JP2019527853A - レベリング可能なレチクルライブラリシステム - Google Patents

Abstract

レべリング可能なレチクルライブラリアセンブリシステムは、レチクルライブラリアセンブリ（４）と、ピボットアセンブリ（３）と、フレームアセンブリ（２）を含む。レチクルライブラリアセンブリ（４）は、フレームアセンブリ（２）を介してピボットアセンブリ（３）によってレベリングすることができるように、フレームアセンブリ（２）上に配置されている。レチクルライブラリアセンブリ（４）は、フレームアセンブリ（２）によってレベリングされていてもよい。【選択図】図２

Description

本発明は、レチクル搬送の分野に関し、特に、レベリング可能なレチクルライブラリシステムに関する。

フォトリソグラフィ装置を用いて、レチクルパターンをシリコン、又はガラス基板上に露光する。生産性を促進し、レチクルロボットアームを管理し動作させるため、いくつかのフォトリソグラフィ装置は、外部のレチクルライブラリに加えて、特定の個数レチクルを格納するための特殊な内部のレチクルライブラリを含む。

そのようなフォトリソグラフィ装置におけるレチクル搬送システムのワークフローは、典型的には次のことを含む。
複数のレチクルを装填されたレチクルカセットを外部レチクルライブラリに配置する。ロック解除メカニズムによる外部レチクルライブラリをロック解除する。ＱＲコード走査後に、レチクルカセットを内部レチクルライブラリに搬送する。内部レチクルライブラリからレチクルを取り出し、それを露光のためにマスクステージに配置する。露光完了後、メカニカルアームによってレチクルをマスクステージから内部レチクルライブラリに戻す。

上記のワークフローから分かるように、構造、及び使用に関して合理的なレチクル保管システムは、レチクル転写効率、及び精度を向上させ、レチクルの清浄度を向上させ、フォトリソグラフィ装置により信頼性の高いレチクルを供給することができる。

図１を参照すると、従来のレチクル保管システムは、上下動可能であり、レチクルライブラリは、シャフトに固定されている。従来のレチクル保管システムは、変速機構（伝達機構）１００と、支持フレーム１０１と、レチクルライブラリ１０２とを含む。レチクルライブラリは、区画の数を有し、接続部材を介して、変速機構１００の作用によりＺ方向に沿って移動することができる。

この設計は、例のようないくつかの欠点を有する：
レチクルライブラリは重く、変速機構の摩耗を引き起こす傾向にあるため、その中において粒子を形成し得る。レチクルライブラリは、常に開いているため、レチクルライブラリに含まれたレチクルの表面が汚染されるおそれがある。レチクルが変形し、その後の操作がより困難になる。そしてセキュリティインターロックを行うことができない。さらに、それは片持ち梁のようなものであり、したがって、それは重い荷重の下で著しく変形する傾向がある。いくつかの設計上の誤差と相まって、Ｚ方向の調整、及び使用前の初回のレベリング（水平調整）は、その通常の操作のため、必要とする。初回のレベリングが適切にされていないと、その後の使用中においてレチクルライブラリの大きな非平坦性を除去するのに時間がかかる。

本発明の目的は、従来のシステムとのその後の使用中に発生する、大きな非平坦性の除去による時間浪費の問題を解決することである。

この目的のため、本発明は、レチクルライブラリアセンブリ、ピボットアセンブリ、及びフレームアセンブリを含み、レベリング機能を備えたレチクルライブラリシステムを提供する。
レチクルライブラリアセンブリは、前記レチクルライブラリアセンブリがフレームアセンブリを介してピボットアセンブリによってレベリングすることができるように、前記フレームアセンブリ上に配置されており、
前記レチクルライブラリアセンブリが、前記フレームアセンブリに対してレベリングすることができる。

レチクルライブラリシステムは、
前記レチクルライブラリアセンブリの開口を密閉するために前記レチクルライブラリアセンブリ上に配置されたシールをさらに備えてもよい。

前記シールは、本体、密閉扉、レチクルライブラリアセンブリインタフェースプレート、及びプッシュバック機構を備え、
前記本体は、前記レチクルライブラリアセンブリインタフェースプレートを介して前記レチクルライブラリアセンブリ、又は前記フレームアセンブリに接続されており、
前記プッシュバック機構は、前記本体に搭載され、
前記密閉扉は、前記レチクルライブラリアセンブリの開口を密閉するよう、又は密閉しないように、閉鎖又は開放されるように設けられており、
プッシュバック機構は、前記密閉扉の開閉を制御するために駆動してもよい。

また、前記シールは、メカニカルアームが、レチクルを取り去る、又は配置するための所定の位置に到達したか否かを検出するために、前記本体に配置されたインターロックセンサをさらに備え、
前記プッシュバック機構は、前記インターロックセンサの検出結果に基づいて前記密閉扉の開閉を制御するために駆動してもよい。

また、前記ピボットアセンブリは、ピボット軸と、調整機構と、フレームアセンブリインタフェース部材と、ユニバーサル軸受アセンブリと、を備え、
前記ピボット軸の両端部は、それぞれ前記調整機構、及び前記ユニバーサル軸受アセンブリに連結され、
前記ピボット軸は、前記フレームアセンブリインタフェース部材を介して前記フレームアセンブリに連結され、
前記調整機構は、前記ピボット軸の向きを調整することにより、前記フレームアセンブリ及び前記レチクルライブラリアセンブリをその上にレベリングするように構成されていてもよい。

Ｒｙ方向は、水平Ｘ方向に直交する水平なＹ方向周りの回転方向として定義され、
前記調整機構は、第１の球面軸受、上部軸受ハウジング、軸受ハウジング接続ブロック、楔状ブロック、及び止めねじを備え、
前記止めねじは、垂直Ｚ方向に沿って、前記楔状ブロックと係合し、前記楔状ブロックは、前記止めねじをＺ方向に前進させることによって、水平Ｘ方向に変位させることができ、
前記楔状ブロックは、前記軸受ハウジング接続ブロックを介して前記上部軸受ハウジングに接続されており、
前記上部軸受ハウジングは、前記第１の球面軸受を介して前記ピボット軸の一端に接続されて、
前記ピボット軸が、前記楔状ブロックのＸ方向の変位によって、前記第１の球面軸受の内輪に対して、Ｒｙ方向に回動することができる。

また、Ｒｘ方向は、水平Ｘ方向を中心とする回転方向と定義され、
前記調整機構は、前記軸受ハウジング接続ブロックと前記上部軸受ハウジングとの相対位置をＹ方向に沿って変化させて、
前記上部軸受ハウジングを前記第１の球面軸受の内輪に対して前記Ｒｘ方向に揺動させることができる調整ねじをさらに含んでもよい。

また、前記ユニバーサル軸受アセンブリは、第２の球面軸受と、下部軸受ハウジングと、Ｚ方向調整ブロックとを含み、
前記下部軸受ハウジングは、前記第２の球面軸受を介して前記ピボット軸の一端に接続され、
前記Ｚ方向調整ブロックは、上部ブロックを介した前記ピボット軸のＺ方向の位置変更するように構成されていてもよい。

また、前記フレームアセンブリは、
レチクルライブラリアセンブリ支持フレームと、
前記レチクルライブラリアセンブリ支持フレームの下にある保管システム支持フレームと、を含み、
前記レチクルライブラリアセンブリは、前記レチクルライブラリアセンブリ支持フレーム上に支持され、
前記保管システム支持フレームの底部には、前記ピボットアセンブリによるレベリング調整から生じる構成をロックするためのロック部材が設けられていてもよい。

また、前記フレームアセンブリは、ガス浴開口を備え、
前記ガス浴開口は、外部から不活性ガス源に接続され、
前記ガス浴開口は、内部でガス浴管によって前記レチクルライブラリアセンブリに接続されていてもよい。

また、前記フレームアセンブリは、粒子抽出管によって前記レチクルライブラリアセンブリに接続された粒子抽出開口を備えてもよい。

また、前記レチクルライブラリアセンブリは、レチクルライブラリフレームと、前記レチクルライブラリフレームによって保持されるレチクルライブラリと、前記レチクルライブラリ内のレチクルベイと、を含み、
前記レチクルベイは、レチクルを収容するように構成されていてもよい。

また、前記レチクルライブラリアセンブリと前記フレームアセンブリとの間のレベリングは、複数のレベリングねじによって、行われていてもよい。

また、前記レチクルライブラリアセンブリは、変形センサを備えてもよい。

本発明は、レチクルライブラリアセンブリ、及びフレームアセンブリとの間、及び、フレームアセンブリと、ピボットアセンブリとの間にそれぞれレベリングの２つのステージを可能にする。また、本発明は、これによって、より少ない手間（作業が容易、楽）で迅速なレベリングを可能にする。

さらなる実施形態の１つでは、Ｚ方向の調整、レチクル表面上の微粒子の減少、変形の回避、確実なインターロック、スクリューレベルに基づくロック、およびメンテナンスの容易さ可能にすることができる。

図１は、従来のレチクル保管システムの概略図である。 図２は、本発明に係る実施の形態の１つに係るレチクルライブラリシステムの概略図です。 図３は、本発明に係る実施の形態の１つに係るフレームアセンブリの概略図である。 図４は、本発明に係る実施の形態の１つに係るピボットアセンブリの概略図である。 図５は、本発明に係る実施の形態の１つに係るピボットアセンブリの概略断面図を示す。 図６は、本発明に係る実施の形態の１つに係る調整機構を模式的に示す部分断面図である。 図７は、本発明に係る実施の形態の１つに係るレチクルライブラリアセンブリを概略的に示す。 図８は、本発明に係る実施の形態の１つに係るシールを概略的に示す。

図１〜８を参照して、本発明について、以下に詳細に説明する。図１〜８は、本発明に係る実施の形態の１つを説明する。変更、及び修正は、本発明の趣旨、及び範囲から逸脱することなく当業者によって行うことができます。

本発明は、レチクルライブラリアセンブリ４、ピボットアセンブリ３、フレームアセンブリ２を含むレベリング機能を備えたレチクルライブラリシステムを提供する。レチクルライブラリアセンブリ４は、フレームアセンブリ２を介してピボットアセンブリ３によってレベリング（平坦化、水平化）することができるように、フレームアセンブリ２上に存在する。さらに、レチクルライブラリアセンブリ４は、フレームアセンブリ２に対してレベリングする（水平にする）ことができる。

したがって、本発明は２つのステージのレベリングを可能にする。一方のステージは、レチクルライブラリアセンブリ４とフレームアセンブリ２との間で可能であり、他方のステージは、フレームアセンブリ２、及びピボットアセンブリ３との間で可能である。このような２つのステージのレベリングは、手間の少ない作業で迅速に行うことを可能とする。

図４と図５とを参照して、ピボットアセンブリ３の詳細について説明する。ピボットアセンブリ３は、ピボット軸３０２、調整機構３０１、フレームアセンブリインタフェース部材３０４、及びユニバーサル軸受アセンブリ３０３を含む。
ピボット軸３０２は、その一端で調整機構３０１に連結され、その他端でユニバーサル軸受アセンブリ３０３に連結されている。
ピボット軸３０２は、フレームアセンブリインタフェース部材３０４を介してフレームアセンブリ２に固定されている。
調整機構３０１は、ピボット軸の向きを調整することにより、フレームアセンブリ２、及びレチクルライブラリアセンブリ４をレベリング（平坦化）する。

調整機構３０１について以下に詳細に説明する。

調整機構３０１は、第１の球面軸受３０１３、上部軸受ハウジング３０１２、軸受ハウジング接続ブロック３０１８、楔状ブロック３０１５、及び止めねじ３０１６を含む。
止めねじ３０１６は、Ｚ方向に沿って楔状ブロック３０１５と係合し、従って、そのＺ方向の前進は、楔状ブロック３０１５のＸ方向に沿う変位を引き起こすことができる。
楔状ブロック３０１５は、その名称によって示唆されるように、Ｚ方向運動をＸ-方向運動に変換することができる傾斜面を有する楔状の部材である。
これは当業者によって容易に理解されるであろうし、さらにその説明は不要であると考えられる。
楔状ブロック３０１５は、軸受ハウジング接続ブロック３０１８を介して上部軸受ハウジング３０１２に接続されている。
上部軸受ハウジング３０１２は、第１の球面軸受３０１３を介してピボット軸３０２の一端に接続されている。
このように、楔状ブロック３０１５のＸ方向の変位の結果として、ピボット軸３０２は、第１の球面軸受３０１３の内輪に対してＲｙ方向に旋回する。

本発明の実施形態の１つでは、楔状ブロック３０１５の向きを固定するために固定ねじ３０１７がさらに含まれる。
本発明の別の実施形態の１つでは、直線運動から最終旋回運動への変換を容易にするために、楔状ブロック３０１５が挿入される固定ねじ３０１７を通して腎臓スロットを画定し、追加の調整マージンを可能にする。

そのような設計では、止めねじ３０１６を回転させて、楔状ブロック３０１５に軸受ハウジング接続ブロック３０１８をＸ方向に移動させることによって、Ｒｙ方向の調整を行うことができる。
その結果、上部軸受ハウジング３０１２に連結されその下端に固定されたピボット軸３０２は、Ｒｙ方向にわずかに揺動することを強いられる。
Ry方向調整後、固定ねじ３０１７を締めてもよい。

本発明のさらなる実施形態の１つでは、Ｒｙ方向の調整に加えて、Ｒｘ方向調整もまた可能である。
具体的には、調整機構３０１は、調整ねじ３０１４をさらに含み得る。調整ねじ３０１４は、Ｙ方向に関して、軸受ハウジング接続ブロック３０１８、及び上部軸受ハウジング３０１２の相対位置を変更することが可能である。そのため、上部軸受ハウジング３０１２を、第１の球面軸受３０１３の内輪に対してRX方向に揺動させる。

実際には、Ｒｙ方向の調整が完了した後、Ｒｘ方向の調整を続けてもよい。
具体的には、調整ねじ３０１４を回転させると、上部軸受ハウジング３０１２がＹ方向に移動する。ピボット軸３０２は、その下端が固定されており、Ｒｘ方向にわずかに揺動しなければならない。これによって、Ｒｘ方向の調整が達成される。

ユニバーサル軸受アセンブリ３０３について、以下に詳細に説明する。

ユニバーサル軸受アセンブリ３０３は、第２の球面軸受３０３１、下部軸受ハウジング３０３２、及びＺ方向調整ブロック３０３４を含む。
下部軸受ハウジング３０３２は、第２の球面軸受３０３１を介してピボット軸３０３２の一端に接続されている。
Ｚ方向調整ブロック３０３４は、上部ブロック３０３５の助けを借りて、ピボット軸３０３２のＺ方向の位置を変更するように設けられている。

他の実施形態の１つでは、ユニバーサル軸受アセンブリ３０３は、Ｚ方向調整ブロック３０３４をＺ方向にロックするためのロックナット３０３３をさらに含み得る。
実際に使用する場合、Ｚ方向調整ブロック３０３４を回転させて、Ｚ方向調整ブロック３０３４がＺ方向に移動する。これによって、当接した上部ブロック３０３５に、レチクルライブラリアセンブリを駆動させて、Ｚ方向の希望の位置に移動させる。
その後、ロックナット３０３３を締め付ける。

フレームアセンブリ２について、以下に詳細に説明する。

図３に参照されるように、フレームアセンブリ２は、レチクルライブラリアセンブリ支持フレーム２０３と、保管システム支持フレーム２０１とを含む。レチクルライブラリアセンブリ支持フレーム２０３は、保管システム支持フレーム２０１上に配置されている。レチクルライブラリアセンブリ４は、レチクルライブラリアセンブリ支持フレーム２０３に支持されている。保管システム支持フレーム２０１の底部には、ピボットアセンブリ３によりレベリングされた位置をロックするためのロック部材が設けられている。

ロック部材は、スクリューレバー２０５と、案内管２０６と、ねじ案内溝２０７とを含む。スクリューレバー２０５は、案内管２０６に沿って、ねじ案内溝２０７に移動可能である。そして、スクリューレバー２０５は、外部装置とロックされるように締め付けることができる。別の実施形態の１つでは、案内管２０６、又はねじ案内溝２０７は、保管システム支持フレーム２０１に接続されている。

Ｚ方向、Ｒｘ方向およびＲｙ方向へのピボットアセンブリ３によるレベリング（水平化）は、ロック部材のロックと共に、前述の第１のレベリングステージを構成する。

第２のレベリングステージは第１のレベリングステージに基づく。第２のレベリングステージについて以下に詳細に説明する。本発明の好ましい実施形態では、いくつかのレベリングねじ４０２は、レチクルライブラリアセンブリ４とフレームアセンブリ２との間に、レベリングするために設けられている。

本発明の他の実施形態の１つでは、フレームアセンブリ２には、ガス浴（エア浴）開口２０４が設けられている。ガス浴開口２０４は、ガス浴管１によってレチクルライブラリアセンブリ４の内部に接続されており、不活性ガス源に外部から接続されている。
特定の実施形態では、レチクルライブラリアセンブリ４内に含まれたレチクルの清浄度を保護し、かつ、保つため、窒素が、不活性ガスとしてガス浴開口２０４を通して、レチクルライブラリアセンブリ４に導入される。

本発明の実施形態の１つにおいて、フレームアセンブリは、また粒子抽出管６によってレチクルライブラリアセンブリ４に接続された粒子抽出開口２０８を備える。
粒子抽出管６は、粒子抽出開口２０８に接続され、レチクルライブラリアセンブリ４からの可能な微粒子状物質を抽出するように構成されている。

レチクルライブラリアセンブリ４について、以下に詳細に説明する。

図７を参照すると、レチクルライブラリアセンブリ４は、レチクルライブラリフレーム４０４と、レチクルライブラリフレーム４０４が保持するレチクルライブラリと、レチクルライブラリ内のレチクルベイ４０５とを含む。レチクルベイ４０５は、レチクルを収容するように構成されている。レチクルライブラリアセンブリ４は、変形センサ４０１を含むことができる。他の実施形態の１つでは、レチクルライブラリアセンブリ４は、さらに、存在センサ４０７と、レチクルライブラリアセンブリ４を覆うカバー４０６とを含んでもよい。各存在センサ４０７は、レチクルベイ４０５の対応する一つにレチクルが存在するか否かを検出するように構成されている。

実施形態の一具体例では、レチクルライブラリフレーム４０４の底部は、レチクルライブラリアセンブリ支持フレーム２２０３に結合されている。レチクルライブラリフレーム４０４は、２つのレチクルライブラリを保持している。レチクルライブラリフレーム４０４は、１つ、又は２つのレチクルライブラリは、ユーザの実際のニーズに応じて保持することができる。レチクルライブラリの各々は、６つのレチクルベイ４０５を有しており、第２のレベリングステージにおいて、レベリングねじ４０２を個別に使用してレベリングすることができる。変形センサ４０１は、変形済みのレチクルがあるか否かを検出することができる。ガス浴開口２０４は、複数のレチクルライブラリのガス浴管に接続され、複数の存在センサ４０７は、レチクルベイにおいて、レチクルの存在を検出するように構成されている。上述した例のように、本発明では、レチクルライブラリの各レチクルライブラリのレチクルベイの数は、限定されるものではなく、それらは、実用的なニーズに応じて、当業者によって変更することができる。

本発明の好ましい実施形態では、図８を参照すると、レチクルライブラリシステムは、シール５をさらに含む。シール５は、レチクルライブラリアセンブリ４の開口を封止して閉鎖するために、レチクルライブラリアセンブリ４上に配置されている。この設計において、レチクルライブラリアセンブリ４がレチクルを受け取る、又は供給するために使用されていない場合、保護ガスをガス浴管を通じて導入することができるよう、シール５によって密閉されている。

さらなる実施形態の１つでは、シール５は、本体５００、密閉扉５０１、レチクルライブラリアセンブリインタフェースプレート５０２、及びプッシュバック機構５０３を含んでもよい。本体５００は、レチクルライブラリアセンブリインタフェースプレート５０２を介して、レチクルライブラリアセンブリ４、又はフレームアセンブリ２に結合されている。プッシュバック機構５０３は、本体５００に搭載されている。密閉扉５０１が、レチクルライブラリアセンブリ４の開口を密封する、又は密封しないように、開放する、又は閉鎖することができる。プッシュバック機構５０３は、密閉扉５０１の開閉を制御するために駆動される。

密閉扉５０１の制御は、全く別のパラメータに応じて多様な設計によって、行われていてもよい。本発明は、このような設計によって限定されることがない。例えば、シール５は、インターロックセンサ５０４をさらに含み得る。インターロックセンサ５０４は、メカニカルアームがレチクルを持っていく、又は配置するための所定の位置に到達したか否かを検出するために本体５００上に配置されている。この場合、インターロックセンサ５０４の検出結果に基づいてプッシュバック機構５０３を駆動して、密閉扉５０１の開閉を制御すればよい。インターロックセンサ５０４はメカニカルアームが位置に到達したと判断した場合、プッシュバック機構５０３が密閉扉５０１を開く、と理解することができる。一方、インターロックセンサ５０４は、密閉扉は、密閉扉およびメカニカルアームとの干渉を回避し、メカニカルアームのフェッチ又は配置操作の間、閉鎖されないことを保証することができる。

本発明の実施形態の１つでは、プッシュバック機構５０３は、密閉扉５０１に連結されたクランクリンク機構として実装することができる。その制御は、さらに、変形センサ４０１及び存在センサ４０７の少なくとも１つを含むことができる。いかなる変形が変形センサ４０１によって検出されない場合、例えば、クランクリンク機構は、モータによって回転駆動され、これに接続された密閉扉５０１を動作させる。そうでなければ、密閉扉が、変形したレチクルに衝突するのを避けるため、人間の介入を導入してもよい。

要約すると、本発明は、レチクルライブラリアセンブリとフレームアセンブリとの間、及び、フレームアセンブリとピボットアセンブリとの間のそれぞれ２段階のレベリングを可能にする。これによって、より少ない手間で迅速なレベリングを可能にする。

さらなる他の実施形態の１つでは、Ｚ方向の調整、レチクル表面上の微粒子の減少、変形の回避、確実なインターロック、ねじによるレベリングに基づくロック、および、容易なメンテナンスを、可能にすることができる。

１-ガス浴管 ；２-フレームアセンブリ ；３ ピボットアセンブリ ；４-レチクルライブラリアセンブリ ；５-シール ；６-粒子抽出管 ；
２０１-保管システム支持フレーム ；２０２-ピボットインタフェース開口 ；２０３-レチクルライブラリアセンブリ支持フレーム ；２０４-ガス浴開口 ；２０５-スクリューレバー ；２０６-案内管 ；２０７-ねじ案内溝 ；２０８-粒子抽出開口 ；
３０１-調整機構 ；３０２-ピボット軸 ；３０３-ユニバーサル軸受アセンブリ ；３０４-フレームアセンブリインタフェース部材 ；
３０１１-インタフェースプレート ；３０１２-上部軸受ハウジング ；３０１３-第１の球面軸受 ；３０１４-調整ねじ ；３０１５-楔状ブロック ；３０１６-止めねじ ；３０１７-固定ねじ ；３０１８-軸受ハウジング接続ブロック ；３０３１-第２の球面軸受 ；３０３２-下部軸受ハウジング ；３０３３-ロックナット ；３０３４-Ｚ方向調整ブロック ；３０３５-上部ブロック ；
４０１-変形センサ ；４０２-レベリングねじ ；４０３-ガス浴開口 ；４０４-レチクルライブラリフレーム ;４０５-レチクルベイ ；４０６-カバー ；４０７-存在センサ ；
５００-本体 ；５０１-密閉扉 ；５０２-レチクルライブラリアセンブリインタフェースプレート ；５０３-プッシュバック機構 ；５０４-インターロックセンサ。

Claims (14)

1. レチクルライブラリアセンブリ、ピボットアセンブリ、及びフレームアセンブリを備え、
   前記レチクルライブラリアセンブリは、前記レチクルライブラリアセンブリが前記フレームアセンブリを介して前記ピボットアセンブリによってレベリングすることができるように、前記フレームアセンブリ上に配置されており、
   前記レチクルライブラリアセンブリが前記フレームアセンブリに対してレベリングすることができる、
   レベリング可能なレチクルライブラリシステム。
2. 前記レチクルライブラリアセンブリの開口を密閉するために前記レチクルライブラリアセンブリ上に配置されたシールをさらに備える、
   請求項１に記載のレベリング可能なレチクルライブラリシステム。
3. 前記シールが、本体と、密閉扉と、レチクルライブラリアセンブリインタフェースプレートと、プッシュバック機構とを含み、
   前記本体が、前記レチクルライブラリアセンブリインタフェースプレートを介して前記レチクルライブラリアセンブリ、又は前記フレームアセンブリに接続され、
   前記プッシュバック機構は、前記本体に搭載され、
   前記密閉扉は、前記レチクルライブラリアセンブリの開口を密閉する、又は密閉しないように開閉し、
   前記プッシュバック機構は、前記密閉扉の開閉を制御するように駆動される、
   請求項２に記載のレベリング可能なレチクルライブラリシステム。
4. 前記シールは、メカニカルアームがレチクルを取り去る、又は配置するための所定の位置に到達したか否かを検出するために前記本体に配置されたインターロックセンサをさらに含み、
   前記プッシュバック機構は、前記インターロックセンサの検出結果に基づいて前記密閉扉の開閉を制御する、
   請求項３に記載のレベリング可能なレチクルライブラリシステム。
5. 前記ピボットアセンブリは、ピボット軸と、調整機構と、フレームアセンブリインタフェース部材と、ユニバーサル軸受アセンブリと、を備え、
   前記ピボット軸の両端部は、それぞれ前記調整機構、及び前記ユニバーサル軸受アセンブリに連結され、
   前記ピボット軸は、前記フレームアセンブリインタフェース部材を介して前記フレームアセンブリに連結され、
   前記調整機構は、前記ピボット軸の向きを調整することにより、前記フレームアセンブリ及び前記レチクルライブラリアセンブリをその上にレベリングするように構成されている、
   請求項１に記載のレベリング可能なレチクルライブラリシステム。
6. Ｒｙ方向は、水平Ｘ方向に直交する水平なＹ方向周りの回転方向として定義され、
   前記調整機構は、第１の球面軸受、上部軸受ハウジング、軸受ハウジング接続ブロック、楔状ブロック、及び止めねじを備え、
   前記止めねじは、垂直Ｚ方向に沿って、前記楔状ブロックと係合し、前記楔状ブロックは、前記止めねじをＺ方向に前進させることによって、水平Ｘ方向に変位させることができ、
   前記楔状ブロックは、前記軸受ハウジング接続ブロックを介して前記上部軸受ハウジングに接続されており、
   前記上部軸受ハウジングは、前記第１の球面軸受を介して前記ピボット軸の一端に接続されて、
   前記ピボット軸が、前記楔状ブロックのＸ方向の変位によって、前記第１の球面軸受の内輪に対して、Ｒｙ方向に回動することができる、
   請求項５に記載のレベリング可能なレチクルライブラリシステム。
7. Ｒｘ方向は、水平Ｘ方向を中心とする回転方向と定義され、
   前記調整機構は、前記軸受ハウジング接続ブロックと前記上部軸受ハウジングとの相対位置をＹ方向に沿って変化させて、
   前記上部軸受ハウジングを前記第１の球面軸受の内輪に対して前記Ｒｘ方向に揺動させることができる調整ねじをさらに含む、
   請求項６に記載のレベリング可能なレチクルライブラリシステム。
8. 前記ユニバーサル軸受アセンブリは、第２の球面軸受と、下部軸受ハウジングと、Ｚ方向調整ブロックとを含み、
   前記下部軸受ハウジングは、前記第２の球面軸受を介して前記ピボット軸の一端に接続され、
   前記Ｚ方向調整ブロックは、上部ブロックを介した前記ピボット軸のＺ方向の位置変更するように構成された、
   請求項５に記載のレベリング可能なレチクルライブラリシステム。
9. 前記フレームアセンブリは、
   レチクルライブラリアセンブリ支持フレームと、
   前記レチクルライブラリアセンブリ支持フレームの下にある保管システム支持フレームと、を含み、
   前記レチクルライブラリアセンブリは、前記レチクルライブラリアセンブリ支持フレーム上に支持され、
   前記保管システム支持フレームの底部には、前記ピボットアセンブリによるレベリング調整から生じる構成をロックするためのロック部材が設けられている、
   請求項１に記載のレベリング可能なレチクルライブラリシステム。
10. 前記フレームアセンブリは、ガス浴開口を備え、
    前記ガス浴開口は、外部から不活性ガス源に接続され、
    前記ガス浴開口は、内部でガス浴管によって前記レチクルライブラリアセンブリに接続されている、
    請求項１又は９に記載のレベリング可能なレチクルライブラリシステム。
11. 前記フレームアセンブリは、粒子抽出管によって前記レチクルライブラリアセンブリに接続された粒子抽出開口を備えている、
    請求項１又は９に記載のレベリング可能なレチクルライブラリシステム。
12. 前記レチクルライブラリアセンブリは、レチクルライブラリフレームと、前記レチクルライブラリフレームによって保持されるレチクルライブラリと、前記レチクルライブラリ内のレチクルベイと、を含み、
    前記レチクルベイは、レチクルを収容するように構成される、
    請求項１に記載のレベリング可能なレチクルライブラリシステム。
13. 前記レチクルライブラリアセンブリと前記フレームアセンブリとの間のレベリングは、複数のレベリングねじによって、行われる、
    請求項１又は１２に記載のレベリング可能なレチクルライブラリシステム。
14. 前記レチクルライブラリアセンブリは、変形センサを備える、
    請求項１又は１２に記載のレベリング可能なレチクルライブラリシステム。

Images