JP2020013108A - 表示装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】ベンディング部を強化させることができる表示装置を提供する。【解決手段】表示装置は基板SUBの上部に配置された複数の画素、前記基板に接続された可撓性回路基板FPC、前記可撓性回路基板の下部に配置された駆動集積回路D−IC、前記基板の端部から離隔して前記可撓性回路基板の下部に配置され、前記駆動集積回路を囲むコーティング層CL、及び前記可撓性回路基板の下部で前記基板の前記端部と前記コーティング層との間に配置され、前記基板の前記端部と対向する前記コーティング層の端部を覆う補強部材SM1を含む。【選択図】図5

Description

本発明の一実施形態は表示装置に関し、さらに詳細にはベンディング部を強化することができる表示装置に関する。
一般的に表示装置は複数の画素が配置された表示パネル及び表示パネルの端部に接続されて画素を駆動するための駆動集積回路(IC、Integrated Circuit)を含む。駆動集積回路は駆動信号を生成して画素に提供する。画素は駆動信号に応答して駆動されることによって所定の映像を生成する。
駆動集積回路は可撓性印刷回路基板(FPCB、Flexible Printed Circuit Board)上に実装され、可撓性印刷回路基板の第1端部は表示パネルの端部に接続される。駆動集積回路は可撓性印刷回路基板を通じて表示パネルの画素に接続される。このような接続方式はチップオンフィルム(COF:Chip On Film)方式として定義される。
可撓性印刷回路基板は曲げられ、駆動集積回路は表示パネルの下部に配置される。可撓性印刷回路基板が曲げられた部分はベンディング部として定義される。ベンディング部は映像を表示しない部分であり、デッドスペース(dead space)として定義される。
最近、デッドスペースを減少させるためにベンディング部を減少させることができる技術が要求されている。しかし、ベンディング部を減少させるために、ベンディング部が表示パネルの端部により近くなるように可撓性回路基板がさらに曲げられる場合、ベンディング部に配置された配線にクラックが発生することがある。
韓国公開特許第10−2013−0024097号公報 韓国公開特許第10−2016−0061563号公報
本発明の一実施形態の目的はベンディング部を強化させることができる表示装置を提供することにある。
本発明の一実施形態に係る表示装置は基板、前記基板の上部に配置された複数の画素、前記基板に接続された可撓性回路基板、前記可撓性回路基板の下部に配置された駆動集積回路、前記基板の前記端部から離隔して前記可撓性回路基板の下部に配置され、前記駆動集積回路を囲むコーティング層、及び前記可撓性回路基板の下部で前記基板の前記端部と前記コーティング層との間に配置され、前記基板の前記端部と対向する前記コーティング層の端部を覆う補強部材を含む。
本発明の実施形態に係る表示装置は基板の端部とコーティング層との間で可撓性回路基板の下部に補強部材を配置することによって可撓性回路基板のベンディング部を強化させることができる。
本発明の実施形態による表示装置の斜視図である。 図1に図示された基板の平面図である。 図2に図示された画素の等価回路図である。 図3に図示された画素の断面構成を概略的に示す図面である。 図1に図示されたI−I’線の断面図である。 図5に図示された可撓性回路基板のベンディング状態を示す図面である。 図5に図示された補強部材を形成する方法を簡略に示した図面である。 封止基板を含む表示パネルと表示パネルに接続された可撓性回路基板の断面図である。 図8に図示された可撓性回路基板のベンディング状態を示す図面である。 本発明の多様な実施形態に係る補強部材の構成を示す図面である。 本発明の多様な実施形態に係る補強部材の構成を示す図面である。 本発明の多様な実施形態に係る補強部材の構成を示す図面である。 本発明の多様な実施形態に係る補強部材の構成を示す図面である。 本発明の多様な実施形態に係る補強部材の構成を示す図面である。 本発明の多様な実施形態に係る補強部材の構成を示す図面である。 本発明の多様な実施形態に係る補強部材の構成を示す図面である。 本発明の多様な実施形態に係る補強部材の構成を示す図面である。 本発明の多様な実施形態に係る補強部材の構成を示す図面である。 本発明の多様な実施形態に係る補強部材の構成を示す図面である。 本発明の多様な実施形態に係る補強部材の構成を示す図面である。 本発明の多様な実施形態に係る補強部材の構成を示す図面である。 本発明の多様な実施形態に係る補強部材の構成を示す図面である。
本明細書で、ある構成要素(又は領域、層、部分等)が他の構成要素に対して“上にある”、“接続される”、又は“結合される”と表現される場合、それは他の構成要素の上に直接配置/接続/結合されてもよく、或いはこれらの間に第3の構成要素が配置されてもよいことを意味する。同一の図面符号は同一の構成要素に付与される。また、図面において、構成要素の厚さ、比率、及び寸法は技術的内容の効果的な説明のために誇張されたものである。
“及び/又は”は連関した構成が定義できる1つ以上の組合を全て含む。
第1、第2等の用語は多様な構成要素を説明するために使用されるが、前記構成要素は前記用語によって限定されない。前記用語は1つの構成要素を他の構成要素と区別する目的のみに使用される。例えば、本発明の権利範囲を逸脱しない範囲で、第1構成要素は第2構成要素と呼ぶことができ、同様に第2構成要素も第1構成要素と呼ぶことができる。単数の表現は文脈の上に明確に異なる表現をしない限り、複数の表現を含む。
また、“下に”、“下側に”、“上に”、“上側に”等の用語は図面に図示された構成の位置関係を説明するために使用される。前記用語は相対的な概念として図面に表示された方向を基準に説明される。
特段定義されない限り、本明細書で使用されるすべての用語(技術的及び科学的用語を含む)は本発明が属する技術分野で当業者によって一般的に理解される同一の意味を有する。また、一般的に使用される辞典で定義された用語と同一の用語は関連技術の脈絡における意味と一致する意味を有することと解釈しなければならなく、理想的な又はあまりにも形式的な意味に解釈されない限り、明示的にここで定義される。
“含む”等の用語は明細書上に記載された特徴、数字、段階、動作、構成要素、部品又はこれらを組合せたものが存在することを表現しようするものであり、1つ又はそれ以上の他の特徴や数字、段階、動作、構成要素、部分品、又はこれらを組合せたものの存在又は付加可能性を予め排除しないものとして理解されるべきである。
以下、図面を参照して本発明の実施形態が詳細に説明される。
図1は本発明の一実施形態による表示装置の斜視図である。
図1を参照すれば、表示装置DDは表示パネルDP、表示パネルDPに接続された可撓性回路基板FPC(又は可撓性印刷回路基板)、可撓性回路基板FPCの下部に配置された駆動集積回路D−IC、表示パネルDPの下部に配置された第1保護フィルムPF1、及び第1保護フィルムPF1の下部に配置された第2保護フィルムPF2を含む。
表示パネルDPは第1方向DR1に長辺を有し、第1方向DR1と交差する第2方向DR2に短辺を有する長方形状である。しかし、表示パネルDPの形状はこれに限定されない。以下、第1方向DR1及び第2方向DR2によって定義される平面に実質的に垂直に交差する方向は第3方向DR3として定義される。
表示パネルDPは複数の有機発光素子を含む有機発光表示パネルである。しかし、これに限定されなく、液晶表示パネル、エレクトロ・ウェッティング表示パネル、及び電氣泳動表示パネル等、映像を表示することができる多様な表示パネルを表示パネルDPとして使用することができる。
表示パネルDPは基板SUB及び基板SUB上に配置された封止層ECPを含む。基板SUB及び封止層ECPは第1方向DR1に長辺を有し、第2方向DR2に短辺を有する長方形状である。
基板SUBはガラス又はプラスチック物質を含む透明な基板である。基板SUBがプラスチック物質を含む場合、表示パネルDPはフレキシブル表示パネルである。例えば、基板SUBはPI(Polyimide)のようなプラスチック物質を含むことができる。
封止層ECPは薄膜封止層を含む。しかし、これに限定されなく、封止層ECPは封止基板を含むことができる。薄膜封止層及び封止基板の構成は以下に詳細に説明される。表示パネルDPは基板SUB上に配置された複数の画素を含む。画素の構成は以下の図2乃至図4を参照して詳細に説明される。封止層ECPは画素上に配置されて画素を保護する役割を有する。
図示しないが、表示装置DDは封止層ECP上に配置されたタッチパネル及びタッチパネル上に配置されたウインドウをさらに含むことができる。タッチパネルは封止層ECP上に配置された複数のタッチ感知ユニットを含む。タッチ感知ユニットは外部のタッチを感知し、感知されたタッチ信号は入力信号に変換される。
表示パネルDPは入力信号に基づいて映像を表示することができる。ウインドウは外部のスクラッチからタッチパネルの上部を保護する。表示装置DDがタッチ機能を含まない場合、タッチパネルは表示装置DDに使用されないこともある。
可撓性回路基板FPCの第1端部に隣接する可撓性回路基板FPCの所定の部分として定義される第1領域A1が表示パネルDPに接続される。例えば、基板SUBの端部に隣接する基板SUBの所定の部分上にパッド部PDが配置される。基板SUBの端部は基板SUBの短辺の中でいずれか1つの短辺の端部である。可撓性回路基板FPCの第1領域A1がパッド部PD上に配置され、第1領域A1がパッド部PDに電気的に接続される。
可撓性回路基板FPCの第1端部の反対側は可撓性回路基板FPCの第2端部として定義される。駆動集積回路D−ICは可撓性回路基板FPCの第2端部に隣接する可撓性回路基板FPCの所定の部分として定義される第2領域A2の下部に配置される。
説明を簡易にするために可撓性回路基板FPCの下部に配置されて可撓性回路基板FPCによって見えないパッド部PD及び駆動集積回路D−ICは図1では点線で図示されている。
図示しないが、可撓性回路基板FPCには駆動集積回路D−ICに接続された複数の配線が配置されてもよい。また、第1領域A1には複数の第1パッド電極が配置され、パッド部PDは複数の第2パッド電極を含む。配線は駆動集積回路D−ICから延長されて第1パッド電極に各々接続される。
第1パッド電極と第2パッド電極との間に異方性導電フィルム(ACF:Anisotropic Conductive Film)(図示せず)が配置されてもよい。第1領域A1がパッド部PDに加圧されることによって、異方性導電フィルムによって第1パッド電極が第2パッド電極にそれぞれ電気的に接続される。
第1保護フィルムPF1は基板SUBの下部に配置される。基板SUBの下面は表示パネルDPの下面を定義する。第1保護フィルムPF1は表示パネルDPの下面を保護する役割を有する。第1保護フィルムPF1は可撓性を有する。例えば、第1保護フィルムPF1はPET(Polyethylene terephthalate)のようなプラスチック物質を含むことができる。
第1方向DR1における基板SUBの長さは第1保護フィルムPF1の長さより長い。第1方向DR1における基板SUBの長さは基板SUBの第1端部及び基板SUBの第1端部の反対側である基板SUBの第2端部の間の距離として定義される。第1方向DR1における第1保護フィルムPF1の長さは第1保護フィルムPF1の第1端部及び第1保護フィルムPF1の第1端部の反対側である第1保護フィルムPF1の第2端部との間の距離として定義される。
第1方向DR1における第2保護フィルムPF2の長さは第1保護フィルムPF1の長さより短い。第1方向DR1における第2保護フィルムPF2の長さは第2保護フィルムPF2の第1端部及び第2保護フィルムPF2の第1端部の反対側である第2保護フィルムPF2の第2端部との間の距離として定義される。
基板SUBの第1端部、第1保護フィルムPF1の第1端部、及び第2保護フィルムPF2の第1端部は基板SUBの第2端部、第1保護フィルムPF1の第2端部、及び第2保護フィルムPF2の第2端部より、それぞれ可撓性回路基板FPCに近い部分である。基板SUBの第1端部、第1保護フィルムPF1の第1端部、及び第2保護フィルムPF2の第1端部は互いに重畳しない。基板SUBの第2端部、第1保護フィルムPF1の第2端部、及び第2保護フィルムPF2の第2端部は互いに重畳する。
第1保護フィルムPF1の第1端部は基板SUBの第1端部から離隔されている。例えば、第1保護フィルムPF1の第1端部は基板SUBの第1端部に隣接する基板SUBの所定の部分の下部に位置する。
第2保護フィルムPF2の第1端部は第1保護フィルムPF1の第1端部から離隔されている。例えば、第2保護フィルムPF2の第1端部は第1保護フィルムPF1の第1端部に隣接する第1保護フィルムPF1の所定の部分の下部に位置する。
図示しないが、基板SUBと第1保護フィルムPF1との間に接着部材が配置されてもよい。第1保護フィルムPF1は接着部材によって基板SUBの下面に付着されてもよい。
第2保護フィルムPF2は第1保護フィルムPF1の第1端部に隣接する第1保護フィルムPF1の所定の部分の下部に位置する。第2保護フィルムPF2は所定の弾性を有する緩衝部材として定義され、両面接着テープを含む。即ち、第2保護フィルムPF2の上面及び下面の各々には接着剤が塗布されていてもよい。第2保護フィルムPF2の上面は第1保護フィルムPF1の下面に接着される。
可撓性回路基板FPCの下部にコーティング層CL及び補強部材SM1が配置される。コーティング層CL及び補強部材SM1の具体的な構成は以下の図5及び図6を参照して詳細に説明される。
図2は図1に図示された基板の平面図である。
図2を参照すれば、表示装置DDは基板SUB上に配置された複数の画素PX、複数の走査ラインSL1〜SLm、複数のデータラインDL1〜DLn、複数の発光ラインEL1〜ELm、走査駆動部SD(scan driver)、及び発光駆動部ED(emission driver)を含む。m及びnは自然数である。図1に図示された駆動集積回路D−ICはデータ駆動部(data driver)として定義される。
基板SUBは表示領域DA及び表示領域DAを囲む非表示領域NDAを含む。表示領域DAは映像を表示する領域であり、非表示領域NDAは映像を表示しない領域である。
画素PXは表示領域DAに配置され、走査ラインSL1〜SLm、データラインDL1〜DLn、及び発光ラインEL1〜ELmに接続される。説明を簡易にするために、図2には1つの画素PXが図示されたが、実際には複数の画素PXが基板SUB上に配置される。画素PXは多様な形状に配列されてもよい。例えば、画素PXはマトリックス状に配列されるが、これに限定されない。
走査駆動部SD及び発光駆動部EDは非表示領域NDAに配置される。走査駆動部SDは表示領域DAを介して発光駆動部EDと対向するように配置される。走査駆動部SDは基板SUBの長辺の中でいずれか1つの長辺に隣接する非表示領域NDAに配置される。発光駆動部EDは基板SUBの長辺の中で他の1つの長辺に隣接する非表示領域NDAに配置される。
データラインDL1〜DLnは第1方向DR1に延長され、それぞれパッド部PDのパッド電極に電気的に接続される。前述したように駆動集積回路D−ICはパッド部PDに接続されるので、駆動集積回路D−ICはパッド部PDを通じてデータラインDL1〜DLnに接続される。
走査ラインSL1〜SLmは第2方向DR2に延長されて走査駆動部SDに接続される。発光ラインEL1〜ELmは第2方向DR2に延長されて発光駆動部EDに接続される。
走査駆動部SDは複数の走査信号を生成し、走査信号は走査ラインSL1〜SLmを通じて画素PXに印加される。走査信号は順次的に画素PXに印加される。
駆動集積回路D−ICは複数のデータ電圧を生成し、データ電圧はデータラインDL1〜DLnを通じて画素PXに印加される。発光駆動部EDは複数の発光信号を生成し、発光信号は発光ラインEL1〜ELmを通じて画素PXに印加される。
画素PXは走査信号に基づいてデータ電圧を受信する。画素PXは発光信号に基づいてデータ電圧に対応する輝度の光を発光することで映像を表示する。画素PXの発光時間は発光信号によって制御される。
図3は図2に図示された画素の等価回路図である。基板SUB上に配置された画素PXは図3に図示された画素PXと同一の構成を有する。
図3を参照すれば、画素PXは走査ラインSL1〜SLmの中で対応する走査ラインSLi、データラインDL1〜DLnの中で対応するデータラインDLj、及び発光ラインEL1〜ELmの中で対応する発光ラインELiに接続される。iはmより小さいか、或いは同一の自然数であり、jはnより小さいか、或いは同一の自然数である。
画素PXは発光素子OLED、駆動トランジスタT1、容量素子Cst、スイッチングトランジスタT2、及び発光制御トランジスタT3を含む。発光素子OLEDは有機発光ダイオードとして定義される。
駆動トランジスタT1のソース端子には第1電圧ELVDDが印加される。駆動トランジスタT1のドレイン端子は発光制御トランジスタT3のソース端子に接続される。駆動トランジスタT1のゲート端子はスイッチングトランジスタT2のドレイン端子に接続される。
スイッチングトランジスタT2のゲート端子は走査ラインSLiに接続され、スイッチングトランジスタT2のソース端子はデータラインDLjに接続される。容量素子Cstの第1電極は駆動トランジスタT1のソース端子に接続され、容量素子Cstの第2電極は駆動トランジスタT1のゲート端子に接続される。
発光制御トランジスタT3のゲート端子は発光ラインELiに接続され、発光制御トランジスタT3のドレイン端子は発光素子OLEDのアノード電極に接続される。発光素子OLEDのカソード電極には第2電圧ELVSSが印加される。第2電圧ELVSSは第1電圧ELVDDより低いレベルの電圧である。
スイッチングトランジスタT2は走査ラインSLiを通じて受信された走査信号SCANに応答してターンオンされる。ターンオンされたスイッチングトランジスタT2はデータラインDLjを通じて受信されたデータ電圧DATAを駆動トランジスタT1のゲート端子に提供する。
容量素子Cstは駆動トランジスタT1のゲート端子に印加されるデータ電圧DATAを充電し、スイッチングトランジスタT2がターンオフされた後にもこれを維持する。
発光制御トランジスタT3のゲート端子は発光ラインELiを通じて受信された発光信号EMに応答してターンオンされる。ターンオンされた発光制御トランジスタT3は駆動トランジスタT1に流れる電流Ioledを発光素子OLEDに供給する役割を有する。画素PXは発光信号EMの印加時間の間に発光する。発光素子OLEDは供給された電流Ioled量に応じて異なる強さで発光する。
例示的に画素PXのトランジスタT1〜T3はPMOSトランジスタであるが、これに限定されなく、画素PXのトランジスタT1〜T3はNMOSトランジスタであってもよい。
図4は図3に図示された画素の断面構成を概略的に示す図面である。
図4を参照すれば、画素PXは発光素子OLED及び発光素子OLEDに接続されたトランジスタTRを含む。画素PXは画素領域PA及び画素領域PA周辺の非画素領域NPAに区分される。発光素子OLEDは画素領域PAに配置され、トランジスタTRは非画素領域NPAに配置される。
発光素子OLEDが配置された画素領域PAは発光領域として定義される。トランジスタTRが配置された非画素領域NPAは非発光領域である回路領域として定義される。
トランジスタTRは発光制御トランジスタT3である。トランジスタTR及び発光素子OLEDは基板SUB上に配置される。基板SUB上にバッファ層BFLが配置される。バッファ層BFLは無機物質を含む。
バッファ層BFL上にトランジスタTRの半導体層SMが配置される。半導体層SMは非晶質(Amorphous)シリコン又は結晶質(Poly)シリコンのような無機材料の半導体や有機半導体を含むことができる。また、半導体層SMは酸化物半導体(oxide semiconductor)を含むことができる。図4に図示しないが、半導体層SMはソース領域、ドレイン領域、及びソース領域とドレイン領域との間のチャネル領域を含むことができる。
半導体層SMを覆うようにバッファ層BFL上に第1絶縁層INS1が配置される。第1絶縁層INS1は無機物質を含む。第1絶縁層INS1上に半導体層SMと重畳するトランジスタTRのゲート電極GEが配置される。ゲート電極GEは半導体層SMのチャネル領域と重畳されるように配置される。
ゲート電極GEを覆うように第1絶縁層INS1上に第2絶縁層INS2が配置される。第2絶縁層INS2は層間絶縁層として定義される。第2絶縁層INS2は有機物質及び/又は無機物質を含む。
第2絶縁層INS2上にトランジスタTRのソース電極SE及びドレイン電極DEが互いに離隔されて配置される。ソース電極SEは第1絶縁層INS1及び第2絶縁層INS2を貫通する第1コンタクトホールCH1を通じて半導体層SMのソース領域に接続される。ドレイン電極DEは第1絶縁層INS1及び第2絶縁層INS2を貫通する第2コンタクトホールCH2を通じて半導体層SMのドレイン領域に接続される。
トランジスタTRのソース電極SE及びドレイン電極DEを覆うように第2絶縁層INS2上に第3絶縁層INS3が配置される。第3絶縁層INS3は平らな上面を提供する平坦化膜として定義され、有機物質を含む。
第3絶縁層INS3上に発光素子OLEDの第1電極E1が配置される。第1電極E1は第3絶縁層INS3を貫通する第3コンタクトホールCH3を通じてトランジスタTRのドレイン電極DEに接続される。第1電極E1は画素電極又はアノード電極として定義される。第1電極E1は透明電極又は反射型電極を含む。
第1電極E1及び第3絶縁層INS3上に第1電極E1の所定の部分を露出させる画素定義膜PDLが配置される。画素定義膜PDLには第1電極E1の所定の部分を露出させるためのオープン部PX_OPが定義される。
オープン部PX_OP内で第1電極E1上に有機発光層OELが配置される。有機発光層OELは赤色、緑色、及び青色の中でいずれか1つの光を生成する。しかし、これに限定されなく、有機発光層OELは赤色、緑色、及び青色を生成する有機物質の組合によって白色光を生成することもできる。
画素定義膜PDL及び有機発光層OEL上に第2電極E2が配置される。第2電極E2は共通電極又はカソード電極として定義される。第2電極E2は透明電極又は反射型電極を含む。
表示パネルDPが前面発光型有機発光表示パネルである場合、第1電極E1は反射型電極で形成され、第2電極E2は透明電極で形成される。表示パネルDPが後面発光型有機発光表示パネルである場合、第1電極E1は透明電極で形成され、第2電極E2は反射型電極で形成される。
画素領域PAに形成された発光素子OLEDは第1電極E1、有機発光層OEL、及び第2電極E2を含む。第1電極E1は正孔注入電極である陽極であり、第2電極E2は電子注入電極である陰極である。
封止層ECPは画素PXを覆うように発光素子OLED上に配置される。例示的に、図4に図示された封止層ECPは複数の有機及び無機物質層を含む薄膜封止層である。
封止層ECPは発光素子OLED上に配置された第1封止層EN1、第1封止層EN1上に配置された第2封止層EN2、及び第2封止層EN2上に配置された第3封止層EN3を含む。第1及び第3封止層EN1、EN3の各々は無機物質を含み、第2封止層EN2は有機物質を含む。第2封止層EN2の厚さは第1及び第3封止層EN1、EN3の各々の厚さより大きい。
基板SUBと封止層ECPとの間の層は画素PXを含む画素層PXLとして定義される。
トランジスタTRによって有機発光層OELを発光させるための第1電圧ELVDDが第1電極E1に印加され、第2電圧ELVSSが第2電極E2に印加される。有機発光層OELに注入された正孔と電子とが結合して励起子(exciton)が形成され、励起子が底状態に遷移しながら、発光素子OLEDが発光される。発光素子OLEDが電流の流れにしたがって赤色、緑色、及び青色の光を発光することによって、所定の映像を表示することができる。
図5は図1に図示されたI−I’線の断面図である。図6は図5に図示された可撓性回路基板のベンディング状態を示す図面である。
図5を参照すれば、基板SUB上に画素層PXLが配置され、画素層PXLを覆うように基板SUB上に封止層ECPが配置される。封止層ECPは基板SUBの端部OS1から離隔して基板SUB上に配置される。封止層ECPは図4に図示された第1、第2、及び第3封止層EN1、EN2、EN3を含む薄膜封止層である。説明を簡易にするために、図5で、封止層ECPは第1、第2、及び第3封止層EN1、EN2、EN3に区分しなく、単一層として図示した。
基板SUBの下部に第1保護フィルムPF1が配置され、第1保護フィルムPF1の下部に第2保護フィルムPF2が配置される。第2保護フィルムPF2には第2保護フィルムPF2の所定の部分を除去して形成されたオープン部OPが設けられる。
基板SUBの厚さは第1及び第2保護フィルムPF1、PF2の各々の厚さより大きい。例えば、基板SUBの厚さは200μmであり、第1及び第2保護フィルムPF1、PF2の各々の厚さは数十μmである。
基板SUBの厚さは第3方向DR3における基板SUBの下面と上面との間の距離として定義される。第1及び第2保護フィルムPF1、PF2の各々の厚さは第3方向DR3における第1及び第2保護フィルムPF1、PF2の各々の下面と上面との間の距離として定義される。基板SUBの上面及び下面は各々第1及び第2方向DR1、DR2によって定義される平面である。
前述したように、第1保護フィルムPF1の端部は、基板SUBの端部OS1に隣接する基板SUBの所定の部分の下部に配置され、基板SUBの端部OS1から離隔される。また、第2保護フィルムPF2の端部は第1保護フィルムPF1の端部に隣接する第1保護フィルムPF1の所定の部分の下部に配置され、第1保護フィルムPF1の端部から離隔される。可撓性回路基板FPCの第1領域A1はパッド部PDに接続される。第2領域A2の下部に駆動集積回路D−ICが配置される。
可撓性回路基板FPCの下部にコーティング層CLが配置される。コーティング層CLは駆動集積回路D−ICを囲むように配置される。コーティング層CLは絶縁物質を含む絶縁層であり、ソルダレジスト(solder resist)として定義される。コーティング層CLは可撓性回路基板FPCに配置された配線をカバーして配線を保護することができる。例示的に、コーティング層CLの弾性率は900MPaである。
コーティング層CLは絶縁層であるので、コーティング層CLが第1領域A1の下部に配置される場合、第1領域A1がパッド部PDに電気的に接続されない。したがって、コーティング層CLは第1領域A1の下部に配置されない。具体的に、コーティング層CLは、パッド部PDから離隔するために、基板SUBの端部OS1から所定の間隔を離隔して配置される。
製造段階でコーティング層CLを基板SUBの端部OS1まで厳密に配置することが難しい。したがって、コーティング層CLは所定の公差(tolerance:工程上の誤差)を有するように基板SUBの端部OS1から所定の間隔を離隔することができる。
コーティング層CLの端部は基板SUBの端部OS1と対向する側として定義される。コーティング層CLの端部に隣接するコーティング層CLの所定の部分は、第1部分PT1として定義される。説明を簡易にするために、図5及び図6に図示されたコーティング層CLで第1部分PT1の境界が図示されている。
可撓性回路基板FPCの下部に補強部材SM1が配置される。補強部材SM1は基板SUBの端部OS1とコーティング層CLとの間に配置され、コーティング層CLの端部を覆う。例えば、基板SUBの端部OS1とコーティング層CLとの間に配置された補強部材SM1は、コーティング層CLの端部を覆うために第1部分PT1まで延長されて第1部分PT1の下部に配置される。即ち、コーティング層CLは第1部分PT1の下面上に配置される。
補強部材SM1はパッド部PDから離隔して基板SUBの端部OS1上に配置される。例えば、基板SUBと第1領域A1との間にパッド部PDが配置されるので、パッド部PDによって基板SUBと可撓性回路基板FPCとの間に所定の空間が形成される。補強部材SM1と基板SUBとの境界が基板SUBの端部OS1と重畳するように、基板SUBの端部OS1と可撓性回路基板FPCとの間に補強部材SM1が配置される。
基板SUBの端部OS1を定義する基板SUBの側面は基板SUBの一側面OSS1として定義される。端部OS1は基板SUBのエッジである終端を意味し、一側面OSS1は端部OS1に形成された基板SUBの2次元的な側面を意味する。
補強部材SM1は基板SUBの一側面OSS1上に配置される。本発明の実施形態で、補強部材SM1は図5に図示されているように基板SUBの一側面OSS1の全体に配置されるが、これに限定されなく、基板SUBの一側面OSS1の所定の部分上に配置されることができる。例えば、補強部材SM1は基板SUBの一側面OSS1の下端から上方に所定の間隔を離隔して基板SUBの一側面OSS1上に配置されてもよい。
第1部分PT1の第1端部はコーティング層CLの端部として定義され、第1部分PT1の第2端部は第1部分PT1の第1端部の反対側として定義される。第3方向DR3における補強部材SM1の厚さは、基板SUBの端部OS1から第1部分PT1の第2端部に向かって、小さくなる。可撓性回路基板FPCが曲げられていない、平らな状態である時、補強部材SM1の下面は基板SUBの一側面OSS1の下端から第1部分PT1の第2端部に向かう傾斜面である。
以下、基板SUBの端部OS1と第1部分PT1の第1端部との間の距離は第1距離D1として定義され、基板SUBの端部OS1と第1部分PT1の第2端部との間の距離は第2距離D2として定義される。また、第1部分PT1の第1端部と第1部分PT1の第2端部との間の距離である第1部分PT1の幅は第1幅W1として定義される。第1幅W1は第2距離D2から第1距離D1を引いた値である。
第1幅W1は第1距離D1より大きい。しかし、これに限定されなく、第1幅W1は第1距離D1より小さいか、或いは同一であってもよい。第1距離D1は100μm以上200μm以下である。また、第2距離D2は0.5mm以上1.5mm以下である。
補強部材SM1は絶縁物質を含む。補強部材SM1は紫外線によって硬化される樹脂を含む。例えば、補強部材SM1はアクリル樹脂(acrylic resin)を含む。補強部材SM1を形成するための樹脂が可撓性回路基板FPCの下部に塗布され、塗布された樹脂が紫外線によって硬化されて補強部材SM1が形成される。補強部材SM1が形成された後、可撓性回路基板FPCが曲げられる。
補強部材SM1の弾性率はコーティング層CLの弾性率より小さい。例えば、補強部材SM1の弾性率は50MPa以上500MPa以下である。
図6を参照すれば、可撓性回路基板FPCは基板SUBの下部に向かって曲げられる。可撓性回路基板FPCの第2領域A2は第2保護フィルムPF2の下部に配置される。基板SUBの下部に曲げられた可撓性回路基板FPCの部分は、両面テープである第2保護フィルムPF2の下面に付着される。駆動集積回路D−ICは第2保護フィルムPF2に設けられたオープン部OPに挿入される。したがって、駆動集積回路D−ICがより安定的に基板SUBの下部に配置されることができる。
可撓性回路基板FPCが曲げられた部分はベンディング領域BAとして定義される。ベンディング領域BAはデッドスペース(dead space)として定義される。デッドスペースは映像を表示しない領域である。第1方向DR1においてベンディング領域BAの幅は0.3mm以上0.6mm以下である。
例示的に、可撓性回路基板FPCが曲げられた状態で、補強部材SM1の下面が第1方向DR1に平行である水平面であるように図6に図示された。しかし、これは例示的に示したものであって、可撓性回路基板FPCが曲げられた状態で、補強部材SM1の下面は補強部材SM1が配置された第1部分PT1の第1幅W1にしたがって傾斜面を有することができる。
補強部材SM1が可撓性回路基板FPCに配置されず、可撓性回路基板FPCが曲げられる時、コーティング層CLの端部に形成された段差部HDで可撓性回路基板FPCがより大きく折られる。コーティング層CLが配置されない部分が存在するので、コーティング層CLの端部に段差部HDが形成される。段差部HDは可撓性回路基板FPCのみが配置された部分と可撓性回路基板FPCとコーティング層CLが共に配置された部分との間の高さ差として定義される。
このような場合、段差部HDで可撓性回路基板FPCがより大きく折られるので、段差部HDの可撓性回路基板FPCに配置された配線にクラックが発生する場合がある。このような問題を解決するために、図6に図示された曲げられた点線に沿ってベンディング部を形成することができる。しかし、このような場合、曲げられた点線は基板SUBの端部OS1から、より遠くに離隔されるので、デッドスペースが増加する問題点が発生してしまう。
また、工程上の公差によってコーティング層CLが配置されない部分が存在するので、コーティング層CLが配置されない部分で可撓性回路基板FPCに配置された配線が保護されないことがあり得る。コーティング層CLが配置されない部分に対応するベンディング領域BAの厚さは他のベンディング領域BAの厚さより小さいので、コーティング層CLが配置されない部分のベンディング領域BAは外部の衝撃に脆弱になってしまう。
本発明の実施形態で、基板SUBの端部OS1とコーティング層CLとの間に補強部材SM1が配置されることによって、コーティング層CLが配置されない部分のベンディング領域BAを強化することができる。したがって、段差部HDで可撓性回路基板FPCがより大きく折られる現象を防止することができ、段差部HDで配線におけるクラックの発生を抑制することができる。また、図6に図示された曲げられた点線と異なるように可撓性回路基板FPCのベンディング領域BAが基板SUBの端部OS1により近づくように形成されるので、デッドスペースを減少することができる。
コーティング層CLが配置されない部分で可撓性回路基板FPCに補強部材SM1が配置されるので、補強部材SM1によって可撓性回路基板FPCに配置された配線を保護することができる。また、補強部材SM1は所定の弾性力を有するので、外部の衝撃を吸収してベンディング領域BAを保護することができる。
弾性率が大きい物質であるほど、復元される力が強いので、補強部材SM1の弾性率がコーティング層CLの弾性率より大きい場合、補強部材SM1が配置された可撓性回路基板FPCの部分を曲げることが難しくなる。また、本発明の実施形態で、第3方向DR3を基準に補強部材SM1の厚さはコーティング層CLの厚さより大きい。したがって、補強部材SM1の弾性率がコーティング層CLの弾性率と同一である場合、補強部材SM1が配置された可撓性回路基板FPCの部分を曲げることが難しくなる。
前述したように、本発明の実施形態で、補強部材SM1がコーティング層CLより小さい弾性率を有するので、補強部材SM1が配置された可撓性回路基板FPCの部分を容易に曲げることができる。
図7は図5に図示された補強部材を形成する方法を簡略に示した図面である。
図7を参照すれば、図5に図示された基板SUBの上下が逆転し、コーティング層CLが上部に向かうように配置されている。したがって、基板SUBの端部OS1とコーティング層CLの端部との間の可撓性回路基板FPCが上部に向かうように配置される。
ノズルNOZを通じて流動性を有する樹脂RSが吐出され、樹脂RSは基板SUBの端部OS1とコーティング層CLの端部との間に提供される。樹脂RSが可撓性回路基板FPC上に塗布され、樹脂RSは基板SUBの一側面OSS1に作用する表面張力によって基板SUBの一側面OSS1の上に移動して基板SUBの一側面OSS1上に配置される。また、樹脂RSは第1部分PT1に流れて第1部分PT1上に配置される。
前述したように樹脂RSは紫外線硬化性樹脂RSであり、紫外線によって樹脂RSが硬化されて補強部材SM1が形成される。先に説明された補強部材SM1の弾性率は硬化された樹脂RSの弾性率である。
図8は封止基板を含む表示パネルと表示パネルに接続された可撓性回路基板の断面図である。図9は図8に図示された可撓性回路基板のベンディング状態を示す図面である。
説明を簡易にするために、図8及び図9は図5及び図6に対応する断面図として図示している。封止層ECPとして封止基板EGが使用されることを除外すれば、他の構成は図1乃至図6に図示された表示装置DDの構成と同一である。したがって、以下、封止基板EGの構成について主に説明し、同一な構成には同一な符号を使用して図示した。
図8及び図9を参照すれば、表示パネルDP’の封止層ECPは基板SUB上に配置された封止基板EG及び基板SUBと封止基板EGとを結合するシーリング部材SLを含む。基板SUBと封止基板EGとの間に画素層PXLが配置される。
シーリング部材SLは画素層PXL周辺に配置される。例えば、シーリング部材SLは画素層PXLの画素PXを囲むように基板SUBの非表示領域NDA上に配置される。封止基板EGはパッド部PDに重畳しない。図8に図示された表示パネルDP’は剛性タイプ(rigid−type)の表示パネルである。
封止基板EGは合成樹脂基板又はガラス基板を含む。シーリング部材SLはフリット(frit)のような無機物接着部材を含む。しかし、これに制限されず、シーリング部材SLは有機物接着部材を含むことができる。本発明の実施形態で画素層PXLは封止基板EG及びシーリング部材SLによって外部から密封されるので、水分による発光素子OLEDの不良が防止されることができる。
可撓性回路基板FPCの下部に補強部材SM1が配置され、可撓性回路基板FPCがベンディングされた構造は図5及び図6に図示された構造と同一であるので、説明を省略する。
図10乃至図22は本発明の多様な実施形態に係る補強部材の構成を示す図面である。
図10乃至図22に図示された封止層ECPは第1、第2、及び第3封止層EN1、EN2、EN3を含む薄膜封止層である。説明を簡易にするために、図10乃至図22は図5及び図6に図示された断面図に対応する断面図として図示した。
補強部材SM2〜SM8の構成を除外すれば、図10乃至図22に図示された構成は図5及び図6に図示された構成と同一である。したがって、以下、図10乃至図22を参照して、図5及び図6に図示された補強部材SM1と異なる構成である補強部材SM2〜SM8の構成について説明する。なお、同一な構成には同一な符号を使用して図示した。
図10は本発明の他の実施形態に係る補強部材の構成を示す図面である。図11は図10に図示された可撓性回路基板のベンディング状態を示す図面である。
図10及び図11を参照すれば、補強部材SM2は図5に図示された補強部材SM1のように、基板SUBの端部OS1とコーティング層CLの端部との間、第1部分PT1の下部、及び基板SUBの一側面OSS1の上に配置される。さらに、補強部材SM2を、基板SUBの一側面OSS1の下端を覆うように第1保護フィルムPF1の端部に隣接する基板SUBの下部にさらに配置することができる。
図示しないが、補強部材SM2を形成するために、図5に図示された補強部材SM1を形成するための樹脂RSが提供された後、第1保護フィルムPF1の端部に隣接する基板SUBの下部に所定量の樹脂を追加で提供することができる。
基板SUBの下部に配置された補強部材SM2は下部に突出された膨らんだ形状を有する。補強部材SM2は図5に図示された補強部材SM1より大きいので、ベンディング領域BAをより強化することができる。
図12は本発明の他の実施形態に係る補強部材の構成を示す図面である。図13は図12に図示された可撓性回路基板のベンディング状態を示す図面である。
図12及び図13を参照すれば、補強部材SM3は図5に図示された補強部材SM1のように、基板SUBの端部OS1とコーティング層CLの端部との間、第1部分PT1の下部、及び基板SUBの一側面OSS1上に配置される。また、補強部材SM3は図10に図示された補強部材SM2のように基板SUBの一側面OSS1の下端を覆うように第1保護フィルムPF1の端部に隣接する基板SUBの下部に配置される。
さらに、補強部材SM3を、第1保護フィルムPF1の端部を定義する第1保護フィルムPF1の一側面OSS1_1の下端を覆うために、第2保護フィルムPF2の端部に隣接する第1保護フィルムPF1の下部及び第1保護フィルムPF1の一側面OSS1_1上にさらに配置することができる。
図示しないが、補強部材SM3を形成するために、図5及び図10に図示された補強部材SM1、SM2を形成するための樹脂が提供された後、第2保護フィルムPF2の端部に隣接する第1保護フィルムPF1の下部及び第1保護フィルムPF1の一側面OSS1_1上に所定量の樹脂を追加で提供することができる。
第1保護フィルムPF1の下部に配置された補強部材SM3は下部に突出された膨らんでいる形状を有する。補強部材SM3は図5に図示された補強部材SM1より大きいので、ベンディング領域BAをより強化することができる。
第3方向DR3において、第1保護フィルムPF1の下部に配置された補強部材SM3の第1厚さTH1は、第2保護フィルムPF2の第2厚さTH2より小さい。可撓性回路基板FPCが曲げられ、第2保護フィルムPF2の下部に曲げられた可撓性回路基板FPCの部分は、第2保護フィルムPF2の下面に付着される。
第1厚さTH1が第2厚さTH2より大きい場合、第1保護フィルムPF1の下部に配置された補強部材SM3は図11に図示された点線のように第2保護フィルムPF2より下方に突出した補強部材SM3’の形状になる。このような場合、第2保護フィルムPF2の下部に曲げられた可撓性回路基板FPCの部分が、下部に突出された補強部材SM3’によって、第2保護フィルムPF2の下面に容易に付着されないことがあり得る。
可撓性回路基板FPCを第2保護フィルムPF2の下面に付着するために、第2保護フィルムPF2の下部に曲げられた可撓性回路基板FPCに向かって所定の圧力PSが印加される。圧力PSは第2保護フィルムPF2より下部に突出された補強部材SM3’に、より強く印加される。このような場合、圧力PSは補強部材SM3’によって補強部材SM3’上の基板SUBに伝達され、基板SUBが圧力PSによって破損されることがある。
しかし、本発明の実施形態で、第1保護フィルムPF1の下部に配置された補強部材SM3は第2保護フィルムPF2より小さい厚さを有するので、前述した問題の発生を抑制することができる。
図14は本発明の他の実施形態に係る補強部材の構成を示す図面である。
補強部材SM4_1、SM4_2、SM4_3は互いに区分される実施形態である。補強部材SM4_1と区分するために、補強部材SM4_2及び補強部材SM4_3は各々点線で図示した。
図14を参照すれば、図5に図示された構成と異なり、基板SUBの端部OS1、第1保護フィルムPF1の端部、及び第2保護フィルムPF2の端部は互いに重畳する。補強部材SM4_1は図5に図示された補強部材SM1と同一である。
さらに、補強部材SM4_2は基板SUBの一側面OSS1及び第1保護フィルムPF1の一側面OSS1_1上に配置される。また、補強部材SM4_3は基板SUBの一側面OSS1、第1保護フィルムPF1の一側面OSS1_1、及び第2保護フィルムPF2の端部を定義する第2保護フィルムPF2の一側面OSS1_2上に配置される。
図15は本発明の他の実施形態に係る補強部材の構成を示す図面である。図16は図15に図示された可撓性回路基板のベンディング状態を示す図面である。
図15及び図16を参照すれば、補強部材SM5は基板SUBの端部OS1とコーティング層CLとの間を満たすように、基板SUBの端部OS1に隣接する基板SUBの下部からコーティング層CLの第1部分PT1まで配置される。基板SUBの端部OS1に隣接する基板SUBの下部は第1保護フィルムPF1の端部に隣接する基板SUBの下部である。
補強部材SM5は基板SUBの端部OS1に隣接する基板SUBの下部及び基板SUBの端部OS1とコーティング層CLとの間に重畳し、下部に突出された第1突出部SM5_1と、第1部分PT1に重畳し、下部に突出された第2突出部SM5_2とを含む。第1突出部SM5_1及び第2突出部SM5_2は各々下部に突出された膨らんだ形状を有する。
補強部材SM5は所定の弾性力を有するので、図16に図示されたように可撓性回路基板FPCが曲げられる場合、第1突出部SM5_1及び第2突出部SM5_2を互いに隣接するように変形することができる。
図17は図15に図示された補強部材を形成する方法を簡略に示した図面である。
図17を参照すれば、基板SUBの端部OS1とコーティング層CLの端部との間の可撓性回路基板FPCが上方を向くように配置される。ノズルNOZを通じて、流動性を有する第1樹脂RS1が吐出される。第1樹脂RS1は基板SUBの一側面OSS1及び基板SUBの端部OS1に隣接する基板SUB上に提供され、基板SUBの端部OS1とコーティング層CLの端部との間に提供される。
ノズルNOZを通じて、流動性を有する第2樹脂RS2が吐出される。第2樹脂RS2は第1部分PT1上に提供される。即ち、補強部材SM5を形成するために樹脂が2回提供される。紫外線によって樹脂RS1、RS2が硬化されて補強部材SM5が形成される。
図18は本発明の他の実施形態に係る補強部材の構成を示す図面である。図19は図18に図示された可撓性回路基板のベンディング状態を示す図面である。
図18及び図19を参照すれば、補強部材SM6は基板SUBの端部OS1とコーティング層CLのとの間を満たすために、基板SUBの端部OS1に隣接する基板SUBの下部からコーティング層CLの第1部分PT1_1まで配置される。第1部分PT1_1は図19に図示されたようにベンディング領域BAに重畳するコーティング層CLの部分として定義される。
第1部分PT1_1の第1幅W1_1は図5に図示された第1部分PT1の第1幅W1より大きい。第1幅W1_1が第1幅W1より大きいので、第2距離D2_1は図5に図示された第2距離D2より大きい。
補強部材SM6は基板SUBの端部OS1に隣接する基板SUBの下部及び基板SUBの端部OS1とコーティング層CLとの間に重畳し、下部に突出した第1突出部SM6_1及び第1部分PT1に重畳し、平らな平坦部SM6_2を含む。第1部分PT1に配置された平坦部SM6_2はベンディング領域BAに重畳する。図5に図示された補強部材SM1はベンディング領域BAの一部分に重畳するが、補強部材SM6はベンディング領域BAに全体的に重畳することができる。
平坦部SM6_2を形成するために流動性がより大きい樹脂が使用される。第1部分PT1に流動性が大きい樹脂が提供されると、流動性が大きい樹脂は所定の時間が経過した後に、平らに広がるので、平坦な構造を形成することができる。
図20は本発明の他の実施形態に係る補強部材の構成を示す図面である。図21は図20に図示された可撓性回路基板のベンディング状態を示す図面である。
図20及び図21を参照すれば、補強部材SM7は基板SUBの端部OS1とコーティング層CLとの間を満たすように、基板SUBの端部OS1に隣接する基板SUBの下部からコーティング層CLの第1部分PT1_1まで配置される。第1部分PT1_1は図18に図示された第1部分PT1_1と同一である。
補強部材SM7は下部に突出した膨らんだ形状を有する。補強部材SM7は図18及び図19に図示された補強部材SM6のようにベンディング領域BAに全体的に重畳する。図10に図示された補強部材SM2を形成するために使用される樹脂の量より多い量の樹脂を使用して補強部材SM7が形成される。
図22は本発明の他の実施形態に係る補強部材の構成を示す図面である。
図22を参照すれば、補強部材SM8は基板SUBの端部OS1とコーティング層CLの端部との間に配置される。図5に図示された補強部材SM1と異なり、補強部材SM8はコーティング層CLの下部には配置されないことがあり得る。
補強部材SM8は基板SUBの一側面OSS1の所定の部分上に配置される。例えば、補強部材SM8は基板SUBの一側面OSS1の上端に隣接する一側面OSS1の所定の部分上に配置される。
図10乃至図22には封止層ECPとして第1、第2、及び第3封止層EN1、EN2、EN3を含む薄膜封止層が図示されたが、これに限定されなく、図10乃至図22に図示された補強部材SM2〜SM8が図8及び図9に図示された封止基板EP及びシーリング部材SLを含む表示パネルDP’に適用されてもよい。
以上、実施形態を参照して説明したが、該当技術分野の熟練された当業者は下記の特許請求の範囲に記載された本発明の思想及び領域から逸脱しない範囲内で本発明を多様に修正及び変更させることができることを理解するべきである。また、本発明に開示された実施形態は本発明の技術思想を限定するためのことではなく、下記の特許請求の範囲及びそれと同等な範囲内にあるすべての技術思想は本発明の権利範囲に含まれることと解釈されなければならない。
DD:表示装置
DP:表示パネル
SUB:基板
PXL:画素層
ECP:封止層
PF1:第1保護フィルム
PF2:第2保護フィルム
FPC:可撓性回路基板
PD:パッド部
D−IC:駆動集積回路
A1、A2:第1及び第2領域
CL:コーティング層
SM1〜SM8:補強部材
PT1:第1部分
OS1:端部
OSS1:一側面
BA:ベンディング領域

Claims (16)

  1. 基板と、
    前記基板の上部に配置された複数の画素と、
    前記基板に接続された可撓性回路基板と、
    前記可撓性回路基板の下部に配置された駆動集積回路と、
    前記基板の前記端部から離隔して前記可撓性回路基板の下部に配置され、前記駆動集積回路を囲むコーティング層と、
    前記可撓性回路基板の下部で前記基板の前記端部と前記コーティング層との間に配置され、前記基板の前記端部と対向する前記コーティング層の端部を覆う補強部材と、を含む表示装置。
  2. 前記補強部材は、前記基板の前記端部における一側面上に配置される請求項1に記載の表示装置。
  3. 前記補強部材は、前記基板の前記端部から前記コーティング層の前記端部を越えて前記コーティング層の第1部分まで延長し、前記第1部分の下部に配置されている請求項1に記載の表示装置。
  4. 前記第1部分の第1端部は、前記コーティング層の前記端部に位置し、
    前記基板の上面に直交する方向における前記補強部材の厚さは、前記基板の前記端部から前記コーティング層の前記端部を越えて、前記第1部分の前記第1端部の反対側である前記第1部分の第2端部に向かって小さくなる請求項3に記載の表示装置。
  5. 前記第1部分の前記第1端部と前記第1部分の前記第2端部との間の距離である前記第1部分の第1幅は、前記基板の前記端部と前記コーティング層の前記端部との間の第1距離より大きい請求項4に記載の表示装置。
  6. 前記第1距離は、100μm以上200μm以下である請求項5に記載の表示装置。
  7. 前記基板の前記端部と前記第1部分の前記第2端部との間の第2距離は、0.5mm以上1.5mm以下である請求項4に記載の表示装置。
  8. 前記補強部材の弾性率は、前記コーティング層の弾性率より小さい請求項1に記載の表示装置。
  9. 前記補強部材は、50MPa以上500MPa以下の弾性率を有し、
    前記コーティング層は、900MPaの弾性率を有する請求項8に記載の表示装置。
  10. 前記補強部材は、紫外線によって硬化される樹脂を含む請求項1に記載の表示装置。
  11. 前記基板の前記端部に隣接する前記基板の所定の部分上に配置され、前記可撓性回路基板に接続されたパッド部をさらに含み、
    前記補強部材は、前記補強部材と前記基板との境界が前記基板の前記端部と重畳するように、前記基板の端部と前記可撓性回路基板との間に配置される請求項1に記載の表示装置。
  12. 前記基板の下部に配置された第1保護フィルムと、
    前記第1保護フィルムの下部に配置された第2保護フィルムと、をさらに含む請求項1に記載の表示装置。
  13. 前記可撓性回路基板は、前記基板の下部に向かって曲げられ、前記駆動集積回路は、前記第2保護フィルムに設けられた開口部に配置される請求項12に記載の表示装置。
  14. 前記第1基板は、第1方向に長辺を有し、前記第2方向に短辺を有する長方形状を有し、
    前記基板の前記端部は、前記短辺の中でいずれか1つの短辺の端部である請求項13に記載の表示装置。
  15. 前記可撓性回路基板が曲げられた部分であるベンディング領域は、前記第1方向に0.3mm以上0.6mm以下の幅を有する請求項14に記載の表示装置。
  16. 前記第1保護フィルムの端部は、前記基板の前記端部に隣接する前記基板の所定の部分の下部において、前記基板の前記端部から離隔して配置され、
    前記第2保護フィルムの端部は、前記第1保護フィルムの前記端部に隣接する前記第1保護フィルムの所定の部分の下部において、前記第1保護フィルムの前記端部から離隔して配置された請求項11に記載の表示装置。
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