JP2020053594A - 発光素子及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の一態様によれば、発光素子の製造方法は、ガリウム及び窒素を含むn形の第1半導体層と、ガリウム及び窒素を含むp形の第2半導体層と、前記第1半導体層と前記第2半導体層との間に設けられた発光層と、を含む半導体積層体を準備する準備工程を含む。前記製造方法は、前記第1半導体層の一部、前記第2半導体層の一部、及び、前記発光層の一部を除去して、少なくとも前記第1半導体層の側面を露出させる第1除去工程を含む。前記製造方法は、前記第1除去工程の後の前記半導体積層体を、酸素を含む雰囲気で処理し、前記側面を含む部分に酸素を導入する第1処理工程を含む。
なお、図面は模式的または概念的なものであり、各部分の厚さと幅との関係、部分間の大きさの比率などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。また、同じ部分を表す場合であっても、図面により互いの寸法や比率が異なって表される場合もある。
なお、本願明細書において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
図1は、第1実施形態に係る発光素子を例示する模式的断面図である。
図1に示すように、実施形態に係る発光素子110は、第1半導体層10、第2半導体層20、発光層30、第1電極41、及び、第2電極42を含む。
これらの図は、半導体層のそれぞれの領域に関してのX線光電子分光分析で得られる信号を例示している。図2Aは、第1部分領域11に対応する。図2Bは、第1側面領域sr1に対応する。図2Cは、第3側面領域sr3に対応する。図2Dは、第4側面領域sr4に対応する。これらの図の横軸は、結合エネルギーBE(eV)である。縦軸は、信号の強度Int(任意単位)である。これらの図は、X線光電子分光分析によりGa3dスペクトルを測定し得られたスペクトルを、Gaと窒素との結合(Ga−N結合)と予想される3dスペクトルと、Gaと酸素との結合(Ga−O)と予想される3dスペクトルと、にピークフィッテングした結果を例示している。これらの図において、実線は、Gaと窒素との結合(Ga−N結合)に対応する。破線は、Gaと酸素との結合(Ga−O結合)に対応する。
図3Aに示すように、半導体積層体18を準備する。半導体積層体18は、n形の第1半導体膜10fと、p形の第2半導体膜20fと、発光膜30fと、を含む。第1半導体膜10fは、ガリウム及び窒素を含む。第2半導体膜20fは、ガリウム及び窒素を含む。発光膜30fは、第1半導体膜10fと第2半導体膜20fとの間に設けられる。
これらの図は、3種類の条件の試料についてのXPS分析の結果を例示している。X線光電子分光分析の分析条件は、以下の通りである。使用装置は、QuanteraII Scaning X-ray Micro Probeである。X線源は、単色化Al Kα線(hνは、1486.6eVである)である。分析エリアは、直径が200μmの円形である。パルスエネルギーは、55eVである。これらの試料においては、n形の半導体層(GaN層)に処理が行われる。図5A〜図5Cは、第1〜第3条件TC1〜TC3にそれぞれ対応する。第1条件TC1においては、プラズマ処理が行われない。第2条件TC2及び第3条件TC3においては、プラズマ処理が行われる。第2条件TC2においては、バイアス電力は0Wであり、ICP(Inductively Coupled Plasma)電力は400Wであり、酸素ガスの流量は100sccmであり、酸素ガスの分圧は8Paであり、処理時間は60秒である。第3条件TC3においては、バイアス電力は200Wである。第3条件TC3におけるバイアス電力以外の条件は、第2条件TC2と同様である。図5A〜図5Cの横軸は、結合エネルギーBE(eV)である。縦軸は、信号の強度Int(任意単位)である。これらの図は、X線光電子分光分析によりGa3dスペクトルを測定し得られたスペクトルを、Gaと窒素との結合(Ga−N結合)と予想される3dスペクトルと、Gaと酸素との結合(Ga−O)と予想される3dスペクトルとにピークフィッテングした結果を例示している。これらの図において、実線は、Ga−Oの結合に対応する。破線は、Ga−Nの結合に対応する。点線は、Ga−Oの結合、及び、Ga−Nの結合の和に対応する。
これらの図は、3種類の条件の試料についてのXPS分析の結果を例示している。これらの試料においては、p形の半導体層(GaN層)に処理が行われる。図6A〜図6Cは、第4〜第6条件TC4〜TC6にそれぞれ対応する。第4条件TC4においては、プラズマ処理が行われない。第5条件TC5及び第6条件TC6においては、プラズマ処理が行われる。第5条件TC5においては、バイアス電力は50Wであり、ICP電力は250Wであり、酸素ガスの流量は100sccmであり、酸素ガスの分圧は8Paであり、処理時間は30秒である。第6条件TC6においては、バイアス電力は200Wであり、ICP電力は250Wであり、酸素ガスの流量は100sccmであり、酸素ガスの分圧は8Paであり、処理時間は120秒である。これらの図の横軸は、結合エネルギーBE(eV)である。縦軸は、信号の強度Int(任意単位)である。図6A〜図6Cは、Ga3dピークに対応する。これらの図において、実線は、Ga−Oの結合に対応する。破線は、Ga−Nの結合に対応する。点線は、Ga−Oの結合、及び、G−Nの結合の和に対応する。
図7Aは、発光素子111の模式的上面図である。図7Bは、発光素子111の模式的断面図である。実施形態に係る発光素子111も、第1半導体層10、第2半導体層20、発光層30、第1電極41、及び、第2電極42を含む。発光素子111においても、第1半導体層10は、第1部分領域11及び第1側面領域sr1を含む。
図8に示すように、実施形態に係る発光素子120は、第1半導体層10、第2半導体層20、発光層30、第1電極41、及び、第2電極42に加えて、導電部51、絶縁部80、第3電極43及び接続部材45を含む。発光素子120においても、発光層30は、第1半導体層10と第2半導体層20との間に設けられる。第1電極41は、第1半導体層10と電気的に接続される。第2電極42(及び電極42A)は、第2半導体層20と電気的に接続される。
図9は、X線光電子分光分析で得られる信号を例示している。図9は、第2側面領域sr2に対応する。横軸は、結合エネルギーBE(eV)である。縦軸は、信号の強度Int(任意単位)である。図9は、X線光電子分光分析によりGa3dスペクトルを測定し得られたスペクトルを、Gaと窒素との結合(Ga−N結合)と予想される3dスペクトルと、Gaと酸素との結合(Ga−O)と予想される3dスペクトルとにピークフィッテングした結果を例示している。図9において、実線は、Gaと窒素との結合(Ga−N結合)に対応する。破線は、Gaと酸素との結合(Ga−O結合)に対応する。
図10A、図10B、図11A及び図11Bは、第1実施形態に係る発光素子の製造方法を例示する模式的断面図である。
図10Aに示すように、半導体積層体18を準備する。半導体積層体18は、n形の第1半導体膜10fと、p形の第2半導体膜20fと、発光膜30fと、を含む。例えば、半導体積層体18は、成長用の基板50s(例えばサファイア基板)の上にエピタキシャル成長される。第1半導体膜10fは、第1半導体層10となる。第2半導体膜20fは、第2半導体層20となる。発光膜30fは、発光層30となる。第2半導体膜20fの上に、第2電極42(及び電極42A)を形成する。第2半導体膜20fの上面及び第2電極42(及び電極42A)の一部を被覆する絶縁層86を形成する。絶縁層86の上を被覆し、第2電極42(及び電極42A)と電気的に接続する、接続部材45を形成する。
図12に示すように、実施形態に係る発光素子121も、第1半導体層10、第2半導体層20、発光層30、第1電極41、及び、第2電極42を含む。基板50s(成長用基板)が設けられている。基板50sの上に、第1半導体層10が設けられる。第1半導体層10の第1領域r1に第1電極41が設けられる。第1半導体層10の第2領域r2の上に発光層30がある。発光層30の上に第2半導体層20がある。第2半導体層20の上に、第2電極42が設けられる。
本実施形態は、発光素子の製造方法に係る。
図13は、第2実施形態に係る発光素子の製造方法を例示するフローチャート図である。
図13に示すように、実施形態に係る製造方法は、半導体積層体18(図3A参照)を準備する準備工程(ステップS110)を含む。半導体積層体18は、ガリウム及び窒素を含むn形の第1半導体層10(第1半導体膜10f)と、ガリウム及び窒素を含むp形の第2半導体層20(第2半導体膜20f)と、発光層30(発光膜30f)と、を含む。発光層30(発光膜30f)は、第1半導体層10(第1半導体膜10f)と第2半導体層20(第2半導体膜20f)との間に設けられる。
図14に示すように、実施形態に係る製造方法は、接合工程(ステップS115)及び基板除去工程(ステップS116)をさらに含んでも良い。接合工程においては、支持体(導電部51)と半導体積層体18とを接合する。例えば、図3Dに関して説明した処理を実施する。基板除去工程においては、基板50sを除去する。例えば、図3Eに関して説明した処理を実施する。
図15に示すように、製造方法は、凹凸形成工程(ステップS125)をさらに含んでも良い。凹凸形成工程においては、第1半導体層10の表面に凹凸10dpを形成する。例えば、図4Cに関して説明した処理を実施する。この例では、第1処理工程(ステップS130)は、凹凸形成工程(ステップS125)の後に行われる。例えば、凹凸形成工程(ステップS125)は、第1除去工程(ステップS120)と第1処理工程(ステップS130)との間に行われる。
図16に示すように、この例においても、製造方法は、凹凸形成工程(ステップS125)を含む。この例では、第1処理工程(ステップS130)は、第1除去工程(ステップS120)と、凹凸形成工程(ステップS125)と、の間に行われる。
図17に示すように、製造方法は、第2除去工程(ステップS111)、及び、第2処理工程(ステップS112)をさらに含んでも良い。
Claims (16)
- ガリウム及び窒素を含むn形の第1半導体層と、
ガリウム及び窒素を含むp形の第2半導体層と、
前記第1半導体層と前記第2半導体層との間に設けられた発光層と、
前記第1半導体層と電気的に接続された第1電極と、
前記第2半導体層と電気的に接続された第2電極と、
を備え、
前記第1半導体層は、第1部分領域及び第1側面領域を含み、
前記第1部分領域は、前記第1電極と接触する第1面を含み、
前記第1側面領域は、前記第2半導体層から前記第1半導体層に向かう第1方向に対して垂直な平面と交差する第1側面を含み、
前記第1部分領域はガリウムと窒素との結合を含み、前記第1側面領域はガリウムと窒素との前記結合を含まない、または、
前記第1部分領域はガリウムと酸素との結合を含まず、前記第1側面領域はガリウムと酸素との前記結合を含む、または、
第1比よりも第2比は高く、前記第1比は、X線光電子分光分析における、前記第1部分領域におけるガリウムと酸素との前記結合に対応する第1ピーク強度の、前記X線光電子分光分析における、前記第1部分領域におけるガリウムと窒素との結合に対応する第2ピーク強度に対する比であり、前記第2比は、前記X線光電子分光分析における、前記第1側面領域におけるガリウムと酸素との前記結合に対応する第3ピーク強度の、前記X線光電子分光分析における、前記第1側面領域におけるガリウムと窒素との結合に対応する第4ピーク強度に対する比である、発光素子。 - 前記第1電極と前記第2電極との間に、前記第1半導体層の一部、前記発光層の一部、及び、前記第2半導体層の一部が設けられた、請求項1記載の発光素子。
- 前記第1半導体層は、第2部分領域をさらに含み、前記第2部分領域から前記第1部分領域への方向は、前記第1方向と交差し、
前記第2半導体層は、第3部分領域及び第4部分領域を含み、
前記第1部分領域は、前記第1方向において前記第3部分領域と前記第1電極との間に設けられ、
前記第4部分領域は、前記第1方向において前記第2電極と前記第2部分領域との間に設けられた、請求項1記載の発光素子。 - 前記第2電極と電気的に接続された導電部と
絶縁部と、
をさらに備え、
前記第1部分領域は、前記第1方向において前記導電部と前記第1電極との間に設けられ、
前記第3部分領域は、前記第1方向において前記導電部と前記第1部分領域との間に設けられ、
前記絶縁部は、前記第1方向において前記導電部と前記第3部分領域との間に設けられ、
前記第4部分領域は、前記第1方向において前記導電部と前記第2部分領域との間に設けられ、
前記第2電極は、前記第1方向において前記導電部と前記第4部分領域との間に設けられた、請求項3記載の発光素子。 - 前記第1電極と電気的に接続された導電部と、
絶縁部と、
をさらに備え、
前記第1電極は、前記第1部分領域と接触する接触部分を含み、
前記第1半導体層は、第2部分領域をさらに含み、前記第2部分領域から前記第1部分領域への方向は、前記第1方向と交差し、
前記接触部分は、前記第1方向において前記導電部と前記第1部分領域との間に設けられ、
前記第2半導体層は、第3部分領域を含み、
前記第3部分領域は、前記第1方向において前記導電部と前記第2部分領域との間に設けられ、
前記第2電極の少なくとも一部は、前記第1方向において前記導電部と前記第3部分領域との間に設けられ、
前記絶縁部は、前記第1方向において、前記導電部と、前記第2電極の前記少なくとも一部と、の間に設けられた、請求項1記載の発光素子。 - 第3電極と、
接続部材と、
をさらに備え
前記接続部材の第1部分は、前記第1方向において前記導電部と前記第3電極との間に設けられ、前記第3電極と電気的に接続され、
前記接続部材の第2部分は、前記第1方向において、前記導電部と、前記第2電極の前記少なくとも一部と、の間に設けられ、前記第2電極と電気的に接続された、請求項5記載の発光素子。 - 前記絶縁部は、前記接続部材と前記第1電極との間に設けられた、請求項6記載の発光素子。
- 前記第3電極は、前記第1方向と交差する方向において、前記第2電極及び前記第2半導体層の少なくともいずれかと重なる、請求項6または7に記載の発光素子。
- 前記第1半導体層は、第2側面領域をさらに含み、
前記第2側面領域は、前記平面と交差する第2側面を含み、
前記第1部分領域は、前記第2側面を含まず、
前記第2側面領域は、前記第1面を含まず、
前記第1側面から前記第1面への方向において、前記第2側面は前記第1側面と前記第1面との間にあり、
前記第1比よりも第3比は高く、
前記第3比は、前記X線光電子分光分析における、前記第2側面領域におけるガリウムと酸素との前記結合に対応する第5ピーク強度の、前記X線光電子分光分析における、前記第2側面領域におけるガリウムと窒素との結合に対応する第6ピーク強度に対する比である、請求項5〜8のいずれか1つに記載の発光素子。 - 前記第2半導体層は、第4部分領域をさらに含み、
前記第1半導体層は、第5部分領域をさらに含み、
前記第1方向と直交する第2方向における前記第1部分領域の位置は、前記第2方向における前記第2部分領域の位置と、前記第2方向における前記第5部分領域の位置と、の間にあり、
前記第4部分領域は、前記第1方向において前記導電部と前記第5部分領域との間に設けられ、
前記第2電極の別の一部は、前記第1方向において、前記導電部と前記第4部分領域との間に設けられた、請求項5〜9のいずれか1つに記載の発光素子。 - 前記第2半導体層は、第3側面領域を含み、
前記第3側面領域は、前記平面と交差する第3側面を含み、
前記第1比よりも第4比は高く、
前記第4比は、前記X線光電子分光分析における、前記第3側面領域におけるガリウムと酸素との前記結合に対応する第7ピーク強度の、前記X線光電子分光分析における、前記第3側面領域におけるガリウムと窒素との結合に対応する第8ピーク強度に対する比である、請求項1〜10のいずれか1つに記載の発光素子。 - 前記発光層は、第4側面領域を含み、
前記第4側面領域は、前記平面と交差する第4側面を含み、
前記第1比よりも第5比は高く、
前記第5比は、前記X線光電子分光分析における、前記第4側面領域におけるガリウムと酸素との前記結合に対応する第9ピーク強度の、前記X線光電子分光分析における、前記第4側面領域におけるガリウムと窒素との結合に対応する第10ピーク強度に対する比である、請求項1〜11のいずれか1つに記載の発光素子。 - ガリウム及び窒素を含むn形の第1半導体層と、ガリウム及び窒素を含むp形の第2半導体層と、前記第1半導体層と前記第2半導体層との間に設けられた発光層と、を含む半導体積層体を準備する準備工程と、
前記第1半導体層の一部、前記第2半導体層の一部、及び、前記発光層の一部を除去して、少なくとも前記第1半導体層の側面を露出させる第1除去工程と、
前記第1除去工程の後の前記半導体積層体を、酸素を含む雰囲気で処理し、前記側面を含む部分に酸素を導入する第1処理工程と、
を備えた、発光素子の製造方法。 - 支持体と前記半導体積層体とを接合する接合工程と、
基板を除去する基板除去工程と、
をさらに備え、
前記準備工程において、前記半導体積層体は前記基板に形成されており、
前記接合工程の後に前記基板除去工程が行われ、
前記基板除去工程の後に、前記第1除去工程及び前記第1処理工程が行われる、請求項13記載の発光素子の製造方法。 - 前記第1半導体層の表面に凹凸を形成する凹凸形成工程をさらに備え、
前記第1処理工程は、前記第1除去工程と前記凹凸形成工程との間、または、前記凹凸形成工程の後に行われる、請求項13または14に記載の発光素子の製造方法。 - 前記第1半導体層の別の一部、前記第2半導体層の別の一部、前記発光層の別の一部を除去して、前記第1半導体層の別の側面を露出させる第2除去工程と、
前記第2除去工程の後の前記半導体積層体を、酸素を含む雰囲気で処理し、前記別の側面を含む部分に酸素を導入する第2処理工程と、
をさらに備え、
前記第2除去工程は、前記準備工程と前記接合工程との間に行われ、
前記第2処理工程は、前記第2除去工程と前記接合工程との間に行われる、請求項13〜15のいずれか1つに記載の発光素子の製造方法。
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