PO)、BO、B、B及びFのうちから選択された1以上の陰イオンを含む。該ニッケル系活物質前駆体が含む陰イオンの含量は、例えば、ニッケル系活物質前駆体全体に対し、0.06mol%以下、0.05mol%以下、0.04mol%以下または0.03mol%以下である。該ニッケル系活物質前駆体が含む陰イオンの含量は、例えば、ニッケル系活物質前駆体全体に対し、0.0001ないし0.06mol%、0.001ないし0.05mol%、0.005ないし0.04mol%、0.01ないし0.03mol%である。
該ニッケル系活物質前駆体のシェル部30が含む陽イオンの含量は、例えば、シェル部30全体に対し、2.0mol%以下、1.8mol%以下、1.6mol%以下、1.4mol%以下、1.33mol%以下または0.41mol%以下である。例えば、該ニッケル系活物質前駆体のシェル部30が含む陽イオンの含量は、シェル部30全体に対し、0.0001ないし2.0mol%以下、0.001ないし1.8mol%以下、0.001ないし1.6mol%以下、0.001ないし1.4mol%、0.001ないし1.33mol%、または0.001ないし0.41mol%である。
該ニッケル系活物質前駆体のコア部10と中間層部20との全体が含む陰イオンの含量は、例えば、コア部10と中間層部20との全体に対し、1.0mol%以下、0.8mol%以下、0.6mol%以下、0.4mol%以下または0.18mol%以下である。該ニッケル系活物質前駆体のコア部10と中間層部20との全体が含む陰イオンの含量は、コア部10と中間層部20との全体に対し、0.0001ないし1.0mol%以下、0.001ないし0.8mol%以下、0.001ないし0.6mol%以下、0.001ないし0.4mol%、または0.001ないし0.18mol%である。
該ニッケル系活物質前駆体全体、ニッケル系活物質前駆体のコア部10、ニッケル系活物質前駆体の中間層部20及び/またはニッケル系活物質前駆体のシェル部30が、それぞれそのような範囲の陽イオンまたは陰イオンの含量を有することにより、ニッケル系活物質前駆体から製造されたニッケル系活物質の構造的安定性がさらに向上する。
図1A及び図1Bを参照すれば、粒子状構造体100において、第1気孔分布として、コア部10の気孔度に比べ、中間層部20及びシェル部30の気孔度がさらに低いか、あるいは第2気孔分布として、中間層部20の気孔度に比べ、コア部10及びシェル部30の気孔度がさらに高い。
第1気孔分布を有するニッケル系活物質前駆体について、さらに具体的に説明する。
図2Aに、第1気孔分布を有するニッケル系活物質前駆体から製造され、第1気孔分布を有するニッケル系活物質前駆体と実質的に同一の気孔分布を有する、ニッケル系活物質の断面イメージが図示される。
図1A及び図1Bを参照すれば、例えば、多孔性コア部10に比べ、中間層部20及びシェル部30の気孔度がさらに低い。従って、多孔性コア部10に比べ、中間層部20及びシェル部30の密度がさらに高い。粒子状構造体100が、そのような密度勾配(density gradient)を有することにより、リチウム拡散が起こる表面積が増大され、拡散が容易になり、従って、充放電時、ニッケル系活物質前駆体から製造されたニッケル系活物質の高率特性が向上する。また、そのようなニッケル系活物質を含むリチウム二次電池の寿命特性が改善される。例えば、多孔性コア部10、中間層部20及びシェル部30の気孔度が順次に低下する。
図1A及び図1Bを参照すれば、シェル部30は、密度が制御されることにより、開気孔(open pore)を形成し、それを介して電解液が浸透するので、リチウムイオンの拡散係数が増大する。粒子状構造体100が、そのような増大された拡散係数を有するシェル部30を含むことにより、リチウム拡散が起こる表面積が増大され、拡散が容易になり、従って、充放電時、ニッケル系活物質前駆体から製造されたニッケル系活物質の高率特性が向上する。また、そのようなニッケル系活物質を含むリチウム二次電池の寿命特性が改善される。
図1A及び1Bを参照すれば、コア部10は、粒子状構造体100の中心から最外郭までの総距離において、中心から、40ないし70長さ%の領域である。または、コア部10は、粒子状構造体100の表面から、例えば、3μm以内の領域を除いた残り領域を意味する。コア部10の厚み(例えば、半径)は、例えば、2ないし5μm、例えば、2.5ないし3.5μmである。コア部10の気孔度は、例えば、15ないし20%である。コア部10の気孔サイズは、後述するシェル部30の気孔サイズよりも大きく、150nmないし1μm、例えば、150ないし550nm、例えば、200ないし500nmである。コア部10の体積は、例えば、粒子状構造体100全体体積の15%以下または10%以下である。コア部10がそのような領域、気孔度及び/または気孔サイズを有することにより、ニッケル系活物質前駆体から製造されたニッケル系活物質の構造的安定性がさらに向上する。
図1A及び1Bを参照すれば、シェル部30は、粒子状構造体100の中心から最外郭までの総距離において、最表面から5ないし20長さ%の領域である。または、シェル部30は、粒子状構造体100の最表面において、例えば、2μm以内の領域を意味する。シェル部30の厚みは、1ないし3μm、例えば、1.5ないし2μmである。シェル部30の気孔度は、例えば、5%以下、2%以下、例えば、0.1%ないし2%である。シェル部30の気孔サイズは、150nm未満、例えば、100nm以下、例えば、20ないし90nmである。シェル部30の体積は、例えば、粒子状構造体100全体体積の50%以上、60%以上または70%以上である。シェル部30の体積は、例えば、粒子状構造体100全体体積の50%ないし80%、または60ないし75%である。シェル部30がそのような領域、気孔度及び/または気孔サイズを有することにより、ニッケル系活物質前駆体から製造されたニッケル系活物質の構造的安定性がさらに向上する。
図1A及び1Bを参照すれば、中間層部20は、コア部10及びシェル部30を除いた残り領域である。中間層部20の厚みは、1ないし3μm、例えば、1.4ないし2μmである。中間層部20の気孔度は、例えば、0.1ないし14.8%、2ないし14.8%、5ないし14.8%、または10ないし14.8%である。中間層部20の気孔サイズは、150nm未満、例えば、100nm以下、例えば、20ないし90nmである。中間層部20の体積は、例えば、粒子状構造体100全体体積の20%ないし35%である。中間層部20がそのような領域、気孔度、及び/または気孔サイズを有することにより、ニッケル系活物質前駆体から製造されたニッケル系活物質の構造的安定性がさらに向上する。
第2気孔分布を有するニッケル系活物質前駆体について、さらに具体的に説明する。
図2B及び図3Aに、第2気孔分布を有するニッケル系活物質前駆体から製造され、第2気孔分布を有するニッケル系活物質前駆体と実質的に同一気孔分布を有する、ニッケル系活物質の断面イメージが図示される。
図1A及び図1Bを参照すれば、第2気孔分布を有する粒子状構造体100において、例えば、中間層部20の気孔度に比べ、コア部10及びシェル部30の気孔度がさらに高い。従って、中間層部20に比べ、多孔性コア部10及びシェル部30の密度がさらに低い。粒子状構造体100がそのような密度勾配を有することにより、リチウム拡散が起こる表面積が増大され、拡散が容易になり、従って、充放電時、ニッケル系活物質前駆体から製造されたニッケル系活物質の高率特性が向上する。また、そのようなニッケル系活物質を含むリチウム二次電池の寿命特性が改善される。
図1A及び1Bを参照すれば、第2気孔分布を有するニッケル系活物質前駆体のシェル部30は、粒子状構造体100の中心から最外郭までの総距離において、最表面から5ないし20長さ%の領域である。または、シェル部30は、粒子状構造体100の最表面において、例えば、2μm以内の領域を意味する。シェル部30の厚みは、1ないし3μm、例えば、1.5ないし2μmである。シェル部30の気孔度は、例えば、15%ないし20%である。シェル部30の気孔サイズは、150nmないし1μm、例えば、150ないし550nm、例えば、200ないし500nmである。シェル部30の体積は、例えば、粒子状構造体100全体体積の50%以上、60%以上または70%以上である。シェル部30の体積は、例えば、粒子状構造体100全体体積の50%ないし80%、または60ないし75%である。シェル部30がそのような領域、気孔度、及び/または気孔サイズを有することにより、ニッケル系活物質前駆体から製造されたニッケル系活物質の構造的安定性がさらに向上する。
第2気孔分布を有するニッケル系活物質前駆体のコア部10及び中間層部20の構成は、前述の第1気孔分布を有するニッケル系活物質前駆体のコア部10及び中間層部20の構成と同一である。
図1A、図1B及び図2Bを参照すれば、シェル部30において、一次粒子40が放射形に配置されることにより、放射形に配置される一次粒子40間に気孔が形成され、そのような気孔も放射形に配置されることにより、前駆体粒子の内部から、前駆体粒子の表面に連結される開気孔(open pore)を形成する。シェル部30がそのような開気孔を含むことにより、ニッケル系活物質前駆体から製造されるニッケル系活物質において、リチウムイオンの出入りがさらに容易になり、ニッケル系活物質を含むリチウム電池の高率特性が向上する。
図1A及び図1Bを参照すれば、ニッケル系活物質前駆体が含む二次粒子は、1つの粒子状構造体100形態でもある。二次粒子の平均粒径は、例えば、5μmないし25μm、または9ないし20μmである。該二次粒子がそのような範囲の平均粒径を有することにより、ニッケル系活物質前駆体から製造されたニッケル系活物質の構造的安定性がさらに向上する。
図1Bを参照すれば、例示的な1つの一次粒子40は、短軸と長軸とを有する非球形粒子である。短軸は、一次粒子40の任意の両末端の距離が最も短い地点を連結した軸であり、長軸は、一次粒子40の任意の両末端の距離が最大である地点を連結した軸である。一次粒子40の短軸と長軸との比は、例えば、1:2ないし1:20、1:3ないし1:20、または1:5ないし1:15である。一次粒子40がそのような範囲の短軸と長軸との比を有することにより、ニッケル系活物質前駆体から得られるニッケル系活物質において、リチウムイオンの利用がさらに容易になる。
図1Bを参照すれば、一次粒子40は、非球形粒子として、例えば、プレート粒子(plate particle)を含む。該プレート粒子は、互いに離隔されて対向する2個の表面を有する粒子であり、2個の表面間の距離である厚みに比べ、表面長が大きい。該プレート粒子の表面長は、表面を定義する2個の長さのうちさらに大きい値である。表面を定義する2個の長さは、互いに異なりもし、同じでもあり、厚みに比べて大きい。プレート粒子の厚みが短軸長であり、表面長が長軸長である。該プレート粒子が有する表面の形態は、三面体、四面体、五面体、六面体のような多面体であるか、円形、楕円形でもあるが、それらに限定されるものではなく、当該技術分野において、プレート粒子の表面形態として使用することができるものであるならば、いずれも可能である。該プレート粒子は、例えば、ナノディスク、四角形ナノシート、五角形ナノシート、六角形ナノシートである。該プレート粒子の具体的な形態は、二次粒子が製造される具体的な条件によって異なる。該プレート粒子の対向する2個の表面が互いに平行ではなく、表面と側面との角度も、多様に変形され、表面と側面とのコーナーがラウンド形態でもあり、表面及び側面が、それぞれ平面または曲面でもある。該プレート粒子の長軸41が、粒子状構造体100の多孔性コア部10上に放射形に配列され、中間層部20及び/またはシェル部30を構成する。該プレート粒子の短軸長と長軸長との比は、例えば、1:2ないし1:20、1:3ないし1:20、または1:5ないし1:15である。例示的な1つのプレート粒子の平均厚は、100ないし250nm、または100nmないし200nmであり、平均表面長は、250nmないし1,100nm、または300nmないし1,000nmである。該プレート粒子の平均表面長は、平均厚対比で、2ないし10倍である。該プレート粒子がそのような範囲の厚み、平均表面長、及びそれらの比率(ratio)を有することにより、該プレート粒子が、多孔性コア部上に放射形に配置されることがさらに容易になり、結果として、該プレート粒子を含むニッケル系活物質前駆体から得られるニッケル系活物質の構造的安定性がさらに向上する。
図1A及び図1Bを参照すれば、該ニッケル系活物質前駆体が含む粒子状構造体100形態の二次粒子は、比表面積が4ないし10m/gである。 比表面積は、BET法により測定され得る。例えば、BET 6点法は、ポロシメトリー分析装置(ベルソープ−IIミニ、ベルジャパン株式会社)を使用することにより、窒素ガス吸着法に従って使用することができる。該ニッケル系活物質前駆体がそのような範囲の大きい比表面積を有することにより、該ニッケル系活物質前駆体から製造されたニッケル系活物質において、リチウムイオン拡散がさらに容易になる。
該ニッケル系活物質前駆体は、例えば、下記化学式1あるいは2によって表示される化合物である。
[化学式1]
Ni1−x−y−zCoMn(OH)2−αα
[化学式2]
Ni1−x−y−zCoAl(OH)2−αα
化学式1及び2で、Mは、ボロン(B)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、ストロンチウム(Sr)、バリウム(Ba)、チタン(Ti)、バナジウム(V)、クロム(Cr)、鉄(Fe)、銅(Cu)、ジルコニウム(Zr)及びアルミニウム(Al)からなるグループのうちから選択される元素であり、x≦1−x−y−z、y≦1−x−y−z、0<x<1、0≦y<1、0<z≦0.01、0<α≦0.01, Xは、PO、BO、B、B及びFからなるグループのうちから選択される1以上である。化学式1で、例えば、0<x≦0.33、0≦y≦0.5、0<z≦0.01、0.33≦1−x−y−z≦0.97及び0<α≦0.01である。前記化学式1で、例えば、0<x≦0.33、0<y≦0.33、0<z≦0.009、0.33≦1−x−y−z≦0.97及び0<α≦0.0013である。該ニッケル系活物質前駆体において、例えば、ニッケルの含量は、遷移金属総含量を基準にし、33モル%ないし95モル%、例えば、50ないし90モル%、例えば、60ないし85モル%であることがある。遷移金属総含量は、化学式1において、ニッケル、コバルト及びマンガンの総含量、及び化学式2において、ニッケル、コバルト及びアルミニウムの総含量を示す。
該ニッケル系活物質前駆体において、ニッケルの含量は、例えば、遷移金属の総含量を基準にし、33ないし97モル%であり、マンガンの含量及びコバルトの含量に比べ、高含量でもある。
化学式1ないし2の金属ヒドロキシドは、例えば、(Ni0.6Co0.2Mn0.21−a(OH)2−αα、(Ni0.5Co0.2Mn0.31−a(OH)2−αα、(Ni0.7Co0.15Mn0.151−a(OH)2−αα、(Ni0.85Co0.1Al0.051−a(OH)2−ααまたは(Ni0.91Co0.06Mn0.031−aMa(OH)2−ααであり、0<a<0.009、0<α≦0.00131であり、Mは、ボロン(B)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、ストロンチウム(Sr)、バリウム(Ba)、チタン(Ti)、バナジウム(V)、タングステン(W)、クロム(Cr)、鉄(Fe)、銅(Cu)、ジルコニウム(Zr)及びアルミニウム(Al)からなるグループのうちから選択される1以上の元素であり、Xは、PO、BO、B、B及びFからなるグループのうちから選択される1以上である。
他の一具現例によるニッケル系活物質前駆体の製造方法は、錯化剤、pH調節剤、ニッケル系活物質前駆体形成用金属原料、及び陽イオン含有化合物または陰イオン含有化合物の反応を実施し、陽イオンまたは陰イオンを含むニッケル系活物質前駆体のコア部を形成する第1段階と、第1段階から得たコア部上部に、陽イオンまたは陰イオンを含む中間層部を形成する第2段階と、第2段階から得た中間層部上部に、陽イオンまたは陰イオンを含むシェル部を形成する第3段階と、を含み、前述のコア部及び中間層部は、シェル部とは異種の陽イオンまたは陰イオンを含み、該陽イオンは、 ホウ素、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、チタン、バナジウム、タングステン、クロム、鉄、銅、亜鉛及びアルミニウムのうちから選択された1以上であり、陰イオンは、ホスフェート(PO)、BO、B、B、Fのうちから選択された1以上である。
前述の第1段階、第2段階及び第3段階において反応温度は、40〜60℃、撹拌動力は、0.1〜6.0kW/m3であり、pHは、10ないし12の範囲であり、反応混合物が含む錯化剤の含量は、0.1ないし0.6M、例えば、0.3ないし0.6Mの範囲である。そのような範囲において、前述の構造にさらに符合するニッケル系活物質前駆体が得られる。
第2段階の金属原料の投入速度が、前記第1段階より速く、第3段階の金属原料投入速度が、前記第1段階と同一にも維持される。すなわち、第1段階の金属原料投入速度が、第3段階の金属原料投入速度と同一であり、第2段階の金属原料投入速度が、第1段階及び第3段階に比べてさらに速い。例えば、該金属原料の第2段階での供給速度は、第1段階での供給速度を基準に、10ないし50%ほど増大し、第3段階での供給速度は、第1段階での供給速度と同一でもある。そのように該金属原料の供給速度を調節することにより、前述の構造にさらに符合するニッケル系活物質前駆体が得られる。
第1段階の撹拌動力が最も強く、第3段階の撹拌動力が最も弱く、第2段階の撹拌動力が、第1段階及び第3段階の間の値でもある。前述のコア部及び中間層部が、シェル部とは異種の陽イオンまたは陰イオンを含むことにより、前述の新規構造を有するニッケル系活物質前駆体が得られる。例えば、第1段階に比べ、第2段階での反応器において、反応混合物の撹拌動力が低減され、第2段階に比べ、第3段階での反応器において、反応混合物の撹拌動力が低減される。第1段階において、撹拌動力は、1.5ないし4kW/m3であり、第2段階において、該撹拌動力は、1ないし3kW/m3であり、第3段階において、該撹拌動力は、1ないし2kW/m3でもある。前述の第1段階、第2段階及び第3段階の撹拌動力が順次に低減されることにより、前述の構造にさらに符合するニッケル系活物質前駆体が得られる。また、前駆体製造方法において、前述の第1段階、第2段階及び第3段階での反応器において、反応混合物の撹拌速度が順次に低減される。そのように、前述の第1段階、第2段階及び第3段階での撹拌速度が順次に低減されることにより、前述の構造にさらに符合するニッケル系活物質前駆体が得られる。
前述の第2段階及び第3段階の反応混合物のpHは、同一であり、前述の第2段階及び第3段階の反応混合物のpHが、前記第1段階の反応混合物のpHに比べても低い。例えば、前述の第2段階及び第3段階での反応混合物のpHは、反応温度が50℃であるとき、第1段階の反応混合物のpHに比べ、0.5ないし1.6、1.1ないし1.6、または1.2ないし1.5ほども低い。代案としては、第1段階、第2段階及び第3段階を進めるとき、反応器において、反応混合物のpHは、順次に低下する。例えば、反応温度50℃において、第2段階での反応混合物のpHは、第1段階での反応混合物のpHに比べ、0.55ないし0.85ほど低く、第3段階での反応混合物のpHは、第2段階での反応混合物のpHに比べ、0.35ないし0.55ほども低い。代案としては、第1段階、第2段階及び第3段階を進めるとき、反応器において、反応混合物のpHは、同一にも維持される。例えば、前述の第1段階ないし第3段階での反応混合物のpHは、反応温度が50℃であるとき、10ないし11.5の範囲でもある。そのように反応混合物のpHを調節することにより、前述の構造にさらに符合するニッケル系活物質前駆体が得られる。
該錯化剤の濃度は、前述の第1段階、第2段階、及び第3段階に行くほど、順次に上昇する。例えば、第2段階での反応混合物が含む錯化剤の濃度は、第1段階での反応混合物が含む錯化剤の濃度に比べて上昇し、第3段階での反応混合物が含む錯化剤の濃度は、第2段階での反応混合物が含む錯化剤の濃度に比べて上昇する。例えば、第2段階での反応混合物が含む錯化剤の濃度が、第1段階での反応混合物が含む錯化剤の濃度に比べて0.05ないし0.5M上昇し、第3段階での反応混合物が含む錯化剤の濃度が、第2段階での反応混合物が含む錯化剤の濃度に比べて0.05ないし0.5M上昇する。代案としては、第1段階、第2段階及び第3段階を進めるとき、反応混合物が含む錯化剤の濃度が同一でもある。例えば、第1段階ないし第3段階での反応混合物が含む錯化剤の濃度は、0.5ないし0.6Mでもある。
第1段階において、錯化剤、pH調節剤、ニッケル系活物質前駆体形成用金属原料、及び陽イオン含有化合物または陰イオン含有化合物の反応を実施し、陽イオンまたは陰イオンを含むニッケル系活物質前駆体のコア部を形成及び成長させる。第1段階において、前駆体シード粒子の成長速度が0.32±0.05μm/hrでもある。第1段階において、反応混合物の撹拌動力は、1.2以上4以下kW/m3、または3.0kW/m3であり、pHは、10.5ないし12の範囲でもある。例えば、第1段階において、金属原料の供給速度は、1.0ないし10.0ml/min、例えば、4.3ml/minであり、錯化剤の供給速度は、金属原料のモル投入速度対比で、0.1ないし0.6倍、例えば、0.15倍である。例えば、第1段階において、陽イオン含有化合物または陰イオン含有化合物の供給速度は、1.0ないし3.0ml/min、例えば、1.6ml/minである。反応混合物の温度は、40ないし60℃、例えば、50℃であり、反応混合物のpHは、11ないし12、例えば、11.0ないし11.5である。
第2段階において、反応条件を変更し、陽イオン含有化合物または陰イオン含有化合物を利用し、コア部上部に、陽イオンまたは陰イオンを含む中間層部を形成及び成長させる。第2段階において、前駆体シードの成長速度は、第1段階の前駆体シードの成長速度と同一であるか、あるいは20%以上増大される。第2段階において、金属原料の供給速度は、第1段階の金属原料の供給速度と比べ、1.2倍以上、例えば、1.2倍ないし2.5倍であり、反応混合物での錯化剤濃度は、第1段階での錯化剤濃度を基準にし、0.05M以上、例えば、0.05ないし0.15M上昇するように供給することができる。第2段階において、反応混合物の撹拌動力は、1ないし3kW/m3、または2.5kW/m3であり、pHは、10ないし11の範囲でもある。第2段階において、錯化剤の濃度は、例えば、0.3ないし0.55Mであり、金属原料の供給速度は、1ないし10ml/minであり、錯化剤の供給速度は、0.1ないし2ml/minである。例えば、第2段階において、陽イオン含有化合物または陰イオン含有化合物の供給速度は、1.0ないし3.0ml/min、例えば、2.0ml/minである。
第3段階において、反応条件を変更し、陽イオン含有化合物または陰イオン含有化合物を利用し、第2段階において得た中間層部上部に、陽イオンまたは陰イオンを含むシェル部を形成及び成長させ、リチウム二次電池用ニッケル系活物質前駆体を得る。第2段階において、前駆体粒子の平均粒径(D50)が9ないし12μm、例えば、約12μmに達すれば、第3段階を進める。第3段階においては、前駆体粒子の成長速度を第2段階より2倍以上、例えば、3倍以上増大させることができる。そのために、第2段階を経た反応器内部の反応生成物の一部を除去し、反応器内部において、反応生成物の濃度を希釈させることができる。反応器内部から除去された生成物は、他の反応器でも使用される。第3段階において、金属原料の供給速度は、第2段階の金属原料の供給速度と比べ、0.5倍以上、例えば、0.5倍ないし0.9倍であり、反応混合物での錯化剤濃度は、第2段階での錯化剤濃度を基準にし、0.05M以上、例えば、0.05ないし0.15M上昇するようにも供給される。第3段階において、沈殿物が成長し、ニッケル系活物質前駆体が得られる。第3段階において、反応混合物の撹拌動力は、1ないし3kW/m3、または2.0kW/m3であり、pHは、10ないし11の範囲でもある。第3段階において、錯化剤の濃度は、例えば、0.3ないし0.6Mであり、金属原料の供給速度は、2ないし10ml/minであり、錯化剤の供給速度は、0.1ないし2ml/minである。例えば、第3段階において、陽イオン含有化合物または陰イオン含有化合物の供給速度は、1.0ないし3.0ml/min、例えば、1.6ml/minである。
前駆体製造方法において、金属原料は、ニッケル系活物質前駆体の組成を考慮し、それに対応する金属前駆体を利用することができる。該金属原料は、例えば、金属カーボネート、金属硫酸塩、金属硝酸塩、金属塩化物、金属フッ化物などであるが、それらに限定されるものではなく、当該技術分野において、金属前駆体としても使用されるものであるならば、いずれも可能である。例えば、ニッケル(Ni)含有化合物として、硫酸ニッケル、硝酸ニッケル、塩化ニッケル及びフッ化ニッケルからなる群から選択された1種以上を利用することができる。例えば、コバルト(Co)含有化合物として、硫酸コバルト、硝酸コバルト、塩化コバルト及びフッ化コバルトからなる群から選択された1種以上を利用することができる。例えば、マンガン(Mn)含有化合物として、硫酸マンガン、硝酸マンガン、塩化マンガン及びフッ化マンガンからなる群から選択された1種以上を利用することができる。例えば、アルミニウム(Al)含有化合物として、硫酸アルミニウム、硝酸アルミニウム、塩化アルミニウム及びフッ化アルミニウムからなる群から選択された1種以上を利用することができる。例えば、金属(M)含有化合物として、金属(M)の硫酸塩、硝酸塩、塩化物塩及びフッ化物塩からなる群から選択された1種以上を利用することができる。
ニッケル系活物質前駆体粒子の成長速度制御のために、粒子を成長させる金属原料の投入量を、第1段階対比で第2段階において、15ないし35%、例えば、約25%増大させ、第3段階においては、第2段階対比で、20ないし35%、例えば、約33%低減させることができる。また、第2段階においては、アンモニア水のような錯化剤投入量を、第1段階のアンモニア水のような錯化剤の投入量を基準にし、10ないし30%、例えば、約20%増大させ、粒子の緻密度を上昇させることができる。
陽イオン含有化合物または陰イオン含有化合物の濃度は、結果物であるニッケル系活物質前駆体において、陽イオンまたは陰イオンの含量が0.01ないし1.0mol%になるようにも調節される。一実施例によれば、コア部及び中間層部の形成時、陰イオン含有化合物を利用し、シェル部形成時、陽イオン含有化合物を利用する。
陽イオンを含む化合物としては、陽イオンを含む塩または塩基であり、ボロン(B)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、ストロンチウム(Sr)、バリウム(Ba)、チタン(Ti)、バナジウム(V)、タングステン(W)、クロム(Cr)、鉄(Fe)、銅(Cu)、ジルコニウム(Zr)及びアルミニウム(Al)のうちから選択された1以上を含む塩化物、硫酸塩、シュウ酸塩、炭酸塩、水酸化物などを利用することができる。代案としては、陽イオンを含む酸化物を利用することができる。例えば、酸化タングステン(WO)などが使用されてもよい。
陰イオンを含む化合物としては、ホスフェート(PO)、BO、B、BまたはFのうちから選択された1以上を含むリン酸化物、酸化物、ハロゲン化物などを利用することができる。例えば、第1リン酸ナトリウム(NaHPO)、第2リン酸ナトリウム(NaHPO)などが使用されてもよい。
pH調節剤は、反応器内部において、金属イオンの溶解度を低くし、金属イオンが水酸化物として析出されるようにする役割を行う。該pH調節剤は、例えば、水酸化アンモニウム、水酸化ナトリウム(NaOH)、炭酸ナトリウム(NaCO)などである。該pH調節剤は、例えば、水酸化ナトリウム(NaOH)である。
該錯化剤は、共沈反応において、沈殿物の形成反応速度を調節する役割を行う。該錯化剤は、水酸化アンモニウム(NHOH;アンモニア水)、クエン酸、アクリル酸、酒石酸、グリコール酸などである。該錯化剤の含量は、一般的なレベルで使用される。該錯化剤は、例えば、アンモニア水である。
他の一具現例によるニッケル系活物質は、前述のニッケル系活物質前駆体から得られる。該ニッケル系活物質は、例えば、下記化学式3あるいは4で表示される化合物である。
[化学式3]
Li(Ni1−x−y−zCoMn)O2−αα
[化学式4]
Li(Ni1−x−y−zCoAl)O2−αα
前記化学式3及び4で、Mは、ボロン(B)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、ストロンチウム(Sr)、バリウム(Ba)、チタン(Ti)、バナジウム(V)、クロム(Cr)、鉄(Fe)、銅(Cu)、ジルコニウム(Zr)及びアルミニウム(Al)からなるグループのうちから選択される元素であり、0.95≦a≦1.3、x≦1−x−y−z、y≦1−x−y−z、0<x<1、0<y<1、0<z≦0.01、0<α≦0.01, Xは、PO、BO、B、B及びFからなるグループのうちから選択される1以上である。そのように、化学式3及び4のニッケル系活物質においては、ニッケルの含量がコバルトの含量に比べて多く、ニッケルの含量がマンガンまたはアルミニウムの含量に比べて多い。
化学式3及び4で、0.95≦a≦1.3、例えば、1.0≦a≦1.1である。例えば、化学式3及び4で、0.1≦x≦1/3、0<y≦0.5、0<z≦0.01、1/3≦1−x−y−z≦0.97及び0<α≦0.01である。例えば、化学式3及び4で、0.1≦x≦1/3、0.05≦y≦0.3、0<z≦0.01、1/3≦1−x−y−z≦0.97及び0<α≦0.01である。例えば、化学式3及び4で、0.1≦x≦1/3、0.05≦y≦0.3、0<z≦0.009、1/3≦1−x−y−z≦0.95及び0<α≦0.0013である。例えば、化学式3及び4で、0.1<x≦1/3、0.05≦y≦0.3、0<z≦0.009、0.33≦1−x−y−z≦0.95及び0<α≦0.0013である。
ニッケル系活物質において、例えば、ニッケルの含量は、遷移金属総含量を基準にし、33モル%ないし97モル%、33モル%ないし95モル%、例えば、50ないし90モル%、例えば、60ないし85モル%でもある。遷移金属総含量は、化学式3において、ニッケル、コバルト及びマンガンの総含量、または化学式4において、ニッケル、コバルト及びアルミニウムの総含量を示す。
該ニッケル系活物質は、例えば、Li(Ni0.6Co0.2Mn0.21−a2−αα、Li(Ni0.5Co0.2Mn0.31−a2−αα、Li(Ni0.7Co0.15Mn0.151−a2−αα、Li(Ni0.85Co0.1Al0.051−aMaO2−ααまたはLi(Ni0.91Co0.06Mn0.031−a2−ααであり、0<a<0.009、0<α≦0.0013であり、Mは、ボロン(B)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、ストロンチウム(Sr)、バリウム(Ba)、チタン(Ti)、バナジウム(V)、タングステン(W)、クロム(Cr)、鉄(Fe)、銅(Cu)、ジルコニウム(Zr)及びアルミニウム(Al)からなるグループのうちから選択される1以上の元素であり、Xは、PO、BO、B、B及びFからなるグループのうちから選択される1以上である。
該ニッケル系活物質は、リチウムが結晶構造内に配置され、水酸化物が酸化物に変更されたことを除いては、前述のニッケル系活物質前駆体と実質的に類似/同一である粒子の構造及び特性を有することができる。
該ニッケル系活物質は、例えば、コア部、コア部上に配置された中間層部、及び中間層部上に配置されたシェル部を具備する粒子状構造体を含み、該中間層部及び該シェル部は、コア部上に放射形に配置される一次粒子を具備し、前述のコア部、中間層部及びシェル部は、それぞれ異種の陽イオンまたは陰イオンを含み、該陽イオンは、ボロン(B)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、ストロンチウム(Sr)、バリウム(Ba)、チタン(Ti)、バナジウム(V)、クロム(Cr)、鉄(Fe)、銅(Cu)、ジルコニウム(Zr)及びアルミニウム(Al)のうちから選択された1以上であり、該陰イオンは、ホスフェート(PO)、BO、B、B及びFのうちから選択された1以上である。
該ニッケル系活物質は、例えば、粒子状構造体を複数個具備する二次粒子を含み、該粒子状構造体が、コア部、コア部上に配置された中間層部、及び中間層部上に配置されたシェル部を含み、前述のコア部、中間層部及びシェル部の気孔度が順次に低下し、前述の中間層部及びシェル部は、コア部上に放射形に配置される一次粒子を具備し、前述のコア部、中間層部及びシェル部は、それぞれ異種の陽イオンまたは陰イオンを含み、該陽イオンは、ボロン(B)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、ストロンチウム(Sr)、バリウム(Ba)、チタン(Ti)、バナジウム(V)、クロム(Cr)、鉄(Fe)、銅(Cu)、ジルコニウム(Zr)及びアルミニウム(Al)のうちから選択された1以上であり、該陰イオンは、ホスフェート(PO)、BO、B、B及びFのうちから選択された1以上である。
該ニッケル系活物質は、前述のコア部、中間層部及びシェル部にそれぞれ異種の陽イオンまたは陰イオンを含む。該陽イオンは、例えば、ニッケル陽イオンより大きいイオン半径を有する金属陽イオンである。そのような大きいイオン半径を有する金属陽イオンを含むことにより、結晶格子内において、陽イオン混合が抑制され、結果として、ニッケルイオンの溶出が抑制されるので、陽イオンを含む部分の構造的安定性が向上する。該陰イオンは、例えば、酸素に比べ、電気陰性度が高い陰イオンである。そのような電気陰性度が高い陰イオンを含むことにより、結晶格子内において、遷移金属層と陰イオン層との結合力が強化され、陰イオンを含む部分の構造的安定性が向上する。例えば、充放電時、リチウムの出入りによる陰イオン層の不安定性が低減され、酸素放出によるガス発生が抑制される。従って、該ニッケル系活物質は、高い放電容量と優秀な構造的安定性とを同時に提供する。
該ニッケル系活物質が含む陽イオンの含量は、例えば、該ニッケル系活物質全体に対し、0.9mol%以下、0.7mol%以下、0.5mol%以下、0.3mol%以下または0.28mol%以下である。例えば、該ニッケル系活物質が含む陽イオンの含量は、ニッケル系活物質全体に対し、0.0001ないし0.9mol%以下、0.001ないし0.7mol%以下、0.001ないし0.5mol%以下、0.001ないし0.3mol%、または0.001ないし0.28mol%である。陽イオンの含量が過度に増加すれば、シェル部内においてドーピングが困難になり、残留する不純物の含量が増加し、シェル部の気孔度がさらに上昇する。従って、そのようなニッケル系活物質を含むリチウム電池の体積容量が減少し、サイクル特性も低下する。
該ニッケル系活物質が含む陰イオンの含量は、例えば、ニッケル系活物質全体に対し、0.06mol%以下、0.05mol%以下、0.04mol%以下または0.03mol%以下である。該ニッケル系活物質が含む陰イオンの含量は、例えば、ニッケル系活物質全体に対し、0.0001ないし0.06mol%、0.001ないし0.05mol%、0.005ないし0.04mol%、0.01ないし0.03mol%である。
該ニッケル系活物質のシェル部が含む陽イオンの含量は、例えば、シェル部全体に対し、2.0mol%以下、1.8mol%以下、1.6mol%以下、1.4mol%以下、1.33mol%以下または0.41mol%以下である。例えば、ニッケル系活物質のシェル部が含む陽イオンの含量は、シェル部全体に対し、0.0001ないし2.0mol%以下、0.001ないし1.8mol%以下、0.001ないし1.6mol%以下、0.001ないし1.4mol%、0.001ないし1.33mol%、または0.001ないし0.41mol%である。
該ニッケル系活物質のコア部と中間層部との全体が含む陰イオンの含量は、例えば、コア部と中間層部との全体に対し、1.0mol%以下、0.8mol%以下、0.6mol%以下、0.4mol%以下または0.18mol%以下である。該ニッケル系活物質のコア部と中間層部との全体が含む陰イオンの含量は、コア部と中間層部との全体に対し、0.0001ないし1.0mol%以下、0.001ないし0.8mol%以下、0.001ないし0.6mol%以下、0.001ないし0.4mol%、または0.001ないし0.18mol%である。
該ニッケル系活物質の全体、該ニッケル系活物質のコア部、該ニッケル系活物質の中間層部、及び/またはニッケル系活物質のシェル部がそれぞれそのような範囲の陽イオンまたは陰イオンの含量を有することにより、該ニッケル系活物質の構造的安定性がさらに向上する。
該ニッケル系活物質前駆体からニッケル系活物質を製造する方法は、特別に限定されるものではなく、例えば、乾式でもある。
該ニッケル系活物質は、例えば、リチウム前駆体及びニッケル系活物質前駆体を一定モル比で混合し、それを600ないし800℃で一次熱処理する段階を含んで製造することができる。
該リチウム前駆体は、例えば、水酸化リチウム、フルオロ化リチウム、炭酸リチウム、またはその混合物を使用する。該リチウム前駆体と該ニッケル系活物質前駆体との混合比は、例えば、前記化学式2のニッケル系活物質を製造することができるように化学量論的に調節される。
該混合は、乾式混合でもあり、ミキサなどを利用した混合でもある。該乾式混合は、ミリングを利用して実施することができる。該ミリング条件は、特別に限定されるものではないが、出発物質として使用した前駆体の微粉化のような変形がほぼないように実施することができる。該ニッケル系活物質前駆体と混合するリチウム前駆体のサイズをあらかじめ制御することができる。該リチウム前駆体のサイズ(平均粒径)は、5ないし15μmの範囲、例えば、約10μmである。そのようなサイズを有するリチウム前駆体及びニッケル系活物質前駆体に対し、300ないし3,000rpmでミリングを実施することにより、要求される混合物を得ることができる。該ミリング過程において、ミキサ内部温度が30℃以上に上がる場合には、ミキサ内部温度を常温(25℃)範囲に維持するように冷却過程を経ることができる。
該一次熱処理は、酸化性ガス雰囲気下で実施される。該酸化性ガス雰囲気は、酸素または空気のような酸化性ガスを利用し、例えば、前記酸化性ガスは、酸素または空気の10ないし20体積%と、不活性ガス80〜90体積%とからなる。該一次熱処理は、リチウム前駆体及びニッケル系活物質前駆体の反応を進めながら、緻密化温度以下の範囲で実施することができる。該緻密化温度は、結晶化が十分になされ、活物質が提供することができる充電容量を具現することができる温度である。該一次熱処理は、例えば、600ないし800℃、具体的には、650ないし800℃で実施される。該一次熱処理時間は、熱処理温度などによって可変的であるが、例えば、3ないし10時間である。
該ニッケル系活物質の製造方法は、一次熱処理後、反応器内部から排気を抑制し、酸化性ガス雰囲気で行われる二次熱処理段階を追加することができる。該二次熱処理は、例えば、700ないし900℃で実施される。該二次熱処理時間は、二次熱処理温度などによって可変的であるが、例えば、3ないし10時間である。
ニッケル系活物質二次粒子の高温熱処理過程において、ジルコニウム(Zr)、チタン(Ti)、アルミニウム(Al)、マグネシウム(Mg)、タングステン(W)、リン(P)、ボロン(B)のうちから選択された1以上を含む異種元素化合物をさらに付加することができる。該異種元素化合物は、ジルコニウム(Zr)、チタン(Ti)、アルミニウム(Al)、マグネシウム(Mg)、タングステン(W)、リン(P)、ボロン(B)のうちから選択された1以上を含む化合物である。そのような異種元素化合物は、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウムなどである。該異種元素化合物は、リチウム(Li)と異種元素とを同時に含んでもよい。該異種元素化合物は、例えば、i)ジルコニウム(Zr)、チタン(Ti)、アルミニウム(Al)、マグネシウム(Mg)、タングステン(W)、リン(P)、ボロン(B)のうちから選択された1以上の酸化物、またはii)ジルコニウム(Zr)、チタン(Ti)、アルミニウム(Al)、マグネシウム(Mg)、タングステン(W)、リン(P)、ボロン(B)のうちから選択された1以上と、リチウムとを含む酸化物である。該異種元素化合物は、例えば、ZrO、Al、LiAlO、LiTiO、LiZrO、LiBO、LiPOなどである。そのような異種元素を含んだ化合物の含量は、ニッケル系活物質100重量部を基準にし、0.0005ないし0.01重量部である。該異種元素を含んだ酸化物の存在及び分布は、電子探針微量分析法(EPMA:electron probe micro-analysis)を介して確認可能である。
他の一具現例によるリチウム二次電池は、前述のリチウム二次電池用ニッケル系活物質を含む正極、負極、及びそれらの間に介在された電解質を含む。
該リチウム二次電池の製造方法は、特別に限定されるものではなく、当該技術分野において使用される方法であるならば、いずれも可能である。該リチウム二次電池は、例えば、下記の方法によっても製造される。
前述の正極及び負極は、集電体上に、正極活物質層形成用組成物及び負極活物質層形成用組成物をそれぞれ塗布して乾燥させて作製される。
正極活物質形成用組成物は、正極活物質、導電剤、バインダ及び溶媒を混合して製造されるが、前記正極活物質として、一具現例による正極活物質を利用する。
該バインダは、活物質と導電剤との結合、及び活物質と集電体との結合に一助となる成分であり、正極活物質の総重量100重量部を基準に、1ないし50重量部添加される。そのようなバインダの非制限的な例としては、ポリフッ化ビニリデン、ポリビニルアルコール、カルボキシメチルセルロース(CMC)、澱粉、ヒドロキシプロピルセルロース、再生セルロース、ポリビニルピロリドン、テトラフルオロエチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン−ジエンターポリマー(EPDM)、スルホン化EPDM、スチレンブチレンゴム、フッ素ゴム、多様な共重合体などを挙げることができる。
該導電剤としては、当該電池に化学的変化を誘発させずに、導電性を有したものであるならば、特別に制限されるものではなく、例えば、天然黒鉛や人造黒鉛などの黒鉛;カーボンブラック、アセチレンブラック、ケッチェンブラック、チャネルブラック、ファーネスブラック、ランプブラック、サーマルブラックのようなカーボン系物質;炭素ファイバや金属ファイバなどの導電性ファイバ;フッ化カーボン、アルミニウム、ニッケル粉末などの金属粉末;酸化亜鉛、チタン酸カリウムなどの導電性ウィスカ;酸化チタンなどの導電性金属酸化物;ポリフェニレン誘導体などの導電性素材などが使用される。
該溶媒の非制限的な例として、N−メチルピロリドンなどを使用する。
前述のバインダ、導電剤及び溶媒の含量は、一般的なレベルである。
該正極集電体は、3ないし500μmの厚みであり、当該電池に化学的変化を誘発させず、高い導電性を有するものであるならば、特別に制限されるものではなく、例えば、ステンレススチール、アルミニウム、ニッケル、チタン、熱処理炭素、またはアルミニウムやステンレススチールの表面にカーボン・ニッケル・チタン・銀などで表面処理したものなどが使用される。該集電体は、その表面に微細な凹凸を形成し、正極活物質の接着力を高めることもでき、フィルム、シート、ホイル、ネット、多孔質体、発泡体、不織布体など多様な形態が可能である。
それと別途に、負極活物質、バインダ、導電剤、溶媒を混合し、負極活物質層形成用組成物を準備する。該負極活物質は、リチウムイオンを吸蔵及び放出することができる物質が使用される。前記負極活物質の非制限的な例として、黒鉛のような炭素系材料、リチウム金属及びその合金、シリコンオキサイド系物質などを使用することができる。
該バインダは、負極活物質の総重量100重量部を基準に、1ないし50重量部添加される。そのようなバインダの非制限的な例としては、正極と同一種類を使用することができる。
該導電剤は、負極活物質の総重量100重量部を基準にし、1ないし5重量部を使用する。該導電剤の含量が前記範囲であるとき、最終的に得られた電極の伝導度特性にすぐれる。
該溶媒の含量は、負極活物質の総重量100重量部を基準にし、1ないし10重量部を使用する。該溶媒の含量が前記範囲であるとき、負極活物質層を形成するための作業が容易である。
該導電剤及び該溶媒としては、正極製造時と同一種類の物質を使用することができる。
負極集電体は、一般的に、3ないし500μm厚に作られる。そのような負極集電体は、当該電池に化学的変化を誘発させず、導電性を有したものであるならば、特別に制限されるものではなく、例えば、銅、ステンレススチール、アルミニウム、ニッケル、チタン、熱処理炭素、銅やステンレススチールの表面をカーボン・ニッケル・チタン・銀などで表面処理したもの、アルミニウム・カドミウム合金などが使用される。また、正極集電体と同様に、表面に微細な凹凸を形成し、負極活物質の結合力を強化させることもでき、フィルム、シート、ホイル、ネット、多孔質体、発泡体、不織布体など多様な形態で使用され得る。
そのような過程によって作製された正極と負極との間にセパレータを介在させる。
該セパレータは、気孔径が0.01〜10μmであり、厚みは、一般的に、5〜300μmであるものを使用する。具体的な例として、ポリプロピレン、ポリエチレンなどのオレフィン系ポリマー、またはガラスファイバによって作られたシートや不織布などが使用される。電解質として、ポリマーなどの固体電解質が使用される場合には、固体電解質がセパレータを兼ねることもできる。
リチウム塩含有非水系電解質は、非水電解液とリチウム塩とからなっている。該非水電解質としては、非水電解液、有機固体電解質、無機固体電解質などが使用される。
該非水電解液としては、非制限的な例を挙げれば、N−メチル−2−ピロリジノン、プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、ブチレンカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ガンマ−ブチロラクトン、1,2−ジメトキシエタン、2−メチルテトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、1,3−ジオキソラン、N,N−ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、ニトロメタン、ホルム酸メチル、酢酸メチル、リン酸トリエステル、トリメトキシメタン、ジオキソラン誘導体、スルホラン、メチルスルホラン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、プロピレンカーボネート誘導体、テトラヒドロフラン誘導体、エーテル、ピロピオン酸メチル、プロピオン酸エチルなどの非プロトン性有機溶媒が使用される。
該有機固体電解質としては、非制限的な例を挙げれば、ポリエチレン誘導体、ポリエチレンオキサイド誘導体、ポリプロピレンオキサイド誘導体、リン酸エステルポリマー、ポリエステルスルフィド、ポリビニルアルコール、ポリフッ化ビニリデンなどが使用される。前記無機固体電解質としては、非制限的な例を挙げれば、LiN、LiI、LiNI、LiN−LiI−LiOH、LiSiS、LiSiO、LiSiO−LiI−LiOH、LiPO−LiS−SiSなどが使用される。
該リチウム塩は、前記非水系電解質に溶解されやすい物質であり、非制限的な例を挙げれば、LiCl、LiBr、LiI、LiClO、LiBF、LiB10Cl10、LiPF、LiCFSO、LiCFCO、LiAsF、LiSbF、LiAlCl、CHSOLi、 (CFSONLi、(FSONLi、リチウムクロロボレート、低級脂肪族カルボン酸リチウム、テトラフェニルホウ酸,リチウムイミドなどが使用される。
図4は、一具現例によるリチウム二次電池の代表的な構造を概略的に図示した断面図である。図4を参照すれば、リチウム二次電池1は、正極3、負極2及びセパレータ4を含む。前述の正極3、負極2及びセパレータ4が巻き取られたり、折り畳まれたりし、電池ケース5に収容される。次に、前記電池ケース5に有機電解液が注入され、キャップ(cap)アセンブリ6に密封され、リチウム二次電池1が完成される。前記電池ケース5は、円筒状、角形、薄膜型などでもある。例えば、前記リチウム二次電池1は、大型薄膜型電池でもある。前記リチウム二次電池は、リチウムイオン電池でもある。
正極及び負極の間にセパレータが配置され、電池構造体が形成される。前記電池構造体がバイセル構造に積層された後、有機電解液に含浸され、得られた結果物がパウチに収容されて密封されれば、リチウムイオンポリマー電池が完成される。また、前記電池構造体は、複数個積層され、電池パックを形成し、そのような電池パックが、高容量及び高出力が要求される全ての機器に使用される。例えば、ノート型パソコン、スマートフォン、電気車両(EV:electric vehicle)などにも使用される。また、前記リチウム二次電池は、高温において、保存安定性、寿命特性及び高率特性にすぐれるので、電気車両にも使用される。例えば、プラグインハイブリッド車(PHEV:plug-in hybrid electric vehicle)などのハイブリッド車両にも使用される。
以下の実施例及び比較例を介して、さらに詳細に説明する。ただし、該実施例は、例示するためのものであり、それらだけに限定されるものではない。
製造例1:ニッケル系活物質前駆体の製造(コア/中間/シェル=P/P/W)
共沈法を介して、ニッケル系活物質前駆体を合成した。下記製造過程において、ニッケル系活物質前駆体を形成する金属原料としては、硫酸ニッケル(NiSO・6HO)、硫酸コバルト(CoSO・7HO)及び硫酸マンガン(MnSO・HO)を、Ni:Co:Mn=70:15:15のモル比率で、溶媒である蒸留水に溶かし、混合溶液を準備した。また、錯化合物形成のために、錯化剤として、アンモニア水(NHOH)、ホスフェート含有化合物として、第2リン酸ナトリウム(NaHPO)水溶液、タングステン含有化合物として、水酸化ナトリウム水溶液に溶解された酸化タングステン(WO2)、及び沈澱剤とpH調節剤として水酸化ナトリウム(NaOH)を準備した。
[第1段階:3.0kW/m、NH・HO 0.50M、pH11.0ないし11.5、反応時間6時間]
撹拌器が付着された反応器に、濃度が0.50Mであるアンモニア水を入れた。撹拌動力3.0kW/m、反応温度50℃を維持しながら、2mol/L (M) 金属原料(硫酸ニッケル、硫酸コバルト及び硫酸マンガンの混合溶液)を4.3ml/minの速度、0.50M アンモニア水を0.7ml/minの速度、そして第2リン酸ナトリウム(disodium phosphate)水溶液を1.6ml/minの速度でそれぞれ投入しながら、反応を始めた。続けて、pHを維持するために、NaOHを投入した。反応器内の反応混合物のpHは、11.00〜11.50に維持した。そのようなpH範囲で6時間撹拌し、第1段階反応を実施した。反応結果として得られたコア粒子の平均サイズが、約8ないし9μmの範囲であることを確認した。コア部製造に使われた第2リン酸ナトリウム溶液の濃度は生成される前駆体で要求される含量の半分を提供するように決まった。
[第2段階:2.5kW/m、NH・HO 0.55M、pH10.5〜11、反応時間13時間]
第1段階反応を実施した後、反応器内撹拌動力を2.5kW/mで低減させ、反応温度50℃を維持しながら、2 mol/L (M) 金属原料を5.38ml/minの速度、0.55M アンモニア水を0.9ml/minの速度、そして第2リン酸ナトリウム水溶液を2.0ml/minの速度にそれぞれ変更して投入した。このとき、錯化剤の濃度が0.55Mに維持されるようにした。pHを維持するために、NaOHを投入した。反応器内の反応混合物のpHは、10.50〜11.00に維持した。そのようなpH範囲で13時間撹拌し、第2段階反応を実施した。そのような反応を実施して得られたコア部及び中間層部を含んだ生成物粒子の平均サイズが11ないし12μmであることを確認した。中間層部製造に使われた第2リン酸ナトリウム溶液の濃度は生成される前駆体で要求される含量の半分を提供するように決まった。
[第3段階:2.0kW/m、NH・HO 0.60M、pH10.5〜11、反応時間12時間]
第2段階反応を実施した後、反応器において、反応生成物体積の半分を除去し、反応器内反応生成物の含量を50vol%に希釈した。反応器内撹拌動力を2.0kW/mに低減させ、反応温度50℃を維持しながら、2 mol/L (M) 金属原料を4.3ml/minの速度、0.60M アンモニア水を0.8ml/minの速度、そして酸化タングステン(WO)水溶液を1.6ml/minの速度にそれぞれ変更して投入した。このとき、錯化剤の濃度が0.60Mに維持されるようにした。pHを維持するために、NaOHを投入した。反応器内の反応混合物のpHは、10.50〜11.00に維持した。そのようなpH範囲で12時間撹拌し、第3段階反応を実施した。生成物粒子のD50が目標値である13ないし14μmに達したことを確認した。シェル部製造に使われたタングステンの含量は生成される前駆体で要求される含量を提供するように決まった。
[後工程]
生成物粒子から不要なイオンを除去するために洗浄した後、洗浄された結果物を、約150℃で24時間熱風乾燥させ、ニッケル系活物質前駆体を得た。
ニッケル系活物質前駆体全体においてホスフェートの含量は、0.06mol%であり、タングステンの含量は、0.28mol%であった。 ニッケル系活物質前駆体のシェル部においてホスフェートの含量は、0mol%であり、タングステンの含量は、0.41mol%であり、ニッケル系活物質前駆体のコア部及び中間層部の全体においてホスフェートの含量は、0.18mol%であり、タングステンの含量は、0mol%であった。
製造例2:ニッケル系活物質前駆体の製造(コア/中間/シェル=P/P/W)
シェル部の製造時、タングステンの添加量を、ニッケル系活物質前駆体全体の3.7mol%に変更したことを除いては、製造例1と同一方法によって実施し、ニッケル系活物質前駆体を製造した。
合成されたニッケル系活物質前駆体全体において分析されたホスフェートの含量は、0.06mol%であり、タングステン(W)含量は、0.9mol%であった。従って、過量のタングステンを添加しても、シェル部に含まれるタングステンの含量は、ニッケル系活物質前駆体全体を基準に、0.9mol%であることを確認した。 ニッケル系活物質前駆体のシェル部においてホスフェートの含量は、0mol%であり、タングステンの含量は、1.33mol%であり、ニッケル系活物質前駆体のコア部及び中間層部の全体においてホスフェートの含量は、0.18mol%であり、タングステンの含量は、0mol%であった。
比較製造例1:ニッケル系活物質前駆体の製造(コア/中間/シェル=0/0/0)
製造例1と同一原料を使用し、後述する共沈法を介して、ニッケル系活物質前駆体を合成した。
[第1段階:3.0kW/m、NH 0.35M、pH11.0ないし11.5、反応時間6時間]
錯化剤(アンモニア水)の濃度が0.35Mになるように変更し、ホスフェートを含んだ化合物を添加しないことを除いては、製造例1と同一方法で、第1段階反応を遂行した。
[第2段階:2.5kW/m、NH 0.40M、pH10.5ないし11.0、反応時間21時間]
錯化剤(アンモニア水)の濃度が0.40Mになるように変更し、ホスフェートを含んだ化合物を添加せず、反応時間を21時間に変更したことを除いては、製造例1と同一方法で、第2段階反応を遂行した。
[第3段階:2.0kW/m、NH 0.40M、pH10.5ないし11.0、反応時間23時間]
第2段階反応を実施した後、反応器において、反応生成物体積の半分を除去し、反応器内反応生成物の含量を50vol%に希釈した。反応器内撹拌動力を、2.0kW/mに低減させ、反応温度50℃を維持しながら、金属原料を7.2ml/minの速度、アンモニア水を0.8ml/minの速度にそれぞれ変更して投入した。このとき、錯化剤(アンモニア水)の濃度が0.40Mに維持されるようにした。pHを維持するために、NaOHを投入した。反応器内の反応混合物のpHは、10.50〜11.00に維持した。そのようなpH範囲で23時間撹拌し、第3段階反応を実施した。生成物粒子のD50が、目標値である13ないし14μmに達したことを確認した。
[後工程]
製造例1と同一方法で後工程を実施した。
合成された前駆体において分析されたホスフェートの含量は、0mol%であり、タングステン(W)含量は、0mol%であった。
比較製造例2:ニッケル系活物質前駆体の製造(コア/中間/シェル=W/W/W)
製造例1と同一原料を使用し、後述する共沈法を介して、ニッケル系活物質前駆体を合成した。
[第1段階:3.0kW/m、NH 0.35M、pH11.0ないし11.5、反応時間6時間]
錯化剤(アンモニア水)の濃度が0.35Mになるように変更し、ホスフェートを含んだ化合物の代わりに、酸化タングステン水溶液を0.5ml/minの速度で投入したことを除いては、製造例1と同一方法で、第1段階反応を遂行した。コア部製造に使われたタングステンの 含量 は生成される前駆体で要求される含量を提供するように決まった。
[第2段階:2.5kW/m、NH 0.40M、pH10.5ないし11.0、反応時間21時間]
錯化剤(アンモニア水)の濃度が0.40Mになるように変更し、ホスフェートを含んだ化合物の代わりに、酸化タングステン水溶液を0.7ml/minの速度で添加し、反応時間を21時間に変更したことを除いては、製造例1と同一方法で、第2段階反応を遂行した。中間層部製造に使われたタングステンの含量は生成される前駆体で要求される含量を提供するように決まった。
[第3段階:2.0kW/m、NH 0.40M、pH10.5ないし11.0、反応時間23時間]
第2段階反応を実施した後、反応器において、反応生成物体積の半分を除去し、反応器内反応生成物の含量を50vol%に希釈した。反応器内撹拌動力を2.0kW/mに低減させ、反応温度50℃を維持しながら、金属原料を7.2ml/minの速度、アンモニア水を0.8ml/minの速度、そして酸化タングステン水溶液を0.9ml/minの速度にそれぞれ変更して投入した。このとき、錯化剤(アンモニア水)の濃度が0.40Mに維持されるようにした。pHを維持するために、NaOHを投入した。反応器内の反応混合物のpHは、10.50〜11.00に維持した。そのようなpH範囲で23時間撹拌し、第3段階反応を実施した。生成物粒子のD50が、目標値である13ないし14μmに達したことを確認した。シェル部製造に使われたタングステンの含量は生成される前駆体で要求される含量を提供するように決まった。
[後工程]
製造例1と同一方法で後工程を実施した。
合成された前駆体において分析されたホスフェートの含量は、0mol%であり、タングステン(W)含量は、0.1mol%であった。
比較製造例3:ニッケル系活物質前駆体の製造(コア/中間/シェル=P/P/P)
製造例1と同一原料を使用し、後述する共沈法を介して、ニッケル系活物質前駆体を合成した。
[第1段階:3.0kW/m、NH 0.35M、pH11.0ないし11.5、反応時間6時間]
錯化剤(アンモニア水)の濃度が0.35Mになるように変更し、第2リン酸ナトリウム水溶液を0.7ml/minの速度で投入したことを除いては、製造例1と同一方法で、第1段階反応を遂行した。コア部製造に使われた第2リン酸ナトリウム溶液の濃度は生成される前駆体で要求される含量を提供するように決まった。
[第2段階:2.5kW/m、NH 0.40M、pH10.5ないし11.0、反応時間21時間]
錯化剤(アンモニア水)の濃度が0.40Mになるように変更し、第2リン酸ナトリウム水溶液を0.9ml/minの速度で添加し、反応時間を21時間に変更したことを除いては、製造例1と同一方法で、第2段階反応を遂行した。中間層部製造に使われた第2リン酸ナトリウム溶液の濃度は生成される前駆体で要求される含量を提供するように決まった。
[第3段階:2.0kW/m、NH 0.40M、pH10.5ないし11.0、反応時間23時間]
第2段階反応を実施した後、反応器において、反応生成物体積の半分を除去し、反応器内反応生成物の含量を50vol%に希釈した。反応器内撹拌動力を2.0kW/mに低減させ、反応温度50℃を維持しながら、金属原料を7.2ml/minの速度、アンモニア水を0.8ml/minの速度、そして第2リン酸ナトリウム水溶液を1.2ml/minの速度にそれぞれ変更して投入した。このとき、錯化剤(アンモニア水)の濃度が0.40Mに維持されるようにした。pHを維持するために、NaOHを投入した。反応器内の反応混合物のpHは、10.50〜11.00に維持した。そのようなpH範囲で23時間撹拌し、第3段階反応を実施した。生成物粒子のD50が、目標値である13ないし14μmに達したことを確認した。シェル部製造に使われた第2リン酸ナトリウム溶液の濃度は生成される前駆体で要求される含量を提供するように決まった。
[後工程]
製造例1と同一方法で後工程を実施した。
合成された前駆体において分析されたホスフェートの含量は、0.13mol%であり、タングステン(W)含量は、0mol%であった。
実施例1:ニッケル系活物質の製造
製造例1によって製造されたニッケル系活物質前駆体である複合金属ヒドロキシド及び水酸化リチウム(LiOH)を、1:1モル比で混合し、酸素雰囲気において、約780℃で6時間一次熱処理を実施し、ニッケル系活物質二次粒子(ニッケル系活物質中間体)を得た。そのように得た二次粒子を解砕し、酸素雰囲気で、約740℃で6時間二次熱処理を実施し、コア部、中間層部及びシェル部を含む三重構造を有するニッケル系活物質二次粒子を得た。
ニッケル系活物質全体においてホスフェートの含量は、0.06mol%であり、タングステンの含量は、0.28mol%であった。
ニッケル系活物質のシェル部においてホスフェートの含量は、0mol%であり、タングステンの含量は、0.41mol%であり、ニッケル系活物質のコア部及び中間層部の全体においてホスフェートの含量は、0.18mol%であり、タングステンの含量は、0mol%であった。
実施例2:ニッケル系活物質の製造
製造例1のニッケル系活物質前駆体の代わりに、製造例2のニッケル系活物質前駆体を使用したことを除いては、実施例1と同一方法によって実施し、ニッケル系活物質を製造した。
ニッケル系活物質においてホスフェートの含量は、0.06mol%であり、タングステンの含量は、0.9mol%であった。
ニッケル系活物質のシェル部においてホスフェートの含量は、0mol%であり、タングステンの含量は、1.33mol%であり、ニッケル系活物質のコア部及び中間層部の全体においてホスフェートの含量は、0.18mol%であり、タングステンの含量は、0mol%であった。
比較例1:ニッケル系活物質の製造
製造例1によって製造されたニッケル系活物質前駆体の代わりに、比較製造例1によって製造されたニッケル系活物質前駆体をそれぞれ使用したことを除いては、実施例1と同一方法によって実施し、ニッケル系活物質二次粒子を得た。
ニッケル系活物質において分析されたホスフェートの含量は、0mol%であり、タングステン(W)含量は、0mol%であった。
比較例2:ニッケル系活物質の製造
製造例1によって製造されたニッケル系活物質前駆体の代わりに、比較製造例2によって製造されたニッケル系活物質前駆体をそれぞれ使用したことを除いては、実施例1と同一方法によって実施し、ニッケル系活物質二次粒子を得た。
ニッケル系活物質において分析されたホスフェートの含量は、0mol%であり、タングステン(W)含量は、0.1mol%であった。
比較例3:ニッケル系活物質の製造
製造例1によって製造されたニッケル系活物質前駆体の代わりに、比較製造例3によって製造されたニッケル系活物質前駆体をそれぞれ使用したことを除いては、実施例1と同一方法によって実施し、ニッケル系活物質二次粒子を得た。
ニッケル系活物質において分析されたホスフェートの含量は、0.13mol%であり、タングステン(W)含量は、0mol%であった。
製作例1:コインハーフセル
正極活物質として、実施例1によって得たニッケル系活物質二次粒子を利用し、コインハーフセルを次のように製造した。
実施例1によって得たニッケル系活物質二次粒子96g、ポリフッ化ビニリデン2g、溶媒であるN−メチルピロリドン47g、導電剤であるカーボンブラック2gの混合物に対して、ミキサ機を利用して気泡を除去し、均一に分散された正極活物質層形成用スラリーを製造した。
前記過程によって製造されたスラリーを、ドクターブレードを使用し、アルミニウム箔上にコーティングし、薄極板形態にした後、それを135℃で3時間以上乾燥させた後、圧延し、真空乾燥過程を経て正極を作製した。
前記正極、及び対向電極としてのリチウム金属対極を使用し、2032タイプのコインハーフセル(coin cell)を製造した。前記正極とリチウム金属対極との間には、多孔質ポリエチレン(PE)フィルムからなるセパレータ(厚み:約16μm)を介在させ、電解液を注入し、2032型コインハーフセルを作製した。前記電解液として、エチレンカーボネート(EC)とエチルメチルカーボネート(EMC)とを、3:5の体積比で混合した溶媒に溶解された1.1M LiPFが含まれた溶液を使用した。
比較製作例1:コインハーフセルの製造
実施例1によって製造されたニッケル系活物質の代わりに、比較例1によって製造されたニッケル系活物質をそれぞれ使用したことを除いては、製作例1と同一方法によってリチウム二次電池を作製した。
比較製作例2:コインハーフセルの製造
実施例1によって製造されたニッケル系活物質の代わりに、比較例2によって製造されたニッケル系活物質をそれぞれ使用したことを除いては、製作例1と同一方法によってリチウム二次電池を作製した。
比較製作例3:コインハーフセルの製造
実施例1によって製造されたニッケル系活物質の代わりに、比較例3によって製造されたニッケル系活物質をそれぞれ使用したことを除いては、製作例1と同一方法によってリチウム二次電池を作製した。
評価例1:粒度分析
製造例1、及び比較製造例1ないし3によって得たニッケル系活物質前駆体の粒度分析を実施した。粒度分析結果は、表1に示されている通りである。下記表1において、D10、D50、D90は、それぞれ粒子の粒径を測定し、小さい粒子から体積を累積する場合、10%、50%及び90%に該当する粒径を意味する。すなわち、類似した粒度分布に製造されたことを確認することができる。
評価例2: 組成分析(活物質前駆体)
製造例1及び2、及び比較製造例1ないし3によって製造されたニッケル系活物質前駆体の組成を調査し、下記表2に示した。該組成は、ICPを利用して分析した。
表2を参照すれば、製造例1及び2のニッケル系活物質前駆体にドーピングされた陽イオン及び陰イオンの組成を確認することができた。
製造例1及び2のニッケル系活物質前駆体では、陽イオン及び陰イオンが同時にドーピングされ、比較製造例1においては、ドーピングされておらず、比較製造例2においては、陽イオンがドーピングされ、比較製造例3においては、陰イオンがドーピングされたということを確認した。コア部及び中間層部の全体の含量は、それらの領域全体体積を基準とする陽イオン/陰イオンの含量であり、シェル部の含量は、シェル部体積を基準とする陽イオン/陰イオンの含量であり、ニッケル系活物質前駆体全体での含量は、ニッケル系活物質前駆体全体体積を基準とする陽イオン/陰イオンの含量である。
評価例3:残留リチウム分析(活物質)
実施例1、比較例1ないし3で準備されたニッケル系活物質それぞれに対し、下記の方法で残留リチウムを分析した。
試料10gを蒸留水100mlと混合し、300rpmで30分間撹拌した。混合液からフィルタリングした液50mlを分取し、純水100mlと混ぜ、塩酸溶液で滴定した。
塩酸注入によるEP1(equivalence point 1)とEP2(equivalence point 2)とから炭酸リチウムと水酸化リチウムとの量を計算し、EP2(equivalence point 2)から総残留リチウムを計算した。
表3から、添加剤がない比較例1より、リン酸塩がシェル部まである比較例3において、残留リチウム含量が急増することを確認した。一方、タングステンがシェル部にある実施例1及び比較例2は、残留リチウム含量が減少し、タングステンの濃度が高い比較例2の残留リチウム含量が最も少なかった。それにより、シェル部にタングステンが存在すれば、残留リチウムが減少するということを確認した。
残留リチウム含量が3,000ppm以上に増加すれば、電池作動時、ガス発生が急増する。
評価例4:活物質粒子の構造分析
実施例1及び実施例2で製造されたニッケル系活物質の断面に対するSEM(scanning electron microscope)イメージを測定し、その結果を図2A及び図2Bにそれぞれ示した。
図2Aを参照すれば、実施例1で製造されたニッケル系活物質は、図面左側下端の多孔性コア、多孔性コア上に配置された配向性がある中間層、及び中間層上に配置された配向性があるシェルを含んでいる。
図2Bを参照すれば、実施例2で製造されたニッケル系活物質は、図面左側下端の配向性中間層、及び前記配向性中間層上に配置された配向性シェルを含み、シェル部の多孔性が上昇し、密度が低下するということを確認した。
図2Aから分かるように、実施例1で製造されたニッケル系活物質において、多孔性コア上に配置された中間層及びシェルは、放射形配列構造を有し、コアに比べ、気孔度が低かった。
図2Bから分かるように、実施例2で製造されたニッケル系活物質において、シェルは、中間層に比べて気孔度が高かった。図面に図示されていないが、多孔性コアも、中間層に比べて気孔度が高かった。従って、タングステンの含量が増加する場合、気孔度が上昇するということを確認した。
図2C及び図2Dから分かるように、実施例2で製造されたニッケル系活物質の表面は、活物質粒子の内部から表面に連結された開気孔(open pore)を含むということが分かる。
図面に図示されていないが、図2A及び図2Bの活物質粒子にそれぞれ対応する活物質前駆体粒子の構造も、活物質粒子の構造と類似している。
実施例2及び比較例2で製造されたニッケル系活物質の断面に対するHAADF(high-angle annular dark field image)STEM(scanning transmission electron. microscopy)イメージ及びEDS(energy dispersive X-ray spectrometry)イメージを測定し、その結果を図3A及び図3Bに示した。
図3Aから分かるように、実施例2のニッケル系活物質においては、シェルのタングステン(W)の濃度が濃く示され、図3Bから分かるように、比較例2のニッケル系活物質においては、粒子全体において、タングステン(W)の濃度が均一に示されている。
従って、実施例2のニッケル系活物質においては、シェルにタングステン(W)がドーピングされ、比較例2のニッケル系活物質においては、粒子全体において、タングステン(W)がドーピングされたことを確認した。従って、活物質前駆体の製造時、ドーピングされた陽イオン/陰イオンが、粒子内に拡散及び/または混合されず、前駆体の構造内、及びそれによって製造された活物質の構造内において、初期濃度分布をそのまま維持していることを確認した。
評価例5:高温(45℃)寿命特性
製作例1、及び比較製作例1ないし3によって製造されたコインハーフセルにおいて、高温寿命特性を下記方法によって評価した。
製作例1、及び比較製作例1ないし3によって作製されたコインハーフセルに対し、常温で0.1Cで1回充放電を行い、化成(formation)を進め、その後、0.2C充放電1回で初期充放電特性を確認し、45℃、1Cで50回充放電を反復しながら、サイクル特性を調べた。充電時には、CC(constant current)モードで始め、その後、CV(constant voltage)に変え、4.3V、0.05Cでカットオフされるようにセッティングを行い、放電時には、CCモードにおいて、3.0Vでカットオフされるようにセッティングした。サイクル反復による放電容量変化を調査し、下記数式1によって高温寿命を計算し、結果の一部を下記表4に示した。
[数式1]
寿命(%)=(50サイクル後の放電容量/1サイクル後の放電容量)X100
表4を参照すれば、製作例1のコインハーフセルは、比較製作例1及び3の場合と比較し、コインハーフセルの高温寿命が改善されるということが分かった。
評価例6:充放電特性(初期効率及び容量)
製作例1、及び比較製作例1ないし3によって製造されたコインハーフセルにおいて、まず、0.1Cで1回充放電を実施し、化成を進めた。その後、0.2C充放電1回(最初サイクル)で初期充放電特性を確認し、初期放電容量を確認した。充電時には、CCモードで始め、その後、CVに変え、4.35V、0.05Cでカットオフされるようにセッティングを実施し、放電時には、CCモードで3.0Vでカットオフされるようにセッティングした。
初期効率(I.C.E:initial charge efficiency)は、下記数式2によって測定した。
[数式2]
初期効率[%]=[最初サイクル放電容量/最初サイクル充電容量]X100
製作例1、及び比較製作例1ないし3によるコインハーフセルにおいて、初期効率及び初期放電容量を測定し、その結果を下記表5に示した。初期放電容量は、初期効率測定時の放電容量である。
表5を参照すれば、製作例1のコインハーフセルは、比較製作例1ないし3のコインハーフセルと比較し、初期充放電効率が向上し、放電容量が増加したことを確認することができた。
評価例7:高率特性評価
製作例1、及び比較製作例1ないし3のコインハーフセルに対し、定電流(0.2C)及び定電圧(4.3V、0.05Cカットオフ)条件で充電させた後、10分間休止(rest)し、0.1Cの定電流条件下で、3.0Vになるまで放電させた。前記サイクルを3回反復した。
4回目サイクルにおいて、定電流(0.2C)及び定電圧(4.3V、0.05Cカットオフ)条件で充電させた後、10分間休止し、0.2Cの定電流条件下で、3.0Vになるまで放電させた。
5回目サイクルにおいて、定電流(0.2C)及び定電圧(4.3V、0.05Cカットオフ)条件で充電させた後、10分間休止し、0.33Cの定電流条件下で、3.0Vになるまで放電させた。
6回目サイクルにおいて、定電流(0.2C)及び定電圧(4.3V、0.05Cカットオフ)条件で充電させた後、10分間休止し、0.5Cの定電流条件下で、3.0Vになるまで放電させた。
7回目サイクルにおいて、定電流(0.2C)及び定電圧(4.3V、0.05Cカットオフ)条件で充電させた後、10分間休止し、1.0Cの定電流条件下で、3.0Vになるまで放電させた。
8回目サイクルにおいて、定電流(0.2C)及び定電圧(4.3V、0.05Cカットオフ)条件で充電させた後、10分間休止し、2.0Cの定電流条件下で、3.0Vになるまで放電させた。
9回目サイクルにおいて、定電流(0.2C)及び定電圧(4.3V、0.05Cカットオフ)条件で充電させた後、10分間休止し、3.0Cの定電流条件下で、3.0Vになるまで放電させた。
コインハーフセルの高率放電特性(rate capability)を下記数式3から計算した。
[数式3]
高率放電特性(%)=[1Cでの放電容量/0.1Cでの放電容量]X100
各サイクルでの放電容量及び高率放電特性の一部を、下記表6に示した。
表6を参照すれば、製作例1のコインハーフセルは、比較製作例1ないし3のコインハーフセルに比べて向上した放電容量及び高率特性を示した。
以上では、図面及び実施例を参照し、一具現例について説明したが、それらは、例示的なものに過ぎず、当該技術分野で当業者であるならば、それらから、多様な変形、及び均等な他の具現例が可能であるという点を理解することができるであろう。従って、本発明の保護範囲は、特許請求の範囲によって決まらなければならないのである。
本発明の、リチウム二次電池用ニッケル系活物質前駆体、その製造方法、そこから形成されたリチウム二次電池用ニッケル系活物質、及びそれを含む正極を含んだリチウム二次電池は、例えば、電源関連の技術分野に効果的に適用可能である。
1 リチウム二次電池
2 負極
3 正極
4 セパレータ
5 電池ケース
6 キャップアセンブリ
10 コア部
20 中間層部
30 シェル部
40 一次粒子
41 粒子の長軸
100 粒子状構造体

Claims (25)

  1. コア部、前記コア部上に配置された中間層部、及び前記中間層部上に配置されたシェル部を具備する粒子状構造体を含み、
    前記中間層部及び前記シェル部は、コア部上に放射形に配置される一次粒子を具備し、
    前述のコア部、中間層部及びシェル部は、それぞれ異種の陽イオンまたは陰イオンを含み、
    前記陽イオンは、ボロン(B)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、ストロンチウム(Sr)、バリウム(Ba)、チタン(Ti)、バナジウム(V)、タングステン(W)、クロム(Cr)、鉄(Fe)、銅(Cu)、ジルコニウム(Zr)及びアルミニウム(Al)のうちから選択された1以上であり、
    前記陰イオンは、ホスフェート(PO)、BO、B、B及びFのうちから選択された1以上であるリチウム二次電池用ニッケル系活物質前駆体。
  2. 前記シェル部は、ボロン(B)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、ストロンチウム(Sr)、バリウム(Ba)、チタン(Ti)、バナジウム(V)、タングステン(W)、クロム(Cr)、鉄(Fe)、銅(Cu)、ジルコニウム(Zr)及びアルミニウム(Al)のうちから選択された1以上の陽イオンを含むことを特徴とする請求項1に記載のリチウム二次電池用ニッケル系活物質前駆体。
  3. 前記陽イオンの含量は、0.9mol%以下であることを特徴とする請求項1に記載のリチウム二次電池用ニッケル系活物質前駆体。
  4. 前記コア部及び前記中間層部は、ホスフェート(PO)、BO、B、B及びFのうちから選択された1以上の陰イオンを含むことを特徴とする請求項1に記載のリチウム二次電池用ニッケル系活物質前駆体。
  5. 前記陰イオンの含量は、0.06mol%以下であることを特徴とする請求項1に記載のリチウム二次電池用ニッケル系活物質前駆体。
  6. 前記コア部の気孔度に比べ、前記中間層部及び前記シェル部の気孔度がさらに低いか、または
    前記中間層部の気孔度に比べ、前記コア部及びシェル部の気孔度がさらに高いことを特徴とする請求項1に記載のリチウム二次電池用ニッケル系活物質前駆体。
  7. 前記ニッケル系活物質前駆体の平均粒径は、9ないし20μmであることを特徴とする請求項1に記載のリチウム二次電池用ニッケル系活物質前駆体。
  8. 前記ニッケル系活物質前駆体は、プレート粒子を含み、
    前記プレート粒子の長軸が放射形方向に配列されたことを特徴とする請求項1に記載のリチウム二次電池用ニッケル系活物質前駆体。
  9. 前記ニッケル系活物質前駆体は、下記化学式1ないし2によって表示される化合物であることを特徴とする請求項1に記載のリチウム二次電池用ニッケル系活物質前駆体:
    [化学式1]
    Ni1−x−y−zCoMn(OH)2−αα
    [化学式2]
    Ni1−x−y−zCoAl(OH)2−αα
    化学式1及び2で、Mは、ボロン(B)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、ストロンチウム(Sr)、バリウム(Ba)、チタン(Ti)、バナジウム(V)、タングステン(W)、クロム(Cr)、鉄(Fe)、銅(Cu)、ジルコニウム(Zr)及びアルミニウム(Al)からなるグループのうちから選択される1以上の元素であり、
    Xは、PO、BO、B、B及びFからなるグループのうちから選択される1以上であり、
    x≦1−x−y−z、y≦1−x−y−z、0<x<1、0≦y<1、0<z≦0.01、0<α≦0.01, Xは、PO、BO、B、B及びFからなるグループのうちから選択される1以上である。
  10. 前記ニッケル系活物質前駆体において、ニッケルの含量は、遷移金属の総含量を基準にし、33ないし97モル%であり、マンガンまたはアルミニウムの含量及びコバルトの含量に比べて高含量であることを特徴とする請求項9に記載のリチウム二次電池用ニッケル系活物質前駆体。
  11. 前記ニッケル系活物質前駆体は、(Ni0.6Co0.2Mn0.21−a(OH)2−αα、(Ni0.5Co0.2Mn0.31−a(OH)2−αα、(Ni0.7Co0.15Mn0.151−a(OH)2−αα、(Ni0.85Co0.1Al0.051−a(OH)2−ααまたは(Ni0.91Co0.06Mn0.031−a(OH)2−ααであり、0<a<0.01、0<α≦0.01であり、Mは、ボロン(B)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、ストロンチウム(Sr)、バリウム(Ba)、チタン(Ti)、バナジウム(V)、タングステン(W)、クロム(Cr)、鉄(Fe)、銅(Cu)、ジルコニウム(Zr)及びアルミニウム(Al)からなるグループのうちから選択される1以上の元素であり、Xは、PO、BO、B、B及びFからなるグループのうちから選択される1以上であることを特徴とする請求項1に記載のリチウム二次電池用ニッケル系活物質前駆体。
  12. 錯化剤、pH調節剤、ニッケル系活物質前駆体形成用金属原料、及び陽イオン含有化合物または陰イオン含有化合物の反応を実施し、陽イオンまたは陰イオンを含むニッケル系活物質前駆体のコア部を形成する第1段階と、
    前記第1段階から得たコア部上部に、陽イオンまたは陰イオンを含む中間層部を形成する第2段階と、
    前記第2段階から得た中間層部上部に、陽イオンまたは陰イオンを含むシェル部を形成する第3段階と、を含み、
    前記コア部及び前記中間層部は、シェル部とは異種の陽イオンまたは陰イオンを含み、
    前記陽イオンは、ボロン(B)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、ストロンチウム(Sr)、バリウム(Ba)、チタン(Ti)、バナジウム(V)、タングステン(W)、クロム(Cr)、鉄(Fe)、銅(Cu)、ジルコニウム(Zr)及びアルミニウム(Al)のうちから選択された1以上であり、
    前記陰イオンは、ホスフェート(PO)、BO、B、B及びFのうちから選択された1以上であるリチウム二次電池用ニッケル系活物質前駆体の製造方法。
  13. 前記第2段階の金属原料の投入速度が、前記第1段階より速く、第3段階の金属原料投入速度が、前記第1段階と同一に維持されることを特徴とする請求項12に記載のリチウム二次電池用ニッケル系活物質前駆体の製造方法。
  14. 撹拌動力が第1段階で最も強く、第3段階が最も弱く、第2段階がそれらの中間であることを特徴とする請求項12に記載のリチウム二次電池用ニッケル系活物質前駆体の製造方法。
  15. 前記第2段階及び第3段階の反応混合物のpHは、同一であり、前記第2段階及び第3段階の反応混合物のpHが、前記第1段階の反応混合物のpHに比べて低いことを特徴とする請求項12に記載のリチウム二次電池用ニッケル系活物質前駆体の製造方法。
  16. 前記錯化剤の濃度は、第1段階、第2段階及び第3段階に行くほど、順次に上昇することを特徴とする請求項12に記載のリチウム二次電池用ニッケル系活物質前駆体の製造方法。
  17. 請求項1ないし11のうちいずれか1項に記載のリチウム二次電池用ニッケル系活物質前駆体から得られたリチウム二次電池用ニッケル系活物質。
  18. 前記ニッケル系活物質は、異種の陽イオンまたは陰イオンをそれぞれ含むコア部、中間層部、及びシェル部を含み、前記陽イオンは、ボロン(B)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、ストロンチウム(Sr)、バリウム(Ba)、チタン(Ti)、バナジウム(V)、タングステン(W)、クロム(Cr)、鉄(Fe)、銅(Cu)、ジルコニウム(Zr)及びアルミニウム(Al)のうちから選択された1以上であり、
    前記陰イオンは、ホスフェート(PO)、BO、BO7、B及びFのうちから選択された1以上であることを特徴とする請求項17に記載のリチウム二次電池用ニッケル系活物質。
  19. 前記ニッケル系活物質が含む前記陽イオン含量が0.9mol%以下であり、前記陰イオン含量が0.06mol%以下であることを特徴とする請求項18に記載のリチウム二次電池用ニッケル系活物質。
  20. 前記ニッケル系活物質が含む前記陽イオン含量が0.28mol%以下であることを特徴とする請求項18に記載のリチウム二次電池用ニッケル系活物質。
  21. 前記シェル部が含む前記陽イオン含量が、0超過2mol%以下であり、前記コア部及び中間層部が含む前記陰イオン含量が、0超過1mol%以下であることを特徴とする請求項18に記載のリチウム二次電池用ニッケル系活物質。
  22. 前記シェル部が含む前記陽イオン含量が、0超過1.33mol%以下であり、前記コア部及び中間層部が含む前記陰イオン含量が、0超過0.18mol%以下であることを特徴とする請求項21に記載のリチウム二次電池用ニッケル系活物質。
  23. 前記シェル部が含む前記陽イオン含量が、0超過0.41mol%以下であることを特徴とする請求項21に記載のリチウム二次電池用ニッケル系活物質。
  24. 前記シェル部が開気孔を含むことを特徴とする請求項18に記載のリチウム二次電池用ニッケル系活物質。
  25. 請求項17に記載のリチウム二次電池用ニッケル系活物質を含む正極、負極、及びそれらの間に介在された電解質を含むリチウム二次電池。
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