JP2020008841A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2020008841A5 JP2020008841A5 JP2019097148A JP2019097148A JP2020008841A5 JP 2020008841 A5 JP2020008841 A5 JP 2020008841A5 JP 2019097148 A JP2019097148 A JP 2019097148A JP 2019097148 A JP2019097148 A JP 2019097148A JP 2020008841 A5 JP2020008841 A5 JP 2020008841A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- information
- substrate
- information processing
- acquired
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 47
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 42
- 238000001459 lithography Methods 0.000 claims description 39
- 230000010365 information processing Effects 0.000 claims description 33
- 238000010801 machine learning Methods 0.000 claims description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 9
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 4
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims 3
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims 3
- 238000010008 shearing Methods 0.000 claims 1
Description
上記課題を解決する本発明の一側面としての情報処理装置は、原版を用いて基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置によって形成されたパターンを検査する検査条件を取得する情報処理装置であって、第2パターンを形成するときに取得された前記リソグラフィ装置の状態を表す第3情報をモデルに入力することにより、前記モデルから出力された、前記第2パターンを検査する際に適用される第2検査条件を取得する取得手段を有し、前記モデルは、第1パターンを形成するときに取得された前記リソグラフィ装置の状態を表す第1情報および前記第1パターンを検査する際に適用された第1検査条件を表す第2情報を含む学習データを用いた機械学習により取得される。
Claims (28)
- 原版を用いて基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置によって形成されたパターンを検査する検査条件を取得する情報処理装置であって、
第2パターンを形成するときに取得された前記リソグラフィ装置の状態を表す第3情報をモデルに入力することにより、前記モデルから出力された、前記第2パターンを検査する際に適用される第2検査条件を取得する取得手段を有し、
前記モデルは、第1パターンを形成するときに取得された前記リソグラフィ装置の状態を表す第1情報および前記第1パターンを検査する際に適用された第1検査条件を表す第2情報を含む学習データを用いた機械学習により取得されることを特徴とする情報処理装置。 - 基板上に形成されたパターンを検査する検査装置に前記第2検査条件を出力する出力手段を有することを特徴とする、請求項1に記載の情報処理装置。
- 原版を用いて基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置によって形成されたパターンを検査する検査条件を取得する情報処理装置であって、
第2パターンを形成するときに取得された前記リソグラフィ装置の状態を表す第3情報をモデルに入力することにより、前記モデルから出力された、前記第2パターンについての第2検査結果を取得する取得手段と、
前記取得手段で取得した前記第2検査結果から前記第2パターンを検査する際に適用される第2検査条件を決定する決定手段と、を有し、
前記モデルは、第1パターンを形成するときに取得された前記リソグラフィ装置の状態を表す第1情報および前記第1パターンについての第1検査結果に関連する第4情報を学習データとした機械学習により取得されることを特徴とする情報処理装置。 - 基板上に形成されたパターンを検査する検査装置に前記第2検査結果および前記第2検査条件のうち少なくとも一方を出力する出力手段を有することを特徴とする、請求項3に記載の情報処理装置。
- 前記取得手段で取得した前記第2検査結果から前記基板毎に統計値を算出する算出手段と、
前記算出手段で算出した前記統計値に基づいて前記第2検査条件を採用するか否かの判定を行う判定手段と、
を有することを特徴とする、請求項3または請求項4に記載の情報処理装置。 - 基板上に形成されたパターンを検査する検査装置に前記統計値を出力する出力手段を有することを特徴とする、請求項5に記載の情報処理装置。
- 前記第1情報および前記第3情報には、前記リソグラフィ装置において前記原版および前記基板の少なくとも一方を移動する移動部を制御するための指令値に関する情報が含まれることを特徴とする、請求項1ないし請求項6のいずれか1項に記載の情報処理装置。
- 前記第1情報および前記第3情報には、前記リソグラフィ装置において前記基板を保持する基板保持部に備えられた複数の吸着部における吸着力の分布に関する情報が含まれることを特徴とする、請求項1ないし請求項7のいずれか1項に記載の情報処理装置。
- 前記第1情報および前記第3情報には、前記リソグラフィ装置において前記原版および前記基板の少なくとも一方に形成されたアライメントマークを計測して得られるアライメント計測値、およびアライメント画像に関する情報のうち少なくとも1つが含まれることを特徴とする請求項1ないし請求項8のいずれか1項に記載の情報処理装置。
- 前記リソグラフィ装置は原版のパターン部と基板上のインプリント材とを接触させてパターンを形成するインプリント装置であって、
前記第1情報および前記第3情報には、前記インプリント材を供給する量および前記インプリント材を供給する位置を定めるドロップレシピの情報、前記インプリント材と前記原版のパターンとが接触するときに前記原版に作用する押圧力の情報、前記原版の凹部と前記原版を保持する型保持部との間の空間の圧力の情報、前記原版のパターンと接触した前記インプリント材が撮像された画像の情報、前記インプリント材と前記原版のパターンとが接触するときに前記原版と前記基板との間に作用するせん断力の情報、および前記インプリント材と前記原版のパターンとを分離するために要する離型力の情報のうち少なくとも1つが含まれることを特徴とする請求項1ないし請求項9のいずれか1項に記載の情報処理装置。 - 前記押圧力の情報には、前記原版の複数の位置において作用する押圧力の分布の情報を含むことを特徴とする請求項10に記載の情報処理装置。
- 前記離型力の情報には、前記原版の複数の位置において作用する離型力の分布の情報を含むことを特徴とする請求項10に記載の情報処理装置。
- 前記リソグラフィ装置は基板を露光してパターンを形成する露光装置であって、
前記第1情報および前記第3情報には、前記基板の高さを計測して得られるフォーカス計測値、前記基板を保持する基板ステージの振動を計測して得られる計測情報、前記基板を露光する光の光量を計測して得られる露光量、前記基板を露光する時間を表す露光時間に関する情報のうち少なくとも1つが含まれることを特徴とする請求項1ないし請求項9のいずれか1項に記載の情報処理装置。 - 前記第1パターンは前記基板としての第1基板の第1ショット領域に形成されたパターンであり、
前記基板としての第2基板の第2ショット領域に前記第2パターンを形成するときに取得された前記第3情報から前記第2パターンを検査する際に適用する前記第2検査条件を取得する、
ことを特徴とする請求項1ないし請求項13のいずれか1項に記載の情報処理装置。 - 前記第1パターンは前記基板としての第1基板の第1ショット領域に形成されたパターンであり、
前記基板としての第2基板上の第2ショット領域に前記第2パターンを形成するときに取得された前記第3情報から前記第2ショット領域とは異なる第3ショット領域に形成される第3パターンを検査する際に適用する第3検査条件をさらに取得する、
ことを特徴とする請求項1ないし請求項13のいずれか1項に記載の情報処理装置。 - 前記第3ショット領域は、前記第2ショット領域と同一の基板上にあることを特徴とする請求項15に記載の情報処理装置。
- 前記第3ショット領域は、前記第2ショット領域とは異なる基板上にあることを特徴とする請求項15に記載の情報処理装置。
- 前記第3ショット領域の基板上における位置は、前記第2ショット領域の基板上における位置と同一であることを特徴とする請求項17に記載の情報処理装置。
- 原版を用いて基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置によって形成されたパターンを検査する検査条件を取得するためのモデルを取得する情報処理装置であって、
第1パターンを形成するときに取得された前記リソグラフィ装置の状態を表す第1情報および前記第1パターンを検査する際に適用された第1検査条件を表す第2情報を学習データとした機械学習により、第2パターンを形成するときに取得された前記リソグラフィ装置の状態を表す第3情報が入力されることにより前記第2パターンを検査する際に適用される第2検査条件を出力するモデルを取得する取得手段を有することを特徴とする情報処理装置。 - 原版を用いて基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置によって形成されたパターンを検査して取得される検査結果を取得するためのモデルを取得する情報処理装置であって、
第1パターンを形成するときに取得された前記リソグラフィ装置の状態を表す第1情報および前記第1パターンについての第1検査結果に関連する第4情報を学習データとした機械学習により、第2パターンを形成するときに取得された前記リソグラフィ装置の状態を表す第3情報が入力されることにより前記第2パターンについての第2検査結果を出力するモデルを取得する取得手段を有することを特徴とする情報処理装置。 - 原版を用いて基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置によって形成されたパターンを検査する検査条件をコンピュータに取得させるプログラムであって、
第2パターンを形成するときに取得された前記リソグラフィ装置の状態を表す第3情報をモデルに入力することにより、前記モデルから出力された、前記第2パターンを検査する際に適用される第2検査条件を取得する取得工程を有する取得方法をコンピュータに実行させ、
前記モデルは、第1パターンを形成するときに取得された前記リソグラフィ装置の状態を表す第1情報および前記第1パターンを検査する際に適用された第1検査条件を表す第2情報を含む学習データを用いた機械学習により取得されることを特徴とするプログラム。 - 原版を用いて基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置によって形成されたパターンを検査する検査条件をコンピュータに取得させるプログラムであって、
第2パターンを形成するときに取得された前記リソグラフィ装置の状態を表す第3情報をモデルに入力することにより、前記モデルから出力された、前記第2パターンについての第2検査結果を取得する取得工程と、
前記取得工程で取得した前記第2検査結果から前記第2パターンを検査する際に適用される第2検査条件を決定する決定工程と、を有する取得方法をコンピュータに実行させ、
前記モデルは、第1パターンを形成するときに取得された前記リソグラフィ装置の状態を表す第1情報および前記第1パターンについての第1検査結果に関連する第4情報を学習データとした機械学習により取得されることを特徴とするプログラム。 - 原版を用いて基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置によって形成されたパターンを検査する検査条件を取得するためのモデルをコンピュータに取得させるプログラムであって、
第1パターンを形成するときに取得された前記リソグラフィ装置の状態を表す第1情報および前記第1パターンを検査する際に適用された第1検査条件を表す第2情報を学習データとした機械学習により、第2パターンを形成するときに取得された前記リソグラフィ装置の状態を表す第3情報が入力されることにより前記第2パターンを検査する際に適用される第2検査条件を出力するモデルを取得する取得工程を有する取得方法をコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。 - 原版を用いて基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置によって形成されたパターンを検査して取得される検査結果を取得するためのモデルをコンピュータに取得させるプログラムであって、
第1パターンを形成するときに取得された前記リソグラフィ装置の状態を表す第1情報および前記第1パターンについての第1検査結果に関連する第4情報を学習データとした機械学習により、第2パターンを形成するときに取得された前記リソグラフィ装置の状態を表す第3情報が入力されることにより前記第2パターンについての第2検査結果を出力するモデルを取得する取得工程を有する取得方法をコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。 - 原版を用いて基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、請求項1乃至18のいずれか1項に記載の情報処理装置を有し、
前記基板上にパターンを形成して、前記第2検査条件を取得することを特徴とするリソグラフィ装置。 - 請求項25に記載のリソグラフィ装置を用いて、パターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された前記基板を処理する工程と、を有し、
前記処理された基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。 - 請求項1乃至18のいずれか1項に記載の情報処理装置と、
原版を用いて基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置と、を有し
前記リソグラフィ装置において前記基板にパターンを形成して、前記情報処理装置において前記取得手段により前記パターンを検査する際に適用する検査条件を取得することを特徴とするリソグラフィシステム。 - 請求項27に記載のリソグラフィシステムを用いて、パターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された前記基板を処理する工程と、を有し、
前記処理された基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020190073913A KR102543393B1 (ko) | 2018-06-29 | 2019-06-21 | 정보 처리 장치, 저장 매체, 리소그래피 장치, 리소그래피 시스템 및 물품 제조 방법 |
US16/451,727 US11061335B2 (en) | 2018-06-29 | 2019-06-25 | Information processing apparatus, storage medium, lithography apparatus, lithography system, and article manufacturing method |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018125523 | 2018-06-29 | ||
JP2018125523 | 2018-06-29 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020008841A JP2020008841A (ja) | 2020-01-16 |
JP2020008841A5 true JP2020008841A5 (ja) | 2022-05-24 |
JP7305430B2 JP7305430B2 (ja) | 2023-07-10 |
Family
ID=69151680
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019097148A Active JP7305430B2 (ja) | 2018-06-29 | 2019-05-23 | 情報処理装置、プログラム、リソグラフィ装置、リソグラフィシステム、および物品の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7305430B2 (ja) |
KR (1) | KR102543393B1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20210089448A (ko) | 2020-01-08 | 2021-07-16 | 주식회사 엘지에너지솔루션 | 접속 플레이트를 구비한 배터리 팩 |
JP2021190596A (ja) * | 2020-06-01 | 2021-12-13 | キヤノン株式会社 | 制御方法、プログラム、インプリント方法、および物品製造方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8945444B2 (en) * | 2007-12-04 | 2015-02-03 | Canon Nanotechnologies, Inc. | High throughput imprint based on contact line motion tracking control |
JP5669377B2 (ja) * | 2009-11-09 | 2015-02-12 | キヤノン株式会社 | インプリント装置及び物品の製造方法 |
WO2015189026A2 (en) * | 2014-06-10 | 2015-12-17 | Asml Netherlands B.V. | Computational wafer inspection |
KR102521159B1 (ko) | 2014-11-25 | 2023-04-13 | 피디에프 솔루션즈, 인코포레이티드 | 반도체 제조 공정을 위한 개선된 공정 제어 기술 |
KR102048918B1 (ko) * | 2014-12-18 | 2020-01-08 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 기계 학습에 의한 피처 검색 |
KR102352673B1 (ko) * | 2017-08-07 | 2022-01-17 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 컴퓨테이션 계측법 |
-
2019
- 2019-05-23 JP JP2019097148A patent/JP7305430B2/ja active Active
- 2019-06-21 KR KR1020190073913A patent/KR102543393B1/ko active IP Right Grant
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6025489B2 (ja) | 検査装置および検査装置システム | |
JP2015527740A5 (ja) | ||
KR102637430B1 (ko) | 계측을 위한 신호-도메인 적응 | |
JP2020511003A (ja) | オーバレイ計量データの確率論的挙動の影響の判別 | |
TWI552245B (zh) | 結合晶圓實體測量結果與數位模擬資料以改善半導體元件之製程的方法 | |
JP2020008841A5 (ja) | ||
CN111386500B (zh) | 鉴定微光刻的掩模的方法 | |
TWI621025B (zh) | 匹配記錄的方法、維護排程的方法、及設備 | |
CN113990770B (zh) | 一种晶圆检测方法及检测装置 | |
JP5640943B2 (ja) | 露光装置の設定方法、基板撮像装置及び記憶媒体 | |
JP2020136502A5 (ja) | 情報処理装置、プログラム、リソグラフィ装置、物品の製造方法、物品の製造システム、及び出力方法 | |
KR20200028487A (ko) | 리소그래피 공정을 위한 기판, 계측 장치 및 관련 방법 | |
JP2018194616A5 (ja) | ||
JP2019056830A5 (ja) | 計算方法、露光方法、プログラム、露光装置、および物品の製造方法 | |
JP7097447B2 (ja) | 電子顕微鏡を使用した半導体計測および欠陥分類 | |
TW201530125A (zh) | 量測與分析晶片或晶圓表面結構的方法 | |
KR102050628B1 (ko) | 유도성 자기 조립 프로세스에서의 제품 상의 노광 파라미터들의 도출 및 조정 | |
JP2018156986A5 (ja) | ||
JP2022054250A5 (ja) | ||
US10699971B2 (en) | Method for processing of a further layer on a semiconductor wafer | |
TW202102944A (zh) | 用於疊對度量衡之方法及其設備 | |
JP5402458B2 (ja) | 微細パターン測定方法及び微細パターン測定装置 | |
TWI786360B (zh) | 度量衡方法 | |
JP2019045726A5 (ja) | ||
JP2022160187A5 (ja) |