JP2022160187A5 - - Google Patents

Description

上記目的を達成するために、本発明の一側面としての露光装置は、パターンが形成された原版を用いて、基板上の複数のショット領域を走査露光する露光装置であって、前記原版を保持する原版ステージの位置を計測して第１計測値を取得する第１計測部と、前記基板を保持する基板ステージの位置を計測して第２計測値を取得する第２計測部と、前記原版ステージと前記基板ステージとの同期誤差を演算する演算部と、を有し、前記複数のショット領域それぞれは、前記同期誤差を評価する評価領域と、前記同期誤差を評価しない非評価領域とを含み、前記演算部は、前記評価領域を露光している期間に前記第１計測値及び前記第２計測値に基づいて前記同期誤差を演算することを特徴とする。

Claims (14)

1. パターンが形成された原版を用いて、基板上の複数のショット領域を走査露光する露光装置であって、
   前記原版を保持する原版ステージの位置を計測して第１計測値を取得する第１計測部と、
   前記基板を保持する基板ステージの位置を計測して第２計測値を取得する第２計測部と、
   前記原版ステージと前記基板ステージとの同期誤差を演算する演算部と、
   を有し、
   前記複数のショット領域それぞれは、前記同期誤差を評価する評価領域と、前記同期誤差を評価しない非評価領域とを含み、
   前記演算部は、前記評価領域を露光している期間に前記第１計測値及び前記第２計測値に基づいて前記同期誤差を演算することを特徴とする露光装置。
2. 前記同期誤差に応じた処理を行う処理部を更に有し、
   前記処理部は、前記処理として、前記演算部で演算された前記評価領域に対する前記同期誤差が閾値を超えているショット領域を通知することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
3. 前記同期誤差に応じた処理を行う処理部を更に有し、
   前記処理部は、前記処理として、前記演算部で演算された前記評価領域に対する前記同期誤差が閾値を超えているショット領域を含む基板をリワーク基板とすることを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
4. 前記複数のショット領域それぞれについて、ショット領域内のチップ領域を示すチップ領域情報を入力する入力部と、
   前記入力部に入力された前記チップ領域情報に基づいて、前記チップ領域を前記評価領域として決定し、前記ショット領域内の前記チップ領域を除いた領域を前記非評価領域として決定する決定部と、
   を更に有することを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の露光装置。
5. 前記複数のショット領域それぞれに構成されるチップの配列を示す設計情報に基づいて、ショット領域内のチップ領域を前記評価領域として決定し、前記ショット領域内の前記チップ領域を除いた領域を前記非評価領域として決定する決定部を更に有することを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の露光装置。
6. 前記基板上の各ショット領域内の平坦度を示す情報に基づいて、ショット領域内でチップ領域と推定される領域を前記評価領域として決定し、前記ショット領域内のチップ領域と推定される領域を除いた領域を前記非評価領域として決定する決定部を更に有することを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の露光装置。
7. 前記基板ステージに保持された前記基板上のショット領域が前記ショット領域に対する露光が行われる露光領域に到達する前に、前記ショット領域の高さ方向の位置を計測して第３計測値を取得する第３計測部と、
   前記第３計測値に基づいて決定される、前記ショット領域が前記露光領域に到達するまでに前記基板ステージに保持された前記基板の高さ方向の位置が目標位置となるように前記基板ステージを駆動する際の駆動量に基づいて、前記評価領域と、前記非評価領域とを決定する決定部と、
   を更に有することを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の露光装置。
8. 前記決定部は、前記基板上のショット領域内で、前記駆動量が予め定められた駆動量未満となる領域を前記評価領域として決定し、前記駆動量が前記予め定められた駆動量以上となる領域を前記非評価領域として決定することを特徴とする請求項７に記載の露光装置。
9. 前記演算部は、前記第１計測部で取得された前記第１計測値及び前記第２計測部で取得された前記第２計測値から、前記評価領域を露光している期間に取得された前記第１計測値及び前記第２計測値を抽出して、前記同期誤差を演算することを特徴とする請求項１乃至８のうちいずれか１項に記載の露光装置。
10. 前記第１計測部は、前記評価領域を露光している期間において前記原版ステージの位置を計測して前記第１計測値を取得し、前記非評価領域を露光している期間には前記原版ステージの位置を計測せず、
    前記第２計測部は、前記評価領域を露光している期間において前記基板ステージの位置を計測して前記第２計測値を取得し、前記非評価領域を露光している期間には前記基板ステージの位置を計測しないことを特徴とする請求項１乃至８のうちいずれか１項に記載の露光装置。
11. 前記演算部で演算された前記同期誤差のうち前記ショット領域内の注目すべき注目領域を露光している期間における同期誤差に応じた処理を行う処理部を更に有することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
12. パターンが形成された原版を用いて、基板上の複数のショット領域を走査露光する露光方法であって、
    前記原版を保持する原版ステージと前記基板を保持する基板ステージとの同期誤差を演算する工程を有し、
    前記複数のショット領域それぞれは、前記同期誤差を評価する評価領域と、前記同期誤差を評価しない非評価領域とを含み、
    前記工程では、前記評価領域を露光している期間に前記原版ステージの位置を計測して取得される第１計測値及び前記基板ステージの位置を計測して取得される第２計測値に基づいて前記同期誤差を演算することを特徴とする露光方法。
13. 前記工程で演算された前記同期誤差のうち前記ショット領域内の注目すべき注目領域を露光している期間における同期誤差に応じた処理を行う工程を更に有することを特徴とする請求項１２に記載の露光方法。
14. 請求項１乃至１１のうちいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
    露光した前記基板を現像する工程と、
    現像された前記基板から物品を製造する工程と、
    を有することを特徴とする物品の製造方法。