JP2019512045A5 - - Google Patents

Description

本開示による基板の真空処理のための装置は、処理真空チャンバと保守真空チャンバとの間での、材料堆積源の少なくとも一部分、例えば、全体の材料堆積源の移送のために構成された、開口部２１５を磁気的に閉鎖するための磁気閉鎖アレンジメント２２０を含む。本開示全体で使用される「磁気的閉鎖」とは、開口部を、例えば、本質的に真空気密に密封するために、磁力が使用されるという意味で理解することができる。一実施例として、密封デバイス２３０は、開口部をカバーするように構成され、磁気閉鎖アレンジメント２２０は、磁力を使用して、密封デバイス２３０を開口部２１５に保持するように構成され得る。ある実施態様では、磁気閉鎖アレンジメント２２０が、電磁石若しくは電気永久磁石アレンジメントを含んでもよく、又は電磁石若しくは電気永久磁石アレンジメントであってもよい。電気永久磁石アレンジメントは、図３Ａ及び図３Ｂに関連して更に説明される。

Claims (13)

1. 基板の真空処理のための装置であって、
   処理真空チャンバと保守真空チャンバ、
   前記処理真空チャンバと前記保守真空チャンバとの間で材料堆積源の少なくとも一部分を移送するための開口部、及び
   電気永久磁石アレンジメントを含む、前記開口部を磁気的に閉鎖するための磁気閉鎖アレンジメントを備える、装置。
2. 前記開口部を閉鎖するように構成された密封デバイスを更に含む、請求項１に記載の装置。
3. 前記密封デバイスが、前記材料堆積源に取り付けられている、請求項２に記載の装置。
4. 前記電気永久磁石アレンジメントが、
   １以上の第１の永久磁石、
   １以上の第２の永久磁石、及び
   前記１以上の第１の永久磁石の磁化を変更するように構成された磁石デバイスを含む、請求項１から３のいずれか一項に記載の装置。
5. 前記１以上の第１の永久磁石が、軟質磁性材料又は半硬質磁性材料を含み、前記１以上の第２の永久磁石が、硬質磁性材料を含む、請求項４に記載の装置。
6. 前記磁石デバイスが、前記１以上の第１の永久磁石の周りに少なくとも部分的に設けられたワインディングを含む、請求項４又は５に記載の装置。
7. 前記１以上の第１の永久磁石の磁化の方向が、前記磁石デバイスに供給される電気パルスによって切り換え可能であり、前記１以上の第１の永久磁石の極性が、前記電気パルスによって反転可能である、請求項４から６のいずれか一項に記載の装置。
8. 前記磁気閉鎖アレンジメントが、前記開口部に設けられている、請求項１から７のいずれか一項に記載の装置。
9. 前記開口部において保持表面を更に含み、
   前記磁気閉鎖アレンジメントが、チャッキング状態と解放状態との間で切り替え可能であり、
   前記チャッキング状態では、前記磁気閉鎖アレンジメントが、前記保持表面において第１の外部磁界を生成し、
   前記解放状態では、前記磁気閉鎖アレンジメントが、前記保持表面において外部磁界を生成しないか又は前記第１の外部磁界よりも小さい第２の外部磁界を生成する、請求項１から８のいずれか一項に記載の装置。
10. 前記材料堆積源の前記一部分が、蒸発坩堝と分配管のうちの少なくとも一方を含み、前記材料堆積源が、前記分配管のための支持体を更に含む、請求項１から９のいずれか一項に記載の装置。
11. 前記材料堆積源の前記蒸発坩堝と前記分配管が、前記処理真空チャンバから前記保守真空チャンバへ、前記保守真空チャンバから前記処理真空チャンバへ移送可能であり、前記分配管のための前記支持体が、前記処理真空チャンバから前記保守真空チャンバへ、前記保守真空チャンバから前記処理真空チャンバへ移送されない、請求項１０に記載の装置。
12. 有機材料を有するデバイスを製造するためのシステムであって、
    請求項１から１１のいずれか一項に記載の装置、及び
    前記処理真空チャンバ内で基板キャリアとマスクキャリアのうちの少なくとも一方を非接触方式で移送するように構成された移送アレンジメントを備える、システム。
13. 処理真空チャンバと保守真空チャンバを互いから密封するための方法であって、
    磁力を使用して、密封デバイスを開口部に保持することと、
    前記磁力を変更することによって、前記密封デバイスを前記開口部から解放することと
    を含み、
    前記磁力を変更することが、
    １以上の第１の永久磁石の極性を反転させることを含み、
    前記密封デバイスを開口部に保持するための磁力が、電気永久磁石アレンジメントによって生成される、
    方法。