KR20190032439A - 수평화가능한 마스크 저장 장치 - Google Patents
수평화가능한 마스크 저장 장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20190032439A KR20190032439A KR1020197004729A KR20197004729A KR20190032439A KR 20190032439 A KR20190032439 A KR 20190032439A KR 1020197004729 A KR1020197004729 A KR 1020197004729A KR 20197004729 A KR20197004729 A KR 20197004729A KR 20190032439 A KR20190032439 A KR 20190032439A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- assembly
- reticle library
- reticle
- retractable
- frame
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/70741—Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2051—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
- G03F7/2059—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a scanning corpuscular radiation beam, e.g. an electron beam
- G03F7/2063—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a scanning corpuscular radiation beam, e.g. an electron beam for the production of exposure masks or reticles
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70975—Assembly, maintenance, transport or storage of apparatus
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Library & Information Science (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Public Health (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Respiratory Apparatuses And Protective Means (AREA)
Abstract
수평화가능한 레티클 라이브러리 어셈블리는 레티클 라이브러리 어셈블리(4), 피봇 어셈블리(3) 및 프레임 어셈블리(2)를 포함한다. 레티클 라이브러리 어셈블리(4)는 프레임 어셈블리(2) 상에 배치되어서 그것은 프레임 어셈블리(2)를 통해 피봇 어셈블리(3)에 의해 수평화될 수 있고, 레티클 라이브러리 어셈블리(4)는 또한 프레임 어셈블리(2)에 의해 수평화될 수 있다.
Description
본 발명은 레티클 이송 분야에 관한 것으로, 특히 수평화가능한 레티클 라이브러리 시스템(levellable reticle library system)에 관한 것이다.
포토리소그래피(photolithographic) 도구는 실리콘 또는 유리 기판 상으로 레티클(reticle) 패턴을 노출시키는데 사용된다. 제조, 레티클 관리 및 로봇 암들의 작동을 수월하게 하기 위해, 외부 레티클 라이브러리(library)에 더하여, 일부 포토리소그래피 도구들은 복수의 레티클들을 저장하기 위한 특정 내부 레티클 라이브러리를 더 포함한다.
그러한 포토리소그래피 도구 내 레티클 이송 시스템의 작동은 일반적으로 다음을 포함한다: 외부 레티클 라이브러리 내로 레티클들과 함께 로딩되는 레티클 카세트를 놓는 단계; 잠금해제 메커니즘에 의해 외부 레티클 라이브러리를 잠금해제하는 단계; QR-코드 스캔 후 내부 레티클 라이브러리 내로 레티클 카세트를 이송하는 단계; 내부 레티클 라이브러리로부터 레티클을 취하고 노출을 위해 마스크 스테이지 상에 그것을 놓는 단계; 및 노출 완료 후에, 마스크 스테이지로부터 내부 레티클 라이브러리로 다시 기계적 암에 의해 레티클을 이송하는 단계.
위의 작업흐름으로부터 알 수 있는 바와 같이, 사용 및 구조 관점에서 합리적인 레티클 저장 시스템은 레티클 이송 효율 및 정확성을 향상시키고 레티클 청결을 개선하며, 포토리소그래피 도구에 더 신뢰성있는 레티클들을 제공할 수 있다.
도 1을 참조하여, 종래 레티클 저장 시스템은 위 아래로 이동가능하고 레티클 라이브러리는 샤프트에 고정된다. 종래 레티클 저장 시스템은 전달 메커니즘(100), 지지 프레임(101) 및 레티클 라이브러리(102)를 포함한다. 레티클 라이브러리는 복수의 구획들을 구비하고 연결 부재를 거쳐 전달 메커니즘(100)의 작동 하에서 Z-방향을 따라 이동가능하다.
이러한 설계는 몇몇의 단점을 가지며, 예를 들어: 레티클 라이브러리는 무겁고 그 안의 미립자들의 형성을 초래할 수 있는 전달 메커니즘의 마모를 초래하는 경향이 있다; 레티클 라이브러리는 항상 개방되고, 포함된 레티클들이 표면 상에 오염되게 할 수 있다; 레티클들은 변형될 수 있고, 순차적인 작업이 더 어렵게 한다; 그리고 내부잠금을 안정화할 수 없다. 게다가, 외팔보와 같이 구조화되어서 큰 하중 하에서 상당히 변형되는 경향이 있다. 몇몇 설계 오류와 결합하여, Z-방향 내 조정들 및 사용 전 초기 수평화(leveling)가 그것의 정상 작동을 위해 필요하다. 처음에 적절히 수평화되지 않는다면, 그 다음의 사용 동안 상당한 레티클 라이브러리 비-수평화의 제거는 시간-소모적일 것이다.
본 발명의 목적은 종래 시스템에서 그 다음 사용 동안 발생하는 상당한 비-수평화의 시간-소모적인 제거의 상기 문제를 해결하는 것이다.
이를 위해, 본 발명은 레티클 라이브러리 어셈블리, 피봇 어셈블리 및 프레임 어셈블리를 포함하는 수평화 능력을 가진 레티클 라이브러리 시스템을 제공한다. 레티클 라이브러리 어셈블리는 프레임 어셈블리 상에 배치되어서 레티클 라이브러리 어셈블리는 프레임 어셈블리를 통해 피봇 어셈블리에 의해 수평화될 수 있고, 레티클 라이브러리 어셈블리는 또한 프레임 어셈블리에 대해 수평화될 수 있다.
선택적으로, 레티클 라이브러리 시스템은 레티클 라이브러리 어셈블리의 개구를 밀봉하기 위해 레티클 라이브러리 어셈블리 상에 배치된 씰(seal)을 더 포함할 수 있다.
선택적으로, 씰은 주 몸체, 씰링 도어, 레티클 라이브러리 어셈블리-인터페이스 플레이트 및 반발(pushback) 메커니즘을 포함할 수 있고, 주 몸체는 레티클 라이브러리 어셈블리-인터페이스 플레이트를 통해 레티클 라이브러리 어셈블리 또는 프레임 어셈블리에 연결되고, 반발 메커니즘은 주 몸체 상에 장착되고, 씰링 도어는 레티클 라이브러리 어셈블리의 개구를 밀폐하거나 밀폐하지 않도록 폐쇄 또는 개방되도록 형성되며, 반발 메커니즘은 씰링 도어의 개방 또는 밀폐를 제어하도록 구동된다.
선택적으로, 씰은 주 몸체 상에 배치된 내부잠금(interlocking) 센서를 더 포함할 수 있어서 기계적 암이 레티클을 가지고 가거나 놓기 위한 미리정해진 위치에 도달했는지를 탐지하고, 반발 메커니즘은 내부잠금 센서의 탐지 결과에 기초하여 씰링 도어의 개방 또는 폐쇄를 제어하도록 구동된다.
선택적으로, 피봇 어셈블리(pivot assembly)는 피봇 샤프트, 조정 메커니즘, 프레임 어셈블리-인터페이스 부재 및 유니버설 베어링 어셈블리를 포함할 수 있고, 피봇 샤프트의 두 개의 단부들 각각은 조정 메커니즘 및 유니버설 베어링 어셈블리에 연결되고, 피봇 샤프트는 프레임 어셈블리-인터페이스 부재를 통해 프레임 어셈블리에 고정되며, 조정 메커니즘은 피봇 샤프트의 방향을 조정함으로써 레티클 라이브러리 어셈블리 및 프레임 어셈블리를 수평화하도록 구성된다.
선택적으로, 조정 메커니즘은 제1 구형(spherical) 베어링, 상부 베어링 하우징, 베어링 하우징 연결 블록, 쐐기 블록 및 세트 스크류를 포함할 수 있고, 세트 스크류는 수직 Z-방향을 따라 쐐기 블록과 맞물려서 쐐기 블록의 X-방향 변위는세트 스크류의 Z-방향 전진에 의해 달성되고, 쐐기 블록은 베어링 하우징 연결 블록을 통해 상부 베어링 하우징에 연결되며, 상부 베어링 하우징은 제1 구형 베어링을 통해 피봇 샤프트의 일 단부에 연결되어서 피봇 샤프트는 쐐기 블록의 X-방향 변위에 의해 제1 구형 베어링의 내부 레이스(race)에 대해 Ry-방향에서 피봇할 수 있으며, Ry-방향은 수평 X-방향에 수직하는 수평 Y-방향 주위로의 회전 방향으로 정의된다.
선택적으로, 조정 메커니즘은 Y-방향을 따라 상부 베어링 하우징 및 베어링 하우징 연결 블록의 상대 위치들을 변경할 수 있는 조정 스크류를 더 포함할 수 있어서 상부 베어링 하우징이 제1 구형 베어링의 내부 레이스에 대해 Rx-방향에서 흔들리게(swing) 하며, Rx-방향은 수평 X-방향에 주위로의 회전 방향으로 정의된다.
선택적으로, 유니버설 베어링 어셈블리는 제2 구형 베어링, 하부 베어링 하우징 및 Z-방향 조정 블록을 포함할 수 있고, 하부 베어링 하우징은 제2 구형 베어링을 통해 피봇 샤프트의 일 단부에 연결되며, Z-방향 조정 블록은 정상(top) 블록을 통해 피봇 샤프트의 ㅋ-방향 위치를 변경하도록 형성된다.
선택적으로, 프레임 어셈블리는 레티클 라이브러리 어셈블리-지지 프레임 및 레티클 라이브러리 어셈블리-지지 프레임 하의 저장 시스템-지지 프레임을 포함할 수 있고, 레티클 라이브러리 어셈블리는 레티클 라이브러리 어셈블리-지지 프레임 상에 지지되고, 저장 시스템-지지 프레임의 바닥에는 피봇 어셈블리에 의해 수평화로부터 생기는 형태를 잠그기 위한 잠금 부재가 제공된다.
선택적으로, 프레임 어셈블리에는 공기-배스 튜브(air-bath tubing)에 의해 내부적으로 레티클 라이브러리 어셈블리에 연결되고 외부적으로 비활성 가스 소스에 연결되는 공기 배스 개구가 제공될 수 있다.
선택적으로, 프레임 어셈블리에는 미립자 추출 튜브에 의해 레티클 라이브러리 어셈블리에 연결된 미립자 추출 개구가 제공될 수 있다.
선택적으로, 레티클 라이브러리 어셈블리는 레티클 라이브러리 프레임, 레티클 라이브러리 프레임에 의해 유지된 레티클 라이브러리 및 레티클 라이브러리 내의 레티클 베이(bay)들을 포함할 수 있고, 레티클 베이들은 레티클들을 수용하도록 구성된다.
선택적으로, 레티클 라이브러리 어셈블리 및 프레임 어셈블리 사이의 수평화는 복수의 수평화 스크류들에 의해 달성될 수 있다.
선택적으로, 레티클 라이브러리 어셈블리는 변형 센서들을 포함할 수 있다.
본 발명은 레티클 라이브러리 어셈블리 및 프레임 어셈블리 사이 및 프레임 어셈블리 및 피봇 어셈블리 사이 각각의 두 스테이지의 수평화를 가능하게 하고, 이는 더 작은 노동 강도로 빠른 수평화를 허용한다.
다른 선택적인 실시예들에서, Z-방향 조정들, 레티클 표면 상의 미립자들의 감소, 변형 회피, 단단한 내부잠금, 스크류 수평-기반 잠금 및 쉬운 유지가 가능할 수 있다.
도 1은 종래 레티클 저장 시스템의 개략도이다.
도 2는 본 발명의 선택적인 실시예에 따른 레티클 라이브러리 시스템의 개략도이다.
도 3은 본 발명의 선택적 실시예에 따른 프레임 어셈블리의 개략도이다.
도 4는 본 발명의 선택적 실시예에 따른 피봇 어셈블리의 개략도이다.
도 5는 본 발명의 선택적 실시예에 따른 피봇 어셈블리의 개략적인 단면 모습을 도시한다.
도 6은 본 발명의 선택적 실시예에 따른 조정 메커니즘을 개략적으로 도시하는 부분 단면도이다.
도 7은 본 발명의 선택적 실시예에 따른 레티클 라이브러리 어셈블리의 개략도이다.
도 8은 본 발명의 선택적 실시예에 따른 씰을 개략적으로 도시한다.
도 2는 본 발명의 선택적인 실시예에 따른 레티클 라이브러리 시스템의 개략도이다.
도 3은 본 발명의 선택적 실시예에 따른 프레임 어셈블리의 개략도이다.
도 4는 본 발명의 선택적 실시예에 따른 피봇 어셈블리의 개략도이다.
도 5는 본 발명의 선택적 실시예에 따른 피봇 어셈블리의 개략적인 단면 모습을 도시한다.
도 6은 본 발명의 선택적 실시예에 따른 조정 메커니즘을 개략적으로 도시하는 부분 단면도이다.
도 7은 본 발명의 선택적 실시예에 따른 레티클 라이브러리 어셈블리의 개략도이다.
도 8은 본 발명의 선택적 실시예에 따른 씰을 개략적으로 도시한다.
본 발명은 본 발명의 선택적 실시예들을 설명하는 도 1 내지 8을 참조하여 아래에서 상세히 설명될 것이다. 변화들 및 변경들이 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않게 당업자에 의해 그것들에 가해질 수 있다.
본 발명은 레티클 라이브러리 어셈블리(reticle library assembly; 4), 피봇 어셈블리(pivot assembly; 3) 및 프레임 어셈블리(2)를 포함하는 수평화 능력을 가진 레티클 라이브러리 시스템을 제공한다. 레티클 라이브러리 어셈블리(4)는 프레임 어셈블리(2) 상에 존재하여 그것은 프레임 어셈블리(2)를 통해 피봇 어셈블리(3)에 의해 수평화될 수 있다. 게다가, 레티클 라이브러리 어셈블리(4)는 또한 프레임 어셈블리(2)에 대해 수평화될 수 있다.
그러므로, 본 발명은 두 스테이지의 수평화를 가능하게 하며, 일 스테이지는 레티클 라이브러리 어셈블리(4) 및 프레임 어셈블리(2) 사이에서 수행되고, 다른 스테이지는 프레임 어셈블리(2) 및 피봇 어셈블리(3) 사이에서 수행되어서, 두 스테이지의 수평화가 수행될 수 있고, 이는 낮은 노동 강도로 빠른 수평화를 허용한다.
피봇 어셈블리(3)는 도 4 및 5를 참조하여 아래에서 더 상세히 설명될 것이다. 피봇 어셈블리(3)는 피봇 샤프트(302), 조정 메커니즘(301), 프레임 어셈블리-인터페이스 부재(304) 및 유니버설 베어링 어셈블리(303)를 포함한다. 피봇 샤프트(302)는 일 단부에서 조정 메커니즘(301)에 결합되고 다른 단부에서 유니버설 베어링 어셈블리(303)에 결합된다. 피봇 샤프트(302)는 또한 프레임 어셈블리-인터페이스 부재(304)를 통해 프레임 어셈블리(2)에 고정된다. 조정 메커니즘(301)은 피봇 샤프트의 방향을 조정함으로써 그 위에 레티클 라이브러리 어셈블리(4) 및 프레임 어셈블리(2)를 수평화한다.
조정 메커니즘(301)은 아래에서 상세히 설명될 것이다.
조정 메커니즘(301)은 제1 구형 베어링(3013), 상부 베어링 하우징(3012), 베어링 하우징 연결 블록(3018), 쐐기 블록(3015) 및 세트 스크류(3016)를 포함한다. 세트 스크류(3016)는 Z-방향을 따라 쐐기 블록(3015)을 맞물리게 하여, 그것의 Z-방향 전진은 X-방향을 따라 쐐기 블록(3015)의 변위를 유발할 수 있다. 쐐기 블록(3015)은, 그것의 이름에 의해 제안된 바와 같이, Z-방향 이동을 X-방향 이동으로 변환할 수 있는 기울기 표면을 가진 쐐기-형상 부재이다. 이는 당업자에 의해 쉽게 이해될 것이고, 그것의 추가적인 설명은 불필요하게 여겨진다. 쐐기 블록(3015)은 베어링 하우징 연결 블록(3018)을 통해 상부 베어링 하우징(3012)에 연결된다. 상부 베어링 하우징(3012)은 제1 구형 베어링(3013)을 통해 피봇 샤프트(302)의 일 단부에 연결된다. 이러한 방식으로, 쐐기 블록(3015)의 X-방향 변위의 결과로서, 피봇 샤프트(302)는 제1 구형 베어링(3013)의 내부 레이스(race)에 대해 Ry-방향 내에서 회전(pivot)할 것이다.
본 발명의 선택적 실시예에서, 잠금 스크류(3017)는 쐐기 블록(3015)의 방향을 잠그도록 더 포함된다. 본 발명의 다른 선택적 실시예에서, 선형 움직임으로부터 마지막 회전 움직임까지 변환을 수월하게 하기 위해, 쐐기 블록(3015)은 잠금 스크류(3017)가 삽입되는 신장(kidney) 슬롯을 정의할 수 있고, 이는 추가적인 조정 여유를 허용한다.
그러한 설계로, Ry-방향 조정은 세트 스크류(3016)를 돌림으로써 영향을 받을 수 있어서 쐐기 블록(3015)이 베어링 하우징 연결 블록(3018)의 X-방향으로 움직임을 구동하도록 야기한다. 결과적으로, 상부 베어링 하우징(3012)에 결합되고 하부 단부에 고정된 피봇 샤프트(302)는 Ry-방향으로 약간 흔들리도록 된다. Ry-방향 조정 후에, 잠금 스크류(3017)는 단단히 잡혀질 수 있다.
본 발명의 다른 선택적인 실시예에서, Rx-방향 조정이 또한 Ry-방향 조정에 추가로 가능하다. 특히, 조정 메커니즘(301)은 조정 스크류(3014)를 더 포함할 수 있다. 조정 스크류(3014)는 Y-방향에 대해 상부 베어링 하우징(3012) 및 베어링 하우징 연결 블록(3018)의 상대 위치들을 변화시킬 수 있어서 상부 베어링 하우징(3012)이 제1 구형 베어링(3013)의 내부 레이스에 대해 Rx 방향에서 흔들리도록 유발한다.
실제로, Rx-방향 조정은 Ry-방향 조정에 뒤따를 수 있다. 특히, 조정 스크류(3014)가 회전될 때, 상부 베어링 하우징(3012)은 Y-방향으로 움직일 것이다. 하부 단부에 고정된, 피봇 샤프트(302)는 Rx-방향으로 약간 흔들려야 하고, Rx-방향 조정을 유발한다.
유니버설 베어링 어셈블리(303)가 이하에서 상세히 설명될 것이다.
유니버설 베어링 어셈블리(303)는 제2 구형 베어링(3031), 하부 베어링 하우징(3032) 및 Z-방향 조정 블록(3034)을 포함한다. 하부 베어링 하우징(3032)은 제2 구형 베어링(3031)을 통해 피봇 샤프트(3032)의 일 단부에 연결된다. Z-방향 조정 블록(3034)은 정상 블록(3035)의 도움으로 피봇 샤프트(3032)의 Z-방향 위치를 변화시키도록 구성된다.
선택적인 실시예에서, 유니버설 베어링 어셈블리(303)는 Z-방향 내에서 조정 블록(3034)을 잠그기 위한 잠금 너트(3033)를 더 포함할 수 있다. 실제 사용시, Z-방향 조정 블록(3034)이 회전될 때, Z-방향 조정 블록(3034)은 Z-방향 내에서 움직일 것이고, 접하는 정상 블록(3035)이 레티클 라이브러리 어셈블리를 원하는 위치로 Z-방향 내에서 움직이도록 구동하는 것을 야기한다. 그 후에, 잠금 너트(3033)는 단단히 잡혀진다.
프레임 어셈블리(2)는 아래에서 상세히 설명될 것이다.
도 3을 참조하여, 프레임 어셈블리(2)는 레티클 라이브러리 어셈블리-지지 프레임(203) 및 저장 시스템-지지 프레임(201)을 포함한다. 레티클 라이브러리 어셈블리-지지 프레임(203)은 저장 시스템-지지 프레임(201) 상에 배열된다. 레티클 라이브러리 어셈블리(4)는 레티클 라이브러리 어셈블리-지지 프레임(203) 상에 지지된다. 저장 시스템-지지 프레임(201)은 피봇 어셈블리(3)에 의한 수평화로부터 생기는 형태를 잠그기 위한 잠금 부재가 바닥에 제공된다.
잠금 부재는 스크류 레버(204), 가이드 튜브(206) 및 나사산 가이드 채널(207)을 포함한다. 스크류 레버(205)는 가이드 튜브(206)를 따라 나사산 가이드 채널(207) 내에서 움직일 수 있고 외부 디바이스와 함께 단단히 잠겨질 수 있다. 다른 선택적 실시예에서, 가이드 튜브(206) 또는 나사산 가이드 채널(207)은 저장 시스템-지지 프레임(201)에 연결된다.
잠금 부재의 잠금과 함께, Z-, Rx 및 Ry-방향들 내 피봇 어셈블리(3)에 의한 수평화는 상술한 제1 수평화 스테이지를 구성한다.
제2 수평화 스테이지는 제1 수평화 스테이지에 기초하고 아래에서 상세히 설명될 것이다. 본 발명의 바람직한 실시예에서, 몇몇 수평화 스크류들(402)이 레티클 라이브러리 어셈블리(4) 및 프레임 어셈블리(2) 사이에 수평화를 위해 제공된다.
본 발명의 선택적 실시예에서, 프레임 어셈블리(2)에는 공기-배스 개구(204)가 제공된다. 공기-배스 개구(204)는 외적으로 불활성 가스 소스에 연결되고 내적으로 공기-배스 튜브에 의해 레티클 라이브러리 어셈블리(4)에 연결된다. 특정 실시예에서, 안에 수용된 레티클들의 청정도를 유지하고 보호하기 위해, 질소가 불활성 가스로서 공기-배스 개구(204)를 통해 레티클 라이브러리 어셈블리(4) 안으로 도입된다.
본 발명의 선택적 실시예에서, 프레임 어셈블리에는 또한 미립자 추출 튜브(6)에 의해 레티클 라이브러리 어셈블리(4)에 연결된 미립자 추출 개구(208)가 제공된다. 미립자 추출 튜브(6)는 미립자 추출 개구(208)에 연결되고 레티클 라이브러리 어셈블리(4)로부터 가능한 미세한 미립자 물질을 추출하도록 구성된다.
레티클 라이브러리 어셈블리(4)는 아래에서 상세히 설명될 것이다.
도 7을 참조하면, 레티클 라이브러리 어셈블리(4)는 레티클 라이브러리 프레임(404), 레티클 라이브러리 프레임(404)에 의해 보유된 레티클 라이브러리 및 레티클 라이브러리 내 레티클 베이들(reticle bays; 405)을 포함한다. 레티클 베이들(405)은 레티클들을 수용하도록 구성된다. 레티클 라이브러리 어셈블리(4)는 변형 센서들(401)을 포함할 수 있다. 다른 선택적인 실시예들에서, 레티클 라이브러리 어셈블리(4)는 존재 센서들(407) 및 레티클 라이브러리(4)를 덮는 커버(406)를 더 포함할 수 있다. 존재 센서들(407) 각각은 레티클 베이들(405) 중 대응하는 것 내에 레티클이 있는지를 탐지하도록 구성된다.
특정 실시예에서, 레티클 라이브러리 프레임(404)은 바닥에서 레티클 라이브러리 어셈블리-지지 프레임(2203)에 결합되고 두 개의 레티클 라이브러리들을 보유한다. 하나 또는 두 개의 레티클 라이브러리들은 사용자의 실제 필요에 따라 보유될 수 있다. 각각의 레티클 라이브러리들은 여섯 개의 레티클 베이들(405)을 가지고 제2 수평화 스테이지 내 수평화 스크류들(402)을 이용하여 개별적으로 수평화될 수 있다. 변형 센서(401)는 변형을 경험한 레티클이 있는지를 탐지할 수 있다. 공기-배스 개구(204)는 레티클 라이브러리들 내 공기-배스 튜브에 연결되고, 존재 센서들(407)은 레티클 베이들 내 레티클들의 존재를 탐지하도록 구성된다. 본 발명은 레티클 라이브러리들 및 각각의 레티클 라이브러리 내 레티클 베이들의 수에 제한되지 않고, 예시적인 방법으로 위에서 설명한 바와 같이, 그것들은 실제 필요에 따라 당업자에 의해 변경될 수 있다.
본 발명의 바람직한 실시예에서, 도 8을 참조하여, 레티클 라이브러리 시스템은 씰(5)을 더 포함한다. 씰(5)은 레티클 라이브러리 어셈블리(4)의 개구를 밀봉하도록 폐쇄되기 위해 레티클 라이브러리 어셈블리(4) 상에 배치된다. 이러한 설계로, 레티클 라이브러리 어셈블리(4)가 레티클을 수용하거나 공급하는데 이용되지 않을 때, 씰(5)에 의해 밀봉되어서 보호 가스가 공기-배스 튜브를 통해 도입되도록 허용한다.
다른 선택적 실시예에서, 씰(5)은 주 몸체(500), 씰링 도어(501), 레티클 라이브러리 어셈블리-인터페이스 플레이트(502) 및 반발 메커니즘(503)을 포함할 수 있다. 주 몸체(500)는 레티클 라이브러리 어셈블리-인터페이스 플레이트(502)를 통해 프레임 어셈블리(2) 또는 레티클 라이브러리 어셈블리(4)에 결합된다. 반발 메커니즘(503)은 주 몸체(500) 상에 장착되고, 씰링 도어(501)는 레티클 라이브러리 어셈블리(4)의 개구를 밀봉하거나 밀봉하지 않기 위해 폐쇄되거나 개방될 수 있다. 반발 메커니즘(503)은 씰링 도어(501)의 개방 또는 폐쇄를 제어하도록 구동된다.
본 발명에 따르면, 씰링 도어(501)의 제어는 별개의 파라미터들에 따라 다양한 설계들에 의해 달성될 수 있고, 이에 기초하여 씰링 도어(501)는 제어되고, 본 발명은 그러한 설계에 제한되는 것은 아니다. 예를 들어, 씰(5)은 내부잠금 센서(504)를 더 포함할 수 있다. 내부잠금 센서(504)는 레티클을 옮기거나 놓기 위한 미리 정해진 위치에 기계적 암이 도달하였는지를 탐지하기 위해 주 몸체(500) 상에 배치된다. 이러한 경우, 반발 메커니즘(503)은 내부잠금 센서(504)의 탐지 결과에 기초하여 씰링 도어(501)의 개방 또는 폐쇄를 제어하도록 구동될 수 있다. 내부잠금 센서(504)가 기계적 암이 위치에 도달하였는지를 결정하면, 반발 메커니즘(503)이 씰링 도어(501)를 개방할 것임이 이해될 수 있다. 한편, 내부잠금 센서(504)는 씰링 도어가 기계적 암의 작동을 가져오거나 놓는 동안 폐쇄될 것임을 확증할 수 있고, 씰링 도어 및 기계적 암 사이의 간섭을 회피시킨다.
본 발명의 선택적 실시예에서, 반발 메커니즘(503)은 씰링 도어(501)에 결합된 크랭크-링크 메커니즘으로 구현될 수 있고, 그것의 제어는 변형 센서(401) 및/또는 존재 센서(407)를 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 변형 센서들(401)에 의해 변형이 탐지되지 않는다면, 크랭크-링크 메커니즘은 모터에 의해 회전하도록 구동될 수 있어서, 그것에 연결된 씰링 도어(501)의 움직임을 야기한다. 그렇지 않으면, 씰링 도어가 변형된 레티클 내로 충돌하는 것을 피하도록 사람의 간섭이 도입될 수 있다.
요약하면, 본 발명은 레티클 라이브러리 어셈블리 및 프레임 어셈블리 사이 그리고 프레임 어셈블리 및 피봇 어셈블리 사이 각각에서 수평화의 두 스테이지들을 가능하게 하고, 이는 더 낮은 노동 강도로 빠른 수평화를 허용한다.
다른 선택적 실시예들에서, Z-방향 조정들, 레티클 표면 상의 미립자들의 감소, 변형의 회피, 단단한 내부잠금, 스크류 수평화-기초 잠금 및 유지의 편리성이 가능할 수 있다.
Claims (14)
- 레티클 라이브러리 어셈블리, 피봇 어셈블리 및 프레임 어셈블리를 포함하고,
상기 레티클 라이브러리 어셈블리는 프레임 어셈블리 상에 배치되어서 레티클 라이브러리 어셈블리가 프레임 어셈블리를 통해 피봇 어셈블리에 의해 수평화 가능하고, 레티클 라이브러리 어셈블리는 또한 프레임 어셈블리에 대해 수평화될 수 있는,
수평화가능한 레티클 라이브러리 시스템.
- 제1항에 있어서,
상기 레티클 라이브러리 어셈블리의 개구를 밀봉하기 위해 레티클 라이브러리 어셈블리 상에 배치된 씰을 더 포함하는,
수평화가능한 레티클 라이브러리 시스템.
- 제2항에 있어서,
상기 씰은 주 몸체, 씰링 도어, 레티클 라이브러리 어셈블리-인터페이스 플레이트 및 반발 메커니즘을 포함하고, 주 몸체는 레티클 라이브러리 어셈블리-인터페이스 플레이트를 통해 프레임 어셈블리 또는 레티클 라이브러리 어셈블리에 연결되고, 반발 메커니즘은 주 몸체 상에 장착되며, 씰링 도어는 레티클 라이브러리 어셈블리의 개구를 밀봉하거나 밀봉하지 않도록 개방되거나 폐쇄되도록 구성되고, 반발 메커니즘은 씰링 도어의 개방 또는 폐쇄를 제어하도록 구동되는,
수평화가능한 레티클 라이브러리 시스템.
- 제3항에 있어서,
상기 씰은 기계적 암이 레티클을 옮기거나 놓기 위한 미리 정해진 위치에 도달했는지를 탐지하기 위해 주 몸체 상에 배치된 내부잠금 센서를 더 포함하고, 반발 메커니즘은 내부잠금 센서의 탐지 결과에 기초하여 씰링 도어의 개방 또는 폐쇄를 제어하도록 구동되는,
수평화가능한 레티클 라이브러리 시스템.
- 제1항에 있어서,
상기 피봇 어셈블리는 피봇 샤프트, 조정 메커니즘, 프레임 어셈블리-인터페이스 부재 및 유니버설 베어링 어셈블리를 포함하고, 피봇 샤프트의 두 단부들은 각각 조정 메커니즘 및 유니버설 베어링 어셈블리에 결합되고, 피봇 샤프트는 프레임 어셈블리-인터페이스 부재를 통해 프레임 어셈블리에 고정되며, 조정 메커니즘은 피봇 샤프트의 방향을 조절함으로써 그 위의 레티클 라이브러리 어셈블리 및 프레임 어셈블리를 수평화하도록 구성되는,
수평화가능한 레티클 라이브러리 시스템.
- 제5항에 있어서,
상기 조정 메커니즘은 제1 구형 베어링, 상부 베어링 하우징, 베어링 하우징 연결 블록, 쐐기 블록 및 세트 스크류를 포함하고, 세트 스크류는 수직한 Z-방향을 따라 쐐기 블록을 맞물리게 하여서 쐐기 블록의 X-방향 변위가 세트 스크류의 Z-방향 전진에 의해 달성되고, 쐐기 블록은 베어링 하우징 연결 블록을 통해 상부 베어링 하우징에 연결되고, 상부 베어링 하우징은 제1 구형 베어링을 통해 피봇 샤프트의 일 단부에 연결되어서 피봇 샤프트는 쐐기 블록의 X-방향 변위에 의해 제1 구형 베어링의 내부 레이스에 대해 Ry-방향 내 회전이 가능하고, Ry-방향은 수평한 X-방향에 수직하는 수평한 Y-방향에 대한 회전 방향으로 정의되는,
수평화가능한 레티클 라이브러리 시스템.
- 제6항에 있어서,
상기 조정 메커니즘은 제1 구형 베어링의 내부 레이스에 대해 Rx-방향 내에서 베어링 하우징의 흔들림을 야기하기 위해 Y-방향을 따라 상부 베어링 하우징 및 베어링 하우징 연결 블록의 상대 위치를 변화시킬 수 있는 조정 스크류를 더 포함하고, Rx-방향은 수평한 X-방향 주위의 회전 방향으로 정의되는,
수평화가능한 레티클 라이브러리 시스템.
- 제5항에 있어서,
상기 유니버설 베어링 어셈블리는 제2 구형 베어링, 하부 베어링 하우징 및 Z-방향 조정 블록, 제2 구형 베어링을 통해 피봇 샤프트의 일 단부에 연결된 하부 베어링 하우징, 정상 블록을 통해 피봇 샤프트의 Z-방향 위치를 변화시키도록 구성된 Z-방향 조정 블록을 포함하는,
수평화가능한 레티클 라이브러리 시스템.
- 제1항에 있어서,
상기 프레임 어셈블리는 레티클 라이브러리 어셈블리-지지 프레임 및 상기 레티클 라이브러리 어셈블리-지지 프레임 아래의 저장 시스템-지지 프레임을 포함하고, 레티클 라이브러리 어셈블리는 레티클 라이브러리 어셈블리-지지 프레임 상에 지지되고 저장 시스템-지지 프레임의 바닥에는 피봇 어셈블리에 의해 수평화로부터 기인하는 구성을 잠그기 위한 잠금 부재가 제공되는,
수평화가능한 레티클 라이브러리 시스템.
- 제1항 또는 제9항에 있어서,
상기 프레임 어셈블리에는 공기-배스 튜브에 의해 내부적으로 레티클 라이브러리 어셈블리에 연결되고 외부적으로 불활성 가스 소스에 연결되는 공기-배스 개구가 제공되는,
수평화가능한 레티클 라이브러리 시스템.
- 제1항 또는 제9항에 있어서,
상기 프레임 어셈블리에는 미립자 추출 튜브에 의해 레티클 라이브러리 어셈블리에 연결된 미립자 추출 개구가 제공되는,
수평화가능한 레티클 라이브러리 시스템.
- 제1항에 있어서,
상기 레티클 라이브러리 어셈블리는 레티클 라이브러리 프레임, 상기 레티클 라이브러리 프레임에 의해 보유된 레티클 라이브러리 및 상기 레티클 라이브러리 내의 레티클 베이들을 포함하고, 상기 레티클 베이는 레티클들을 수용하도록 구성되는,
수평화가능한 레티클 라이브러리 시스템.
- 제1항 또는 제12항에 있어서,
상기 레티클 라이브러리 어셈블리 및 프레임 어셈블리 사이의 수평화는 복수의 수평화 스크류들에 의해 달성되는,
수평화가능한 레티클 라이브러리 시스템.
- 제1항 또는 제12항에 있어서,
상기 레티클 라이브러리 어셈블리는 변형 센서들을 포함하는,
수평화가능한 레티클 라이브러리 시스템.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201610614615.2A CN107664921B (zh) | 2016-07-29 | 2016-07-29 | 可调平的版库设备 |
CN201610614615.2 | 2016-07-29 | ||
PCT/CN2017/094273 WO2018019226A1 (zh) | 2016-07-29 | 2017-07-25 | 可调平的版库设备 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20190032439A true KR20190032439A (ko) | 2019-03-27 |
KR102192204B1 KR102192204B1 (ko) | 2020-12-16 |
Family
ID=61015875
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020197004729A KR102192204B1 (ko) | 2016-07-29 | 2017-07-25 | 수평화가능한 마스크 저장 장치 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10976673B2 (ko) |
JP (1) | JP6771088B2 (ko) |
KR (1) | KR102192204B1 (ko) |
CN (1) | CN107664921B (ko) |
SG (1) | SG11201900824XA (ko) |
TW (1) | TWI645259B (ko) |
WO (1) | WO2018019226A1 (ko) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110658687B (zh) * | 2018-06-29 | 2021-05-07 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种掩模传输装置和方法 |
CN111623718B (zh) * | 2019-02-28 | 2021-09-28 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种掩模版凸版检测装置、传输系统及光刻设备 |
CN110941137A (zh) * | 2019-12-29 | 2020-03-31 | 无锡中微掩模电子有限公司 | 一种掩模工艺用多层上料盒 |
CN114476669B (zh) * | 2022-02-11 | 2023-10-03 | 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所) | 版库装置、版库系统及姿态调整方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05278813A (ja) * | 1992-02-07 | 1993-10-26 | Nikon Corp | 基板搬送装置及び基板搬送方法 |
JP2001110868A (ja) * | 1999-10-08 | 2001-04-20 | Ricoh Co Ltd | 保管装置 |
KR20010107969A (ko) * | 1999-09-20 | 2001-12-07 | 시마무라 기로 | 패럴렐 링크기구, 노광장치 및 그의 제조방법, 그리고디바이스 제조방법 |
US20020044856A1 (en) * | 2000-10-12 | 2002-04-18 | R. Foulke Development Company, Llc | Reticle storage system |
CN203838474U (zh) * | 2014-04-15 | 2014-09-17 | 上海微电子装备有限公司 | 一种版盒加载卸载装置 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60154618A (ja) * | 1984-01-25 | 1985-08-14 | Hitachi Ltd | マスク.ウエハ間隙設定方法 |
JP2695547B2 (ja) | 1991-07-23 | 1997-12-24 | 三菱電機株式会社 | 復帰入力回路 |
US6791661B2 (en) * | 1999-12-09 | 2004-09-14 | Nikon Corporation | Gas replacement method and apparatus, and exposure method and apparatus |
JP4171187B2 (ja) | 2001-04-13 | 2008-10-22 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の集積装置及び平版印刷版束の製造方法 |
US6800422B2 (en) | 2001-05-11 | 2004-10-05 | Shipley Company, L.L.C. | Thick film photoresists and methods for use thereof |
US6619903B2 (en) | 2001-08-10 | 2003-09-16 | Glenn M. Friedman | System and method for reticle protection and transport |
US7126228B2 (en) * | 2003-04-23 | 2006-10-24 | Micron Technology, Inc. | Apparatus for processing semiconductor devices in a singulated form |
JP2005345876A (ja) * | 2004-06-04 | 2005-12-15 | Nikon Corp | ガス置換装置、露光装置及び電子デバイスの製造方法 |
US7408615B2 (en) * | 2004-06-21 | 2008-08-05 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP5160541B2 (ja) | 2006-06-19 | 2013-03-13 | インテグリス・インコーポレーテッド | レチクル保管庫をパージするためのシステム |
US8418733B2 (en) * | 2009-05-12 | 2013-04-16 | Murata Machinery, Ltd. | Purging apparatus and purging method |
US20130038852A1 (en) | 2011-08-09 | 2013-02-14 | United Microelectronics Corporation | Reticle removing apparatus and reticle removing method using the same |
CN202369121U (zh) | 2011-12-06 | 2012-08-08 | 上海华虹Nec电子有限公司 | 掩膜版的自动搬送装置 |
JP5700255B2 (ja) * | 2012-03-27 | 2015-04-15 | 株式会社ダイフク | 物品保管設備及び物品搬送設備 |
CN103901733B (zh) | 2012-12-28 | 2017-02-22 | 上海微电子装备有限公司 | 曝光装置 |
CN203714553U (zh) | 2013-12-31 | 2014-07-16 | 上海微电子装备有限公司 | 版库设备 |
CN105807574B (zh) | 2014-12-30 | 2018-03-02 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 掩模传输装置、曝光装置及掩模传输方法 |
US10108095B2 (en) * | 2016-05-31 | 2018-10-23 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Automated mask storage and retrieval system |
-
2016
- 2016-07-29 CN CN201610614615.2A patent/CN107664921B/zh active Active
-
2017
- 2017-07-25 JP JP2019504837A patent/JP6771088B2/ja active Active
- 2017-07-25 SG SG11201900824XA patent/SG11201900824XA/en unknown
- 2017-07-25 US US16/321,664 patent/US10976673B2/en active Active
- 2017-07-25 WO PCT/CN2017/094273 patent/WO2018019226A1/zh active Application Filing
- 2017-07-25 KR KR1020197004729A patent/KR102192204B1/ko active IP Right Grant
- 2017-07-28 TW TW106125507A patent/TWI645259B/zh active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05278813A (ja) * | 1992-02-07 | 1993-10-26 | Nikon Corp | 基板搬送装置及び基板搬送方法 |
KR20010107969A (ko) * | 1999-09-20 | 2001-12-07 | 시마무라 기로 | 패럴렐 링크기구, 노광장치 및 그의 제조방법, 그리고디바이스 제조방법 |
JP2001110868A (ja) * | 1999-10-08 | 2001-04-20 | Ricoh Co Ltd | 保管装置 |
US20020044856A1 (en) * | 2000-10-12 | 2002-04-18 | R. Foulke Development Company, Llc | Reticle storage system |
CN203838474U (zh) * | 2014-04-15 | 2014-09-17 | 上海微电子装备有限公司 | 一种版盒加载卸载装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN107664921A (zh) | 2018-02-06 |
TWI645259B (zh) | 2018-12-21 |
JP6771088B2 (ja) | 2020-10-21 |
TW201804260A (zh) | 2018-02-01 |
US10976673B2 (en) | 2021-04-13 |
WO2018019226A1 (zh) | 2018-02-01 |
JP2019527853A (ja) | 2019-10-03 |
SG11201900824XA (en) | 2019-02-27 |
CN107664921B (zh) | 2019-12-24 |
US20200089133A1 (en) | 2020-03-19 |
KR102192204B1 (ko) | 2020-12-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR20190032439A (ko) | 수평화가능한 마스크 저장 장치 | |
KR102379269B1 (ko) | 통합된 얼라이너를 갖는 로봇 | |
US20070183869A1 (en) | Docking station for a factory interface | |
US20070004058A1 (en) | Semiconductor manufacturing device with transfer robot | |
CN107111251B (zh) | 用于在光刻系统中转移基材的加载锁定系统和方法 | |
JP2008162778A (ja) | 被搬送物の保管装置 | |
JP2005520321A (ja) | ツールのフロントエンド加工物処理のための統合システム | |
WO2002045154A1 (fr) | Robot de transfert et procédé d'inspection de substrat mince | |
CN101777509A (zh) | 半导体晶圆的定位装置 | |
US6106213A (en) | Automated door assembly for use in semiconductor wafer manufacturing | |
TWI619586B (zh) | 基板搬送機器人及基板檢測方法 | |
KR20180130388A (ko) | Smif 장치 | |
CN102290326A (zh) | 盖体保持夹具 | |
WO2019196928A1 (zh) | 摄像系统 | |
JP7127731B2 (ja) | 蓋開閉装置 | |
US20180231456A1 (en) | Inspection apparatus and inspection method | |
JP4660657B2 (ja) | Smifポッドの開閉装置 | |
JP2003303869A (ja) | 基板搬送装置における蓋部材開閉装置 | |
WO2019196936A1 (zh) | 控制装置、控制方法以及程序 | |
JP2010010265A (ja) | アライメント装置及びそれを備えた搬送システム、半導体製造装置 | |
CN113323512B (zh) | 版盒解锁装置及掩模传输版库设备 | |
JP6052308B2 (ja) | カセットアダプタ及びロードポート | |
JP2006339619A (ja) | 手動式smifオプナー | |
NL2015784B1 (en) | Load lock system and method for transferring substrates in a lithography system. | |
JPH06268045A (ja) | 集積回路の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |