JP2020046460A - 描画装置、及び描画方法 - Google Patents
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Abstract
Description
1 描画装置
10 ステージ
20 駆動機構
40 光学ユニット(照射部)
60 制御部
G3 つなぎ領域
W1 所定領域
Claims (9)
- 基板に描画光を照射することで前記基板にパターンを描画する描画装置であって、
前記描画光を照射する照射部と、
前記照射部を制御する制御部と
を備え、
前記照射部が多重露光処理を行うように、前記制御部が前記照射部を制御し、
前記多重露光処理は、前記基板の所定領域に対して前記照射部により前記描画光を照射する露光処理を複数含み、
前記複数の露光処理の各々は、つなぎ領域が形成されるように前記照射部により前記描画光を並列に照射する処理を含み、
前記つなぎ領域は、前記並列に照射された前記描画光の照射領域の一部同士が重なる領域を示す、描画装置。 - 前記多重露光処理により形成された複数の前記つなぎ領域が、互いに重ならない場所に位置する、請求項1に記載の描画装置。
- 前記複数の露光処理のうちの少なくとも2つの露光処理では前記基板に同一のパターンが描画されるように、前記制御部が前記照射部を制御する、請求項1、又は請求項2に記載の描画装置。
- 前記つなぎ領域はパターンが描画される領域である、請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の描画装置。
- 前記多重露光処理により前記基板に所定パターンが描画される場合、前記露光処理毎に前記基板に照射された前記描画光の露光量の各々の合計が、前記所定パターンを描画するために必要な必要露光量と略等しくなるように、前記制御部が前記照射部を制御する、請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の描画装置。
- 前記基板を保持するステージと、
前記照射部に対して前記ステージを移動させる駆動機構と
をさらに備え、
前記照射部に対する前記ステージの移動速度が速くなる程、前記基板に対する前記描画光の露光量が減少するように、前記制御部が前記駆動機構を制御することで前記描画光の露光量を調整する、請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の描画装置。 - 前記基板に対する前記描画光の照射位置と、前記描画光の露光量との関係を示すグラフは、台形状に形成される部分を有し、
前記台形状の部分は、前記露光量が一定の中央部と、前記中央部に連なり、前記中央部から離間するのに伴って前記露光量が逓減する一対の端部とを有し、
前記一対の端部の間には前記中央部が位置する、請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の描画装置。 - 前記複数の露光処理は、第1の露光処理と、第2の露光処理とを含み、
前記第1の露光処理時に前記基板に照射された前記描画光の第1露光量が、前記第2の露光処理時に前記基板に照射された前記描画光の第2露光量と等しく、又は、前記第1露光量が前記第2露光量と異なる、請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の描画装置。 - 基板に描画光を照射することで前記基板にパターンを描画する描画方法であって、
多重露光処理を行う多重露光工程を含み、
前記多重露光処理は、前記基板の所定領域に対して前記描画光を照射する露光処理を複数含み、
前記複数の露光処理の各々は、つなぎ領域が形成されるように前記描画光を並列に照射する処理を含み、
前記つなぎ領域は、前記並列に照射された前記描画光の照射領域の一部同士が重なる領域を示す、描画方法。
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